JPH06128378A - Silicone compound and its production - Google Patents
Silicone compound and its productionInfo
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- JPH06128378A JPH06128378A JP4338291A JP4338291A JPH06128378A JP H06128378 A JPH06128378 A JP H06128378A JP 4338291 A JP4338291 A JP 4338291A JP 4338291 A JP4338291 A JP 4338291A JP H06128378 A JPH06128378 A JP H06128378A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、有機溶媒に可溶である
新規なケイ素化合物及びその製造法に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel silicon compound soluble in an organic solvent and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】オルガノトリクロロシランやオルガノア
ルコキシシランを加水分解縮重合すると有機溶媒に可溶
なラダー型のポリマ−が得られることはよく知られてい
る（特開昭５３−８８０９９号公報、特公昭４９−４５
３２０号公報など）。そしてこのポリマ−を種々の材料
のコーティング剤として利用することも知られている。
しかし、これらのポリマ−の多くは固体であり、製造中
取扱いにくく、又、使用する場合有機溶媒に溶解するの
に手間を要するという欠点がある。2. Description of the Related Art It is well known that a ladder type polymer soluble in an organic solvent can be obtained by subjecting an organotrichlorosilane or an organoalkoxysilane to hydrolysis and polycondensation (Japanese Patent Laid-Open No. 88099/1993). Kosho 49-45
320, etc.). It is also known to use this polymer as a coating agent for various materials.
However, many of these polymers have the disadvantages that they are solid, are difficult to handle during production, and require time and effort to dissolve in an organic solvent when used.
【０００３】一方、我々は先に、トリクロロシランとオ
ルガノトリクロロシランを用いて水と反応させ、加水分
解縮重合して有機溶媒に可溶な一部ラダー構造を持つポ
リハイドロジェンシロキサン化合物を見い出している
（特願平０２−０１２７１８号公報）。しかしながら、
この化合物は液体であるが、化合物中に反応性の高いＳ
ｉ−Ｈを多量に持つため取扱い時水分、その他の異物の
混入によりゲル化し保存性に問題が発生し易すい。On the other hand, we have previously found a polyhydrogensiloxane compound having a partial ladder structure which is soluble in an organic solvent by reacting with trichlorosilane and organotrichlorosilane with water to carry out hydrolysis polycondensation. (Japanese Patent Application No. 02-012718). However,
Although this compound is a liquid, S which has high reactivity in the compound
Since it has a large amount of i-H, it easily gels due to the mixing of moisture and other foreign substances during handling, causing a problem in storage stability.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オルガノシ
ルセスキオキサンの特徴を維持し、常温（２０〜４０
℃）で液状であり、取扱い時の安定性の良いケイ素化合
物を提供すると共に、他のビニル化合物等と反応しうる
ヒドロシリル基を分子構造中に持ち、他の化合物へ導く
ことも可能であるケイ素化合物を提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention maintains the characteristics of organosilsesquioxane and keeps it at room temperature (20-40%).
A silicon compound which is liquid at (° C) and has good stability during handling, and which has a hydrosilyl group capable of reacting with other vinyl compounds in the molecular structure and leads to other compounds. To provide a compound.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、分子構造中に
下記化２で表わされる〔Ｉ〕と〔ＩＩ〕の構造を有し、
かつ、末端基として、一般式、 Ｒ′Ｏ−（ケイ素に結合する場合）及び Ｒ′（酸素に結合する場合） （式中、Ｒ′は炭素数１から４のアルキル基より選ばれ
た基）を持つ重量平均分子量１，０００〜１００，００
０、Ｓｉ−Ｒ／（Ｒ′Ｏ＋Ｒ′）が０．８〜１０である
ケイ素化合物及びその製造法を提供するものである。The present invention has the structures [I] and [II] represented by the following chemical formula 2 in the molecular structure,
Further, as the terminal group, a general formula, R'O- (in the case of bonding to silicon) and R '(in the case of bonding to oxygen) (wherein R'is a group selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). ) Having a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000
And a silicon compound having Si-R / (R'O + R ') of 0.8 to 10 and a method for producing the same.
【０００６】[0006]
【化２】 [Chemical 2]
【０００７】本発明のケイ素化合物は、炭化水素、エー
テル、ケトン、エステル、芳香族炭化水素等の有機溶媒
に可溶であり、常温（２０〜４０℃）で液体であるため
取扱いが容易であるという特徴を有する。本発明のケイ
素化合物は、上記化２の構造で示されるように特開昭５
９−５８０５号公報に示されるアルキルトリクロロシラ
ンなどを加水分解して得られる比較的完全なラダー構造
を有するものとは明確に異なっている。アルコールより
導入されたＲ1 Ｏ−基（Ｒ′は炭素数１から４のアルキ
ル基より選ばれた基）をかなり持つことから一部ラダー
構造を有するが、多数の末端基を持つことが特徴であ
る。The silicon compound of the present invention is soluble in organic solvents such as hydrocarbons, ethers, ketones, esters and aromatic hydrocarbons, and is a liquid at room temperature (20 to 40 ° C.), so that it is easy to handle. It has the feature. The silicon compound of the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
It is distinctly different from the one having a relatively complete ladder structure obtained by hydrolyzing alkyltrichlorosilane and the like, which is disclosed in JP-A-9-5805. It has a ladder structure partly because it has a considerable amount of R 1 O-groups (R ′ is a group selected from alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) introduced from alcohol, but it is characterized by having many terminal groups. Is.
【０００８】ちなみに、本発明のケイ素化合物を一つの
モデル式で示すと、下記化３の構造で示される。By the way, when the silicon compound of the present invention is represented by one model formula, it is represented by the structure of the following chemical formula 3.
【０００９】[0009]
【化３】 [Chemical 3]
【００１０】本発明の化合物において、Ｒは５０％未満
が水素である。５０％以上となると反応性の高いＳｉ−
Ｈが増大し、取扱い時空気中の水分、その他の異物の混
入によりゲル化し保存安定性に問題が発生する。又、５
０％以上になると塗膜が厚くなると剥離し易くなる傾向
がある。また、本発明の一大特徴として、水素を有する
ことにより他のビニル化合物、アルコール等の化合物と
反応する機能が付与でき巾広い展開が可能である。In the compounds of the present invention, R is less than 50% hydrogen. When the content is 50% or more, highly reactive Si-
When H is increased, gelation occurs due to the inclusion of moisture in the air or other foreign matter during handling, causing a problem in storage stability. Again 5
If it is 0% or more, the coating film tends to peel off if it becomes thick. In addition, as one of the main features of the present invention, the presence of hydrogen can impart a function of reacting with other compounds such as vinyl compounds and alcohols, and can be widely expanded.
【００１１】本発明のケイ素化合物において、重量平均
分子量が１，０００未満では末端Ｒ1 Ｏ基の導入量が増
大し、また、重量平均分子量が１００，０００を超える
と粘度が高くなり取扱いにくくなる。また、安定性もよ
くない。本発明のケイ素化合物の取扱いの上から重量平
均分子量が１，１００〜５０，０００が好ましい。本発
明に用いるオルガノトリクロロシラン（ＲＳｉＣｌ3 ）
としては、種々のオルガノトリクロロシランが使用でき
る。Ｒが炭素数１〜６のアルキル基であるオルガノトリ
クロロシランとしては、例えば、メチルトリクロロシラ
ン、エチルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリクロロ
シラン、イソプロピルトリクロロシラン、ｎ−ブチルト
リクロロシラン、イソブチルトリクロロシラン、ｓｅｃ
−ブチルトリクロロシラン、ペンチルトリクロロシラン
等があげられる。Ｒが炭素数１〜６のアルケニル基であ
るオルガノトリクロロシランとしては、例えば、ビニル
トリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、ＣＨ2 ＝
ＣＨＣＨ2 ＣＨ2 ＳｉＣｌ3 、ＣＨ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）
4 ＳｉＣｌ3 、ＣＨ3 ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 ＳｉＣｌ3 な
どがあげられる。工業的入手の容易さからは、Ｒが低級
アルキル基、ビニル基及びフェニル基であるオルガノト
リクロロシランが好ましい。In the silicon compound of the present invention, when the weight average molecular weight is less than 1,000, the amount of terminal R 1 O groups introduced increases, and when the weight average molecular weight exceeds 100,000, the viscosity becomes high and it becomes difficult to handle. . Also, the stability is not good. From the viewpoint of handling the silicon compound of the present invention, the weight average molecular weight is preferably 1,100 to 50,000. Organotrichlorosilane (RSiCl 3 ) used in the present invention
As the above, various organotrichlorosilanes can be used. Examples of the organotrichlorosilane in which R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, methyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, n-propyltrichlorosilane, isopropyltrichlorosilane, n-butyltrichlorosilane, isobutyltrichlorosilane, sec.
-Butyltrichlorosilane, pentyltrichlorosilane and the like can be mentioned. Examples of the organotrichlorosilane in which R is an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, vinyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, CH 2 =
CHCH 2 CH 2 SiCl 3 , CH 2 = CH (CH 2 )
4 such as SiCl 3, CH 3 CH = CH -CH 2 SiCl 3 and the like. Organotrichlorosilane in which R is a lower alkyl group, a vinyl group or a phenyl group is preferable from the viewpoint of industrial availability.
【００１２】本発明に用いるアルコール（Ｒ′ＯＨ）と
しては種々のアルコールが使用できる。価格、入手の容
易さなどからメタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール等のＲ′が低級アルキル基であるアルコール
が好ましい。本発明の化合物は、ジオキサン溶媒中でト
リクロロシラン及びオルガノトリクロロシランと水を反
応させて加水分解縮重合し、その後アルコールと反応さ
せる方法により製造される。Various alcohols can be used as the alcohol (R'OH) used in the present invention. Due to price and availability, methanol, ethanol, propanol,
Alcohols in which R'is a lower alkyl group such as butanol are preferred. The compound of the present invention is produced by a method of reacting trichlorosilane and organotrichlorosilane with water in a dioxane solvent to carry out hydrolysis condensation polymerization and then reacting with alcohol.
【００１３】本発明の製造法の特徴の一つは、溶媒とし
てジオキサンを用いることにある。ジオキサンを用いる
とトリクロロシラン及びオルガノトリクロロシランの加
水分解縮重合中及びアールコールとの反応時にゲル化物
などの溶媒に不溶な物は生成しないという利点を有す
る。本発明の化合物を製造する方法において、トリクロ
ロシラン及びオルガノトリクロロシラン（以下トリクロ
ロシラン類と記載する）の加水分解縮重合温度は、反応
液中にジオキサンの結晶等が生成しない温度であればよ
く、０℃からジオキサンの沸点以上の温度でも実施でき
る。通常の場合、トリクロロシランの沸点が３２℃であ
るので水と反応させる初期の間は１０〜５０℃が好まし
い。One of the features of the production method of the present invention is to use dioxane as a solvent. The use of dioxane has an advantage that a solvent-insoluble substance such as a gelation product is not formed during the hydrolytic condensation polymerization of trichlorosilane and organotrichlorosilane and at the time of the reaction with Earlcol. In the method for producing the compound of the present invention, the hydrolysis condensation polymerization temperature of trichlorosilane and organotrichlorosilane (hereinafter referred to as trichlorosilanes) may be a temperature at which dioxane crystals or the like are not formed in the reaction solution, It can also be carried out at a temperature from 0 ° C to the boiling point of dioxane or higher. In the usual case, the boiling point of trichlorosilane is 32 ° C., so that the temperature is preferably 10 to 50 ° C. during the initial stage of reaction with water.
【００１４】トリクロロシラン類の濃度は、特に制限は
ないが２５％以下が好ましく、５〜２０％がより好まし
い。トリクロロシラン類と水を反応させる方法は、トリ
クロロシラン類のジオキサン溶液中に水を加えても、水
とジオキサン溶液中にトリクロロシラン類を加えてもよ
い、前者が好ましい。もちろん、トリクロロシランと水
を反応させ、その後オルガノトリクロロシランを添加
し、さらに水を加え加水分解縮重合した後、アルコール
と反応させてもよい。The concentration of trichlorosilanes is not particularly limited, but is preferably 25% or less, more preferably 5 to 20%. The method of reacting trichlorosilanes with water is preferably the former, in which water may be added to a dioxane solution of trichlorosilanes or trichlorosilanes may be added to water and a dioxane solution. Of course, trichlorosilane and water may be reacted, then organotrichlorosilane may be added, and water may be further added to carry out hydrolysis polycondensation, followed by reaction with alcohol.
【００１５】トリクロロシラン類と反応させる水は、水
単独またはトリクロロシラン類と反応しなく水を溶解す
る溶媒で希釈して加えてもよい。希釈して加える場合、
好ましくは反応溶媒であるジオキサンを用いるのが好ま
しい。水の添加量は、製造しようとするケイ素化合物の
分子量によって決定される。アルコールは水／（トリク
ロロシラン類）のモル比が約１以下と低い場合は、トリ
クロロシラン類と水を反応させ加水分解縮重合後添加し
反応させても問題はない。水／（トリクロロシラン類）
のモル比が約１以上の場合、そのままアルコールを加え
て反応すると溶媒に不溶なゲル状物が生成するか、また
は得られたケイ素化合物が保存中に溶媒に不溶となるの
で、水／（トリクロロシラン類）のモル比が約１以上の
場合は、トリクロロシラン類と水を反応させ加水分解縮
重合した後、さらにトリクロロシラン類を加え、その後
アルコールを加え反応させる。後で加えるトリクロロシ
ラン類の最適量は初期の水／（トリクロロシラン類）の
モル比によって決まる。少な過ぎると生成ケイ素化合物
の安定性等に問題が発生する。多過ぎると安定性はよい
が、得られたケイ素化合物中の低分子の割合が多くな
る。Water to be reacted with trichlorosilanes may be added alone or diluted with a solvent which dissolves water without reacting with trichlorosilanes. When diluted and added,
It is preferable to use dioxane as a reaction solvent. The amount of water added is determined by the molecular weight of the silicon compound to be produced. When the alcohol has a low water / (trichlorosilanes) molar ratio of about 1 or less, there is no problem even if the trichlorosilanes and water are reacted and added after the hydrolysis polycondensation. Water / (trichlorosilanes)
When the molar ratio of the above is about 1 or more, if an alcohol is added as it is and reacted, a gel-like substance insoluble in the solvent is produced, or the obtained silicon compound becomes insoluble in the solvent during storage, so water / (tri When the molar ratio of (chlorosilanes) is about 1 or more, trichlorosilanes are reacted with water to carry out hydrolysis condensation polymerization, and then trichlorosilanes are further added, and then alcohol is added and reacted. The optimum amount of trichlorosilanes added later depends on the initial water / (trichlorosilanes) molar ratio. If the amount is too small, problems will occur in the stability of the produced silicon compound. If it is too large, the stability will be good, but the proportion of low-molecular weight compounds in the obtained silicon compound will increase.
【００１６】アルコールの使用量は、反応液中の加水分
解縮重合物及びトリクロロシラン類のＳｉ− ＣｌをＳ
ｉ−ＯＲ′に変えるに十分な量であればよい。また、ア
ルコールは、溶媒で希釈して加えてもよいし、単独で加
えてもよい。アルコールを反応させるときの温度は特に
制限はないが１０〜５０℃が好ましい。The amount of alcohol used is such that the hydrolysis-polycondensation product in the reaction solution and the Si-Cl of trichlorosilanes are S.
It is sufficient if the amount is sufficient to change to i-OR '. The alcohol may be added after diluting it with a solvent or may be added alone. The temperature for reacting the alcohol is not particularly limited, but is preferably 10 to 50 ° C.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
【００１８】[0018]
【実施例１】温度計、攪拌用回転子、冷却管を取付けた
３００ｍｌの４口フラスコにジオキサン１２５ｇ、トリ
クロロシラン０．０１８ｍｏｌ及びメチルトリクロロシ
ラン０．０９１ｍｏｌを仕込み攪拌する。水２．０ｇと
ジオキサン３．９ｇを入れた滴下ロートを前記の４口フ
ラスコに取付け、２４〜２７℃に保ちながら滴下する。
滴下後、さらに３０分間攪拌を続け、その後エタノール
０．３３ｍｏｌを入れた滴下ロートを取付け２４〜３０
℃に保ちながら滴下する。その後、さらに２時間攪拌す
る。反応液を取り出し約６０℃の減圧下で溶媒を完全に
溜去したところ、９．９ｇの低粘度ケイ素化合物の液体
が得られた。この液体をテトラヒドロフランに溶解し、
この溶液をＧＰＣ法（ゲルパーミエションクロマトグラ
フィー）により分子量を測定した。重量平均分子量（Ｍ
Ｗ）３，８００、数平均分子量（ＭＮ）２，１７０であ
った。また、 1Ｈ−ＮＭＲによりこの化合物中の水素の
積分比は、Ｓｉ−Ｈ／Ｓｉ−Ｍｅ／ＯＣ2 Ｈ5 ＝０．２
３／２．９／５であった。Example 1 A 300 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring rotor and a cooling tube was charged with 125 g of dioxane, 0.018 mol of trichlorosilane and 0.091 mol of methyltrichlorosilane and stirred. A dropping funnel containing 2.0 g of water and 3.9 g of dioxane was attached to the 4-necked flask, and the mixture was added dropwise while keeping the temperature at 24-27 ° C.
After the dropping, the stirring is continued for another 30 minutes, and then a dropping funnel containing 0.33 mol of ethanol is attached to 24 to 30.
Add dropwise while maintaining at ℃. Then, the mixture is further stirred for 2 hours. When the reaction solution was taken out and the solvent was completely distilled off under reduced pressure of about 60 ° C., 9.9 g of a low-viscosity silicon compound liquid was obtained. Dissolve this liquid in tetrahydrofuran,
The molecular weight of this solution was measured by the GPC method (gel permeation chromatography). Weight average molecular weight (M
W) was 3,800 and the number average molecular weight (MN) was 2,170. Further, the integrated ratio of hydrogen in this compound by 1 H-NMR is Si-H / Si-Me / OC 2 H 5 = 0.2.
It was 3 / 2.9 / 5.
【００１９】1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
又、ＩＲ分析の結果、ラダー構造に帰属される１０７０
ｃｍ-1、１１３０ｃｍ-1の吸収があった。ＩＲスペクト
ルを図３に示す。この化合物は７ケ月後も液体のままで
あり、テトラヒドロフラン等の有機溶媒によく溶解し
た。The 1 H-NMR spectrum is shown in FIG.
In addition, as a result of IR analysis, 1070 was assigned to the ladder structure.
cm -1, there is an absorption of 1130cm -1. The IR spectrum is shown in FIG. This compound remained liquid even after 7 months and was well dissolved in an organic solvent such as tetrahydrofuran.
【００２０】[0020]
【実施例２】温度計、攪拌用回転子、冷却管を取付けた
２ｌの４口フラスコにジオキサン１，５００ｇ、トリク
ロロシラン０．１９ｍｏｌ、メチルトリクロロシラン
１．１ｍｏｌを仕込み攪拌する。水５０％を含むジオキ
サン溶液４６．５ｇを入れた滴下ロートを取付け、２２
〜２５℃に保ちながら滴下する。滴下後、さらに３０分
間攪拌を続け、その後エタノール１７８ｇを入れた滴下
ロートを取付け２０〜２５℃で滴下する。その後、さら
に２時間攪拌する。反応液を取り出し約６０℃の減圧下
で溶媒を完全に溜去したところ１１８ｇの低粘度液体が
得られた。この液体をクロロホルムに溶解しＧＰＣ法に
て分子量を測定したところ重量平均分子量１，８３０、
数平均分子量７５０であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲによ
りこのケイ素化合物中の水素の積分比は、Ｓｉ−Ｈ／Ｓ
ｉ−Ｍｅ／ＯＣ2 Ｈ5 ＝０．１５／３．４／５であっ
た。[Example 2] 1,2Og of dioxane (1,500g), trichlorosilane (0.19mol) and methyltrichlorosilane (1.1mol) were charged into a 2L four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring rotor and a cooling tube and stirred. Attach a dropping funnel containing 46.5 g of a dioxane solution containing 50% of water.
Add dropwise while maintaining at -25 ° C. After the dropping, the stirring is continued for another 30 minutes, and then a dropping funnel containing 178 g of ethanol is attached and dropping is performed at 20 to 25 ° C. Then, the mixture is further stirred for 2 hours. When the reaction solution was taken out and the solvent was completely distilled off under reduced pressure of about 60 ° C., 118 g of a low-viscosity liquid was obtained. When this liquid was dissolved in chloroform and the molecular weight was measured by the GPC method, the weight average molecular weight was 1,830.
The number average molecular weight was 750. In addition, the integrated ratio of hydrogen in this silicon compound by 1 H-NMR is Si-H / S.
i-Me / OC 2 was H 5 = 0.15 / 3.4 / 5 .
【００２１】[0021]
【実施例３】実施例１と同様の装置を用い、ジオキサン
７５０ｇ、トリクロロシラン０．１８４ｍｏｌ、フェニ
ルトリクロロシラン０．２４５ｍｏｌの溶液中へ、水
７．７ｇとジオキサン３０．９ｇの溶液を２０〜２６℃
で滴下する。６０分後メタノール４１．２ｇを滴下し１
２０分反応させる。その後、実施例１と同様にして溶媒
を除いたところ、５０．０ｇの液体が得られた。この液
体は、重量平均分子量（ＭＷ）１７，０００、数平均分
子量１，４００であった。 1Ｈ−ＮＭＲよりこのケイ素
化合物中の水素の積分比はExample 3 Using the same apparatus as in Example 1, a solution of 750 g of dioxane, 0.184 mol of trichlorosilane and 0.245 mol of phenyltrichlorosilane was added to a solution of 20 to 26 of 7.7 g of water and 30.9 g of dioxane. ℃
Drop by. After 60 minutes, 41.2 g of methanol was added dropwise to 1
Allow to react for 20 minutes. Then, when the solvent was removed in the same manner as in Example 1, 50.0 g of a liquid was obtained. This liquid had a weight average molecular weight (MW) of 17,000 and a number average molecular weight of 1,400. From 1 H-NMR, the integral ratio of hydrogen in this silicon compound is
【００２２】[0022]
【化４】 [Chemical 4]
【００２３】であった。また、ＩＲ分析では、約１０７
０ｃｍ-1と１１３０ｃｍ-1に吸収があった。ＩＲスペク
トルを図４に示す。It was In addition, in the IR analysis, about 107
There has been absorbed into the 0cm -1 and 1130cm -1. The IR spectrum is shown in FIG.
【００２４】[0024]
【実施例４】実施例１と同様の装置を用い、ジオキサン
３７０ｇ、トリクロロシラン０．１０８ｍｏｌ、ビニル
トリクロロシラン０．３２３ｍｏｌの溶液中へ、水１
１．６ｇとジオキサン４６．５ｇの溶液を２２〜３０℃
で滴下する。４０分後メチルトリクロロシラン０．１０
９ｍｏｌをさらに滴下し６０分反応させる。その後、エ
タノール７４．６ｇを滴下し１２０分反応させる。つい
で、実施例１と同様にして溶媒を除いたところ、４９．
１ｇの液体が得られた。この液体は、重量平均分子量
（ＭＷ）４，０００、数平均分子量（ＭＮ）２，２００
であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲより、このケイ素化合物
の水素の積分比は、Ｓｉ−Ｈ／Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 ／Ｓ
ｉ−ＣＨ5 ／ＯＣ2 Ｈ5 ＝１／９．２／２．１／１４．
５であった。 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。Example 4 Using the same apparatus as in Example 1, dioxane was used.
370 g, trichlorosilane 0.108 mol, vinyl
To a solution of trichlorosilane 0.323 mol, water 1
A solution of 1.6 g and 46.5 g of dioxane at 22-30 ° C
Drop by. 40 minutes later methyltrichlorosilane 0.10
9 mol is further added dropwise and the reaction is performed for 60 minutes. After that,
74.6 g of tanol is added dropwise and reacted for 120 minutes. Just
When the solvent was removed in the same manner as in Example 1, 49.
1 g of liquid was obtained. This liquid has a weight average molecular weight
(MW) 4,000, number average molecular weight (MN) 2,200
Met. Also, 1From H-NMR, this silicon compound
The integral ratio of hydrogen of Si is H-Si / Si-CH = CH2/ S
i-CHFive/ OC2HFive= 1 / 9.2 / 2.1 / 14.
It was 5.1The 1 H-NMR spectrum is shown in Fig. 2.
【００２５】[0025]
【参考例１】実施例１で得られたケイ素化合物１．６ｇ
に２−エチルヘキサン酸スズ１６ｍｇを加えコーティン
グ液を作成する。このコーティング溶液をＳＵＳ板にコ
ーティングした。このコーティング物は約１時間放置す
るとほぼ完全に硬化した。Reference Example 1 1.6 g of the silicon compound obtained in Example 1
16 mg of tin 2-ethylhexanoate is added to prepare a coating solution. This coating solution was coated on a SUS plate. The coating cured almost completely when left for about 1 hour.
【００２６】[0026]
【参考例２】実施例３で得られたケイ素化合物１．４５
ｇにトルエン０．６５ｇ、ジラウリン酸ジブチルスズの
５０％トルエン溶液７３ｍｇを加えコーティング液を作
成する。このコーティング液をＳＵＳ板にコーティング
した。このコーティング物は約１時間放置するとほぼ完
全に硬化した。Reference Example 2 Silicon compound 1.45 obtained in Example 3
To g, 0.65 g of toluene and 73 mg of a 50% toluene solution of dibutyltin dilaurate are added to prepare a coating liquid. This coating liquid was coated on a SUS plate. The coating cured almost completely when left for about 1 hour.
【００２７】[0027]
【発明の効果】本発明の化合物は、単独または有機溶媒
に溶解して被膜形成液として使用することができる。即
ち、本発明化合物は液体であるので従来のオルガノシル
セスキオキサンポリマーに比べ取り扱いが容易である。
又、ケイ素に結合した有機基を多く持つため比較的厚膜
としても使用できる。The compound of the present invention can be used alone or as a film-forming solution by dissolving it in an organic solvent. That is, since the compound of the present invention is a liquid, it is easier to handle than the conventional organosilsesquioxane polymer.
Further, since it has many organic groups bonded to silicon, it can be used as a relatively thick film.
【００２８】本発明の化合物に含まれているＳｉ−Ｈ
は、ビニル化合物等と反応させて他の化合物へ導くこと
もできる。Si-H contained in the compound of the present invention
Can also be reacted with a vinyl compound or the like to lead to another compound.
【図１】実施例１で得られた本発明化合物のＮＭＲスペ
クトルである。1 is an NMR spectrum of the compound of the present invention obtained in Example 1. FIG.
【図２】実施例４で得られた本発明化合物のＮＭＲスペ
クトルである。2 is an NMR spectrum of the compound of the present invention obtained in Example 4. FIG.
【図３】実施例１で得られた本発明化合物のＩＲスペク
トルである。FIG. 3 is an IR spectrum of the compound of the present invention obtained in Example 1.
【図４】実施例３で得られた本発明化合物のＩＲスペク
トルである。4 is an IR spectrum of the compound of the present invention obtained in Example 3. FIG.
Claims (2)
〔Ｉ〕と〔ＩＩ〕の構造を有し、かつ、末端基として、
一般式、Ｒ′Ｏ−（ケイ素に結合する場合）、Ｒ′−
（酸素に結合する場合） （式中，Ｒ′は炭素１から４のアルキル基より選ばれた
基）を有する重量平均分子量１，０００〜１００，００
０、Ｓｉ−Ｒ／（Ｒ′Ｏ＋Ｒ′）が０．８〜１０である
ケイ素化合物。 【化１】 1. A structure having the structures [I] and [II] represented by the following chemical formula 1 in the molecular structure and having, as the terminal group,
General formula, R'O- (when bonded to silicon), R'-
(When bonded to oxygen) (wherein R ′ is a group selected from alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) and having a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000.
0, a silicon compound having a Si-R / (R'O + R ') of 0.8 to 10. [Chemical 1]
及びオルガノトリクロロシランと水を反応させてトリク
ロロシラン及びオルガノトリクロロシランを加水分解縮
重合し、その後アルコールと反応させるケイ素化合物の
製造法。2. A method for producing a silicon compound, which comprises reacting trichlorosilane and organotrichlorosilane with water in a dioxane solvent to hydrolyze polycondensate trichlorosilane and organotrichlorosilane and then reacting with alcohol.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4338291A JPH06128378A (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Silicone compound and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4338291A JPH06128378A (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Silicone compound and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128378A true JPH06128378A (en) | 1994-05-10 |
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ID=12662267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4338291A Withdrawn JPH06128378A (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Silicone compound and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06128378A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005010077A1 (en) * | 2003-07-29 | 2005-02-03 | Toagosei Co., Ltd. | Silicon-containing polymer, process for rpoducing the same, heat-resistant resin composition, and heat-resistant film |
| WO2009066608A1 (en) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | Toagosei Co., Ltd. | Polysiloxane, method for producing the same, and method for producing cured product of the same |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP4338291A patent/JPH06128378A/en not_active Withdrawn
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| JP5263171B2 (en) * | 2007-11-19 | 2013-08-14 | 東亞合成株式会社 | Polysiloxane, method for producing the same, and method for producing a cured product |
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