JPH06145191A - Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide - Google Patents

Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide

Info

Publication number
JPH06145191A
JPH06145191A JP29522392A JP29522392A JPH06145191A JP H06145191 A JPH06145191 A JP H06145191A JP 29522392 A JP29522392 A JP 29522392A JP 29522392 A JP29522392 A JP 29522392A JP H06145191 A JPH06145191 A JP H06145191A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
chloride
compound
protected
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29522392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomio Takeuchi
富雄 竹内
Sumio Umezawa
純夫 梅沢
Osamu Tsuchiya
修 土屋
Toshiharu Kageyama
俊治 陰山
Toshiaki Miyake
俊昭 三宅
Naoki Matsumoto
直樹 松本
Kaichiro Kominato
嘉一郎 小湊
Hiroshi Tanaka
博 田中
Takeo Yoshioka
武男 吉岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Microbial Chemistry Research Foundation
Original Assignee
Microbial Chemistry Research Foundation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Microbial Chemistry Research Foundation filed Critical Microbial Chemistry Research Foundation
Priority to JP29522392A priority Critical patent/JPH06145191A/en
Priority to EP93901539A priority patent/EP0627443B1/en
Priority to JP51233493A priority patent/JP3264926B2/en
Priority to CA002127259A priority patent/CA2127259A1/en
Priority to AT93901539T priority patent/ATE150757T1/en
Priority to DE69309259T priority patent/DE69309259T2/en
Priority to AU32668/93A priority patent/AU3266893A/en
Priority to ES93901539T priority patent/ES2099941T3/en
Priority to PCT/JP1993/000031 priority patent/WO1993014101A1/en
Priority to US08/256,537 priority patent/US5541303A/en
Priority to TW082100137A priority patent/TW243446B/zh
Priority to DK93901539.2T priority patent/DK0627443T3/en
Priority to CN93100302A priority patent/CN1076452A/en
Publication of JPH06145191A publication Critical patent/JPH06145191A/en
Priority to GR970401178T priority patent/GR3023529T3/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Saccharide Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a new compound useful as a synthetic intermediate for an antibacterial substance 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide and effective in producing the antibacterial substance having excellent phylactic action in high efficiency. CONSTITUTION:The compound of formula [A is (protected) carbonyl; B is (protected) aldehyde; W is H or OCOCH3; Y is OH, halogen, etc.; R<4> is (protected) OH; R<2> is lower alkanoyl provided that a part of R<2> is double bond when W is H and is single bond when W is OCOCH3], e.g. 2',3,4'-tri-O- acetyldesmycosin-9,20-bis(ethyleneacetal). The compound can be produced e.g. by treating 3-O-acetyltylosine with an acid anhydride, treating the acylated product with a dehydration agent and an alcohol compound in an inert solvent in the presence of an acid catalyst at 5-80 deg.C and treating the product with a base in an inert solvent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、優れた感染防御作用を
有する抗菌性物質である3,4′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドを製造するための有用な中間体に
関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a useful intermediate for producing 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide, which is an antibacterial substance having an excellent protective effect against infection.

【0002】[0002]

【従来の技術】3,4′−ジデオキシマイカミノシルタ
イロノライド又はその塩は、グラム陽性及び陰性に属す
る微生物に対して抗菌活性を示す物質であり、特に感染
防御作用に優れた抗菌剤として有用である(特開平2−
275894号公報)。3,4′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドは、タイロシンの酸加水分解物で
あるマイカミノシルタイロノライドの官能基を適宜保護
した後、3位及び4′位の水酸基をデオキシ化し、さら
に適宜脱保護することにより製造することができる。例
えば、3位と4′位の水酸基をスルホニル化した後、ジ
ャーナル・オブ・アンティバイオティックス(J. Antibi
otics 34、1374〜1376頁) 又は特開平2-191295号公報に
記載された方法により4′位の水酸基をハロゲン化し、
更に水素化トリブチル錫を用いてハロゲン原子を還元的
に除去するデオキシ化法が知られている。上記特開平2-
275894号公報に記載された方法も、同様に4′位の水酸
基をデオキシ化する方法である。3位の水酸基について
は、アルカリ条件下でスルホン酸を脱離させて二重結合
を形成させた後、二重結合を接触還元することによりデ
オキシ化を行うことができる。
2. Description of the Related Art 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide or a salt thereof is a substance showing antibacterial activity against Gram-positive and -negative microorganisms, and particularly as an antibacterial agent excellent in infection-preventing action. Useful (JP-A-2-
275894). 3,4′-dideoxymycaminosyl tylonolide is a compound in which the functional group of mycaminosyl tylonolide, which is an acid hydrolyzate of tylosin, is appropriately protected, and then the hydroxyl groups at the 3 and 4 ′ positions are deoxygenated. It can be produced by appropriate deprotection. For example, after sulfonylating the hydroxyl groups at the 3 and 4'positions, use the Journal of Antibiotics (J. Antibi
otics 34, pp.1374-1376) or halogenating the hydroxyl group at the 4'position by the method described in JP-A No. 2-191295.
Further, a deoxygenation method is known in which a halogen atom is reductively removed by using tributyltin hydride. JP-A-2-
The method described in Japanese Patent No. 275894 is also a method of deoxidizing the hydroxyl group at the 4'position. Regarding the hydroxyl group at the 3-position, deoxidation can be carried out by eliminating the sulfonic acid under alkaline conditions to form a double bond and then catalytically reducing the double bond.

【0003】しかし上記の方法によれば、3位及び4′
位のデオキシ化を行うにあたり、両水酸基をスルホニル
化して4′位をハロゲン化した後、さらに3工程(4′
位の水素化トリブチル錫による還元工程、3位の二重結
合形成工程、及び還元工程)の反応を行う必要があり、
収率が低いという問題があった(約65〜70%)。さら
に、4′位のデオキシ化に使用する水素化トリブチル錫
は悪臭を伴い、反応後の生成物の精製が困難になるの
で、この反応を工業的に応用することには問題があっ
た。
However, according to the above method, the 3rd and 4'th positions are used.
In performing deoxygenation of the 4-position, both hydroxyl groups are sulfonylated to halogenate the 4'-position, and then three steps (4 '
Step, reduction step with tributyltin hydride at position 3, double bond formation step at position 3, and reduction step),
There was a problem of low yield (about 65-70%). Furthermore, tributyltin hydride used for deoxygenation at the 4'-position has a bad odor, and purification of the product after the reaction becomes difficult, so that there is a problem in industrially applying this reaction.

【0004】本発明者は、3,4′−ジデオキシマイカ
ミノシルタイロノライドを製造するための有用な中間体
である3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体を製造するにあたり、上記の問題点を解決
し、工業的に応用可能な新規製造方法を提供することを
目的として研究を進めた。その結果、水素化トリブチル
錫を用いることなく、3位及び4′位にそれぞれスルホ
ニル基で保護された水酸基とハロゲン原子とを有するマ
イカミノシルタイロノライド誘導体を、1工程で効率的
に水素置換して、目的の3,4′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライド誘導体を製造する方法を見出し、
該発明について特許出願した(特願平 4-24692号) 。
The present inventor has prepared the above-mentioned preparation of 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative which is a useful intermediate for producing 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide. The research was advanced for the purpose of solving the above problems and providing a new manufacturing method applicable industrially. As a result, a mycaminosyl tylonolide derivative having a hydroxyl group and a halogen atom protected by a sulfonyl group at the 3 and 4'positions, respectively, can be efficiently hydrogen-substituted in one step without using tributyltin hydride. To find a method for producing the desired 3,4′-dideoxymycaminosyl tylonolide derivative,
A patent application for the invention was filed (Japanese Patent Application No. 4-24692).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明は、上記の製造方法において有用な、
3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製
造中間体を提供することを目的としている。本発明は、
下記一般式:
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention and Means for Solving the Problems The present invention is useful in the above manufacturing method,
An object of the present invention is to provide an intermediate for producing 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide. The present invention is
The following general formula:

【0006】[0006]

【化2】 [Chemical 2]

【0007】(式中、Aは保護されていてもよいカルボ
ニル基を表し、Bは保護されていてもよいアルデヒド基
を示し、Wは水素原子または-OCOCH3 基を示し、Yは水
酸基、置換スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示
し、R1 は水酸基又は保護された水酸基を示し、R2
低級アルカノイル基を示す。ただし、──部分は、Wが
水素原子を示す場合には二重結合を示し、Wが-OCOCH3
基を示す場合には単結合を示す)で示される3,4′−
ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製造中間体を
提供するものである。
(Wherein A represents a carbonyl group which may be protected, B represents an aldehyde group which may be protected, W represents a hydrogen atom or an —OCOCH 3 group, Y represents a hydroxyl group or a substituted group). A sulfonyloxy group or a halogen atom, R 1 represents a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, R 2 represents a lower alkanoyl group, provided that when the W represents a hydrogen atom, a double bond Indicates that W is -OCOCH 3
When a group is shown, a single bond is shown)
The present invention provides an intermediate for producing dideoxymycaminosyl tylonolide.

【0008】本発明の式(I)で示される化合物におい
て、A又はBが表すカルボニル基又はアルデヒド基の保
護基としては当業者に自明なものはいかなるものを使用
してもよいが、例えば、ジメチルアセタール(ジメチル
ケタール)、ジエチルアセタール(ジエチルケター
ル)、ジエチルチオアセタール(ジエチルチオケター
ル)、エチレンアセタール(エチレンチオケタール)、
プロピレンアセタール(プロピレンケタール)等のアセ
タール(又はチオアセタール)又はケタール(又はチオ
ケタール)等を用いることができる。
In the compound represented by the formula (I) of the present invention, as the protecting group for the carbonyl group or aldehyde group represented by A or B, any one obvious to those skilled in the art may be used. Dimethyl acetal (dimethyl ketal), diethyl acetal (diethyl ketal), diethyl thioacetal (diethyl thioketal), ethylene acetal (ethylene thioketal),
An acetal (or thioacetal) such as propylene acetal (propylene ketal) or a ketal (or thioketal) can be used.

【0009】Wは水素原子または-OCOCH3 基を示し、Y
は水酸基、置換スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子
を示す。置換スルホニルオキシ基は-OSO2R3 で示され、
3は、例えば低級アルキル基、トリフルオロメチル
基、2−オキソ−10−ボルナニイル基、置換又は未置換
のアリル基、若しくは置換又は未置換のアラルキル基を
表す。低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、tert−ブチル基、ペンチル基、1−メチルブチ
ル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル基などを挙げ
ることができる。置換または未置換のアリル基として
は、フェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェ
ニル基、p-フルオロフェニル基、p,o-ジフルオロフェニ
ル基、p-クロロフェニル基、m-クロロフェニル基、o-ク
ロロフェニル基、o,p-ジクロロフェニル基、p-ブロモフ
ェニル基、p-メチルフェニル基、m-メチルフェニル基、
o,p-ジメチルフェニル基、m,p-ジメチルフェニル基、ナ
フチル基等を挙げることができる。置換または未置換の
アラルキル基としては、ベンジル基、p-ニトロベンジル
基、o,p-ジニトロベンジル基、p-クロロベンジル基、m-
クロロベンジル基、p-メチルベンジル基、m-メチルベン
ジル基、o-メチルベンジル基、o,p-ジメチルベンジル
基、p-メトキシベンジル基、p-フルオロベンジル基を挙
げることができる。ハロゲン原子としては、例えば、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のいずれでもよい。
W represents a hydrogen atom or a --OCOCH 3 group, and Y
Represents a hydroxyl group, a substituted sulfonyloxy group, or a halogen atom. The substituted sulfonyloxy group is represented by -OSO 2 R 3 ,
R 3 represents, for example, a lower alkyl group, a trifluoromethyl group, a 2-oxo-10-bornanyl group, a substituted or unsubstituted allyl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group. Examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a 1-methylbutyl group, a 2-methylbutyl group and a neopentyl group. it can. Examples of the substituted or unsubstituted allyl group are phenyl group, p-methoxyphenyl group, p-nitrophenyl group, p-fluorophenyl group, p, o-difluorophenyl group, p-chlorophenyl group, m-chlorophenyl group, o -Chlorophenyl group, o, p-dichlorophenyl group, p-bromophenyl group, p-methylphenyl group, m-methylphenyl group,
Examples thereof include o, p-dimethylphenyl group, m, p-dimethylphenyl group and naphthyl group. The substituted or unsubstituted aralkyl group includes benzyl group, p-nitrobenzyl group, o, p-dinitrobenzyl group, p-chlorobenzyl group, m-
Examples thereof include a chlorobenzyl group, p-methylbenzyl group, m-methylbenzyl group, o-methylbenzyl group, o, p-dimethylbenzyl group, p-methoxybenzyl group and p-fluorobenzyl group. The halogen atom may be, for example, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or the like.

【0010】R1 は水酸基又は保護された水酸基を表
し、水酸基の保護基としては当業者に自明なものならば
いかなるものを用いてもよいが、例えばt−ブチルジメ
チルシリル、ジメチルセキシルシリル、トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリ(t−ブチル)シリル等の
アルキルシリル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、アリル(allyl )基、ア
セチル基等の低級アルカノイル基、ベンゾイル基、ベン
ジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル
基等を使用することができる。R2 は水素原子又は低級
アルカノイル基を表し、低級アルカノイル基として炭素
数1〜6の直鎖又は分岐状のアルカノイル基を挙げるこ
とができる。低級アルカノイル基としては、例えば、ホ
ルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロ
イル基、ヘキサノイル基等を用いることができる。上記
式において──部分は単結合または二重結合を示すが、
Wが水素原子を示す場合には二重結合を示し、Wが-OCO
CH3 基を示す場合には単結合を示す。
R 1 represents a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and any protective group for the hydroxyl group may be used as long as it is obvious to those skilled in the art. For example, t-butyldimethylsilyl, dimethylthexylsilyl, Alkylsilyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tri (t-butyl) silyl, trityl groups, tetrahydropyranyl groups, tetrahydrofuranyl groups, allyl groups, lower alkanoyl groups such as acetyl groups, benzoyl groups, benzyl groups, A methoxymethyl group, a benzyloxycarbonyl group or the like can be used. R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkanoyl group, and examples of the lower alkanoyl group include linear or branched alkanoyl groups having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the lower alkanoyl group include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group,
An isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, a pivaloyl group, a hexanoyl group or the like can be used. In the above formula, the --part represents a single bond or a double bond,
When W represents a hydrogen atom, it represents a double bond and W represents -OCO.
When it represents a CH 3 group, it represents a single bond.

【0011】本発明の3,4′−ジデオキシマイカミノ
シルタイロノライド製造中間体において、Aが保護され
たカルボニル基であり、Bが保護されたアルデヒド基で
あり、Wが水素原子であり、Yが水酸基であり、R1
保護された水酸基である化合物(2',4"-ジ-O−アシル−
Δ2-デスマイコシン ビスアセタール体) は、例えば、
容易に入手可能な3-O-アセチルタイロシン(ジャーナル
・オブ・アンティバイオティックス27,542(1979))を、
例えばジャーナル・オブ・アンティバイオティックス 3
5, 661(1982)に記載された方法により種々の酸無水物で
処理して2',4"'- ジ-O−アシル-3-O−アセチルタイロシ
ンに変換した後、該化合物に対して1.1-1.5 モル程度の
酸触媒の存在下に、例えばトルエン等の不活性溶媒中で
脱水剤及びアルコール化合物により5-80℃程度で処理し
て、2',4"-ジ-O−アシル-3-O−アセチルデスマイコシン
の 9,20-のビスアセタール体に変換し、さらに該化合物
を例えばトルエン等の不活性溶媒中で該化合物に対して
1.0-5.0 モル程度の塩基で処理することにより製造する
ことができる。
In the 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide production intermediate of the present invention, A is a protected carbonyl group, B is a protected aldehyde group, W is a hydrogen atom, Compounds in which Y is a hydroxyl group and R 1 is a protected hydroxyl group (2 ', 4 "-di-O-acyl-
Δ 2 -desmycosine bisacetal form) is, for example,
Easily available 3-O-acetyl tylosin (Journal of Antibiotics 27,542 (1979))
For example, Journal of Antibiotics 3
5, 661 (1982), after treatment with various acid anhydrides to convert to 2 ', 4 "'-di-O-acyl-3-O-acetyltylosin, In the presence of an acid catalyst of about 1.1-1.5 mol, for example, by treating with a dehydrating agent and an alcohol compound at about 5-80 ° C in an inert solvent such as toluene, 2 ', 4 "-di-O-acyl- 3-O-acetyldesmycosin is converted to a 9,20-bisacetal form, and the compound is further converted to the compound in an inert solvent such as toluene.
It can be produced by treating with about 1.0-5.0 mol of a base.

【0012】上記の反応において、アルコール化合物と
してはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール、プロパンジオール、2,3-ブ
タンジオール等を用いることができ、これらは原料化合
物に対して5ないし20モル程度で使用される。脱水剤と
しては、オルト蟻酸エチル、オルト蟻酸メチル、無水塩
化カルシウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシ
ウム、モレキュラーシーブ等を用いることができ、酸触
媒としてはカンファースルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、ア
ンバーリスト15等を使用すればよい。また脱酢酸工程で
使用される塩基としては、水素化ナトリウム、tert−ブ
トキシカリウム、マグネシウムメトキシド、マグネシウ
ムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,
5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン等を使用すればよ
い。
In the above reaction, as the alcohol compound, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, propanediol, 2,3-butanediol, etc. can be used. Used in degrees. As the dehydrating agent, ethyl orthoformate, methyl orthoformate, anhydrous calcium chloride, anhydrous sodium sulfate, anhydrous magnesium sulfate, molecular sieve and the like can be used, and as the acid catalyst, camphorsulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, Methanesulfonic acid, sulfuric acid, Amberlyst 15 or the like may be used. As the base used in the deacetic acid step, sodium hydride, potassium tert-butoxide, magnesium methoxide, magnesium ethoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7- Undecen, 1,
5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene or the like may be used.

【0013】さらに、ピリジン、コジン、ルチジン、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機
塩基の存在下に、上記の化合物を不活性溶媒中でR3SO2
反応性誘導体( R3 は前記と同じである)と−25〜25℃
程度の温度で反応させることにより、Yが置換スルホニ
ルオキシ基である化合物に変換することができる。R3SO
2 反応性誘導体としては、ハロゲン化物や無水物を使用
ればよく、所望のR3SO 2O- 基を導入するために用いるべ
きR3SO2 反応性誘導体は、当業者により適宜選択され
る。具体的には、メタンスルホニルクロリド、メタンス
ルホン酸無水物、エタンスルホニルクロリド、プロパン
スルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペン
タンスルンホニルクロリド、トリフルオリメタンスルホ
ニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、
ベンゼンスルホニルクロリド、p-メトキシフェニルスル
ホニルクロリド、p-ニトロフェニルスルホニルクロリ
ド、p-フルオロフェニルスルホニルクロリド、p,o-ジフ
ルオロフェニルスルホニルクロリド、p-クロロフェニル
スルホニルクロリド、m-クロロフェニルスルホニルクロ
リド、o-クロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジク
ロロフェニルスルホニルクロリド、p-ブロモフェニルス
ルホニルクロリド、p-メチルフェニルスルホニルクロリ
ド、p-メチルフェニルスルホン酸無水物、m-メチルフェ
ニルスルホニルクロリド、o,p-ジメチルフェニルスルホ
ニルクロリド、m,p-ジメチルフェニルスルホニルクロリ
ド、ナフチルスルホニルクロリド、カンファースルホニ
ルクロリド、ベンジルスルホニルクロリド、p-ニトロベ
ンジルスルホニルクロリド、o,p-ジニトロベンジルスル
ホニルクロリド、p-クロロベンジルスルホニルクロリ
ド、m-クロロベンジルスルホニルクロリド、p-メチルベ
ンジルスルホニルクロリド、m-、メチルベンジルスルホ
ニルクロリド、オルトメチルベンジルスルホニルクロリ
ド、o,p-ジメチルベンジルスルホニルクロリド、p-メト
キシベンジルスルホニルクロリド、p-フルオロベンジス
ルスルホニルクロリド等を挙げることができるが、これ
らに限定されることはない。
Further, pyridine, cozine, lutidine,
Organic such as lyethylamine and diisopropylethylamine
The above compound was subjected to R3SO2
Reactive derivative (R3Is the same as above) and -25 to 25 ° C
By reacting at about temperature, Y is substituted sulfonium
It can be converted to a compound that is a ruoxy group. R3SO
2Halide or anhydride is used as the reactive derivative.
All you need is the desired R3SO 2It should be used to introduce an O- group.
R3SO2The reactive derivative is appropriately selected by those skilled in the art.
It Specifically, methanesulfonyl chloride, methan
Rufonic acid anhydride, ethanesulfonyl chloride, propane
Sulfonyl chloride, butane sulfonyl chloride, pen
Tansulphonyl chloride, trifluormethane sulfo
Nyl chloride, trifluoromethanesulfonic anhydride,
Benzenesulfonyl chloride, p-methoxyphenylsulfate
Honyl chloride, p-nitrophenylsulfonyl chloride
, P-fluorophenylsulfonyl chloride, p, o-diff
Luorophenylsulfonyl chloride, p-chlorophenyl
Sulfonyl chloride, m-chlorophenylsulfonyl chloride
Lido, o-chlorophenylsulfonyl chloride, o, p-di
Lolophenylsulfonyl chloride, p-bromophenyls
Rufonyl chloride, p-methylphenylsulfonyl chloride
, P-methylphenylsulfonic anhydride, m-methylphene
Nylsulfonyl chloride, o, p-dimethylphenylsulfone
Nyl chloride, m, p-dimethylphenylsulfonyl chloride
De, naphthyl sulfonyl chloride, camphor sulphoni
L-chloride, benzylsulfonyl chloride, p-nitrobe
And sulfonyl chloride, o, p-dinitrobenzyl sulphate
Honyl chloride, p-chlorobenzylsulfonyl chloride
, M-chlorobenzylsulfonyl chloride, p-methyl ester
Nylsulfonyl chloride, m-, methylbenzylsulfo
Nyl chloride, orthomethylbenzylsulfonyl chloride
, O, p-dimethylbenzylsulfonyl chloride, p-meth
Xybenzylsulfonyl chloride, p-fluorobenzis
Lesulfonyl chloride and the like can be mentioned.
It is not limited to these.

【0014】また、アセトン、メチルエチルケトン、ジ
メトキシエタン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド等の溶媒中で、Yが置換スル
ホニルオキシ基である上記の化合物に対して1〜5モル
程度のハロゲン化剤を50〜100 ℃程度の温度で作用させ
ることにより、Yがハロゲン原子である化合物を得るこ
とができる。ハロゲン化剤としては、ヨウ化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、
塩化ナトリウム、テトラブチルアンモニウムアイオダイ
ド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチル
アンミニウムクロリド等を用いることができるがこれら
に限定されることはない。
In a solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, dimethoxyethane, acetonitrile, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, etc., about 1 to 5 mol of a halogenating agent is added to the above compound in which Y is a substituted sulfonyloxy group. A compound in which Y is a halogen atom can be obtained by acting at a temperature of about 100 ° C. As the halogenating agent, sodium iodide, potassium iodide, sodium bromide, potassium bromide,
Although sodium chloride, tetrabutylammonium iodide, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, etc. can be used, it is not limited to these.

【0015】本発明の化合物の製造方法の一例を説明し
たが、本発明の化合物の製造方法はこれらの方法に限定
されることはなく、上記の反応を修飾ないし改変するこ
とにより、あるいは別の製造方法によって製造してもよ
い。本発明の3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイ
ロノライド製造中間体において、Aが保護されたカルボ
ニル基であり、Bが保護されたアルデヒド基であり、W
が水素原子であり、Yがハロゲン原子であり、R1 が保
護された水酸基である化合物を用いて、抗菌剤として有
用な3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライ
ド又はその塩に変換するには、例えば上記の化合物をア
ルカリ条件下で還元することにより、3位及び4′位を
同時に水素置換して3,4′−ジデオキシ誘導体を製造
した後、常法に従って保護基を除去すればよい。
Although one example of the method for producing the compound of the present invention has been described, the method for producing the compound of the present invention is not limited to these methods, and may be obtained by modifying or altering the above reaction, or by another method. It may be manufactured by a manufacturing method. In the intermediate for producing 3,4′-dideoxymycaminosyl tylonolide of the present invention, A is a protected carbonyl group, B is a protected aldehyde group, and W is
Is a hydrogen atom, Y is a halogen atom, and R 1 is a protected hydroxyl group, and is converted to 3,4′-dideoxymycaminosyl tylonolide or a salt thereof useful as an antibacterial agent. For example, by reducing the above compound under alkaline conditions to simultaneously replace the 3 and 4'positions with hydrogen to produce a 3,4'-dideoxy derivative, the protecting group can be removed by a conventional method. Good.

【0016】該還元反応は、例えば、不活性溶媒中で基
質となる該化合物を触媒の存在下に接触還元すればよ
い。アルカリ条件を形成するために用いる塩基として
は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等を用いるこ
とができる。これらの塩基は、通常、基質に対して2〜
5モルの割合で使用すればよい。また接触還元に使用す
る触媒としては、白金、パラジウム、ラネーニッケル
等、好ましくはラネーニッケルを挙げることができる。
触媒の使用量は触媒の種類により異なるが、一般に、基
質に対して1/10〜1の割合で使用すればよい。不活性溶
媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフ
ラン等の溶媒を挙げることができる。接触還元を行うに
あたり、例えば水素の添加圧を常圧〜5Kg/cm2、反応温
度を冷却下〜室温、好ましくは−10〜30℃として反応を
行えばよい。これらの条件は原料化合物や触媒の種類に
より異なるが、当業者により適宜選択されるものであ
る。マイシノシル基は、マイシノシル基を酸化して対応
するケトン体とした後に酸または塩基を用いた処理によ
り除去すればよい。また、保護基の除去は、通常、水の
存在下に塩酸、硫酸等の鉱酸で処理するか、酢酸、トリ
フルオロ酢酸、トリクロル酢酸等の有機酸で処理するこ
とにより行えばよいが、場合によってはジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニ
トリル等の溶媒中でp−トルエンスルホン酸等のアリー
ルスルホン酸、メタンスルホン酸等のアルキルスルホン
酸等を用いて、室温〜加熱下で処理することによっても
行うことができる。
The reduction reaction may be carried out, for example, by catalytically reducing the compound as a substrate in an inert solvent in the presence of a catalyst. As the base used to form the alkaline condition, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like can be used. These bases are usually 2 to the substrate.
It may be used in a ratio of 5 mol. Examples of the catalyst used for catalytic reduction include platinum, palladium, Raney nickel and the like, preferably Raney nickel.
The amount of the catalyst used varies depending on the type of the catalyst, but in general, it may be used in a ratio of 1/10 to 1 with respect to the substrate. Examples of the inert solvent include solvents such as methanol, ethanol and tetrahydrofuran. In carrying out the catalytic reduction, the reaction may be carried out, for example, by adding hydrogen at a normal pressure to 5 kg / cm 2 and at a reaction temperature under cooling to room temperature, preferably -10 to 30 ° C. These conditions are appropriately selected by those skilled in the art, though they vary depending on the types of raw material compounds and catalysts. The mycinosyl group may be removed by oxidizing the mycinosyl group to give a corresponding ketone body and then treating with an acid or a base. In addition, the removal of the protective group may be carried out usually by treatment with a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid in the presence of water, or with an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid or trichloroacetic acid. In some cases, it may be treated with a solvent such as dioxane, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, acetonitrile or the like using an arylsulfonic acid such as p-toluenesulfonic acid or an alkylsulfonic acid such as methanesulfonic acid at room temperature to under heating. It can be carried out.

【0017】本発明の方法を用いて得ることができる
3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
は、特開平2-275894号公報に記載されたように、グラム
陽性及び陰性に属する広範囲の微生物に対して抗菌活性
を示す物質であり、特に感染防御作用に優れているの
で、抗菌剤として有用である。
The 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide obtainable using the method of the present invention has a wide range of gram-positive and negative gram-positive properties as described in JP-A-2-275894. It is a substance that exhibits antibacterial activity against microorganisms, and is particularly useful as an antibacterial agent because it is excellent in infection protection.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されること
はない。 実施例1 2',3,4"-トリ−O−アセチルデスマイコシン
9,20−ビス( エチレンアセタールの製造
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 2 ', 3,4 "-tri-O-acetyldesmycosin
Production of 9,20-bis (ethylene acetal

【0019】[0019]

【化3】 [Chemical 3]

【0020】2',3,4",4"'-テトラ−O−アセチルタイロ
シン1.00g(0.922 mmol)をトルエン5mlに溶解し、オ
ルトギ酸エチル0.61 ml(3.69 mmol)、エチレングリコー
ル0.51ml(9.22mmol)、dl−カンファスルホン酸321 mg
(1.38 mmol) を順次加え、50℃で2時間反応させた。反
応液にトルエン10mlを加え、5%重曹水15ml、飽和食塩
水15mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機
層を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(55 g) にて、トルエン/アセトン(5/1)で溶
出し、トルエン/アセトン(2/1)展開のシリカゲルTLC
にてRf 値0.38に硫酸呈色陽性を示すフラクションを分
取すると、58%の収率で表題化合物の無色アモルファス
状固体が525 mg得られた。
1.00 g (0.922 mmol) of 2 ', 3,4 ", 4"'-tetra-O-acetyltylosin was dissolved in 5 ml of toluene, and 0.61 ml (3.69 mmol) of ethyl orthoformate and 0.51 ml (9.22 ml of ethylene glycol). mmol), dl-camphorsulfonic acid 321 mg
(1.38 mmol) was sequentially added, and the mixture was reacted at 50 ° C for 2 hours. Toluene (10 ml) was added to the reaction mixture, which was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate (15 ml) and saturated brine (15 ml), and dried over anhydrous sodium sulfate. The residue obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was subjected to silica gel chromatography (55 g) and eluted with toluene / acetone (5/1) to develop a toluene / acetone (2/1) silica gel TLC.
The fraction showing a positive sulfuric acid coloration with an Rf value of 0.38 was collected to give 525 mg of a colorless amorphous solid of the title compound in a yield of 58%.

【0021】UV(MeOH)λmax; 235nm IR(KBr)vmax; 3468, 2976, 2938, 2882, 1742, 1372, 1
236, 1175, 1086,1049 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.84 (3H, br, H-18), 0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-
17),0.99 (3H, d, J=5.9 Hz, H-21), 1.16 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.31 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6'), 1.71
(3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH3), 2.11 (6H, s, 2
X OCOCH3),2.39(6H, s, N(CH3)2-3'),2.91 (1H, m, H=
14), 3.28 (1H, m, H=5'), 3.45 (3H, s, OCH3-2"),3.5
2 (3H, s, OCH3-3"), 4.29 (1H, d, J=6.6 Hz, H-1'),
4.43 (1H, dd, J=2.2 & 10.3 Hz, H-4"),4.60 (1H, d,
J=8.1 Hz, H-1"), 4.81 (1H, m, H-15),4.90 (1H, bs,
H-20), 5.42 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13),5.61 (1H, d,
J=16.1 Hz, H-10), 6.49 (1H, d, J=16.1 Hz, H-10) FAB-MS; 986 (M+H)+ 実施例2 2',4"-ジ−O−アセチル−2,3 −デヒドロ−
3 −デオキシデスマイコシン 9,20−ビス( エチレンア
セタール) の製造
UV (MeOH) λmax; 235nm IR (KBr) vmax; 3468, 2976, 2938, 2882, 1742, 1372, 1
236, 1175, 1086, 1049 cm -1 NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ: 0.84 (3H, br, H-18), 0.90 (3H, t, J = 7.3 Hz, H-
17), 0.99 (3H, d, J = 5.9 Hz, H-21), 1.16 (3H, d, J =
6.6 Hz, H-6 "), 1.31 (3H, d, J = 5.9 Hz, H-6 '), 1.71
(3H, s, H-22), 2.05 (3H, s, OCOCH 3 ), 2.11 (6H, s, 2
X OCOCH 3 ), 2.39 (6H, s, N (CH 3 ) 2 -3 '), 2.91 (1H, m, H =
14), 3.28 (1H, m, H = 5 '), 3.45 (3H, s, OCH 3 -2 "), 3.5
2 (3H, s, OCH 3 -3 "), 4.29 (1H, d, J = 6.6 Hz, H-1 '),
4.43 (1H, dd, J = 2.2 & 10.3 Hz, H-4 "), 4.60 (1H, d,
J = 8.1 Hz, H-1 "), 4.81 (1H, m, H-15), 4.90 (1H, bs,
H-20), 5.42 (1H, d, J = 10.3 Hz, H-13), 5.61 (1H, d,
J = 16.1 Hz, H-10), 6.49 (1H, d, J = 16.1 Hz, H-10) FAB-MS; 986 (M + H) + Example 2 2 ', 4 "-di-O-acetyl -2,3-dehydro-
Production of 3-deoxydesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal)

【0022】[0022]

【化4】 [Chemical 4]

【0023】2',3,4"-トリ−O−アセチルデスマイコシ
ン 9,20-ビス( エチレンアセタール) 100 mg(0.101mmo
l) をテトラヒドロフラン1 mlに溶解し、氷冷下、水素
化ナトリウム9.7 mg(0.404mmol) を加え、室温で1.5 時
間反応した。反応液に酢酸エチル20mlを加え、水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して
得られた残渣110 mgを、トルエン/アセトン(2/1)展開
の分取用シリカゲルTLCで精製すると同展開TLC にてRf
値0.49に硫酸呈色陽性の表題化合物が85%の収率で80m
g得られた。
2 ', 3,4 "-tri-O-acetyldesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal) 100 mg (0.101 mmo
l) was dissolved in tetrahydrofuran 1 ml, sodium hydride (9.7 mg, 0.404 mmol) was added under ice cooling, and the mixture was reacted at room temperature for 1.5 hours. After adding 20 ml of ethyl acetate to the reaction solution and washing with water,
It was dried over anhydrous sodium sulfate. 110 mg of the residue obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by preparative silica gel TLC developed with toluene / acetone (2/1) to obtain Rf on the same developed TLC.
Sulfuric acid color-positive compound at a value of 0.49 at 80m with a yield of 85%
g got.

【0024】UV(MeOH)λmax; 218nm IR(KBr)vmax; 3468, 2975, 2938, 2882, 1746, 1373, 1
235, 1171, 1086,1051 cm -1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.33 (3H, d, J=6.6 Hz, H-6'), 1.70
(3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH3), 2.11 (3H, s, O
COCH3),2.40(6H, s, N(CH3)2-3'), 2.57 (1H, t, J=1
0.3 Hz, H-3'),2.91 (1H, m, H=14), 3.33 (1H, m, H=
5'), 3.48 (3H, s, OCH3-2"),3.52 (3H, s, OCH3-3"),
4.62 (1H, d, J=8.1 Hz, H-1"),4.87 (1H, m, H-15),
4.97 (1H, bs, H-20),5.05 (1H, dd, J=7.3 & 10.3 Hz,
H-2'),5.33 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d,
J=15.4 Hz, H-10),5.54 (1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.
24 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11),6.70 (1H, dd, J=15.4 &
9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 926 (M+H)+ 実施例3 2',4"-ジ−O−アセチル−2,3 −デヒドロ−
3.4' −ジデオキシ−4'−O−メタンスルホニルデスマ
イコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール) の製造
UV (MeOH) λmax; 218nm IR (KBr) vmax; 3468, 2975, 2938, 2882, 1746, 1373, 1
235, 1171, 1086, 1051 cm -1 NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ: 0.95 (3H, t, J = 7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J =
6.6 Hz, H-6 "), 1.33 (3H, d, J = 6.6 Hz, H-6 '), 1.70
(3H, s, H-22), 2.05 (3H, s, OCOCH 3 ), 2.11 (3H, s, O
COCH 3 ), 2.40 (6H, s, N (CH 3 ) 2 -3 '), 2.57 (1H, t, J = 1
0.3 Hz, H-3 '), 2.91 (1H, m, H = 14), 3.33 (1H, m, H =
5 '), 3.48 (3H, s, OCH 3 -2 "), 3.52 (3H, s, OCH 3 -3"),
4.62 (1H, d, J = 8.1 Hz, H-1 "), 4.87 (1H, m, H-15),
4.97 (1H, bs, H-20), 5.05 (1H, dd, J = 7.3 & 10.3 Hz,
H-2 '), 5.33 (1H, d, J = 10.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d,
J = 15.4 Hz, H-10), 5.54 (1H, d, J = 15.4 Hz, H-2), 6.
24 (1H, d, J = 15.4 Hz, H-11), 6.70 (1H, dd, J = 15.4 &
9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 926 (M + H) + Example 3 2 ', 4 "-di-O-acetyl-2,3-dehydro-
3.4 '- the production of dideoxy-4'-O-methanesulfonyl-des Mycobacterium Shin 9,20- bis (ethylene acetal)

【0025】[0025]

【化5】 [Chemical 5]

【0026】2',4"-ジ−O−アセチル-2,3−デヒドロ−
3−デオキシデスマイコシン 9,20- ビス( エチレンア
セタール) 50mg(0.0539mmol)をメチルエチルケトン0.5
mlに溶解し、トリエチルアミン22.5μl (0.161mmol) を
加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニル6.3 μl(0.08
08mmol) のメチルエチルケトン100 μl 溶液を加え、同
温度で15分間反応させた。反応液に酢酸エチル10mlを加
え、5 %重曹水10ml、飽和食塩水10mlで洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮乾固する
と、トルエン/アセトン(4/1)展開のシリカゲルTLC に
てRf 値0.5 1 に硫酸呈色陽性の表題化合物が55mg得ら
れた。
2 ', 4 "-di-O-acetyl-2,3-dehydro-
3-Deoxydesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal) 50 mg (0.0539 mmol) was added to methyl ethyl ketone 0.5
Dissolve in 3 ml, add 22.5 μl (0.161 mmol) of triethylamine, and then under ice-cooling 6.3 μl of methanesulfonyl chloride (0.08
A solution of 08 mmol) in methyl ethyl ketone (100 μl) was added, and the mixture was reacted at the same temperature for 15 minutes. Ethyl acetate (10 ml) was added to the reaction mixture, which was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate (10 ml) and saturated brine (10 ml), and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was concentrated to dryness under reduced pressure to give 55 mg of the title compound positive in sulfuric acid coloration at an Rf value of 0.51 on silica gel TLC developed with toluene / acetone (4/1).

【0027】NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.38 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6'), 1.70
(3H, s, H-22),2.06 (3H, s, OCOCH3), 2.11 (3H, s, O
COCH3),2.40(6H, s, N(CH3)2-3'), 3.05 (1H, dd, J=
8.1 & 2.9 Hz, H-2"),3.11 (3H, s, OMs-4'), 3.48 (3
H, s, OCH3-2"),3.52 (3H, s, OCH3-3"), 4.24 (1H, t,
J=9.5 Hz, H-4'),4.62 (1H, d, J=8.1 Hz, H-1"),5.08
(1H, dd, J=7.3 & 10.3 Hz, H-2'),5.33 (1H, d, J=1
0.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d, J=15.4 Hz, H-10),5.55
(1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J=15.4 Hz, H
-11),6.68 (1H, dd, J=15.4 & 9.5 Hz, H-3) FAB-MS; 1004 (M+H) + 実施例4 2',4"- ジ−O−アセチル−2,3 −デヒドロ
-3,4' −ジデオキシ−4'−ヨードデスマイコシン 9,20
−ビス( エチレンアセタール) の製造
NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ: 0.95 (3H, t, J = 7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J =
6.6 Hz, H-6 "), 1.38 (3H, d, J = 5.9 Hz, H-6 '), 1.70
(3H, s, H-22), 2.06 (3H, s, OCOCH 3 ), 2.11 (3H, s, O
COCH 3 ), 2.40 (6H, s, N (CH 3 ) 2 -3 '), 3.05 (1H, dd, J =
8.1 & 2.9 Hz, H-2 "), 3.11 (3H, s, OMs-4 '), 3.48 (3
H, s, OCH 3 -2 "), 3.52 (3H, s, OCH 3 -3"), 4.24 (1H, t,
J = 9.5 Hz, H-4 '), 4.62 (1H, d, J = 8.1 Hz, H-1 "), 5.08
(1H, dd, J = 7.3 & 10.3 Hz, H-2 '), 5.33 (1H, d, J = 1
0.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d, J = 15.4 Hz, H-10), 5.55
(1H, d, J = 15.4 Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J = 15.4 Hz, H
-11), 6.68 (1H, dd, J = 15.4 & 9.5 Hz, H-3) FAB-MS; 1004 (M + H) + Example 4 2 ', 4 "-di-O-acetyl-2,3 -Dehydro
-3,4'-dideoxy-4'-iododesmycosin 9,20
-Manufacture of bis (ethylene acetal)

【0028】[0028]

【化6】 [Chemical 6]

【0029】2',4"-ジ−O−アセチル−2,3 −デヒドロ
-3,4' −デオキシデスマイコシン9,20−ビス( エチレン
アセタール) 1.88g(2.03mmol) をメチルエチルケトン20
ml に溶解し、トリエチルアミン0.85ml (6.09mmol) を
加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニル0.20ml (2.64
mmol) のメチルエチルケトン1.5 ml溶液を加え、同温度
で30分間反応させた。さらに反応液に、ヨウ化ナトリウ
ム 907mg(6.09 mmol)を加え、30分間加熱還流した。反
応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル50mlを加え、5 %重
曹水50ml、飽和食塩水50mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。有機層を減圧濃縮、真空乾燥すると、表
題化合物を主成分として含む無色アモルファス状固体が
2.10g得られた。
2 ', 4 "-di-O-acetyl-2,3-dehydro
-3,4'-deoxydesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal) 1.88 g (2.03 mmol) was added to methyl ethyl ketone 20.
After dissolving it in 0.8 ml of triethylamine and adding 0.85 ml (6.09 mmol) of triethylamine, 0.20 ml of methanesulfonyl chloride (2.64
(1.5 mmol) of methyl ethyl ketone in 1.5 ml was added, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 minutes. Furthermore, 907 mg (6.09 mmol) of sodium iodide was added to the reaction solution, and the mixture was heated under reflux for 30 minutes. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, ethyl acetate (50 ml) was added, the mixture was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution (50 ml) and saturated brine (50 ml), and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer is concentrated under reduced pressure and dried in vacuo to give a colorless amorphous solid containing the title compound as a main component.
2.10 g were obtained.

【0030】UV(MeOH)λmax; 216nm IR(KBr)vmax; 2975, 2936, 2880, 1750, 1717, 1373, 1
233, 1171, 1090,1049 cm -1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.53 (3H, d, J=5.1 Hz, H-6'), 1.69
(3H, s, H-22),2.04 (3H, s, OCOCH3), 2.11 (3H, s, O
COCH3),3.05 (1H, dd, J=2.9 & 8.1 Hz, H-2"), 3.48
(3H, s, OCH3-2"),3.52 (3H, s, OCH3-3"), 4.62 (1H,
d, J=8.1 Hz, H-1"),5.33 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13),
5.47 (1H, d, J=15.4 Hz, H-10),5.55 (1H, d, J=15.4
Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11),6.69 (1H,
dd, J=15.4 & 9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 1036 (M+H) + 実施例5 3,4'- ジデオキシデスマイコシン 9,20-ビス
( エチレンアセタール)の製造
UV (MeOH) λmax; 216nm IR (KBr) vmax; 2975, 2936, 2880, 1750, 1717, 1373, 1
233, 1171, 1090, 1049 cm -1 NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ: 0.95 (3H, t, J = 7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J =
6.6 Hz, H-6 "), 1.53 (3H, d, J = 5.1 Hz, H-6 '), 1.69
(3H, s, H-22), 2.04 (3H, s, OCOCH 3 ), 2.11 (3H, s, O
COCH 3 ), 3.05 (1H, dd, J = 2.9 & 8.1 Hz, H-2 "), 3.48
(3H, s, OCH 3 -2 "), 3.52 (3H, s, OCH 3 -3"), 4.62 (1H,
d, J = 8.1 Hz, H-1 "), 5.33 (1H, d, J = 10.3 Hz, H-13),
5.47 (1H, d, J = 15.4 Hz, H-10), 5.55 (1H, d, J = 15.4
Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J = 15.4 Hz, H-11), 6.69 (1H,
dd, J = 15.4 & 9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 1036 (M + H) + Example 5 3,4'-dideoxydesmycosin 9,20-bis
Production of (ethylene acetal)

【0031】[0031]

【化7】 [Chemical 7]

【0032】実施例4で得られた 2',4"−ジ−O−アセ
チル−2,3 −デヒドロ-3,4'-ジデオキシ−4'−ヨードデ
スマイコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール)470mg(
0.454mmol)をメタノール6mlに溶解し、炭酸カリウム20
0 mg(1.45 mmol) 、続いてラネーニッケル( 川研ファイ
ンケミカル株NDT-65) 湿重量400 mg(0.3ml) のメタノー
ル1ml懸濁液を加え、水素圧3.5Kg/cm2 にて2時間接触
還元を行なった。触媒をセライトにて濾別し、母液を1
晩放置した後減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル20ml、水
20mlを加え、分液した。有機層は飽和食塩水20mlで洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮
して得られた残渣423 mgをシリカゲルクロマトグラフィ
ー(40g) にて、クロロホルム/メタノール(25 /1)で溶
出し、クロロホルム/メタノール(10 /1)展開のシリカ
ゲルTLC にてRf 値0.45に硫酸呈色陽性を示すフラクシ
ョンを分取すると、76%の収率で表題化合物の無色アモ
ルファス状固体が285 mg得られた。
2 ', 4 "-di-O-acetyl-2,3-dehydro-3,4'-dideoxy-4'-iododesmycocin 9,20-bis (ethylene acetal obtained in Example 4 ) 470 mg (
0.454 mmol) is dissolved in 6 ml of methanol and potassium carbonate 20
0 mg (1.45 mmol), followed by Raney Nickel (Kawaken Fine Chemicals NDT-65) wet weight 400 mg (0.3 ml) in 1 ml of methanol was added, and catalytic reduction was carried out at hydrogen pressure of 3.5 Kg / cm 2 for 2 hours. I did. The catalyst was filtered off with Celite and the mother liquor was washed with 1
After leaving it overnight, it was concentrated under reduced pressure. 20 ml of ethyl acetate and water to the residue
20 ml was added and the layers were separated. The organic layer was washed with 20 ml of saturated saline and then dried over anhydrous sodium sulfate. 423 mg of the residue obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was eluted with chloroform / methanol (25/1) by silica gel chromatography (40 g), and Rf was applied by silica gel TLC developed with chloroform / methanol (10/1). Fractions showing a positive sulfuric acid coloration at a value of 0.45 were collected to give 285 mg of a colorless amorphous solid of the title compound in a yield of 76%.

【0033】UV(MeOH)λmax; 234nm IR(KBr)vmax; 3466, 2971, 2936, 2880, 1730, 1379, 1
167, 1082 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.93 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.23 (3H, d, J=
6.2 Hz, H-6'),1.26 (3H, d, J=6.6 Hz, H-6"), 1.72
(3H, s, H-22),2.28(6H, s, N(CH3)2- 3'), 2.86 (1H,
m, H-14),3.48 (3H, s, OCH3-2"), 3.61 (3H, s, OCH3
-3"),4.28 (1H, d, J=7.3 Hz, H-1'), 4.54 (1H, d, J=
7.7 Hz, H-1"),4.91 (1H, m, H-15), 5.01 (1H, br, H-
20), 5.42 (1H, d, J=10.6 Hz,H-13),5.60 (1H, d, J=1
5.8 Hz, H-10), 6.39 (1H, d, J=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 828(M+H) + 実施例6 2'−O−アセチル−3,4'−ジデオキシデスマ
イコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール) の製造
UV (MeOH) λmax; 234nm IR (KBr) vmax; 3466, 2971, 2936, 2880, 1730, 1379, 1
167, 1082 cm -1 NMR (CDCl 3 ); representing only the main peak δ: 0.93 (3H, t, J = 7.3 Hz, H-17), 1.23 (3H, d, J =
6.2 Hz, H-6 '), 1.26 (3H, d, J = 6.6 Hz, H-6 "), 1.72
(3H, s, H-22 ), 2.28 (6H, s, N (CH 3) 2 - 3 '), 2.86 (1H,
m, H-14), 3.48 (3H, s, OCH 3 -2 "), 3.61 (3H, s, OCH 3
-3 "), 4.28 (1H, d, J = 7.3 Hz, H-1 '), 4.54 (1H, d, J =
7.7 Hz, H-1 "), 4.91 (1H, m, H-15), 5.01 (1H, br, H-
20), 5.42 (1H, d, J = 10.6 Hz, H-13), 5.60 (1H, d, J = 1
5.8 Hz, H-10), 6.39 (1H, d, J = 15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 828 (M + H) + Example 6 2'-O-acetyl-3,4'-dideoxy Manufacture of desmycosin 9,20-bis (ethylene acetal)

【0034】[0034]

【化8】 [Chemical 8]

【0035】3,4'-ジデオキシデスマイコシン 9,20-ビ
ス( エチレンアセタール) 285 mgを酢酸エチル3.0 mlに
溶解後、無水酢酸51.4μl を加え室温で3時間反応させ
た後、酢酸エチル10mlを加え、5 %重曹水10ml、20%食
塩水10mlで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧乾固すると、クロロホルム/メタノール(10/
1)展開のシリカゲルTLC にてRf 値0.44に硫酸呈色陽性
の表題化合物が300mg得られた。
After 285 mg of 3,4'-dideoxydesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal) was dissolved in 3.0 ml of ethyl acetate, 51.4 μl of acetic anhydride was added and reacted at room temperature for 3 hours, and then 10 ml of ethyl acetate was added. Was added, and the mixture was washed with 10 ml of 5% sodium hydrogen carbonate solution and 10 ml of 20% saline solution. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and dried under reduced pressure to give chloroform / methanol (10 /
1) 300 mg of the title compound positive for sulfuric acid coloration was obtained by developing silica gel TLC with an Rf value of 0.44.

【0036】UV(MeOH)λmax; 235nm IR(KBr)vmax; 3476, 2973, 2938, 2882, 1744, 1373, 1
238, 1167, 1061,961 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ: 0.82 (3H, bd, J=5.5 Hz, H-18), 0.92 (3H, t, J=
7.3 Hz, H-17),1.00 (3H, d, J=6.6 Hz, H-21), 1.23
(3H, d, J=6.2 Hz, H-6'),1.26 (3H, d, J=6.2 Hz, H-
6"), 1.35 (1H, m, H-4'a), 1.71 (1H, m, H-4'b),1.73
(3H, d, J=1.1 Hz, H-22), 2.04 (3H, s, OCOCH3-2'),
2.26 [6H, s, N(CH3)2- 3'], 2.68 (1H, ddd, J=12.3 &
10.4 & 4.4 Hz,H-3'),3.18 (1H, br, H-4"), 3.48 (3
H, s, OCH3-2"), 3.61 (3H, s, OCH3-3"),4.31 (1H, d,
J=7.7 Hz, H-1'), 4.55 (1H, d, J=7.7 Hz, H-1"),4.8
0 (1H, dd, J=10.4 & 7.7 Hz, H-2'), 4.90 (1H, m, H
-15),4.95 (1H, bt J=5.1 Hz, H-20), 5.42 (1H, d, J=
10.6 Hz, H-13),5.62 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 6.36
(1H, d, J=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 870 (M+H) + 実施例7 2′−O−アセチル−3,4′−ジデオキシ
−4″−オキソデスマイコシン 9,20−ビス(エチ
レンアセタール)の製造
UV (MeOH) λmax; 235nm IR (KBr) vmax; 3476, 2973, 2938, 2882, 1744, 1373, 1
238, 1167, 1061, 961 cm -1 NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ: 0.82 (3H, bd, J = 5.5 Hz, H-18), 0.92 (3H, t, J =
7.3 Hz, H-17), 1.00 (3H, d, J = 6.6 Hz, H-21), 1.23
(3H, d, J = 6.2 Hz, H-6 '), 1.26 (3H, d, J = 6.2 Hz, H-
6 "), 1.35 (1H, m, H-4'a), 1.71 (1H, m, H-4'b), 1.73
(3H, d, J = 1.1 Hz, H-22), 2.04 (3H, s, OCOCH 3 -2 '),
2.26 [6H, s, N ( CH 3) 2 - 3 '], 2.68 (1H, ddd, J = 12.3 &
10.4 & 4.4 Hz, H-3 '), 3.18 (1H, br, H-4 "), 3.48 (3
H, s, OCH 3 -2 "), 3.61 (3H, s, OCH 3 -3"), 4.31 (1H, d,
J = 7.7 Hz, H-1 '), 4.55 (1H, d, J = 7.7 Hz, H-1 "), 4.8
0 (1H, dd, J = 10.4 & 7.7 Hz, H-2 '), 4.90 (1H, m, H
-15), 4.95 (1H, bt J = 5.1 Hz, H-20), 5.42 (1H, d, J =
10.6 Hz, H-13), 5.62 (1H, d, J = 15.8 Hz, H-10), 6.36
(1H, d, J = 15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 870 (M + H) + Example 7 2'-O-acetyl-3,4'-dideoxy-4 "-oxodesmycosin 9 Of 20-bis (ethylene acetal)

【0037】[0037]

【化9】 [Chemical 9]

【0038】トルエン8mlにN−クロロコハクサンイミ
ド491mg(3.68mmol)を懸濁させ、0℃に冷却後ジ
メチルスルフィド0.4ml(5.5mmol)を加えて同温度に
て20分攪拌した。この溶液を−20℃に冷却後、2′
−O−アセチル−3,4′−ジデオキシデスマイコシン
9,20−ビス(エチレンアセタール)800mg(0.
92mmol)のトルエン溶液4mlを加え、同温度で1.5時
間反応させた。この反応液にトリエチルアミン0.64ml
(4.6mmol)を加え更に20分反応させた。反応液は1
0%食塩水15mlで2回洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾
燥、減圧乾固すると、クロロホルム/メタノール(5/
1)展開のシリカゲルTLCにてRf値0.65に硫酸呈色
陽性の表題化合物が755mg得られた。
491 mg (3.68 mmol) of N-chlorosuccinimide was suspended in 8 ml of toluene, cooled to 0 ° C., 0.4 ml (5.5 mmol) of dimethyl sulfide was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 20 minutes. After cooling the solution to -20 ° C, 2 '
-O-Acetyl-3,4'-dideoxydesmycosin 9,20-bis (ethylene acetal) 800 mg (0.
(92 mmol) of toluene solution (4 ml) was added, and the mixture was reacted at the same temperature for 1.5 hours. 0.64 ml of triethylamine was added to this reaction solution.
(4.6 mmol) was added and the reaction was further continued for 20 minutes. The reaction solution is 1
After washing twice with 15 ml of 0% saline solution, drying over anhydrous sodium sulfate, and drying under reduced pressure, chloroform / methanol (5 /
1) By developing silica gel TLC, 755 mg of the title compound having a sulfuric acid coloration positive value was obtained with an Rf value of 0.65.

【0039】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3441,2971,2938,2882,1744,1373,1240,1
169,1117,1057,974 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ;0.83(3H,d,J=5.9Hz,H-18), 0.94(3H,t,J=7.3Hz,H-1
7),1.00(3H,d,J=6.6Hz,H-21), 1.24(3H,d,J=5.9Hz,H-
6′),1.35(3H,d,J=7.0Hz,H-6 ″), 1.38(1H,m,H-4′a),
1.73(1H,m,H-4 ′b),1.76(3H,d,J=1.1Hz,H-22), 2.04
(3H,s,OCOCH3-2 ′),2.26[6H,s,N(CH3)2-3 ′],3.46(3
H,s,OCH3-2″),3.50(3H,s,OCH3-3″),3.74(1H,t,J=3.3H
z,H-2 ″), 4.17(1H,q,J=7.0Hz,H-5″),4.26(1H,d,J=3.
7Hz,H-3 ″), 4.32(1H,d,J=7.7Hz,H-1″),4.81(1H,dd,J
=10.6&7.7Hz,H-2 ′), 4.83(1H,d,J=2.9Hz,H-1″),4.92
(1H,m,H-15), 4.95(1H,bt,J=5.1Hz,H-20),5.39(1H,d,J=
10.3Hz,H-13), 5.67(1H,d,J=15.8Hz,H-10),6.37(1H,d,J
=15.8Hz,H-11) FAB-MS;868(M+H)+ 実施例8 3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライド 9,20−ビス(エチレンアセタール)の製
UV (MeOH) λmax; 235nm IR (KBr) νmax; 3441,2971,2938,2882,1744,1373,1240,1
169,1117,1057,974 cm -1 NMR (CDCl 3 ); showing only the main peak δ; 0.83 (3H, d, J = 5.9Hz, H-18), 0.94 (3H, t, J = 7.3Hz, H-1
7), 1.00 (3H, d, J = 6.6Hz, H-21), 1.24 (3H, d, J = 5.9Hz, H-
6 ′), 1.35 (3H, d, J = 7.0Hz, H-6 ″), 1.38 (1H, m, H-4′a),
1.73 (1H, m, H-4′b), 1.76 (3H, d, J = 1.1Hz, H-22), 2.04
(3H, s, OCOCH 3 -2 '), 2.26 [6H, s, N (CH 3 ) 2 -3'], 3.46 (3
H, s, OCH 3 -2 ″), 3.50 (3H, s, OCH 3 -3 ″), 3.74 (1H, t, J = 3.3H
z, H-2 ″), 4.17 (1H, q, J = 7.0Hz, H-5 ″), 4.26 (1H, d, J = 3.
7Hz, H-3 ″), 4.32 (1H, d, J = 7.7Hz, H-1 ″), 4.81 (1H, dd, J
= 10.6 & 7.7Hz, H-2 ′), 4.83 (1H, d, J = 2.9Hz, H-1 ″), 4.92
(1H, m, H-15), 4.95 (1H, bt, J = 5.1Hz, H-20), 5.39 (1H, d, J =
10.3Hz, H-13), 5.67 (1H, d, J = 15.8Hz, H-10), 6.37 (1H, d, J
= 15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 868 (M + H) + Example 8 Preparation of 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide 9,20-bis (ethylene acetal)

【0040】[0040]

【化10】 [Chemical 10]

【0041】2′−O−アセチル−3,4′−ジデオキ
シ−4″−オキソデイマイコシン9,20−ビス(エチ
レンアセタール)100mg(0.115mmol)をメタノー
ル1mlに溶解後0℃にて1N-NaOH 0.115mlを加え同
温度で1時間反応させた。更に、濃アンモニア水40μ
l を加えて昇温し、60℃2時間反応させた。反応液に
クロロホルム5mlを加え、有機層は10%食塩水5mlで
4回洗浄した。この有機層を減圧乾固すると、クロロホ
ルム/メタノール(5/1)展開のシリカゲルTLCに
てRf値0.31に硫酸呈色陽性の表題化合物が74mg得ら
れた。
100 mg (0.115 mmol) of 2'-O-acetyl-3,4'-dideoxy-4 "-oxodemycocin 9,20-bis (ethylene acetal) was dissolved in 1 ml of methanol and then 1N was added at 0 ° C. -0.115 ml of NaOH was added and the reaction was carried out at the same temperature for 1 hour.
l was added and the temperature was raised, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 2 hours. Chloroform (5 ml) was added to the reaction solution, and the organic layer was washed 4 times with 10% saline (5 ml). The organic layer was evaporated to dryness under reduced pressure to give 74 mg of a sulfuric acid color-positive title compound having an Rf value of 0.31 by silica gel TLC developed with chloroform / methanol (5/1).

【0042】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3449,2938,2880,1730,1642,1458,1381,1
169,1111,1049,974 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ;0.93(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 0.99(3H,d,J=6.6Hz,H-1
8),1.02(3H,d,J=7.0Hz,H-21), 1.24(3H,d,J=5.9Hz,H-
6′),1.78(3H,d,J=1.1Hz,H-22), 2.35[6H,s,N(CH3)2-
3′],3.30(1H,dd,J=10.3&7.3Hz,H-2 ′), 4.29(1H,d,J=
7.0Hz,H-1′),4.84(1H,m,H-15), 5.01(1H,bt,J=5.1Hz,H
-20),5.34(1H,d,J=9.9Hz,H-13), 5.66(1H,d,J=15.8Hz,H
-10),6.42(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS;654(M+H)+ 、676(M+Na)+ 実施例9 3,4′−ジデオキシマイカミノシル タイ
ロノライドの製造
UV (MeOH) λmax; 235 nm IR (KBr) νmax; 3449,2938,2880,1730,1642,1458,1381,1
169,1111,1049,974 cm -1 NMR (CDCl 3 ); represents only the main peak δ; 0.93 (3H, t, J = 7.3Hz, H-17), 0.99 (3H, d, J = 6.6Hz, H-1
8), 1.02 (3H, d, J = 7.0Hz, H-21), 1.24 (3H, d, J = 5.9Hz, H-
6 ′), 1.78 (3H, d, J = 1.1Hz, H-22), 2.35 [6H, s, N (CH 3 ) 2-
3 ′], 3.30 (1H, dd, J = 10.3 & 7.3Hz, H-2 ′), 4.29 (1H, d, J =
7.0Hz, H-1 ′), 4.84 (1H, m, H-15), 5.01 (1H, bt, J = 5.1Hz, H
-20), 5.34 (1H, d, J = 9.9Hz, H-13), 5.66 (1H, d, J = 15.8Hz, H
-10), 6.42 (1H, d, J = 15.8Hz, H-11) FAB-MS; 654 (M + H) + , 676 (M + Na) + Example 9 Preparation of 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide

【0043】[0043]

【化11】 [Chemical 11]

【0044】3,4′−ジデオキシマイカミノシル タ
イロノライド 9,20−ビス(エチレンアセタール)
26mg(0.05mmol)をテトラヒドロフラン0.2mlに溶
解後1N塩酸0.2mlを加え、室温で1.5時間反応させ
た。反応液を水で希釈後クロロホルム3mlを加えた。有
機層は5%重曹水2ml、10%食塩水2mlで洗浄後無水
硫酸ナトリウムにて乾燥した。この有機層を減圧乾固す
ると、クロロホルム/メタノール(5/1)展開のシリ
カゲルTLCにてRf値0.25に硫酸呈色陽性の表題化合
物が20mg得られた。
3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide 9,20-bis (ethylene acetal)
26 mg (0.05 mmol) was dissolved in 0.2 ml of tetrahydrofuran, 0.2 ml of 1N hydrochloric acid was added, and the mixture was reacted at room temperature for 1.5 hours. After the reaction solution was diluted with water, 3 ml of chloroform was added. The organic layer was washed with 2 ml of 5% sodium hydrogen carbonate solution and 2 ml of 10% saline solution and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was evaporated to dryness under reduced pressure to give 20 mg of the sulfuric acid color-positive title compound having an Rf value of 0.25 by silica gel TLC developed with chloroform / methanol (5/1).

【0045】UV(MeOH)λmax;283nm IR(KBr) νmax;3436,2967,2878,1725,1676,1591,1458,1
383,1316,1167,1071,984 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ;0.94(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 1.04(3H,d,J=6.6Hz,H-1
8),1.20(3H,d,J=6.2Hz,H-6 ′), 1.21(3H,d,J=6.6Hz,H-
21),1.85(3H,d,J=1.1Hz,H-22),2.29(6H,s,N(CH3)2-3
′),2.90(1H,m,H-14),3.20(1H,dd,J=7.3&10.3Hz,H-2
′), 4.19(1H,d,J=7.3Hz,H-1′),4.88(1H,m,H-15),5.8
4(1H,d,J=10.6Hz,H-13),6.35(1H,d,J=15.6Hz,H-10),7.3
0(1H,d,J=15.6Hz,H-11), 9.69(1H,s,H-20) FAB-MS;566(M+H)+
UV (MeOH) λmax; 283nm IR (KBr) νmax; 3436,2967,2878,1725,1676,1591,1458,1
383,1316,1167,1071,984 cm -1 NMR (CDCl 3 ); represents only the main peak δ; 0.94 (3H, t, J = 7.3Hz, H-17), 1.04 (3H, d, J = 6.6 Hz, H-1
8), 1.20 (3H, d, J = 6.2Hz, H-6 ′), 1.21 (3H, d, J = 6.6Hz, H-
21), 1.85 (3H, d, J = 1.1Hz, H-22), 2.29 (6H, s, N (CH 3 ) 2 -3
′), 2.90 (1H, m, H-14), 3.20 (1H, dd, J = 7.3 & 10.3Hz, H-2
′), 4.19 (1H, d, J = 7.3Hz, H-1 ′), 4.88 (1H, m, H-15), 5.8
4 (1H, d, J = 10.6Hz, H-13), 6.35 (1H, d, J = 15.6Hz, H-10), 7.3
0 (1H, d, J = 15.6Hz, H-11), 9.69 (1H, s, H-20) FAB-MS; 566 (M + H) +

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明により、抗菌剤として有用な3,
4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド又はそ
の塩を効率よく製造するための有用な中間体が提供され
た。
According to the present invention, 3, which is useful as an antibacterial agent,
Provided is a useful intermediate for efficiently producing 4'-dideoxymycaminosyl tylonolide or a salt thereof.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陰山 俊治 茨城県つくば市春日2−35−2 エトワー ル春日306 (72)発明者 三宅 俊昭 神奈川県横浜市港北区下田町3丁目5−1 日吉ハイツ207 (72)発明者 松本 直樹 神奈川県横浜市港南区日限山4−52−11 (72)発明者 小湊 嘉一郎 神奈川県大和市南林間6−4−30 (72)発明者 田中 博 神奈川県茅ヶ崎市小和田3−16−26−306 (72)発明者 吉岡 武男 神奈川県綾瀬市上土棚1959 グリーンハイ ツ3−3102 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Shunji Kageyama 2-35-2 Kasuga, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Etoile Kasuga 306 (72) Inventor, Toshiaki Miyake 3-5-1, Shimoda-cho, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Hiyoshi Heights 207 (72) Inventor Naoki Matsumoto 4-52-11, Higashiyama, Konan-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture (52) Inventor Kaichiro Kominato 6-4-30 Minami-Rinkan, Yamato-shi, Kanagawa Prefecture (72) Hiroshi Tanaka 3 Owada, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture −16−26−306 (72) Inventor Takeo Yoshioka 3959

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式: 【化1】 (式中、Aは保護されていてもよいカルボニル基を表
し、Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し、W
は水素原子または-OCOCH3 基を示し、Yは水酸基、置換
スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示し、R1
水酸基又は保護された水酸基を示し、R2 は低級アルカ
ノイル基を示す。ただし、──部分は、Wが水素原子を
示す場合には二重結合を示し、Wが-OCOCH3 基を示す場
合には単結合を示す)で示される3,4′−ジデオキシ
マイカミノシルタイロノライド製造中間体。
1. The following general formula: (In the formula, A represents an optionally protected carbonyl group, B represents an optionally protected aldehyde group, and W
Represents a hydrogen atom or a —OCOCH 3 group, Y represents a hydroxyl group, a substituted sulfonyloxy group, or a halogen atom, R 1 represents a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and R 2 represents a lower alkanoyl group. However, the ── moiety represents a double bond when W represents a hydrogen atom, and represents a single bond when W represents a —OCOCH 3 group). 3,4′-dideoxymycaminosyl Tylonolide production intermediate.
JP29522392A 1992-01-14 1992-11-04 Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide Pending JPH06145191A (en)

Priority Applications (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29522392A JPH06145191A (en) 1992-11-04 1992-11-04 Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide
ES93901539T ES2099941T3 (en) 1992-01-14 1993-01-12 DERIVED FROM 3,4'-DIDESOXI-MICAMINOSILTILONOLIDO AND ITS PRODUCTION.
PCT/JP1993/000031 WO1993014101A1 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof
CA002127259A CA2127259A1 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4', dideoxymycaminosyltylonolide derivative and process for producing the same
AT93901539T ATE150757T1 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-DIDESOXYMYCAMINOSYLTYLONOLIDE DERIVATIVES AND PRODUCTION THEREOF
DE69309259T DE69309259T2 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-DIDESOXYMYCAMINOSYLTYLONOLIDE DERIVATIVES AND PRODUCTION THEREOF
AU32668/93A AU3266893A (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof
EP93901539A EP0627443B1 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof
JP51233493A JP3264926B2 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and method for producing the same
US08/256,537 US5541303A (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4'-dideoxymycaminosltylonolide derivative and process for producing the same
TW082100137A TW243446B (en) 1992-01-14 1993-01-12
DK93901539.2T DK0627443T3 (en) 1992-01-14 1993-01-12 3,4-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and preparation thereof
CN93100302A CN1076452A (en) 1992-01-14 1993-01-13 3,4 '-dideoxy mycaminose base tylosin cyclic lactone derivatives and manufacture method thereof
GR970401178T GR3023529T3 (en) 1992-01-14 1997-05-23 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29522392A JPH06145191A (en) 1992-11-04 1992-11-04 Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06145191A true JPH06145191A (en) 1994-05-24

Family

ID=17817808

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29522392A Pending JPH06145191A (en) 1992-01-14 1992-11-04 Production of intermediate for 3,4'-dideoxymycaminosyl tylonolide

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06145191A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4119125B2 (en) Method for producing clarithromycin crystal form II
US4196280A (en) Novel macrolactone derivatives and process of producing them
JP2002508385A (en) Method for producing 6-O-methylerythromycin A using 9-hydroxyerythromycin derivative
EP0086430B1 (en) Anthracyclinone derivatives and process for their production
JP3264926B2 (en) 3,4&#39;-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and method for producing the same
Ichikawa et al. Stereoselective. BETA.-C-and. BETA.-S-glycosylation of 2-deoxyribofuranose derivatives controlled by the 3-hydroxy protective group.
US5101022A (en) Mycaminosyl tylonolide derivatives
WO2001064701A1 (en) Process for preparing flavonoids
Tatsuta et al. Total synthesis of a macrocyclic lactone antibiotic A26771B and its isomers using carbohydrates.
JPH06145191A (en) Production of intermediate for 3,4&#39;-dideoxymycaminosyl tylonolide
HU176333B (en) Process for preparing new rosamicin derivatives
JP2013537213A (en) Novel process for producing 9-deoxo-9a-aza-9a-homoerythromycin A in which C-4 &#34;of cladinose ring is modified with an epoxide group
US4933439A (en) Tylosin derivatives and processes for producing the same
US5444174A (en) 16-membered macrolide derivative having sustained antibacterial activity in plasma, synthesis intermediate thereof and process for producing the same
JPS6360033B2 (en)
JPH06116283A (en) Production of 3,4&#39;-dideoxymycaminosyltylonolide derivative
JPH06179691A (en) New mycaminosyl tylonolide derivative
JPS632275B2 (en)
US4804749A (en) 20-O-Acyl-19,20-enolmacrolide antibiotic derivatives
JP3221955B2 (en) 3,4&#39;-dideoxydesmycosin
US4962146A (en) 3-O-glycosyl 16-membered macrolide antibacterials and related derivatives
WO1988008426A1 (en) 3-o-glycosyl 16-membered macrolide antibacterials and related derivatives
EP0490311B1 (en) Derivatives of 10,11,12,13-tetra-hydrodesmycosin, processes for preparation, and use thereof in obtaining pharmaceuticals
JPS6117836B2 (en)
JPH07149788A (en) New 16-membered ring macrolide derivative and its efficient production process