JPH06150696A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH06150696A
JPH06150696A JP4293094A JP29309492A JPH06150696A JP H06150696 A JPH06150696 A JP H06150696A JP 4293094 A JP4293094 A JP 4293094A JP 29309492 A JP29309492 A JP 29309492A JP H06150696 A JPH06150696 A JP H06150696A
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JP
Japan
Prior art keywords
test mode
marginal
circuit
data
memory cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP4293094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiko Fukiage
貴彦 吹上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH06150696A publication Critical patent/JPH06150696A/en
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Abstract

PURPOSE:To detect a marginal memory cell and hence to enhance the reliability by stopping the operation of a circuit for boosting a word line at the time of a test mode, intentionally performing a marginal write-in and judging whether the write-in has properly been performed or not. CONSTITUTION:At the time of the test mode, a test mode signal TE is at an L-level while an output of an AND circuit 11 is also at an L-level, and the boosting operation is stopped by a delay circuit 9. Now, when R' and RAS' signals are at an L-level respectively, and word line activating signals X and XL are boosted up to a voltage Vcc at the time of t0, and then a word line WL1 is boosted up to the voltage Vcc at t1, data of a memory cell is transmitted to bit lines BL1 and 0. However, because of stoppage of the boosting operation of the circuit 9, data is hardly transmitted between the marginal cell and the bit line. Under this condition, marginal write-in and read-out are intentionally performed, and the marginal memory can be detected out depending on whether these operations have properly been performed or not. Thus, the reliability is enhance.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に係
り、特にデータの書き込み又は読み出し動作の信頼性に
おいて余裕の無いメモリセルを検出することができ、高
い信頼性を得ることができる半導体記憶装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device capable of detecting a memory cell having no margin in reliability of data writing or reading operation and obtaining high reliability. It relates to the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は従来の半導体記憶装置として、D
RAMのメモリセルを示した回路図である。図におい
て、1はメモリセルの1単位を示し、互いに直行して設
けられたワード線WL0,WL1とビット線BL0,B
L1の交差点近傍に設けられている。そして、2はゲー
トがワード線WL1に接続されたトランジスタ、3はこ
のトランジスタ2のソースに接続されたコンデンサ、4
はビット線BL0に一端が接続され、他端がトランジス
タ2のドレインに接続された寄生抵抗であり、これらト
ランジスタ2、コンデンサ3、寄生抵抗4はメモリセル
を構成している。また、5はビット線BL0,BL0バ
ーに接続されたセンスアンプ、6はビット線BL1,B
L1バーに接続されたセンスアンプである。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a conventional semiconductor memory device D
It is a circuit diagram showing a memory cell of RAM. In the figure, 1 indicates one unit of a memory cell, and word lines WL0, WL1 and bit lines BL0, B provided orthogonally to each other.
It is provided near the intersection of L1. 2 is a transistor whose gate is connected to the word line WL1, 3 is a capacitor connected to the source of this transistor 2, 4
Is a parasitic resistance whose one end is connected to the bit line BL0 and whose other end is connected to the drain of the transistor 2, and these transistor 2, capacitor 3 and parasitic resistance 4 constitute a memory cell. Further, 5 is a sense amplifier connected to the bit lines BL0 and BL0 bar, and 6 is the bit lines BL1 and B
It is a sense amplifier connected to the L1 bar.

【0003】尚、ここでは図示しないが、ビット線BL
0,BL1等はそれぞれ互いに反対極性の信号を伝達す
る2本の線からなっており、センスアンプ5、6はこれ
ら信号を差動増幅するものである。
Although not shown here, the bit line BL
0, BL1 and the like are composed of two lines respectively transmitting signals of opposite polarities, and the sense amplifiers 5 and 6 differentially amplify these signals.

【0004】また、図8は従来の半導体記憶装置におけ
る昇圧回路を示す回路図であり、7は外部行アドレスス
トローブ信号(以下RASバー信号という)に基づいて
形成され、RASバー信号に同期した信号Xが入力され
る入力端子、8は図示しないワード線へ昇圧された電圧
を出力する出力端子、9はその入力側が入力端子7に接
続された遅延回路、8はその一端が遅延回路9の出力側
に接続され、その他端が出力端子8に接続されたコンデ
ンサである。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a booster circuit in a conventional semiconductor memory device. Reference numeral 7 is a signal formed based on an external row address strobe signal (hereinafter referred to as RAS bar signal) and synchronized with the RAS bar signal. An input terminal to which X is input, 8 is an output terminal that outputs a boosted voltage to a word line (not shown), 9 is a delay circuit whose input side is connected to the input terminal 7, and 8 is an output of the delay circuit 9 at one end. Is a capacitor connected to the output terminal 8 at the other end.

【0005】次に、動作について図9を用いて説明す
る。RASバー信号が時刻t=t0においてローレベル
になると、t=t1においてワード線WL1に昇圧され
た電圧VCC+αが昇圧回路より伝達される。ワード線W
L1の電圧がVCC+αになると、メモリセル1のコンデ
ンサ3に蓄積された電荷がビット線BL0,BL1に伝
達される。更にt=t2においてセンスアンプ5、6が
動作し始めビット線BL0,BL1の電位が増幅され
る。
Next, the operation will be described with reference to FIG. When the RAS bar signal becomes low level at time t = t0, the boosted voltage V CC + α is transmitted to the word line WL1 at t = t1 from the booster circuit. Word line W
When the voltage of L1 becomes V CC + α, the charges accumulated in the capacitor 3 of the memory cell 1 are transferred to the bit lines BL0 and BL1. Further, at t = t2, the sense amplifiers 5 and 6 start operating and the potentials of the bit lines BL0 and BL1 are amplified.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで近年、半導体
記憶装置、特にDRAMの大容量化が進み、メモリセル
のサイズが縮小されるに伴って、メモリセルアレイを構
成するトランジスタ、コンデンサ容量がばらつき易くな
り、メモリセルの中にはデータの書き込み又は読み出し
動作の信頼性において余裕の無い(以下マージナルとい
う)メモリセルも生じることがある。例えば図9に説明
した図7の回路動作においては、メモリセル1のばらつ
きにより寄生抵抗4が大きすぎる時などには、メモリセ
ルの蓄積電荷が十分に伝達されないというようなマージ
ナルなメモリセルが生じていることがある。このような
場合には、図9の(E)に示すBL1(BL1バー)の
ように正しくデータが増幅されることもあれば、図9の
(F)に示すBL0(BL0バー)のように誤ってデー
タが増幅されることもある。
By the way, in recent years, as the capacity of semiconductor memory devices, especially DRAMs has been increased and the size of memory cells has been reduced, the capacity of transistors and capacitors forming a memory cell array is likely to vary. In some memory cells, there is a margin (hereinafter referred to as marginal) in which there is no margin in reliability of data writing or reading operation. For example, in the circuit operation of FIG. 7 described in FIG. 9, when the parasitic resistance 4 is too large due to variations in the memory cell 1, a marginal memory cell is generated in which the accumulated charge of the memory cell is not sufficiently transmitted. Sometimes. In such a case, the data may be correctly amplified like BL1 (BL1 bar) shown in (E) of FIG. 9, or like BL0 (BL0 bar) shown in (F) of FIG. Data may be amplified by mistake.

【0007】従って半導体記憶装置の信頼性を保証し、
信頼性の高い半導体記憶装置を得るためには、これらマ
ージナルなメモリセルを検出し、例えばこれらメモリセ
ルを余裕のあるメモリセルに置き換えるなどの手段を採
る必要が有るが、従来の半導体記憶装置は前述したよう
に構成されているためマージナルなメモリセルを検出す
ることができず、従って、高い信頼性を保証することが
できないという問題点があった。
Therefore, the reliability of the semiconductor memory device is guaranteed,
In order to obtain a highly reliable semiconductor memory device, it is necessary to detect these marginal memory cells and, for example, replace these memory cells with a memory cell having a margin. Due to the above-mentioned configuration, there is a problem that a marginal memory cell cannot be detected and therefore high reliability cannot be guaranteed.

【0008】この発明は前述したような問題点を解決す
るためになされたもので、マージナルなメモリセルを検
出することができ、従って例えば、これらマージナルな
メモリセルを冗長性のあるメモリセルに置き換えること
が可能となり、もって信頼性の高い半導体記憶装置を得
ることを目的としている。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and can detect marginal memory cells. Therefore, for example, these marginal memory cells are replaced with redundant memory cells. Therefore, the object is to obtain a highly reliable semiconductor memory device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、テストモード時に、意図的にマージナルな書
き込みを行わせる手段を備え、例えばその書き込みが正
しく行われたか否かを判断することでマージナルなメモ
リセルを検出できるようにしたものである。
A semiconductor memory device according to the present invention is provided with means for intentionally performing marginal writing in a test mode, and for example, by judging whether or not the writing has been correctly performed. It is designed to detect a marginal memory cell.

【0010】即ち、この発明の請求項1に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルの内、データの書き込み又
は読み出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセル
を検出するテストモード時に、ワード線を昇圧する昇圧
回路の昇圧動作を停止させる停止手段を備えたものであ
る。
That is, in the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention, the word line is set in the test mode for detecting a memory cell having no margin in reliability of data writing or reading operation among the plurality of memory cells. A stop means for stopping the boosting operation of the boosting circuit for boosting is provided.

【0011】また、この発明の請求項2に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルの内、データの書き込み又
は読み出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセル
を検出するテストモード時に、データ線によるデータの
転送時間を短くする手段を備えたものである。
According to a second aspect of the present invention, the semiconductor memory device uses the data line in the test mode for detecting a memory cell having no margin in reliability of data write or read operation among the plurality of memory cells. It is provided with a means for shortening the data transfer time.

【0012】更に、この発明の請求項3に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルの内、データの書き込み又
は読み出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセル
を検出するテストモード時に、ワード線を昇圧する昇圧
回路の動作時間を短くさせる手段を備えたものである。
Further, according to a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, the word line is set in the test mode in which a memory cell having no margin in reliability of data write or read operation is detected among the plurality of memory cells. It is provided with means for shortening the operating time of the booster circuit for boosting.

【0013】[0013]

【作用】この発明の請求項1に係る半導体記憶装置によ
れば、停止手段によって、テストモード時に、ワード線
を昇圧する昇圧回路の昇圧動作を停止させることによ
り、テストモード時に、意図的にマージナルな書き込み
を行わせることができ、例えばその書き込みが正しく行
われたか否かを判断することでマージナルなメモリセル
を検出することができる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect of the present invention, the stop means stops the boosting operation of the booster circuit for boosting the word line in the test mode, so that the marginal operation is intentionally performed in the test mode. Writing can be performed, and a marginal memory cell can be detected by, for example, determining whether the writing has been performed correctly.

【0014】この発明の請求項2に係る半導体記憶装置
によれば、データ線によるデータの転送時間を短くする
手段によって、テストモード時に、意図的にマージナル
な書き込みを行わせることができ、例えばその書き込み
が正しく行われたか否かを判断することでマージナルな
メモリセルを検出することができる。
According to the semiconductor memory device of the second aspect of the present invention, the means for shortening the data transfer time by the data line can intentionally perform the marginal write in the test mode. A marginal memory cell can be detected by determining whether or not writing has been correctly performed.

【0015】この発明の請求項3に係る半導体記憶装置
によれば、ワード線を昇圧する昇圧回路の昇圧動作を短
くさせる手段により、テストモード時に、意図的にマー
ジナルな書き込みを行わせることができ、例えばその書
き込みが正しく行われたか否かを判断することでマージ
ナルなメモリセルを検出することができる。
According to the semiconductor memory device of the third aspect of the present invention, the means for shortening the boosting operation of the booster circuit for boosting the word line can intentionally perform the marginal write in the test mode. For example, it is possible to detect a marginal memory cell by determining whether or not the writing has been correctly performed.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1.図1はこの発明に係る半導体記憶装置の実施
例1を示す回路図である。図において、7〜10は図7
で説明したものと同じである。11はその一方の入力端
子が昇圧回路の入力端子7に接続され、その出力端子が
遅延回路9に接続されたアンド回路であって、このアン
ド回路11の他の入力端子には、テストモード時にロー
レベルとなるテストモード信号TEの入力端子12が接
続されている。
Example 1. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, 7 to 10 are shown in FIG.
It is the same as that explained in. Reference numeral 11 denotes an AND circuit whose one input terminal is connected to the input terminal 7 of the booster circuit and whose output terminal is connected to the delay circuit 9. The other input terminal of this AND circuit 11 is connected to the other terminal in the test mode. The input terminal 12 for the test mode signal TE that is at a low level is connected.

【0017】次に、実施例1の動作について、図2を用
いて説明する。マージナルなメモリセルを検出するテス
トモード時において、テストモード信号TEはローレベ
ルとなっていて、このテストモード信号TEが入力され
るアンド回路11の出力もローレベルとなっている。従
って遅延回路9はその動作が停止された状態となってい
る。今、t=t0において、RASバー信号がローレベ
ルとなり、ワード線活性化信号X,XLが電圧VCCに上
昇し、t=t1にワード線WL1がVCCに上昇すると、
ビット線BL1,BL0にメモリセルのデータが伝達さ
れるが、遅延回路9の動作、即ち昇圧回路の昇圧動作が
停止されているため、ワード線のレベルはVCCに留どま
り、VCC+αとはならない。このため、マージナルなメ
モリセルは、書き込み時には、ビット線データがメモリ
セルに伝達されにくくなり、一方、データの読みだし時
には、メモリセルのデータはビット線BL1,BL0に
伝達されにくくなり、図2に示すようにt=t2におい
てセンスアンプが活性化されてもデータが読み出されに
くくなる。
Next, the operation of the first embodiment will be described with reference to FIG. In the test mode in which a marginal memory cell is detected, the test mode signal TE is at low level, and the output of the AND circuit 11 to which this test mode signal TE is input is also at low level. Therefore, the delay circuit 9 is in a state where its operation is stopped. Now, in t = t0, RAS bar signal goes low, the word line activation signal X, XL rises to the voltage V CC, when the word line WL1 to t = t1 rises to V CC,
Although the data of the memory cell is transmitted to the bit lines BL1 and BL0, since the operation of the delay circuit 9, that is, the boosting operation of the booster circuit is stopped, the level of the word line remains at V CC and becomes V CC + α. Don't Therefore, in the marginal memory cell, the bit line data is less likely to be transmitted to the memory cell at the time of writing, while the data of the memory cell is less likely to be transmitted to the bit lines BL1 and BL0 at the time of reading the data. As shown in, even if the sense amplifier is activated at t = t2, it becomes difficult to read data.

【0018】従って、実施例1によれば、テストモード
時に、昇圧回路の昇圧動作を停止させることで意図的に
マージナルな書き込み、読みだしを行わせることがで
き、例えばその書き込みデータと読みだしデータが一致
するか否かを調べることで、書き込み、読みだしが正し
く行われたか否かを調べることができ、これによってマ
ージナルなメモリセルを検出することができる。
Therefore, according to the first embodiment, it is possible to intentionally perform marginal writing and reading by stopping the boosting operation of the boosting circuit in the test mode. For example, the write data and the read data are written. It is possible to check whether or not the writing and reading have been correctly performed by checking whether or not the two match, and thus it is possible to detect a marginal memory cell.

【0019】実施例2.図3はこの発明の実施例2を示
す回路図である。図において15はライトバッファ、1
6はデータ線であるI/O線、I/Oバー線とライトバ
ッファ15間に設けられたトランジスタスイッチ、17
はビット線BL0,BL0バーとデータ線I/O線、I
/Oバー線との間に設けられ、ビット線選択線Y0の選
択信号によって開閉するトランジスタスイッチ、18は
ビット線BL1,BL1バーとデータ線I/O線、I/
Oバー線との間に設けられ、ビット線選択線Y1の選択
信号によって開閉するトランジスタスイッチ、19はト
ランジスタスイッチ16のゲートに接続され、トランジ
スタスイッチ16の開閉信号としてライト制御パルスを
伝送するライト制御パルス線、20はその出力側がトラ
ンジスタスイッチ16のゲートに接続され、ライト信号
W0と、テストモード信号TEが入力される短パルス発
生回路、21はその出力側がトランジスタスイッチ16
のゲートに接続され、ライト信号W0と、テストモード
信号TEが入力される長パルス発生回路である。
Example 2. FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention. In the figure, 15 is a write buffer, 1
Reference numeral 6 denotes a data line I / O line, a transistor switch provided between the I / O bar line and the write buffer 15, and 17
Is a bit line BL0, BL0 bar and a data line I / O line, I
/ O bar line, and a transistor switch which is opened / closed by a selection signal of the bit line selection line Y0, 18 is a bit line BL1, BL1 bar and a data line I / O line, I / O
A transistor switch provided between the O-bar line and opened / closed by the selection signal of the bit line selection line Y1, 19 is connected to the gate of the transistor switch 16, and a write control that transmits a write control pulse as the opening / closing signal of the transistor switch 16. The pulse line, 20 has its output side connected to the gate of the transistor switch 16, and a short pulse generation circuit to which the write signal W0 and the test mode signal TE are input. 21 has its output side the transistor switch 16
Is a long pulse generation circuit that is connected to the gate of and receives the write signal W0 and the test mode signal TE.

【0020】次に、実施例2の動作について説明する。
短パルス発生回路20はライト信号W0とテストモード
信号TEにより、テストモード時に短いパルスを発生す
る。一方、大パルス発生回路21はライト信号W0とテ
ストモード信号TEにより、テストモード時以外の通常
時に長いパルスを発生する。図4に示した書き込み動作
を示すタイミング図において、t=t0にRASバー信
号がローレベルになるとt=t1において、ワード線W
L1が昇圧された電圧VCC+αとなり、ビット線にメモ
リセルのデータが読み出される。その後データはセンス
アンプにより増幅されるがt=t2にライト信号W0が
活性化され、t=t3にライト制御パルス信号Wがハイ
レベルになるとビット線のデータはライトバッファ15
によって強制的にライトデータに置き換えられる。そし
てその後ライト制御パルス信号Wがローレベルになると
センスアンプのみによって、メモリセルの記憶データが
再び増幅される。従ってテストモード時において、短パ
ルス発生回路20を動作させて、図4(E)に実線で示
すように通常時のパルス(破線で示す)より短いパルス
で短い間隔にわたってスイッチングトランジスタ16を
閉じ、データ線I/O,I/Oバーによるデータの転送
時間を短くすれば、意図的にマージナルな書き込みを行
わせることができ、例えばその書き込みデータと読みだ
しデータが一致するか否かを調べることで、書き込みが
正しく行われたか否かを調べることができ、これによっ
てマージナルなメモリセルを検出することができる。
Next, the operation of the second embodiment will be described.
The short pulse generation circuit 20 generates a short pulse in the test mode by the write signal W0 and the test mode signal TE. On the other hand, the large pulse generation circuit 21 generates a long pulse in the normal mode other than the test mode by the write signal W0 and the test mode signal TE. In the timing chart showing the write operation shown in FIG. 4, when the RAS bar signal becomes low level at t = t0, the word line W is set at t = t1.
L1 becomes the boosted voltage V CC + α, and the data of the memory cell is read to the bit line. After that, the data is amplified by the sense amplifier, but when the write signal W0 is activated at t = t2 and the write control pulse signal W becomes high level at t = t3, the data of the bit line is written in the write buffer 15.
Is forcibly replaced by write data. Then, when the write control pulse signal W becomes low level thereafter, the stored data in the memory cell is amplified again by only the sense amplifier. Therefore, in the test mode, the short pulse generation circuit 20 is operated to close the switching transistor 16 for a short interval with a pulse shorter than the pulse (indicated by a broken line) in the normal state as shown by a solid line in FIG. By shortening the data transfer time by the lines I / O and I / O bar, it is possible to intentionally perform marginal writing. For example, by checking whether the written data and the read data match. , It is possible to check whether or not the writing has been correctly performed, and thereby a marginal memory cell can be detected.

【0021】実施例3.図5はこの発明の実施例3を示
す回路図である。図において、7〜10は図7に示した
ものと同じである。25はその入力側にRASバー信号
及びテストモード信号TEが入力され、出力側が昇圧回
路の入力端子7に接続された短パルス発生回路、26は
その入力側にRASバー信号及びテストモード信号TE
が入力され、出力側が昇圧回路の入力端子7に接続され
た長パルス発生回路である。
Example 3. FIG. 5 is a circuit diagram showing Embodiment 3 of the present invention. In the figure, 7 to 10 are the same as those shown in FIG. 25 is a short pulse generation circuit to which the RAS bar signal and the test mode signal TE are input at its input side and whose output side is connected to the input terminal 7 of the booster circuit, and 26 is the RAS bar signal and test mode signal TE at its input side.
Is input and the output side is a long pulse generation circuit connected to the input terminal 7 of the booster circuit.

【0022】次に、実施例3の動作について説明する。
短パルス発生回路25はRASバー信号とテストモード
信号TEにより、テストモード時に短パルスを発生す
る。一方、長パルス発生回路26はRASバー信号とテ
ストモード信号TEにより、テストモード時以外の通常
時に短パルスを発生する。即ち実施例3は、テストモー
ド時において、短パルス発生回路25を動作させて、通
常時のパルス(長パルス発生回路26から発生される)
より短いパルスで短い間隔にわたって昇圧回路9を動作
させるようにしたものである。これは実施例1が昇圧回
路の昇圧動作を停止させるようにしたのに対し、昇圧回
路の出力動作自体を短くすることにより、テストモード
時において、意図的にマージナルな書き込みを行わせる
ようにしたもので、後は実施例1と同様にしてマージナ
ルなメモリセルを検出することができる。
Next, the operation of the third embodiment will be described.
The short pulse generation circuit 25 generates a short pulse in the test mode according to the RAS bar signal and the test mode signal TE. On the other hand, the long pulse generation circuit 26 generates a short pulse in the normal mode other than the test mode by the RAS bar signal and the test mode signal TE. That is, in the third embodiment, in the test mode, the short pulse generation circuit 25 is operated to generate a normal pulse (generated from the long pulse generation circuit 26).
The booster circuit 9 is operated with a shorter pulse over a short interval. In the first embodiment, the boosting operation of the boosting circuit is stopped, whereas the output operation itself of the boosting circuit is shortened to intentionally perform marginal writing in the test mode. After that, the marginal memory cell can be detected in the same manner as in the first embodiment.

【0023】実施例4.図6は実施例3と同様に昇圧回
路の出力動作自体を短くするため、図4とは異なる回路
構成を示した図である。図において、7〜10は図7に
示したものと同じであり、また15〜18は図3に示し
たものと同じである。28はその3つの入力端子に、R
ASバー信号に同期した信号X、テストモード信号T
E、ライト制御パルス信号Wが入力される3端子入力の
ナンド回路であり、このナンド回路28の出力端子が昇
圧回路の入力端子7に接続されている。
Example 4. 6 is a diagram showing a circuit configuration different from that of FIG. 4 in order to shorten the output operation itself of the booster circuit as in the third embodiment. In the figure, 7 to 10 are the same as those shown in FIG. 7, and 15 to 18 are the same as those shown in FIG. 28 is R at its three input terminals
Signal X synchronized with AS bar signal, test mode signal T
E, a NAND circuit of three-terminal input to which the write control pulse signal W is input, and the output terminal of this NAND circuit 28 is connected to the input terminal 7 of the booster circuit.

【0024】このような回路構成において、テストモー
ド信号TEをテストモード時に一時的にローレベルとす
ることにより、実施例3で示した動作と同じ動作を行わ
せることができ、実施例3と同様な効果を得ることがで
きる。
In such a circuit configuration, by temporarily setting the test mode signal TE to the low level in the test mode, the same operation as that of the third embodiment can be performed, and the same operation as that of the third embodiment is performed. It is possible to obtain various effects.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上、詳述したように、この発明の請求
項1に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルの内、
データの書き込み又は読み出し動作の信頼性において余
裕の無いメモリセルを検出するテストモード時に、ワー
ド線を昇圧する昇圧回路の昇圧動作を停止させる停止手
段を備えたため、マージナルなメモリセルを検出するこ
とができ、従って例えば、これらマージナルなメモリセ
ルを冗長性のあるメモリセルに置き換えることが可能と
なり、もって信頼性の高い半導体記憶装置を得ることが
できるという効果を奏する。
As described above in detail, in the semiconductor memory device according to claim 1 of the present invention, among the plurality of memory cells,
In the test mode in which a memory cell having no margin in reliability of data write or read operation is detected, stop means for stopping the boosting operation of the booster circuit for boosting the word line is provided, so that a marginal memory cell can be detected. Therefore, for example, these marginal memory cells can be replaced with redundant memory cells, and a highly reliable semiconductor memory device can be obtained.

【0026】また、この発明の請求項2に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルの内、データの書き込み又
は読み出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセル
を検出するテストモード時に、データ線によるデータの
転送時間を短くする手段を備えたため、マージナルなメ
モリセルを検出することができ、従って例えば、これら
マージナルなメモリセルを冗長性のあるメモリセルに置
き換えることが可能となり、もって信頼性の高い半導体
記憶装置を得ることができるという効果を奏する。
According to a second aspect of the present invention, the semiconductor memory device uses the data line in the test mode for detecting a memory cell having no margin in reliability of data write or read operation among the plurality of memory cells. Since the means for shortening the data transfer time is provided, it is possible to detect marginal memory cells, and thus, for example, it is possible to replace these marginal memory cells with redundant memory cells, which is highly reliable. The semiconductor memory device can be obtained.

【0027】また、この発明の請求項3に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルの内、データの書き込み又
は読み出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセル
を検出するテストモード時に、ワード線を昇圧する昇圧
回路の動作時間を短くさせる手段を備えたため、マージ
ナルなメモリセルを検出することができ、従って例え
ば、これらマージナルなメモリセルを冗長性のあるメモ
リセルに置き換えることが可能となり、もって信頼性の
高い半導体記憶装置を得ることができるという効果を奏
する。
Further, according to a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, the word line is set in the test mode in which a memory cell having no margin in reliability of data write or read operation is detected among the plurality of memory cells. Since the means for shortening the operation time of the booster circuit for boosting is provided, it is possible to detect marginal memory cells. Therefore, for example, it becomes possible to replace these marginal memory cells with redundant memory cells, which is reliable. The effect is that a highly reliable semiconductor memory device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施例1を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】実施例1の動作を説明するタイミング図であ
る。
FIG. 2 is a timing diagram illustrating the operation of the first embodiment.

【図3】この発明の実施例2を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図4】この発明の実施例2の動作を説明するタイミン
グ図である。
FIG. 4 is a timing diagram illustrating the operation of the second embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施例3を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図6】この発明の実施例4を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a conventional semiconductor memory device.

【図8】従来の昇圧回路を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a conventional booster circuit.

【図9】従来の半導体記憶装置の動作を説明するタイミ
ング図である。
FIG. 9 is a timing diagram illustrating an operation of the conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】 9 遅延回路 10 コンデンサ 11 アンド回路 16 スイッチングトランジスタ 19 ライト制御パルス線 20 短パルス発生回路 21 長パルス発生回路 25 短パルス発生回路 26 長パルス発生回路 28 ナンド回路[Explanation of reference numerals] 9 delay circuit 10 capacitor 11 AND circuit 16 switching transistor 19 write control pulse line 20 short pulse generation circuit 21 long pulse generation circuit 25 short pulse generation circuit 26 long pulse generation circuit 28 NAND circuit

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルを備え、これらメモリ
セルへのデータの書き込み又は読み出し時にワード線を
昇圧する昇圧回路を備えた半導体記憶装置において、 前記複数のメモリセルの内、データの書き込み又は読み
出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセルを検出
するテストモード時に、前記昇圧回路の昇圧動作を停止
させる停止手段を備えたことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory cells, comprising a booster circuit for boosting a word line at the time of writing or reading data to or from these memory cells. A semiconductor memory device comprising: a stop unit for stopping the boosting operation of the booster circuit in a test mode in which a memory cell having no margin in read operation reliability is detected.
【請求項2】 複数のメモリセルを備え、これらメモリ
セルへのデータの書き込み時に、データをデータ線に転
送するスイッチを備えた半導体記憶装置において、 前記複数のメモリセルの内、データの書き込み又は読み
出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセルを検出
するテストモード時に、前記スイッチによるデータの転
送時間を短くする手段を備えたことを特徴とする半導体
記憶装置。
2. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory cells, wherein the semiconductor memory device comprises a switch for transferring data to a data line when writing data to these memory cells. A semiconductor memory device comprising means for shortening a data transfer time by the switch in a test mode for detecting a memory cell having no margin in read operation reliability.
【請求項3】 複数のメモリセルを備え、これらメモリ
セルへのデータの書き込み又は読み出し時にワード線を
昇圧する昇圧回路を備えた半導体記憶装置において、 前記複数のメモリセルの内、データの書き込み又は読み
出し動作の信頼性において余裕の無いメモリセルを検出
するテストモード時に、前記昇圧回路の動作時間を短く
させる手段を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory cells, comprising a booster circuit for boosting a word line at the time of writing or reading data to or from these memory cells. A semiconductor memory device comprising means for shortening an operation time of the booster circuit in a test mode for detecting a memory cell having no margin in read operation reliability.
JP4293094A 1992-10-30 1992-10-30 Semiconductor memory Pending JPH06150696A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8294080B2 (en) 2006-07-04 2012-10-23 The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland Viewing apparatus capable of moving a subject within the field of view of the center of the viewed image

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