JPH06145599A - Coating composition - Google Patents
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- JPH06145599A JPH06145599A JP29695392A JP29695392A JPH06145599A JP H06145599 A JPH06145599 A JP H06145599A JP 29695392 A JP29695392 A JP 29695392A JP 29695392 A JP29695392 A JP 29695392A JP H06145599 A JPH06145599 A JP H06145599A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、シロキサンポリマーを
含有したコーティング用組成物に関するものであり、さ
らに詳しくは塗布性および保存安定性の優れたコーティ
ング用組成物に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating composition containing a siloxane polymer, and more particularly to a coating composition having excellent coatability and storage stability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】シロキサンポリマーを含有したコーティ
ング用組成物を得る方法としては、クロロシランを加水
分解縮合させる方法が古くから知られている。しかし、
この方法では原料が塩素化合物であるために、得られる
コーティング用組成物にクロルイオンが混入し、電子材
料用途には適さないものであった。2. Description of the Related Art As a method for obtaining a coating composition containing a siloxane polymer, a method of hydrolyzing and condensing chlorosilane has long been known. But,
In this method, since the raw material is a chlorine compound, chlorine ions are mixed in the obtained coating composition, which is not suitable for electronic material applications.
【０００３】このクロルイオンの混入を防ぐ方法として
アルコキシシランを原料とする方法が開示されている。
すなわち、親水性溶媒中でアルコキシシランを水および
触媒を加えて加水分解縮合させた反応溶液を必要に応じ
て、所定の濃度に濃縮あるいは希釈したものをコーティ
ング用組成物とするものである。As a method for preventing the mixing of chlorine ions, a method using an alkoxysilane as a raw material has been disclosed.
That is, a coating composition is prepared by concentrating or diluting a reaction solution obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane in a hydrophilic solvent with the addition of water and a catalyst to a predetermined concentration.
【０００４】しかし、この方法では、得られるコーティ
ング用組成物の塗布性は悪く、保存安定性にも劣るもの
であった。However, according to this method, the coating composition obtained had poor coatability and poor storage stability.
【０００５】すなわち、塗布性不良の原因について本発
明者らが詳細な検討を行なったところ、シロキサンポリ
マーが疎水性であるにもかかわらず、加水分解のために
加えた水の過剰分や縮合反応によって生成した水の除去
が不十分であるため、溶剤成分に水が含まれていること
が主原因であることが判った。That is, the inventors of the present invention have conducted a detailed study on the cause of poor coating properties. As a result, even though the siloxane polymer is hydrophobic, excess water added for hydrolysis and condensation reaction are added. It was found that the main cause is that the solvent component contains water because the water generated by the method is insufficiently removed.
【０００６】また、保存安定性不良については、加水分
解促進用に加えた触媒の除去についても不十分であるた
めに、保存中に徐々に加水分解縮合が進行していること
が主原因であることが判った。[0006] The poor storage stability is mainly due to the fact that the removal of the catalyst added to accelerate the hydrolysis is insufficient, so that the hydrolysis condensation is gradually progressed during the storage. I knew that.
【０００７】つまり、水の除去のみ、あるいは触媒の除
去のみでは塗布性の向上、保存安定性の向上のいずれを
も達成不可能なことが判明した。すなわち、水の除去の
みを行なって塗布性の向上を図っても、触媒が存在する
限りは脱水縮合反応の進行によって水が生成するため、
経時的に塗布性が劣化してしまうのである。また、触媒
の除去のみを行なって保存安定性の向上を図っても、水
の存在は加水分解を十分に進行させてしまうのである。That is, it has been found that neither the improvement of the coating property nor the improvement of the storage stability can be achieved only by removing the water or only by removing the catalyst. That is, even if only water is removed to improve the coatability, water is produced by the progress of the dehydration condensation reaction as long as the catalyst is present.
The coating property deteriorates with time. Even if only the removal of the catalyst is carried out to improve the storage stability, the presence of water will cause the hydrolysis to proceed sufficiently.
【０００８】すなわち、水および触媒の双方を除去した
場合のみ、塗布性および保存安定性が共に優れたコーテ
ィング用組成物が得られることを見出だし、本発明に到
達したものである。That is, it was found that a coating composition excellent in both coatability and storage stability can be obtained only when both water and a catalyst are removed, and the present invention has been achieved.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
性および保存安定性が共に優れたコーティング用組成物
を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a coating composition which is excellent in both coatability and storage stability.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
アルコキシシランに水および触媒を加えて加水分解縮合
させた反応溶液から、水および触媒を除去して得られる
シロキサンポリマーを含有することを特徴とするコーテ
ィング用組成物により達成される。The object of the present invention is as follows.
It is achieved by a coating composition comprising a siloxane polymer obtained by removing water and a catalyst from a reaction solution obtained by adding water and a catalyst to an alkoxysilane to hydrolyze and condense it.
【００１１】以下、本発明の構成を順に説明する。The structure of the present invention will be described below in order.
【００１２】本発明において用いられるシロキサンポリ
マーは、アルコキシシランに水および触媒を加えて加水
分解縮合させた反応溶液から、水および触媒を除去して
得られるものである。The siloxane polymer used in the present invention is obtained by removing water and a catalyst from a reaction solution obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane with water and a catalyst.
【００１３】シロキサンポリマーの原料となるアルコキ
シシランは、そのアルコキシ基が加水分解性を有してい
るものであれば特に限定されないが、好ましくは、次の
一般式（１）で表されるものである。The alkoxysilane used as a raw material for the siloxane polymer is not particularly limited as long as the alkoxy group has a hydrolyzability, but is preferably one represented by the following general formula (1). is there.
【００１４】Ｒx Ｓｉ（ＯＲ´）4-x
（１） （ただし、Ｒ、Ｒ´は同一もしくは異なっていてもよ
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アリル
基、フルオロアルキル基を表す。また、ｘは０〜３の整
数である。） 一般式（１）で表されるアルコキシシランの具体例とし
ては、テトラヒドロキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシランフェニルトリメトキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフ
ルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロエチルトリ
メトキシシランなどを挙げることができる。好ましく
は、メチルトリメトキシシラン４０〜１００モル％、フ
ェニルトリメトキシシラン０〜４０モル％、およびジメ
チルジメトキシシラン０〜４０モル％から成る組成物で
あり、さらに好ましくはメチルトリメトキシシラン５０
〜８０モル％、フェニルトリメトキシシラン１０〜３０
モル％、およびジメチルジメトキシシラン１０〜４０モ
ル％から成る組成物である。R x Si (OR ') 4-x
(1) (However, R and R ′ may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an allyl group, or a fluoroalkyl group. Further, x is an integer of 0 to 3.) Specific examples of the alkoxysilane represented by the general formula (1) include tetrahydroxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and phenyltrisilane. Examples thereof include methoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, trifluoromethylmethoxysilane and trifluoroethyltrimethoxysilane. Preferred is a composition comprising 40 to 100 mol% of methyltrimethoxysilane, 0 to 40 mol% of phenyltrimethoxysilane, and 0 to 40 mol% of dimethyldimethoxysilane, and more preferred is methyltrimethoxysilane 50.
~ 80 mol%, phenyltrimethoxysilane 10-30
%, And 10 to 40 mol% of dimethyldimethoxysilane.
【００１５】アルコキシシランの加水分解縮合反応は無
溶媒で行っても良いが、通常は溶媒中で行なわれる。溶
媒としては、有機溶媒が好ましく、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、ジエチルエーテル、酢酸エ
チル、ヘキサン、シクロヘキサン、ノルマルブタノール
などの疎水性有機溶媒がさらに好ましい。溶媒の量とし
ては、任意に選択可能であるが、アルコキシシラン１重
量に対して、０．１〜３．０倍重量の範囲で用いるのが
好ましい。The hydrolysis-condensation reaction of the alkoxysilane may be carried out without a solvent, but it is usually carried out in a solvent. As the solvent, an organic solvent is preferable, and a hydrophobic organic solvent such as methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diethyl ether, ethyl acetate, hexane, cyclohexane, and normal butanol is more preferable. Although the amount of the solvent can be arbitrarily selected, it is preferably used in the range of 0.1 to 3.0 times the weight of 1 weight of the alkoxysilane.
【００１６】加水分解縮合反応をさせるために用いられ
る水としては、イオン交換水が好ましく、その量として
は、アルコキシシラン１モルに対して、１〜４倍モルの
範囲で用いるのが好ましい。また、加水分解縮合反応さ
せるために用いる触媒は酸触媒が好ましく、塩酸、硫
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、ほう酸などが好
ましい例としてあげられる。The water used for the hydrolysis-condensation reaction is preferably ion-exchanged water, and the amount thereof is preferably 1 to 4 times mol per mol of the alkoxysilane. The catalyst used for the hydrolysis condensation reaction is preferably an acid catalyst, and hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, boric acid and the like can be mentioned as preferable examples.
【００１７】加水分解縮合反応の温度および時間として
は、反応系の凝固点から沸点の範囲で適宜選択される
が、高分子量のシロキサンポリマーを得るには、還流下
で１〜１００時間行なうのが好ましい。The temperature and time of the hydrolysis-condensation reaction are appropriately selected within the range of the freezing point to the boiling point of the reaction system. In order to obtain a high molecular weight siloxane polymer, it is preferable to carry out the reaction under reflux for 1 to 100 hours. .
【００１８】反応溶液から水および触媒を除去する方法
としては特に限定されない。例えば、イオン交換樹脂、
イオン交換繊維、モレキュラーシーブなどの吸着剤およ
び乾燥剤などを用いて行うことができるが、好ましく
は、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジ
エチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの疎水性
有機溶剤を用いて該反応溶液からシロキサンポリマーを
抽出し、その有機層を水洗する方法である。上記疎水性
有機溶剤の中で特に好ましいものは、メチルイソブチル
ケトン、ジイソブチルケトン、酢酸エチルである。有機
層を、水洗後、完全に水分を除去するために、無水硫酸
ナトリウム、無水硫酸マグネシウムなどの乾燥剤を用い
ることも可能である。The method for removing water and the catalyst from the reaction solution is not particularly limited. For example, ion exchange resin,
It can be carried out using an ion exchange fiber, an adsorbent such as a molecular sieve and a desiccant, but preferably, a hydrophobic organic solvent such as methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diethyl ether, ethyl acetate or butyl acetate is used. In this method, a siloxane polymer is extracted from the reaction solution and the organic layer is washed with water. Of the above hydrophobic organic solvents, particularly preferred are methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, and ethyl acetate. It is also possible to use a desiccant such as anhydrous sodium sulfate and anhydrous magnesium sulfate in order to completely remove water after washing the organic layer with water.
【００１９】水洗後、あるいは水洗乾燥後の溶液をその
ままコーティング用組成物とすることも可能であるが、
必要に応じて、溶剤を追加あるいは除去して粘度を調製
すること、さらには溶剤を除去してシロキサンポリマー
を単離し、再び所望の溶剤に溶解しコーティング用組成
物とすることも好ましく行われる。コーティング用組成
物中のシロキサンポリマーの好ましい割合としては、１
０〜６０重量％である。The solution after washing with water or after washing with water and drying can be used as it is as a coating composition.
If necessary, it is also preferable to add or remove a solvent to adjust the viscosity, and further to remove the solvent to isolate the siloxane polymer and dissolve it again in a desired solvent to prepare a coating composition. The preferable ratio of the siloxane polymer in the coating composition is 1
It is 0 to 60% by weight.
【００２０】ここで用いられる溶剤としては、イソプロ
パノール、ノルマルブタノール、メチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、エチルセロソルブアセテート、トルエン、キシレ
ン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなど
を挙げることができる。Examples of the solvent used here include isopropanol, normal butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl cellosolve acetate, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone and diisobutyl ketone.
【００２１】本発明におけるコーティング用組成物は、
さらに、熱によって反応促進剤を発生する化合物を含有
することが好ましい。すなわち、該化合物は、後述の加
熱キュア時に反応促進剤を発生するので、該化合物を添
加することによって、加熱後の膜をより緻密なものとす
ることができる。The coating composition of the present invention comprises
Furthermore, it is preferable to contain a compound that generates a reaction accelerator by heat. That is, since the compound generates a reaction accelerator at the time of heating and curing described later, the film after heating can be made more compact by adding the compound.
【００２２】熱によって反応促進剤を発生する化合物と
しては、特に限定されないが、熱酸発生剤、あるいは熱
塩基発生剤が好ましい。具体的には、熱酸発生剤として
は、ベンゾイントシレート、トリ（ニトロベンジル）フ
ォスフェート、トリアニソインフォスフェート、ジアリ
ールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩な
ど、熱塩基発生剤としては、ニトロベンジルシクロヘキ
シルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチ
レンジカルバメートなどを挙げることができる。これら
の化合物の使用量としては、シロキサンポリマーに対し
て、０．１〜５重量％の範囲にあることが好ましく、よ
り好ましくは０．２〜２重量％である。The compound that generates a reaction accelerator by heat is not particularly limited, but a thermal acid generator or a thermal base generator is preferable. Specifically, thermal acid generators include benzointosylate, tri (nitrobenzyl) phosphate, trianisophionate, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, and thermal base generators include nitrobenzylcyclohexyl. Carbamate, di (methoxybenzyl) hexamethylene dicarbamate and the like can be mentioned. The amount of these compounds used is preferably in the range of 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.2 to 2% by weight, based on the siloxane polymer.
【００２３】次に、本発明のコーティング用組成物の使
用方法を説明する。Next, a method of using the coating composition of the present invention will be described.
【００２４】本発明のコーティング用組成物をスピンナ
ー、ディッピングなどの公知の方法によってシリコンウ
ェハー、セラミックス板などの基板上に塗布し、乾燥す
る。乾燥後の膜厚としては、０．５〜５．０μｍ、乾燥
温度としては、５０〜１５０℃の範囲にあることが好ま
しい。The coating composition of the present invention is applied onto a substrate such as a silicon wafer or a ceramic plate by a known method such as spinner or dipping and dried. The film thickness after drying is preferably 0.5 to 5.0 μm, and the drying temperature is preferably 50 to 150 ° C.
【００２５】つづいて、乾燥後の膜を、加熱キュアする
ことによって、組成物は、完全に硬化しコーティング膜
となる。キュア温度としては、２００〜４５０℃の範囲
にあることが好ましい。Subsequently, the dried film is cured by heating, whereby the composition is completely cured to form a coating film. The curing temperature is preferably in the range of 200 to 450 ° C.
【００２６】本発明のコーティング用組成物は、半導体
素子の保護膜、層間絶縁膜、導波路形成用材料、位相シ
フター用材料、さらには各種電子部品の保護膜として用
いることができるが、これらに限定されない。The coating composition of the present invention can be used as a protective film for semiconductor elements, an interlayer insulating film, a material for forming a waveguide, a material for phase shifters, and a protective film for various electronic parts. Not limited.
【００２７】[0027]
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples.
【００２８】実施例１ メチルトリメトキシシラン１３６ｇ（１．０ｍｏｌ）
に、イオン交換水６０ｇ、酢酸３ｇを攪拌しながら加え
た。得られた溶液を加熱し、還流させながら、２４時間
反応させた。その後、酢酸ブチル５００ｇを用いてシロ
キサンポリマーを抽出し、得られた有機層にイオン交換
水２００ｇを加えて振とうし、静置後、水層を分離除去
した。得られた有機層を濃縮して、コーティング用組成
物を得た。上記コーティング用組成物をシリコンウェハ
上にスピンコーターを用いて塗布したところ、ムラのな
い良好な膜が得られ、良好な塗布性を示した。Example 1 136 g (1.0 mol) of methyltrimethoxysilane
To the above, 60 g of ion-exchanged water and 3 g of acetic acid were added with stirring. The resulting solution was heated and refluxed for 24 hours. Thereafter, the siloxane polymer was extracted with 500 g of butyl acetate, 200 g of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was shaken. After standing, the aqueous layer was separated and removed. The obtained organic layer was concentrated to obtain a coating composition. When the above coating composition was applied onto a silicon wafer using a spin coater, a good film without unevenness was obtained, and good coating properties were exhibited.
【００２９】また、このコーティング用組成物は室温で
３ケ月保存後も、粘度上昇は見られず、塗布性の劣化も
見られず、良好な保存安定性を有していた。Further, the coating composition had good storage stability even after being stored at room temperature for 3 months without any increase in viscosity and no deterioration in coating property.
【００３０】比較例１ 実施例１と同様に、メチルトリメトキシシラン１３６ｇ
（１．０ｍｏｌ）に、イオン交換水６０ｇ、酢酸３ｇを
攪拌しながら加えた。得られた溶液を加熱し、還流させ
ながら、２４時間反応させた。得られた溶液を濃縮し
て、コーティング用組成物を得た。Comparative Example 1 As in Example 1, 136 g of methyltrimethoxysilane
To (1.0 mol), 60 g of ion-exchanged water and 3 g of acetic acid were added with stirring. The resulting solution was heated and refluxed for 24 hours. The obtained solution was concentrated to obtain a coating composition.
【００３１】上記コーティング用組成物をシリコンウェ
ハ上にスピンコーターを用いて塗布したところ、多数の
クレーター状のムラが見られた。さらに、このコーティ
ング用組成物は室温保存により、粘度上昇が見られ、塗
布性および保存安定性に劣るものであった。When the above coating composition was applied onto a silicon wafer using a spin coater, many crater-like unevenness was observed. Further, this coating composition showed an increase in viscosity when stored at room temperature, and was inferior in coating property and storage stability.
【００３２】実施例２ メチルトリメトキシシラン１９０ｇ（１．４ｍｏｌ）、
ジメチルジメトキシシラン７２ｇ（０．６ｍｏｌ）、フ
ェニルトルメトキシシラン７．９ｇ（０．４ｍｏｌ）を
メチルイソブチルケトン９０ｇに溶解し、これに、イオ
ン交換水１２０ｇ、リン酸１０ｇを攪拌しながら加え
た。得られた溶液を加熱し、還流させながら、３時間反
応させた。その後、メチルイソブチルケトン１０００ｇ
を用いてシロキサンポリマーを抽出し、得られた有機層
にイオン交換水１０００ｇを加えて振とうし、静置後、
水層を分離除去した。得られた有機層を濃縮して、コー
ティング用組成物を得た。Example 2 190 g (1.4 mol) of methyltrimethoxysilane,
72 g (0.6 mol) of dimethyldimethoxysilane and 7.9 g (0.4 mol) of phenyltolumethoxysilane were dissolved in 90 g of methyl isobutyl ketone, to which 120 g of ion-exchanged water and 10 g of phosphoric acid were added with stirring. The obtained solution was heated and reacted under reflux for 3 hours. After that, 1000 g of methyl isobutyl ketone
The siloxane polymer was extracted using, and 1000 g of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was shaken.
The aqueous layer was separated and removed. The obtained organic layer was concentrated to obtain a coating composition.
【００３３】上記コーティング用組成物をシリコンウェ
ハ上にスピンコーターを用いてコートしたところ、ムラ
のない良好な膜が得られ、良好な塗布性を示した。When the above coating composition was coated on a silicon wafer using a spin coater, a good film having no unevenness was obtained and good coatability was exhibited.
【００３４】また、このコーティング用組成物は室温で
３ケ月保存後も、粘度上昇は見られず、塗布性の劣化も
見られず、良好な保存安定性を有していた。Further, this coating composition had good storage stability even after storage at room temperature for 3 months without any increase in viscosity or deterioration in coating property.
【００３５】比較例２ 実施例２と同様に、メチルトリメトキシシラン１９０ｇ
（１．４ｍｏｌ）、ジメチルジメトキシシラン７２ｇ
（０．６ｍｏｌ）、フェニルトルメトキシシラン７．９
ｇ（０．４ｍｏｌ）をメチルイソブチルケトン９０ｇに
溶解し、これに、イオン交換水１２０ｇ、リン酸１０ｇ
を攪拌しながら加えた。得られた溶液を加熱し、還流さ
せながら、３時間反応させた。得られた溶液を濃縮し
て、コーティング用組成物を得た。Comparative Example 2 190 g of methyltrimethoxysilane were prepared in the same manner as in Example 2.
(1.4 mol), 72 g of dimethyldimethoxysilane
(0.6 mol), phenyltolumethoxysilane 7.9
g (0.4 mol) was dissolved in 90 g of methyl isobutyl ketone, and 120 g of ion-exchanged water and 10 g of phosphoric acid were added to the solution.
Was added with stirring. The obtained solution was heated and reacted under reflux for 3 hours. The obtained solution was concentrated to obtain a coating composition.
【００３６】上記コーティング用組成物をシリコンウェ
ハ上にスピンコーターを用いてコートしたところ、ムラ
のない良好な膜が得られ、良好な塗布性を示したが、室
温で３ケ月保存後、ゲル化し、保存安定性に劣るもので
あった。When the above coating composition was coated on a silicon wafer by using a spin coater, a good film without unevenness was obtained and a good coating property was exhibited, but after storage at room temperature for 3 months, gelation occurred. The storage stability was inferior.
【００３７】実施例３ テトラメトキシシラン３０４ｇ（２．０ｍｏｌ）、メチ
ルトリメトキシシラン１３６ｇ（１．０ｍｏｌ）、ジメ
チルジメトキシシラン６０ｇ（０．５ｍｏｌ）、をメタ
ノール１００ｇに溶解し、これに、イオン交換水２００
ｇ、塩酸１５ｇを攪拌しながら加えた。得られた溶液を
加熱し、還流させながら、８時間反応させた。その後、
この溶液をイオン交換樹脂１ｋｇを充填したカラムに通
し、水および触媒を除去し、得られた有機層を濃縮し
て、シロキサンポリマーを得た。このポリマー２０ｇを
プロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇに溶解
し、さらにベンゾイントシレート０．１ｇを加え、コー
ティング用組成物を得た。Example 3 304 g (2.0 mol) of tetramethoxysilane, 136 g (1.0 mol) of methyltrimethoxysilane and 60 g (0.5 mol) of dimethyldimethoxysilane were dissolved in 100 g of methanol, and ion-exchanged water was added thereto. 200
g and hydrochloric acid 15 g were added with stirring. The obtained solution was heated and reacted under reflux for 8 hours. afterwards,
This solution was passed through a column packed with 1 kg of an ion exchange resin to remove water and a catalyst, and the obtained organic layer was concentrated to obtain a siloxane polymer. 20 g of this polymer was dissolved in 30 g of propylene glycol monomethyl ether, and 0.1 g of benzoin tosylate was further added to obtain a coating composition.
【００３８】上記コーティング用組成物をシリコンウェ
ハ上にスピンコーターを用いてコートしたところ、ムラ
のない良好な膜が得られ、良好な塗布性を示した。When the above coating composition was coated on a silicon wafer by using a spin coater, a good film without unevenness was obtained and good coatability was exhibited.
【００３９】また、さらに、このコーティング用組成物
は室温で３ケ月保存後も、粘度上昇は見られず、塗布性
の劣化も見られず、良好な保存安定性を有していた。Further, this coating composition had good storage stability even after storage at room temperature for 3 months without any increase in viscosity or deterioration in coating property.
【００４０】比較例３ 実施例３と同様に、テトラメトキシシラン３０４ｇ
（２．０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン１３６ｇ
（１．０ｍｏｌ）、ジメチルジメトキシシラン６０ｇ
（０．５ｍｏｌ）、をメタノール１００ｇに溶解し、こ
れに、イオン交換水２００ｇ、塩酸１５ｇを攪拌しなが
ら加えた。得られた溶液を加熱し、還流させながら、８
時間反応させた。Comparative Example 3 304 g of tetramethoxysilane were prepared in the same manner as in Example 3.
(2.0 mol), 136 g of methyltrimethoxysilane
(1.0 mol), 60 g of dimethyldimethoxysilane
(0.5 mol) was dissolved in 100 g of methanol, and 200 g of ion-exchanged water and 15 g of hydrochloric acid were added to this while stirring. The resulting solution is heated to reflux and
Reacted for hours.
【００４１】得られた溶液をシリコンウェハ上にスピン
コーターを用いてコートしたところ、多数のクレーター
状のムラが見られ、また、室温で１ケ月保存後ゲル化
し、塗布性および保存安定性に劣るものであった。When the obtained solution was coated on a silicon wafer by using a spin coater, a large number of crater-like unevenness was observed, and after storage at room temperature for 1 month, it gelled, resulting in poor coatability and storage stability. It was a thing.
【００４２】実施例４ 実施例２で得たコーティング用組成物にさらにベンゾイ
ントシレートをシロキサンポリマーに対して、０．５重
量％添加した。Example 4 Benzoin tosylate was further added to the coating composition obtained in Example 2 in an amount of 0.5% by weight based on the siloxane polymer.
【００４３】上記コーティング用組成物をシリコンウエ
ハ上にスピンコーターを用いて塗布したところ、ベンゾ
イントシレート未添加品と同様の良好な塗布性と保存安
定性を有していた。When the above coating composition was applied onto a silicon wafer using a spin coater, it had the same good coatability and storage stability as those of the benzoin tosylate-free product.
【００４４】塗布膜を、１００℃で乾燥後、３００℃で
加熱キュアし、コーティング膜を得た。電子顕微鏡によ
り観察したところ、キュア後の膜はより緻密な膜となっ
ていた。The coating film was dried at 100 ° C. and then heated and cured at 300 ° C. to obtain a coating film. When observed by an electron microscope, the film after curing was a denser film.
【００４５】実施例５ 実施例３で得たコーティング用組成物にさらにニトロベ
ンジルシクロヘキシルカルバメートをシロキサンポリマ
ーに対して、２．０重量％添加した。Example 5 To the coating composition obtained in Example 3, 2.0% by weight of nitrobenzylcyclohexylcarbamate was added to the siloxane polymer.
【００４６】上記コーティング用組成物をシリコンウエ
ハ上にスピンコーターを用いて塗布したところ、ニトロ
ベンジルシクロヘキシルカルバメート未添加品と同様の
良好な塗布性と保存安定性を有していた。When the above coating composition was applied onto a silicon wafer using a spin coater, it had the same good coatability and storage stability as the nitrobenzylcyclohexylcarbamate-free product.
【００４７】塗布膜を、８５℃で乾燥後、３５０℃で加
熱キュアし、コーティング膜を得た。電子顕微鏡により
観察したところ、キュア後の膜はより緻密な膜となって
いた。The coating film was dried at 85 ° C. and then heated and cured at 350 ° C. to obtain a coating film. When observed by an electron microscope, the film after curing was a denser film.
【００４８】[0048]
【発明の効果】本発明のコーティング用組成物は、塗布
性に優れており、塗布後の被膜にムラ、筋などの欠陥が
発生しない。また、保存中も粘度変化、塗布性劣化がな
く、保存安定性が優れている。The coating composition of the present invention has excellent coatability, and defects such as unevenness and streaks do not occur in the coating film after coating. Further, during storage, there is no change in viscosity and deterioration in coating properties, and storage stability is excellent.
Claims (6)
加水分解縮合させた反応溶液から、水および触媒を除去
して得られるシロキサンポリマーを含有することを特徴
とするコーティング用組成物。1. A coating composition comprising a siloxane polymer obtained by removing water and a catalyst from a reaction solution obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane with water and a catalyst.
に水および触媒を加えて加水分解縮合させた反応溶液か
ら疎水性有機溶剤を用いて抽出した有機層を水洗するこ
とによって、水および触媒を除去して得られるシロキサ
ンポリマーであることを特徴とする請求項１記載のコー
ティング用組成物。2. A siloxane polymer is hydrolyzed and condensed by adding water and a catalyst to an alkoxysilane, and the organic layer extracted with a hydrophobic organic solvent from the reaction solution is washed with water to remove the water and the catalyst. The coating composition according to claim 1, which is the obtained siloxane polymer.
シシランが、下記一般式（１）で表されるアルコキシシ
ランであることを特徴とする請求項１または２記載のコ
ーティング用組成物。 Ｒx Ｓｉ（ＯＲ´）4-x （１） （ただし、Ｒ、Ｒ´は同一もしくは異なっていてもよ
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アリル
基、フルオロアルキル基を表す。また、ｘは０〜３の整
数である。）3. The coating composition according to claim 1 or 2, wherein the alkoxysilane which is a raw material of the siloxane polymer is an alkoxysilane represented by the following general formula (1). R x Si (OR ′) 4-x (1) (wherein R and R ′ may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an allyl group or a fluoroalkyl group. Is an integer of 0 to 3.)
化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３いずれ
か記載のコーティング用組成物。4. The coating composition according to claim 1, further comprising a compound which generates a reaction accelerator by heat.
熱酸発生剤であることを特徴とする請求項４記載のコー
ティング用組成物。5. The coating composition according to claim 4, wherein the compound that generates a reaction accelerator by heat is a thermal acid generator.
熱塩基発生剤であることを特徴とする請求項４記載のコ
ーティング用組成物。6. The coating composition according to claim 4, wherein the compound that generates a reaction accelerator by heat is a thermal base generator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29695392A JPH06145599A (en) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | Coating composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29695392A JPH06145599A (en) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | Coating composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145599A true JPH06145599A (en) | 1994-05-24 |
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ID=17840325
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|---|---|---|---|
| JP29695392A Pending JPH06145599A (en) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | Coating composition |
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| JP (1) | JPH06145599A (en) |
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- 1992-11-06 JP JP29695392A patent/JPH06145599A/en active Pending
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