JPH06142477A - ガス噴射装置とその方法 - Google Patents
ガス噴射装置とその方法Info
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- JPH06142477A JPH06142477A JP4199815A JP19981592A JPH06142477A JP H06142477 A JPH06142477 A JP H06142477A JP 4199815 A JP4199815 A JP 4199815A JP 19981592 A JP19981592 A JP 19981592A JP H06142477 A JPH06142477 A JP H06142477A
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- liquid
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/313—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced in the centre of the conduit
- B01F25/3131—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced in the centre of the conduit with additional mixing means other than injector mixers, e.g. screens, baffles or rotating elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S261/00—Gas and liquid contact apparatus
- Y10S261/75—Flowing liquid aspirates gas
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Aeration Devices For Treatment Of Activated Polluted Sludge (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、液流にガスを溶解させるためのガ
ス噴射装置を提供する。 【構成】 該装置は、液流が流れる通路を有する導管を
含む。通路と連絡している噴射パイプを提供して、液流
にガスを噴射し、液流中に多数の未溶解気泡を生じさせ
る。好ましくは、通路は、液流を、液流の主要な流れの
方向に流れる主流域と、少なくとも１つの主流域の側面
に沿って位置していて、且つその中でガスが溶解する２
つの循環副流域とに分離させるための対向して且つ中心
に配置された一対のサイドポケット領域を有する。副流
域中に溶解したガスによって、副流域中から主流域中へ
とガスを運ぶ濃度勾配が生じて、導管の出口から放出さ
れて行く。
ス噴射装置を提供する。 【構成】 該装置は、液流が流れる通路を有する導管を
含む。通路と連絡している噴射パイプを提供して、液流
にガスを噴射し、液流中に多数の未溶解気泡を生じさせ
る。好ましくは、通路は、液流を、液流の主要な流れの
方向に流れる主流域と、少なくとも１つの主流域の側面
に沿って位置していて、且つその中でガスが溶解する２
つの循環副流域とに分離させるための対向して且つ中心
に配置された一対のサイドポケット領域を有する。副流
域中に溶解したガスによって、副流域中から主流域中へ
とガスを運ぶ濃度勾配が生じて、導管の出口から放出さ
れて行く。
Description
【０００１】
【発明の背景】本発明は、ガスを液流中に噴射して、ガ
スを液体中に溶解させるためのガス噴射装置とその方法
に関するものである。
スを液体中に溶解させるためのガス噴射装置とその方法
に関するものである。
【０００２】液体中にガスを噴射することを必要とする
多くの従来技術システムと装置が存在しており、その中
には、例えば低粘度発酵システム、廃水処理システムな
どがある。例として、廃水処理システムでは、スプリン
クラーシステムによって生じた廃水の噴霧中に、空気中
酸素を溶解させている。当業においてエアレーションと
呼ばれているそのような酸素添加を行うと、空気中バク
テリアは破壊され、炭化水素汚染物は減少する。
多くの従来技術システムと装置が存在しており、その中
には、例えば低粘度発酵システム、廃水処理システムな
どがある。例として、廃水処理システムでは、スプリン
クラーシステムによって生じた廃水の噴霧中に、空気中
酸素を溶解させている。当業においてエアレーションと
呼ばれているそのような酸素添加を行うと、空気中バク
テリアは破壊され、炭化水素汚染物は減少する。
【０００３】空気は、約２１％しか酸素を含んでいない
ので、廃水処理システムにおいては、純粋酸素を廃水中
に直接噴射する方法が最近開発されている。しかしなが
ら、通常の周囲温度では、水への酸素の溶解速度は幾分
遅いので；従来技術によって、水への酸素溶解速度を高
める噴射装置と方法が提供された。例えば、米国特許第
３，９２８，１９９号では、下降セクションに達した時
に、高度の乱流部を発生させるより低いレベルへと下降
水が急激に下降する廃水流中へ、酸素を噴霧している。
水流の乱流部によって、廃水中への酸素の移動速度は速
くなる。従って、米国特許第３，９２８，１９９号で
は、水流のための一連の上昇と下降をつくることを求め
ている。
ので、廃水処理システムにおいては、純粋酸素を廃水中
に直接噴射する方法が最近開発されている。しかしなが
ら、通常の周囲温度では、水への酸素の溶解速度は幾分
遅いので；従来技術によって、水への酸素溶解速度を高
める噴射装置と方法が提供された。例えば、米国特許第
３，９２８，１９９号では、下降セクションに達した時
に、高度の乱流部を発生させるより低いレベルへと下降
水が急激に下降する廃水流中へ、酸素を噴霧している。
水流の乱流部によって、廃水中への酸素の移動速度は速
くなる。従って、米国特許第３，９２８，１９９号で
は、水流のための一連の上昇と下降をつくることを求め
ている。
【０００４】米国特許第４，８３４，３４３号は、例え
ば水への酸素噴射のように、ガスを液体中へ噴射するた
めの、上記 ’１９９特許に記載されている集成装置に
比べて、よりコンパクトな装置を記載している。米国特
許第４，８３４，３４３号では、液体中へのガスの溶解
は、垂直塔（vertical column）で起こる。液体は、２
つの流れとなって、即ち１つは垂直な流れ、もう１つは
水平な流れとなって塔の上部から入る。垂直流は、塔の
中において、垂直下降流をつくる。ガスは、下降流に対
して回転運動を与える働きもする水平流中へ気泡となっ
て入る。気泡は、旋風的に運動して、塔底で放出される
前に、液体中に溶解する。従って、’３４３特許に記載
されている装置には、パイプ、嵌合などの枝分かれ集成
装置と、特有に二次加工された塔が組込まれている。
ば水への酸素噴射のように、ガスを液体中へ噴射するた
めの、上記 ’１９９特許に記載されている集成装置に
比べて、よりコンパクトな装置を記載している。米国特
許第４，８３４，３４３号では、液体中へのガスの溶解
は、垂直塔（vertical column）で起こる。液体は、２
つの流れとなって、即ち１つは垂直な流れ、もう１つは
水平な流れとなって塔の上部から入る。垂直流は、塔の
中において、垂直下降流をつくる。ガスは、下降流に対
して回転運動を与える働きもする水平流中へ気泡となっ
て入る。気泡は、旋風的に運動して、塔底で放出される
前に、液体中に溶解する。従って、’３４３特許に記載
されている装置には、パイプ、嵌合などの枝分かれ集成
装置と、特有に二次加工された塔が組込まれている。
【０００５】議論したように、本発明は、従来技術の装
置と方法に比べて、よりコンパクトで、且つ複雑でな
い、液体中にガスを噴射するための装置と方法を提供す
る。
置と方法に比べて、よりコンパクトで、且つ複雑でな
い、液体中にガスを噴射するための装置と方法を提供す
る。
【０００６】
【発明の概要】本発明は、液流にガスを溶解させるため
のガス噴射装置を提供する。該装置は、導管と噴射手段
とを含む。導管は、液流を受容するための少なくとも１
つの入口、液流を放出するための少なくとも１つの出
口、及び少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口
との間を連絡する通路を有する。液流は、少なくとも１
つの入口から少なくとも１つの出口へとつくられた流れ
の方向に沿って通路の中を流れる。多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、噴射手段は、液体中にガスを
噴射するための通路と連絡させて、提供する。該通路
は、液流を、流れの方向に流れる少なくとも１つの主流
と、主流域の側面に沿って流れて、且つその中で気泡を
循環させ溶解させる少なくとも１つの循環副流とに分離
させるための分離手段を有する。少なくとも１つの循環
副流域中でガスを溶解させることによって、少なくとも
１つの循環副流域から、少なくとも１つの主流域へとガ
スを運ぶ濃度勾配を生じさせる。
のガス噴射装置を提供する。該装置は、導管と噴射手段
とを含む。導管は、液流を受容するための少なくとも１
つの入口、液流を放出するための少なくとも１つの出
口、及び少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口
との間を連絡する通路を有する。液流は、少なくとも１
つの入口から少なくとも１つの出口へとつくられた流れ
の方向に沿って通路の中を流れる。多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、噴射手段は、液体中にガスを
噴射するための通路と連絡させて、提供する。該通路
は、液流を、流れの方向に流れる少なくとも１つの主流
と、主流域の側面に沿って流れて、且つその中で気泡を
循環させ溶解させる少なくとも１つの循環副流とに分離
させるための分離手段を有する。少なくとも１つの循環
副流域中でガスを溶解させることによって、少なくとも
１つの循環副流域から、少なくとも１つの主流域へとガ
スを運ぶ濃度勾配を生じさせる。
【０００７】又、本発明は、液流にガスを溶解させる方
法も提供する。前記方法に従って、多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、ガスを液流中に噴射する。液
流は、液流の主要な流れの方向に流れる少なくとも１つ
の主流域と、主流域の側面に沿って流れ、且つその中で
気泡を循環させ溶解させて、いったん溶解したガスを少
なくとも１つの循環副流域から主流域へと運ぶ濃度勾配
を生じさせている少なくとも１つの循環副流域とに分離
させる。
法も提供する。前記方法に従って、多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、ガスを液流中に噴射する。液
流は、液流の主要な流れの方向に流れる少なくとも１つ
の主流域と、主流域の側面に沿って流れ、且つその中で
気泡を循環させ溶解させて、いったん溶解したガスを少
なくとも１つの循環副流域から主流域へと運ぶ濃度勾配
を生じさせている少なくとも１つの循環副流域とに分離
させる。
【０００８】本明細書は、出願人が発明と考えている主
題を個々に示している特許請求の範囲を添付している
が、以下の添付の図面：即ち、本発明に従うガス噴射装
置の図である図１と；図１に示した装置をライン２−２
に沿って切った部分横断面図である図２とに関する記述
によって、本発明は、更に良く理解されると思われる。
題を個々に示している特許請求の範囲を添付している
が、以下の添付の図面：即ち、本発明に従うガス噴射装
置の図である図１と；図１に示した装置をライン２−２
に沿って切った部分横断面図である図２とに関する記述
によって、本発明は、更に良く理解されると思われる。
【０００９】
【図面の詳細な説明】図を用いて、本発明に従うガス噴
射装置１０の好ましい態様を説明する。ガス噴射装置１
０を、廃水処理工場からの廃水中に酸素を噴射させるた
めに、特に適合させる。しかしながら、ガス噴射装置１
０を用いて、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、及び
オゾンのような限られた溶解度を有する任意のガスを、
噴射ガスと適合する材料を有する任意の流れている無機
溶媒中に噴射することもできる。 装置１０は、矢印１
４で示した液流を受容するために、入口パイプ１２によ
って形成された入口を有する導管、液流１４を放出する
ために出口パイプ１６によって形成された出口、及び入
口パイプ１２と出口パイプ１６との間を連絡している通
路１８を含む。液流１４は、前記通路１８の中を通っ
て、入口パイプ１２から出口パイプ１６へと取られた流
れの方向に沿って流れる。入口パイプ１２は、Ｔ継手に
よってプロセスパイプ１９と接続している。廃水処理工
場では、プロセスパイプ１９は、浅い汚物集合タンクの
底からポンプされた廃水を受容する。そのような廃水処
理工場では、出口パイプ１６は、廃水処理タンクに再び
入って、酸素化された廃水をタンクに再循環させる。入
口パイプ１２は、閉じた上端２２を有し、その上端２２
において、ガス噴射ライン２４はガス噴射管２６に接続
している。多数の未溶解気泡２８が液流１４の中に生じ
るように、ガス噴射管２６は、ガスを液流１４中に噴射
するための通路１８中に伸びている。
射装置１０の好ましい態様を説明する。ガス噴射装置１
０を、廃水処理工場からの廃水中に酸素を噴射させるた
めに、特に適合させる。しかしながら、ガス噴射装置１
０を用いて、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、及び
オゾンのような限られた溶解度を有する任意のガスを、
噴射ガスと適合する材料を有する任意の流れている無機
溶媒中に噴射することもできる。 装置１０は、矢印１
４で示した液流を受容するために、入口パイプ１２によ
って形成された入口を有する導管、液流１４を放出する
ために出口パイプ１６によって形成された出口、及び入
口パイプ１２と出口パイプ１６との間を連絡している通
路１８を含む。液流１４は、前記通路１８の中を通っ
て、入口パイプ１２から出口パイプ１６へと取られた流
れの方向に沿って流れる。入口パイプ１２は、Ｔ継手に
よってプロセスパイプ１９と接続している。廃水処理工
場では、プロセスパイプ１９は、浅い汚物集合タンクの
底からポンプされた廃水を受容する。そのような廃水処
理工場では、出口パイプ１６は、廃水処理タンクに再び
入って、酸素化された廃水をタンクに再循環させる。入
口パイプ１２は、閉じた上端２２を有し、その上端２２
において、ガス噴射ライン２４はガス噴射管２６に接続
している。多数の未溶解気泡２８が液流１４の中に生じ
るように、ガス噴射管２６は、ガスを液流１４中に噴射
するための通路１８中に伸びている。
【００１０】通路１８は、一対の対向インサートを受容
するために、縁と縁とを共に接合させた長方形板３０，
３２，３４，及び４０を有する長方形の箱のような構造
によって形成される。装置１０を廃水処理工場で用いる
場合、長方形板３０ − ４０、及びインサート４２と４
４は、プレキシグラスで形成することができる。
するために、縁と縁とを共に接合させた長方形板３０，
３２，３４，及び４０を有する長方形の箱のような構造
によって形成される。装置１０を廃水処理工場で用いる
場合、長方形板３０ − ４０、及びインサート４２と４
４は、プレキシグラスで形成することができる。
【００１１】入口パイプ１２と出口パイプ１６は、通路
１８の一対の対向している通常のねじ込み円筒セクショ
ン５０と５２の中にねじ込まれている一対の対向ねじ込
み軸継手４６と４８によって、インサート４２と４４に
接続されている。円筒セクション５０と５２は、一対の
対向している第一セクションと第二セクション（インサ
ート４２のところの参照番号５４と５６；インサート４
４のところの参照番号５８と６０）のところまで、滑ら
かに移動する。通路１８の第一セクションと第二セクシ
ョンは、四角い横の横断面（square transverse cross-
section）である。インサート４２と４４は、お互いに
離れていて、これも又、長方形の横の横断面で示されて
いる一対の対向サイドポケット領域６２と６４をつくっ
ている。
１８の一対の対向している通常のねじ込み円筒セクショ
ン５０と５２の中にねじ込まれている一対の対向ねじ込
み軸継手４６と４８によって、インサート４２と４４に
接続されている。円筒セクション５０と５２は、一対の
対向している第一セクションと第二セクション（インサ
ート４２のところの参照番号５４と５６；インサート４
４のところの参照番号５８と６０）のところまで、滑ら
かに移動する。通路１８の第一セクションと第二セクシ
ョンは、四角い横の横断面（square transverse cross-
section）である。インサート４２と４４は、お互いに
離れていて、これも又、長方形の横の横断面で示されて
いる一対の対向サイドポケット領域６２と６４をつくっ
ている。
【００１２】液流１４は、インサート４２の第一セクシ
ョン５４と第二セクション５６から、サイドポケット領
域６２と６４へと流れる。図に示してあるように、通路
１８の総横断面積は、サイドポケット領域６２と６４の
ところで最も広くなっていて、第二セクション５６から
第一セクション５４までのところで狭くなっている。サ
イドポケット領域６２と６４のわずかに前のところで、
液流１４の流れは、矢印６６で示した主流域と、参照番
号６８で示した２つの対向循環副流域とに分かれる。そ
のように分離する理由は、サイドポケット領域６２と６
４によって突然大きな流動領域が与えられることによっ
て、サイドポケット領域６２と６４において循環流とな
っている流れの分離を引き起こしている流れに、流れの
本体がついて行くことができないからである。循環流を
生じさせる急激な流動領域の拡大は、当業において、通
常は、「後方フェーシングステップ（rearward facing
step）」と呼ばれている。気泡２８は、循環副流域６８
の中で、循環して溶解する。従って、気泡２８は、渦巻
状の流路に沿って、延長された滞留時間、循環する。そ
の結果、任意の時間に液体に溶解するガスの量は、従来
の溶解法に比べて、増加する。副流域６８において、ガ
スの溶解量が増加すると、溶解したガスを主流域中に送
り返す、副流域と主流域との間の濃度勾配が生じる。従
って、副流域６８は、絶えず溶解したガスを送り続ける
ことによって、副流域において、連続してガスを溶解さ
せる。 ある種の流動条件下では、未溶解気泡が、副流
域６８中に押し流されずに、主流域６６に留まっている
ことがある。そのような事を防止するために、スタグネ
ーションブロック（stagnation block）７０を、サイド
ポケット６２と６４との間の通路１８に提供することが
できる。
ョン５４と第二セクション５６から、サイドポケット領
域６２と６４へと流れる。図に示してあるように、通路
１８の総横断面積は、サイドポケット領域６２と６４の
ところで最も広くなっていて、第二セクション５６から
第一セクション５４までのところで狭くなっている。サ
イドポケット領域６２と６４のわずかに前のところで、
液流１４の流れは、矢印６６で示した主流域と、参照番
号６８で示した２つの対向循環副流域とに分かれる。そ
のように分離する理由は、サイドポケット領域６２と６
４によって突然大きな流動領域が与えられることによっ
て、サイドポケット領域６２と６４において循環流とな
っている流れの分離を引き起こしている流れに、流れの
本体がついて行くことができないからである。循環流を
生じさせる急激な流動領域の拡大は、当業において、通
常は、「後方フェーシングステップ（rearward facing
step）」と呼ばれている。気泡２８は、循環副流域６８
の中で、循環して溶解する。従って、気泡２８は、渦巻
状の流路に沿って、延長された滞留時間、循環する。そ
の結果、任意の時間に液体に溶解するガスの量は、従来
の溶解法に比べて、増加する。副流域６８において、ガ
スの溶解量が増加すると、溶解したガスを主流域中に送
り返す、副流域と主流域との間の濃度勾配が生じる。従
って、副流域６８は、絶えず溶解したガスを送り続ける
ことによって、副流域において、連続してガスを溶解さ
せる。 ある種の流動条件下では、未溶解気泡が、副流
域６８中に押し流されずに、主流域６６に留まっている
ことがある。そのような事を防止するために、スタグネ
ーションブロック（stagnation block）７０を、サイド
ポケット６２と６４との間の通路１８に提供することが
できる。
【００１３】装置１０は、好ましい態様ではあるが、本
明細書で説明している発明の多くの可能な態様のうちの
ほんの１つである、ことを指摘しておかなければならな
い。例えば、唯１つの副流域６８を生じさせるために、
サイドポケット領域６２と６４のうちの唯１つを有する
本発明の態様をつくることができる。又、流路が四角い
横断面で示されているために液流１４の流れは２次元で
あるが、通路８の第一セクション５４と第二セクション
５６が円筒形の横の横断面を有し、好ましい態様のサイ
ドポケット領域６２と６４とによってつくられた第一セ
クション５４と第二セクション５６との間の拡張部分が
円筒形の形状となるように、装置１０をつくることがで
きる、ことにも注意しておくべきである。そのような場
合、循環副流域は、主流域の周囲に１つの循環流領域を
含む。更に、主流域の側面に位置する３つ以上の循環流
領域をつくる通路ついての可能な他のデザインがある。
その場合、必要な入口、出口、及び必要な後方フェーシ
ングステップを通路に備えることによって、幾つかの循
環領域をつくることができる。又、前記の事に加えて、
装置１０の可能な態様では、未溶解気泡２８がサイドポ
ケット領域６２と６４の中に押し流されるような上流地
点における噴射ではなく、サイドポケット領域６２と６
４の中に直接ガス噴射することができる。
明細書で説明している発明の多くの可能な態様のうちの
ほんの１つである、ことを指摘しておかなければならな
い。例えば、唯１つの副流域６８を生じさせるために、
サイドポケット領域６２と６４のうちの唯１つを有する
本発明の態様をつくることができる。又、流路が四角い
横断面で示されているために液流１４の流れは２次元で
あるが、通路８の第一セクション５４と第二セクション
５６が円筒形の横の横断面を有し、好ましい態様のサイ
ドポケット領域６２と６４とによってつくられた第一セ
クション５４と第二セクション５６との間の拡張部分が
円筒形の形状となるように、装置１０をつくることがで
きる、ことにも注意しておくべきである。そのような場
合、循環副流域は、主流域の周囲に１つの循環流領域を
含む。更に、主流域の側面に位置する３つ以上の循環流
領域をつくる通路ついての可能な他のデザインがある。
その場合、必要な入口、出口、及び必要な後方フェーシ
ングステップを通路に備えることによって、幾つかの循
環領域をつくることができる。又、前記の事に加えて、
装置１０の可能な態様では、未溶解気泡２８がサイドポ
ケット領域６２と６４の中に押し流されるような上流地
点における噴射ではなく、サイドポケット領域６２と６
４の中に直接ガス噴射することができる。
【００１４】例として、装置１０を、約１５．１４リッ
トル／分で流れている水に、約０．５リットル／分の速
度で酸素を噴射するように設計することができる。その
ような例では、酸素と水は、共に約１．７６ − ２．１
１ ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を有する。更に、インサート４
２と４４は、それぞれ、長さ約１０．１６ｃｍ、幅約１
０．１６、厚さ約５．０８ｃｍで、サイドポケット領域
６２と６４を形成するために約７．６２ｃｍの間隔を開
けて互いに離れている。通路１８の第一セクション５４
と５６は、それぞれ、長さ約２．５４ｃｍ、幅約１．２
７ｃｍであり；通路１８の第二セクション６８と６０
は、それぞれ、幅約１．９０５ｃｍ、長さ約４．７６ｃ
ｍである。スタグネーションブロック７０は、ほぼ２．
５４ｃｍｘ ２．２２ｃｍｘ ５．０８ｃｍであり、イン
サート４４の手前、約２．５４ｃｍのところに配置す
る。
トル／分で流れている水に、約０．５リットル／分の速
度で酸素を噴射するように設計することができる。その
ような例では、酸素と水は、共に約１．７６ − ２．１
１ ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を有する。更に、インサート４
２と４４は、それぞれ、長さ約１０．１６ｃｍ、幅約１
０．１６、厚さ約５．０８ｃｍで、サイドポケット領域
６２と６４を形成するために約７．６２ｃｍの間隔を開
けて互いに離れている。通路１８の第一セクション５４
と５６は、それぞれ、長さ約２．５４ｃｍ、幅約１．２
７ｃｍであり；通路１８の第二セクション６８と６０
は、それぞれ、幅約１．９０５ｃｍ、長さ約４．７６ｃ
ｍである。スタグネーションブロック７０は、ほぼ２．
５４ｃｍｘ ２．２２ｃｍｘ ５．０８ｃｍであり、イン
サート４４の手前、約２．５４ｃｍのところに配置す
る。
【００１５】好ましい態様を提示して詳しく説明した
が、発明の精神と範囲から逸脱せずに、多くの省略、変
化、及び追加を行うことができる、ことを当業者は理解
し評価すると思われる。
が、発明の精神と範囲から逸脱せずに、多くの省略、変
化、及び追加を行うことができる、ことを当業者は理解
し評価すると思われる。
【図１】本発明に従うガス噴射装置の図である。
【図２】図１に示した装置をライン２−２に沿って切っ
た部分横断面図である。
た部分横断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成５年１２月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の背景】本発明は、ガスを液流中に噴射して、ガ
スを液体中に溶解させるためのガス噴射装置とその方法
に関するものである。
スを液体中に溶解させるためのガス噴射装置とその方法
に関するものである。
【０００２】液体中にガスを噴射することを必要とする
多くの従来技術システムと装置が存在しており、その中
には、例えば低粘度発酵システム、廃水処理システムな
どがある。例として、廃水処理システムでは、スプリン
クラーシステムによって生じた廃水の噴霧中に、空気中
酸素を溶解させている。当業においてエアレーションと
呼ばれているそのような酸素添加を行うと、空気中バク
テリアは破壊され、炭化水素汚染物は減少する。
多くの従来技術システムと装置が存在しており、その中
には、例えば低粘度発酵システム、廃水処理システムな
どがある。例として、廃水処理システムでは、スプリン
クラーシステムによって生じた廃水の噴霧中に、空気中
酸素を溶解させている。当業においてエアレーションと
呼ばれているそのような酸素添加を行うと、空気中バク
テリアは破壊され、炭化水素汚染物は減少する。
【０００３】空気は、約２１％しか酸素を含んでいない
ので、廃水処理システムにおいては、純粋酸素を廃水中
に直接噴射する方法が最近開発されている。しかしなが
ら、通常の周囲温度では、水への酸素の溶解速度は幾分
遅いので；従来技術によって、水への酸素溶解速度を高
める噴射装置と方法が提供された。例えば、米国特許第
３，９２８，１９９号では、下降セクションに達した時
に、高度の乱流部を発生させるより低いレベルへと下降
水が急激に下降する廃水流中へ、酸素を噴霧している。
水流の乱流部によって、廃水中への酸素の移動速度は速
くなる。従って、米国特許第３，９２８，１９９号で
は、水流のための一連の上昇と下降をつくることを求め
ている。
ので、廃水処理システムにおいては、純粋酸素を廃水中
に直接噴射する方法が最近開発されている。しかしなが
ら、通常の周囲温度では、水への酸素の溶解速度は幾分
遅いので；従来技術によって、水への酸素溶解速度を高
める噴射装置と方法が提供された。例えば、米国特許第
３，９２８，１９９号では、下降セクションに達した時
に、高度の乱流部を発生させるより低いレベルへと下降
水が急激に下降する廃水流中へ、酸素を噴霧している。
水流の乱流部によって、廃水中への酸素の移動速度は速
くなる。従って、米国特許第３，９２８，１９９号で
は、水流のための一連の上昇と下降をつくることを求め
ている。
【０００４】米国特許第４，８３４，３４３号は、例え
ば水への酸素噴射のように、ガスを液体中へ噴射するた
めの、上記 ’１９９特許に記載されている集成装置に
比べて、よりコンパクトな装置を記載している。米国特
許第４，８３４，３４３号では、液体中へのガスの溶解
は、垂直塔（vertical column）で起こる。液体は、２
つの流れとなって、即ち１つは垂直な流れ、もう１つは
水平な流れとなって塔の上部から入る。垂直流は、塔の
中において、垂直下降流をつくる。ガスは、下降流に対
して回転運動を与える働きもする水平流中へ気泡となっ
て入る。気泡は、旋風的に運動して、塔底で放出される
前に、液体中に溶解する。従って、’３４３特許に記載
されている装置には、パイプ、嵌合などの枝分かれ集成
装置と、特有に二次加工された塔が組込まれている。
ば水への酸素噴射のように、ガスを液体中へ噴射するた
めの、上記 ’１９９特許に記載されている集成装置に
比べて、よりコンパクトな装置を記載している。米国特
許第４，８３４，３４３号では、液体中へのガスの溶解
は、垂直塔（vertical column）で起こる。液体は、２
つの流れとなって、即ち１つは垂直な流れ、もう１つは
水平な流れとなって塔の上部から入る。垂直流は、塔の
中において、垂直下降流をつくる。ガスは、下降流に対
して回転運動を与える働きもする水平流中へ気泡となっ
て入る。気泡は、旋風的に運動して、塔底で放出される
前に、液体中に溶解する。従って、’３４３特許に記載
されている装置には、パイプ、嵌合などの枝分かれ集成
装置と、特有に二次加工された塔が組込まれている。
【０００５】議論したように、本発明は、従来技術の装
置と方法に比べて、よりコンパクトで、且つ複雑でな
い、液体中にガスを噴射するための装置と方法を提供す
る。
置と方法に比べて、よりコンパクトで、且つ複雑でな
い、液体中にガスを噴射するための装置と方法を提供す
る。
【０００６】
【発明の概要】本発明は、液流にガスを溶解させるため
のガス噴射装置を提供する。該装置は、導管と噴射手段
とを含む。導管は、液流を受容するための少なくとも１
つの入口、液流を放出するための少なくとも１つの出
口、及び少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口
との間を連絡する通路を有する。液流は、少なくとも１
つの入口から少なくとも１つの出口へとつくられた流れ
の方向に沿って通路の中を流れる。多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、噴射手段は、液体中にガスを
噴射するための通路と連絡させて、提供する。該通路
は、液流を、流れの方向に流れる少なくとも１つの主流
と、主流域の側面に沿って流れて、且つその中で気泡を
循環させ溶解させる少なくとも１つの循環副流とに分離
させるための分離手段を有する。少なくとも１つの循環
副流域中でガスを溶解させることによって、少なくとも
１つの循環副流域から、少なくとも１つの主流域へとガ
スを運ぶ濃度勾配を生じさせる。
のガス噴射装置を提供する。該装置は、導管と噴射手段
とを含む。導管は、液流を受容するための少なくとも１
つの入口、液流を放出するための少なくとも１つの出
口、及び少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口
との間を連絡する通路を有する。液流は、少なくとも１
つの入口から少なくとも１つの出口へとつくられた流れ
の方向に沿って通路の中を流れる。多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、噴射手段は、液体中にガスを
噴射するための通路と連絡させて、提供する。該通路
は、液流を、流れの方向に流れる少なくとも１つの主流
と、主流域の側面に沿って流れて、且つその中で気泡を
循環させ溶解させる少なくとも１つの循環副流とに分離
させるための分離手段を有する。少なくとも１つの循環
副流域中でガスを溶解させることによって、少なくとも
１つの循環副流域から、少なくとも１つの主流域へとガ
スを運ぶ濃度勾配を生じさせる。
【０００７】又、本発明は、液流にガスを溶解させる方
法も提供する。前記方法に従って、多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、ガスを液流中に噴射する。液
流は、液流の主要な流れの方向に流れる少なくとも１つ
の主流域と、主流域の側面に沿って流れ、且つその中で
気泡を循環させ溶解させて、いったん溶解したガスを少
なくとも１つの循環副流域から主流域へと運ぶ濃度勾配
を生じさせている少なくとも１つの循環副流域とに分離
させる。
法も提供する。前記方法に従って、多数の未溶解気泡が
液流の中に生じるように、ガスを液流中に噴射する。液
流は、液流の主要な流れの方向に流れる少なくとも１つ
の主流域と、主流域の側面に沿って流れ、且つその中で
気泡を循環させ溶解させて、いったん溶解したガスを少
なくとも１つの循環副流域から主流域へと運ぶ濃度勾配
を生じさせている少なくとも１つの循環副流域とに分離
させる。
【０００８】本明細書は、出願人が発明と考えている主
題を個々に示している特許請求の範囲を添付している
が、以下の添付の図面：即ち、本発明に従うガス噴射装
置の図である図１と；図１に示した装置をライン２−２
に沿って切った部分横断面図である図２とに関する記述
によって、本発明は、更に良く理解されると思われる。
題を個々に示している特許請求の範囲を添付している
が、以下の添付の図面：即ち、本発明に従うガス噴射装
置の図である図１と；図１に示した装置をライン２−２
に沿って切った部分横断面図である図２とに関する記述
によって、本発明は、更に良く理解されると思われる。
【０００９】図を用いて、本発明に従うガス噴射装置１
０の好ましい態様を説明する。ガス噴射装置１０を、廃
水処理工場からの廃水中に酸素を噴射させるために、特
に適合させる。しかしながら、ガス噴射装置１０を用い
て、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、及びオゾンの
ような限られた溶解度を有する任意のガスを、噴射ガス
と適合する材料を有する任意の流れている無機溶媒中に
噴射することもできる。 装置１０は、矢印１４で示し
た液流を受容するために、入口パイプ１２によって形成
された入口を有する導管、液流１４を放出するために出
口パイプ１６によって形成された出口、及び入口パイプ
１２と出口パイプ１６との間を連絡している通路１８を
含む。液流１４は、前記通路１８の中を通って、入口パ
イプ１２から出口パイプ１６へと取られた流れの方向に
沿って流れる。入口パイプ１２は、Ｔ継手によってプロ
セスパイプ１９と接続している。廃水処理工場では、プ
ロセスパイプ１９は、浅い汚物集合タンクの底からポン
プされた廃水を受容する。そのような廃水処理工場で
は、出口パイプ１６は、廃水処理タンクに再び入って、
酸素化された廃水をタンクに再循環させる。入口パイプ
１２は、閉じた上端２２を有し、その上端２２におい
て、ガス噴射ライン２４はガス噴射管２６に接続してい
る。多数の未溶解気泡２８が液流１４の中に生じるよう
に、ガス噴射管２６は、ガスを液流１４中に噴射するた
めの通路１８中に伸びている。
０の好ましい態様を説明する。ガス噴射装置１０を、廃
水処理工場からの廃水中に酸素を噴射させるために、特
に適合させる。しかしながら、ガス噴射装置１０を用い
て、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、及びオゾンの
ような限られた溶解度を有する任意のガスを、噴射ガス
と適合する材料を有する任意の流れている無機溶媒中に
噴射することもできる。 装置１０は、矢印１４で示し
た液流を受容するために、入口パイプ１２によって形成
された入口を有する導管、液流１４を放出するために出
口パイプ１６によって形成された出口、及び入口パイプ
１２と出口パイプ１６との間を連絡している通路１８を
含む。液流１４は、前記通路１８の中を通って、入口パ
イプ１２から出口パイプ１６へと取られた流れの方向に
沿って流れる。入口パイプ１２は、Ｔ継手によってプロ
セスパイプ１９と接続している。廃水処理工場では、プ
ロセスパイプ１９は、浅い汚物集合タンクの底からポン
プされた廃水を受容する。そのような廃水処理工場で
は、出口パイプ１６は、廃水処理タンクに再び入って、
酸素化された廃水をタンクに再循環させる。入口パイプ
１２は、閉じた上端２２を有し、その上端２２におい
て、ガス噴射ライン２４はガス噴射管２６に接続してい
る。多数の未溶解気泡２８が液流１４の中に生じるよう
に、ガス噴射管２６は、ガスを液流１４中に噴射するた
めの通路１８中に伸びている。
【００１０】通路１８は、一対の対向インサートを受容
するために、縁と縁とを共に接合させた長方形板３０，
３２，３４，及び４０を有する長方形の箱のような構造
によって形成される。装置１０を廃水処理工場で用いる
場合、長方形板３０ − ４０、及びインサート４２と４
４は、プレキシグラスで形成することができる。
するために、縁と縁とを共に接合させた長方形板３０，
３２，３４，及び４０を有する長方形の箱のような構造
によって形成される。装置１０を廃水処理工場で用いる
場合、長方形板３０ − ４０、及びインサート４２と４
４は、プレキシグラスで形成することができる。
【００１１】入口パイプ１２と出口パイプ１６は、通路
１８の一対の対向している通常のねじ込み円筒セクショ
ン５０と５２の中にねじ込まれている一対の対向ねじ込
み軸継手４６と４８によって、インサート４２と４４に
接続されている。円筒セクション５０と５２は、一対の
対向している第一セクションと第二セクション（インサ
ート４２のところの参照番号５４と５６；インサート４
４のところの参照番号５８と６０）のところまで、滑ら
かに移動する。通路１８の第一セクションと第二セクシ
ョンは、四角い横の横断面（square transverse cross-
section）である。インサート４２と４４は、お互いに
離れていて、これも又、長方形の横の横断面で示されて
いる一対の対向サイドポケット領域６２と６４をつくっ
ている。
１８の一対の対向している通常のねじ込み円筒セクショ
ン５０と５２の中にねじ込まれている一対の対向ねじ込
み軸継手４６と４８によって、インサート４２と４４に
接続されている。円筒セクション５０と５２は、一対の
対向している第一セクションと第二セクション（インサ
ート４２のところの参照番号５４と５６；インサート４
４のところの参照番号５８と６０）のところまで、滑ら
かに移動する。通路１８の第一セクションと第二セクシ
ョンは、四角い横の横断面（square transverse cross-
section）である。インサート４２と４４は、お互いに
離れていて、これも又、長方形の横の横断面で示されて
いる一対の対向サイドポケット領域６２と６４をつくっ
ている。
【００１２】液流１４は、インサート４２の第一セクシ
ョン５４と第二セクション５６から、サイドポケット領
域６２と６４へと流れる。図に示してあるように、通路
１８の総横断面積は、サイドポケット領域６２と６４の
ところで最も広くなっていて、第二セクション５６から
第一セクション５４までのところで狭くなっている。サ
イドポケット領域６２と６４のわずかに前のところで、
液流１４の流れは、矢印６６で示した主流域と、参照番
号６８で示した２つの対向循環副流域とに分かれる。そ
のように分離する理由は、サイドポケット領域６２と６
４によって突然大きな流動領域が与えられることによっ
て、サイドポケット領域６２と６４において循環流とな
っている流れの分離を引き起こしている流れに、流れの
本体がついて行くことができないからである。循環流を
生じさせる急激な流動領域の拡大は、当業において、通
常は、「後方フェーシングステップ（rearward facing
step）」と呼ばれている。気泡２８は、循環副流域６８
の中で、循環して溶解する。従って、気泡２８は、渦巻
状の流路に沿って、延長された滞留時間、循環する。そ
の結果、任意の時間に液体に溶解するガスの量は、従来
の溶解法に比べて、増加する。副流域６８において、ガ
スの溶解量が増加すると、溶解したガスを主流域中に送
り返す、副流域と主流域との間の濃度勾配が生じる。従
って、副流域６８は、絶えず溶解したガスを送り続ける
ことによって、副流域において、連続してガスを溶解さ
せる。 ある種の流動条件下では、未溶解気泡が、副流
域６８中に押し流されずに、主流域６６に留まっている
ことがある。そのような事を防止するために、スタグネ
ーションブロック（stagnation block）７０を、サイド
ポケット６２と６４との間の通路１８に提供することが
できる。
ョン５４と第二セクション５６から、サイドポケット領
域６２と６４へと流れる。図に示してあるように、通路
１８の総横断面積は、サイドポケット領域６２と６４の
ところで最も広くなっていて、第二セクション５６から
第一セクション５４までのところで狭くなっている。サ
イドポケット領域６２と６４のわずかに前のところで、
液流１４の流れは、矢印６６で示した主流域と、参照番
号６８で示した２つの対向循環副流域とに分かれる。そ
のように分離する理由は、サイドポケット領域６２と６
４によって突然大きな流動領域が与えられることによっ
て、サイドポケット領域６２と６４において循環流とな
っている流れの分離を引き起こしている流れに、流れの
本体がついて行くことができないからである。循環流を
生じさせる急激な流動領域の拡大は、当業において、通
常は、「後方フェーシングステップ（rearward facing
step）」と呼ばれている。気泡２８は、循環副流域６８
の中で、循環して溶解する。従って、気泡２８は、渦巻
状の流路に沿って、延長された滞留時間、循環する。そ
の結果、任意の時間に液体に溶解するガスの量は、従来
の溶解法に比べて、増加する。副流域６８において、ガ
スの溶解量が増加すると、溶解したガスを主流域中に送
り返す、副流域と主流域との間の濃度勾配が生じる。従
って、副流域６８は、絶えず溶解したガスを送り続ける
ことによって、副流域において、連続してガスを溶解さ
せる。 ある種の流動条件下では、未溶解気泡が、副流
域６８中に押し流されずに、主流域６６に留まっている
ことがある。そのような事を防止するために、スタグネ
ーションブロック（stagnation block）７０を、サイド
ポケット６２と６４との間の通路１８に提供することが
できる。
【００１３】装置１０は、好ましい態様ではあるが、本
明細書で説明している発明の多くの可能な態様のうちの
ほんの１つである、ことを指摘しておかなければならな
い。例えば、唯１つの副流域６８を生じさせるために、
サイドポケット領域６２と６４のうちの唯１つを有する
本発明の態様をつくることができる。又、流路が四角い
横断面で示されているために液流１４の流れは２次元で
あるが、通路８の第一セクション５４と第二セクション
５６が円筒形の横の横断面を有し、好ましい態様のサイ
ドポケット領域６２と６４とによってつくられた第一セ
クション５４と第二セクション５６との間の拡張部分が
円筒形の形状となるように、装置１０をつくることがで
きる、ことにも注意しておくべきである。そのような場
合、循環副流域は、主流域の周囲に１つの循環流領域を
含む。更に、主流域の側面に位置する３つ以上の循環流
領域をつくる通路ついての可能な他のデザインがある。
その場合、必要な入口、出口、及び必要な後方フェーシ
ングステップを通路に備えることによって、幾つかの循
環領域をつくることができる。又、前記の事に加えて、
装置１０の可能な態様では、未溶解気泡２８がサイドポ
ケット領域６２と６４の中に押し流されるような上流地
点における噴射ではなく、サイドポケット領域６２と６
４の中に直接ガス噴射することができる。
明細書で説明している発明の多くの可能な態様のうちの
ほんの１つである、ことを指摘しておかなければならな
い。例えば、唯１つの副流域６８を生じさせるために、
サイドポケット領域６２と６４のうちの唯１つを有する
本発明の態様をつくることができる。又、流路が四角い
横断面で示されているために液流１４の流れは２次元で
あるが、通路８の第一セクション５４と第二セクション
５６が円筒形の横の横断面を有し、好ましい態様のサイ
ドポケット領域６２と６４とによってつくられた第一セ
クション５４と第二セクション５６との間の拡張部分が
円筒形の形状となるように、装置１０をつくることがで
きる、ことにも注意しておくべきである。そのような場
合、循環副流域は、主流域の周囲に１つの循環流領域を
含む。更に、主流域の側面に位置する３つ以上の循環流
領域をつくる通路ついての可能な他のデザインがある。
その場合、必要な入口、出口、及び必要な後方フェーシ
ングステップを通路に備えることによって、幾つかの循
環領域をつくることができる。又、前記の事に加えて、
装置１０の可能な態様では、未溶解気泡２８がサイドポ
ケット領域６２と６４の中に押し流されるような上流地
点における噴射ではなく、サイドポケット領域６２と６
４の中に直接ガス噴射することができる。
【００１４】例として、装置１０を、約１５．１４リッ
トル／分で流れている水に、約０．５リットル／分の速
度で酸素を噴射するように設計することができる。その
ような例では、酸素と水は、共に約１．７６ − ２．１
１ ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を有する。更に、インサート４
２と４４は、それぞれ、長さ約１０．１６ｃｍ、幅約１
０．１６、厚さ約５．０８ｃｍで、サイドポケット領域
６２と６４を形成するために約７．６２ｃｍの間隔を開
けて互いに離れている。通路１８の第一セクション５４
と５６は、それぞれ、長さ約２．５４ｃｍ、幅約１．２
７ｃｍであり；通路１８の第二セクション６８と６０
は、それぞれ、幅約１．９０５ｃｍ、長さ約４．７６ｃ
ｍである。スタグネーションブロック７０は、ほぼ２．
５４ｃｍｘ ２．２２ｃｍｘ ５．０８ｃｍであり、イン
サート４４の手前、約２．５４ｃｍのところに配置す
る。
トル／分で流れている水に、約０．５リットル／分の速
度で酸素を噴射するように設計することができる。その
ような例では、酸素と水は、共に約１．７６ − ２．１
１ ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を有する。更に、インサート４
２と４４は、それぞれ、長さ約１０．１６ｃｍ、幅約１
０．１６、厚さ約５．０８ｃｍで、サイドポケット領域
６２と６４を形成するために約７．６２ｃｍの間隔を開
けて互いに離れている。通路１８の第一セクション５４
と５６は、それぞれ、長さ約２．５４ｃｍ、幅約１．２
７ｃｍであり；通路１８の第二セクション６８と６０
は、それぞれ、幅約１．９０５ｃｍ、長さ約４．７６ｃ
ｍである。スタグネーションブロック７０は、ほぼ２．
５４ｃｍｘ ２．２２ｃｍｘ ５．０８ｃｍであり、イン
サート４４の手前、約２．５４ｃｍのところに配置す
る。
【００１５】好ましい態様を提示して詳しく説明した
が、発明の精神と範囲から逸脱せずに、多くの省略、変
化、及び追加を行うことができる、ことを当業者は理解
し評価すると思われる。
が、発明の精神と範囲から逸脱せずに、多くの省略、変
化、及び追加を行うことができる、ことを当業者は理解
し評価すると思われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従うガス噴射装置の図である。
【図２】図１に示した装置をライン２−２に沿って切っ
た部分横断面図である。
た部分横断面図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 装置が：液流を受容するための少なくと
も１つの入口、液流を放出するための少なくとも１つの
出口、及び入口から出口への流れの方向に沿って液流が
流れる、少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口
との間を連絡する通路とを有する導管；液体中にガスを
噴射して多数の未溶解気泡を液流の中に生じさせるため
の、通路と連絡している噴射手段；及び液流を、流れの
方向に流れる少なくとも１つの主流と、該少なくとも１
つの主流域の側面に沿って位置し、且つその中で未溶解
気泡が循環し溶解して、少なくとも１つの循環副流域か
ら少なくとも１つの主流域へといったん溶解したガスを
運ぶ濃度勾配を生じさせる少なくとも１つの循環副流と
に分離させるための少なくとも１つの後方フェーシング
ステップを有する通路を含む、液流にガスを溶解させる
ためのガス噴射装置。 - 【請求項２】 通路が、入口セクション、入口セクショ
ンから離れていて且つ同軸上にある出口セクション、及
び入口セクションと出口セクションとを接続していて、
且つ前記の少なくとも１つの後方フェーシングステップ
を２つを提供することによって分離手段を形成させるた
めの、一対の対向サイドポケットを有する中心セクショ
ンを含む請求項１記載のガス噴射装置。 - 【請求項３】 ２つの少なくとも１つの循環副流域から
主流域へと未溶解気泡が押し戻されるのを防止するため
に、中心セクションに配置されたスタグネーションブロ
ックを更に含む請求項２記載のガス噴射装置。 - 【請求項４】 噴射手段が、液体中に噴射されるガスの
源に接続するように適合された管を含み、且つ該管が、
通路の入口セクションの中に、同軸上に配置され、中心
セクションの上流にあり、液流の分割後に、少なくとも
１つの循環副流域のうちの２つの中に気泡を押し流す請
求項２記載のガス噴射装置。 - 【請求項５】 液流にガスを噴射して、液流中に多数の
未溶解気泡を生じさせる工程；及び少なくとも１つの後
方フェーシングステップによって、液流を、液流の主要
な流れの方向に流れる少なくとも１つの主流域と、少な
くとも１つの主流域の側面に沿って位置し、且つその中
で未溶解気泡を循環させ溶解させて、いったん溶解した
ガスを主流域へと運ぶ濃度勾配を生じさせている少なく
とも１つの循環副流域とに分離させる工程を含む液流に
ガスを溶解させる方法。 - 【請求項６】 液流を、少なくとも１つの主流域によっ
て分離された少なくとも１つの循環副流域から成る２つ
の流れに分離させる請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 ガスを、分離の起こる地点よりも上流の
地点で噴射して、未溶解気泡を、２つの少なくとも１つ
の循環副流域中へと押し流す請求項６記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/735,417 US5160458A (en) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | Gas injection apparatus and method |
| US735417 | 1991-07-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06142477A true JPH06142477A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=24955709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4199815A Pending JPH06142477A (ja) | 1991-07-25 | 1992-07-27 | ガス噴射装置とその方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5160458A (ja) |
| JP (1) | JPH06142477A (ja) |
| AU (1) | AU636815B2 (ja) |
| CA (1) | CA2072285C (ja) |
| GB (1) | GB2257925B (ja) |
| ZA (1) | ZA924552B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU7988194A (en) * | 1993-11-01 | 1995-05-23 | Erik Hoel | Gas injection method and apparatus |
| KR101502415B1 (ko) | 2008-09-12 | 2015-03-13 | 엠 에스피 코포레이션 | 액체 전구물질 분무 방법 및 장치 |
| JP6129390B1 (ja) * | 2016-07-28 | 2017-05-17 | 株式会社カクイチ製作所 | ナノバブル生成ノズル及びナノバブル生成装置 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US543411A (en) * | 1895-07-23 | taylor | ||
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