JPH06145960A - 耐摩耗性保護膜 - Google Patents
耐摩耗性保護膜Info
- Publication number
- JPH06145960A JPH06145960A JP32620392A JP32620392A JPH06145960A JP H06145960 A JPH06145960 A JP H06145960A JP 32620392 A JP32620392 A JP 32620392A JP 32620392 A JP32620392 A JP 32620392A JP H06145960 A JPH06145960 A JP H06145960A
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- JP
- Japan
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- protective film
- resistant protective
- wear
- wear resistant
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- Pending
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の耐摩耗性保護膜では内部応力が大き
く、基体金属への親和性が不十分なため、硬度が高いに
もかかわらず十分な耐摩耗性を確保できない。本発明
は、十分な耐久耐摩耗性を有する保護膜を提供するこ
と、またかかる保護膜を被覆した磁気記録媒体、切削工
具、または金型等の物品を提供することを目的とする。 【構成】 ＴｉＣx Ｏy Ｎz （ここにｘ、ｙ、ｚはＴｉ
を１とした原子比でｘ＝０．０１〜２、ｙ＝０．０５〜
３、ｚ＝０．０１〜２である）で表される耐摩耗性保護
膜。
く、基体金属への親和性が不十分なため、硬度が高いに
もかかわらず十分な耐摩耗性を確保できない。本発明
は、十分な耐久耐摩耗性を有する保護膜を提供するこ
と、またかかる保護膜を被覆した磁気記録媒体、切削工
具、または金型等の物品を提供することを目的とする。 【構成】 ＴｉＣx Ｏy Ｎz （ここにｘ、ｙ、ｚはＴｉ
を１とした原子比でｘ＝０．０１〜２、ｙ＝０．０５〜
３、ｚ＝０．０１〜２である）で表される耐摩耗性保護
膜。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は耐摩耗性保護膜に関し、またかか
る耐摩耗性保護膜を施した磁気記録媒体、切削工具、金
型、摺動部材、その他同様な耐摩耗性を必要とする物品
に関する。
る耐摩耗性保護膜を施した磁気記録媒体、切削工具、金
型、摺動部材、その他同様な耐摩耗性を必要とする物品
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気記録媒体、工具、金型、摺動
部材、その他同様な耐摩耗性を必要とする物品の耐摩耗
性を上げるために各種の耐摩耗性保護膜が使用されてい
る。代表的なものはＴｉＣ、ＴｉＮ、Ａｌ4 Ｃ、Ａｌ
Ｎ、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＣ等がある。これらの保護膜の硬
度は非常に高いが、工具や金具等の保護膜としては耐摩
耗性が不十分である。その理由は、従来の耐摩耗性保護
膜では内部応力が大きく、基体金属への親和性が不十分
なためと思われる。
部材、その他同様な耐摩耗性を必要とする物品の耐摩耗
性を上げるために各種の耐摩耗性保護膜が使用されてい
る。代表的なものはＴｉＣ、ＴｉＮ、Ａｌ4 Ｃ、Ａｌ
Ｎ、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＣ等がある。これらの保護膜の硬
度は非常に高いが、工具や金具等の保護膜としては耐摩
耗性が不十分である。その理由は、従来の耐摩耗性保護
膜では内部応力が大きく、基体金属への親和性が不十分
なためと思われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の耐
摩耗性保護膜では内部応力が大きく、基体金属への親和
性が不十分なため、硬度が高いにもかかわらず十分な耐
摩耗性を確保できない。本発明は、十分な耐久耐摩耗性
を有する保護膜を提供すること、またかかる保護膜を被
覆した磁気記録媒体、切削工具、または金型等の物品を
提供することを目的とする。
摩耗性保護膜では内部応力が大きく、基体金属への親和
性が不十分なため、硬度が高いにもかかわらず十分な耐
摩耗性を確保できない。本発明は、十分な耐久耐摩耗性
を有する保護膜を提供すること、またかかる保護膜を被
覆した磁気記録媒体、切削工具、または金型等の物品を
提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｔｉ、Ｃ、Ｏ
及びＮを主たる構成元素とする耐摩耗性保護膜であり、
またこの保護膜により被覆された金型等の物品である。
より詳しく述べると、上記耐摩耗性保護膜はＴｉＣx Ｏ
y Ｎz （ここにｘ、ｙ、ｚはＴｉを１とした原子比でｘ
＝０．０１〜２、ｙ＝０．０５〜３、ｚ＝０．０１〜２
である）で表される組成を有する。ｘが少な過ぎると膜
の衝撃強度が弱くなり、多過ぎると膜の密着性が悪くな
る。ｙ＝０．０５〜３、及びｚ＝０．０１〜２とするの
は、硬度及び耐摩耗性を考慮して決められ、内部応力の
減少も考慮されている。Ｏ、Ｎはいずれも硬度及び耐摩
耗性を上げ、これらが少な過ぎると膜が柔かくなり耐摩
耗性が減じ、一方多過ぎると脆くなる。また両者の総量
が一定な場合、Ｏが多くＮが少ない方が内部応力が減り
密着性が大きくなり、Ｎが多くＯが少ない方が耐摩耗性
が高くなるので、両者の総量とバランスを考慮して上記
のｙ、ｚで示される範囲が決定された。
及びＮを主たる構成元素とする耐摩耗性保護膜であり、
またこの保護膜により被覆された金型等の物品である。
より詳しく述べると、上記耐摩耗性保護膜はＴｉＣx Ｏ
y Ｎz （ここにｘ、ｙ、ｚはＴｉを１とした原子比でｘ
＝０．０１〜２、ｙ＝０．０５〜３、ｚ＝０．０１〜２
である）で表される組成を有する。ｘが少な過ぎると膜
の衝撃強度が弱くなり、多過ぎると膜の密着性が悪くな
る。ｙ＝０．０５〜３、及びｚ＝０．０１〜２とするの
は、硬度及び耐摩耗性を考慮して決められ、内部応力の
減少も考慮されている。Ｏ、Ｎはいずれも硬度及び耐摩
耗性を上げ、これらが少な過ぎると膜が柔かくなり耐摩
耗性が減じ、一方多過ぎると脆くなる。また両者の総量
が一定な場合、Ｏが多くＮが少ない方が内部応力が減り
密着性が大きくなり、Ｎが多くＯが少ない方が耐摩耗性
が高くなるので、両者の総量とバランスを考慮して上記
のｙ、ｚで示される範囲が決定された。
【０００５】
【作用】本発明によると、従来のものよりもビッカース
硬度が低いが、耐摩耗性が増す。これは保護膜の内部応
力が減じると共に、基体に対する密着性が増したためと
思われる。なお、本発明の耐摩耗性保護膜は導電性が比
較的高いので電流や電圧が絡むような場合には使用でき
ない。絶縁性が必要な場合にはこの保護膜の上または下
に絶縁膜が必要である。
硬度が低いが、耐摩耗性が増す。これは保護膜の内部応
力が減じると共に、基体に対する密着性が増したためと
思われる。なお、本発明の耐摩耗性保護膜は導電性が比
較的高いので電流や電圧が絡むような場合には使用でき
ない。絶縁性が必要な場合にはこの保護膜の上または下
に絶縁膜が必要である。
【０００６】本発明の耐摩耗性保護膜は各種の方法で製
造し得る。例えばスパッタ法、その他良く知られた方法
が採用できる。
造し得る。例えばスパッタ法、その他良く知られた方法
が採用できる。
【０００７】本発明の保護膜は例えばスパッタ法を用い
て成膜することができる。この場合には、成膜原料とし
てＴｉＣ、ＴｉＯ2 、ＴｉＮ、Ｔｉ等を用い、これらを
所定の混合比で混合し、プレスしてターゲットとし、ま
た雰囲気ガスとしてＡｒガス、及び必要ならさらにＯ
2 、Ｎ2 ガスを用い、ＲＦ電力を加えてターゲットをＡ
ｒスパッタし、下地例えば樹脂用射出成形金型のキャビ
ティー面のうち、可動金型が固定金型に対して摺動する
部分にＴｉ−Ｃ−Ｏ−Ｎ系の保護膜を成膜する。
て成膜することができる。この場合には、成膜原料とし
てＴｉＣ、ＴｉＯ2 、ＴｉＮ、Ｔｉ等を用い、これらを
所定の混合比で混合し、プレスしてターゲットとし、ま
た雰囲気ガスとしてＡｒガス、及び必要ならさらにＯ
2 、Ｎ2 ガスを用い、ＲＦ電力を加えてターゲットをＡ
ｒスパッタし、下地例えば樹脂用射出成形金型のキャビ
ティー面のうち、可動金型が固定金型に対して摺動する
部分にＴｉ−Ｃ−Ｏ−Ｎ系の保護膜を成膜する。
【０００８】
実施例１ ＴｉＣ、ＴｉＯ2 、ＴｉＮの粉末をモル比１：２：１の
割合で混合し、プレスしてターゲットとし、投入電力
１．５kw、Ａｒ圧３Pa、焼入れ鋼ＳＫＤ−１１製の金型
摺動面に基板温度３５０℃でＲＦスパッタして４．５μ
m の厚さに成膜して耐摩耗性層とした。Ａｒガスに適宜
Ｏ2 、Ｎ2 を混入して反応性スパッタをし、組成の調整
をした。得られた組成はＴｉＣ0.72Ｏ0.9 Ｎ0.3 であっ
た。得られた保護膜のビッカース硬度、摩擦摩耗試験、
及び金型耐久性を試験した。なお、摩擦摩耗試験はボー
ルオンディスク方式（高千穂精機製の摩擦摩耗試験機）
で膜が破壊する力を測定した。また金型耐久性試験は実
際に樹脂の射出成形を行ったバリの出ない耐用回数であ
る。
割合で混合し、プレスしてターゲットとし、投入電力
１．５kw、Ａｒ圧３Pa、焼入れ鋼ＳＫＤ−１１製の金型
摺動面に基板温度３５０℃でＲＦスパッタして４．５μ
m の厚さに成膜して耐摩耗性層とした。Ａｒガスに適宜
Ｏ2 、Ｎ2 を混入して反応性スパッタをし、組成の調整
をした。得られた組成はＴｉＣ0.72Ｏ0.9 Ｎ0.3 であっ
た。得られた保護膜のビッカース硬度、摩擦摩耗試験、
及び金型耐久性を試験した。なお、摩擦摩耗試験はボー
ルオンディスク方式（高千穂精機製の摩擦摩耗試験機）
で膜が破壊する力を測定した。また金型耐久性試験は実
際に樹脂の射出成形を行ったバリの出ない耐用回数であ
る。
【０００９】実施例２ ＴｉＣ、ＴｉＯ2 、ＴｉＮの粉末をモル比１：１：２の
割合で混合し、実施例１と同じ方法でＴｉ−Ｃ−Ｏ−Ｎ
膜を成膜して耐摩耗性層とした。得られた組成はＴｉＣ
0.25Ｏ0.6 Ｎ0.5 であった。 得られた膜に対して種々
の試験及び測定を行った。
割合で混合し、実施例１と同じ方法でＴｉ−Ｃ−Ｏ−Ｎ
膜を成膜して耐摩耗性層とした。得られた組成はＴｉＣ
0.25Ｏ0.6 Ｎ0.5 であった。 得られた膜に対して種々
の試験及び測定を行った。
【００１０】比較例 原料としてＴｉＮ及びＴｉＣをターゲットとして実施例
１の条件でスパッタしてＴｉＮ及びＴｉＮの耐摩耗性保
護膜を成膜した。得られた保護膜に対して種々の試験及
び測定を行った。
１の条件でスパッタしてＴｉＮ及びＴｉＮの耐摩耗性保
護膜を成膜した。得られた保護膜に対して種々の試験及
び測定を行った。
【００１１】実施例１〜２及び比較例の耐摩耗性層の測
定結果を表１に示す。
定結果を表１に示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【発明の効果】上の実施例から明らかなように、本発明
の耐摩耗性保護膜は、従来のＴｉＮやＴｉＣ等の保護膜
に比して耐摩耗性が大きい。内部応力が小さく密着性が
高いためと思われる。
の耐摩耗性保護膜は、従来のＴｉＮやＴｉＣ等の保護膜
に比して耐摩耗性が大きい。内部応力が小さく密着性が
高いためと思われる。
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｔｉ、Ｃ、Ｏ及びＮを主たる構成元素と
する耐摩耗性保護膜。 - 【請求項２】 ＴｉＣx Ｏy Ｎz （ここにｘ、ｙ、ｚは
Ｔｉを１とした原子比でｘ＝０．０１〜２、ｙ＝０．０
５〜３、ｚ＝０．０１〜２である）で表される請求項１
に記載の耐摩耗性保護膜。 - 【請求項３】 請求項１または２の耐摩耗性保護膜を耐
摩耗性の必要な部分に被覆した物品。 - 【請求項４】 物品は、磁気記録媒体、切削工具または
金型である請求項３に記載の物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32620392A JPH06145960A (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 耐摩耗性保護膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32620392A JPH06145960A (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 耐摩耗性保護膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145960A true JPH06145960A (ja) | 1994-05-27 |
Family
ID=18185161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32620392A Pending JPH06145960A (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 耐摩耗性保護膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06145960A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8087918B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-01-03 | Toyo Advanced Technologies Co., Ltd. | Pressing mold and method for producing the same |
| US9580668B2 (en) | 2008-11-11 | 2017-02-28 | Takasago International Corporation | Process for producing purified essential oil |
-
1992
- 1992-11-12 JP JP32620392A patent/JPH06145960A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8087918B2 (en) | 2007-02-27 | 2012-01-03 | Toyo Advanced Technologies Co., Ltd. | Pressing mold and method for producing the same |
| US9580668B2 (en) | 2008-11-11 | 2017-02-28 | Takasago International Corporation | Process for producing purified essential oil |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041005 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050215 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |