JPH06126614A - Carrier for lapping - Google Patents

Carrier for lapping

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Publication number
JPH06126614A
JPH06126614A JP30300692A JP30300692A JPH06126614A JP H06126614 A JPH06126614 A JP H06126614A JP 30300692 A JP30300692 A JP 30300692A JP 30300692 A JP30300692 A JP 30300692A JP H06126614 A JPH06126614 A JP H06126614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface plate
carrier
lapping
peripheral gear
polished
Prior art date
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Pending
Application number
JP30300692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Tomuro
安史 戸室
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SANKO HATSUJO KK
Original Assignee
SANKO HATSUJO KK
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Filing date
Publication date
Application filed by SANKO HATSUJO KK filed Critical SANKO HATSUJO KK
Priority to JP30300692A priority Critical patent/JPH06126614A/en
Publication of JPH06126614A publication Critical patent/JPH06126614A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make the internal residual stress strain diverge to the outside so as to prevent distorsion generated during rotation by providing a carrier for lapping which comprises teeth of the outer peripheral part, slits formed between the teeth with a designated length and holes for a work for holding a member to be polished. CONSTITUTION:A carrier 8 for lapping is pressed to a lower surface plate 2 by an upper surface plate 1, and rotated on its axis and revolved between the upper surface plate 1 and the lower surface plate 2 by the rotation of an inner peripheral gear 3 and an outer peripheral gear 5, and a member 7 to be polished held in the interior is oscillated to the upper surface plate and the lower surface plate to be polished. The carrier 8 for lapping is comprises teeth 11 respectively meshed with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, slits 17 formed extending from the root position between the respective teeth 11 toward the center with a designated length and plural holes 13 for a work formed according to the shape of a member to be polished. Thus, the internal residual stress strain of a steel material generated at the time of forming a carrier for lapping is released to the outside to be diverged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、シリコンウェハー、
水晶振動子、ガラス、磁性体などの被研磨体の表面を精
密ラッピング研磨する場合に、前記被研磨体をガイドす
るために使用するラッピング用キャリアに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a silicon wafer,
The present invention relates to a lapping carrier used for guiding the object to be polished when precision lapping the surface of the object to be polished such as a crystal oscillator, glass, and a magnetic material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のラッピング機械は、例えば図7に
示すように薄研磨体(以下、ワーク)を保持する薄い歯
車状をしたラッピング用キャリア(以下、キャリア)1
00と、このキャリア100を挟持する上定盤(図示せ
ず)及び下定盤110と、前記キャリア100が噛合す
る内周ギア120を有する駆動軸130と、前記キャリ
ア100が噛合する外周ギア140とによって少なくと
も構成されるものである。
2. Description of the Related Art A conventional lapping machine is, for example, as shown in FIG. 7, a thin gear-shaped lapping carrier (hereinafter, carrier) 1 for holding a thin polishing body (hereinafter, work).
00, an upper platen (not shown) and a lower platen 110 for holding the carrier 100, a drive shaft 130 having an inner peripheral gear 120 with which the carrier 100 meshes, and an outer peripheral gear 140 with which the carrier 100 meshes. At least.

【0003】前記キャリア100は、前記内周ギア12
0と外周ギア140に噛合する複数の歯を外周に有し、
また内部にはワークを保持する複数のワーク用穴150
と中央に捨て穴160を有するもので、前記ワーク用穴
150にワークを保持して前記上定盤と下定盤に挟持さ
れるものである。尚、前記ワーク用穴150は、ワーク
の形状に合わせて形状を変化させるもので、図7におい
ては、円形形状をしたものを開示した。
The carrier 100 includes the inner peripheral gear 12
0 and a plurality of teeth meshing with the outer peripheral gear 140 are provided on the outer periphery,
Further, a plurality of work holes 150 for holding a work are provided inside.
A hole is provided in the center, and the work is held in the work hole 150 and is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate. The work hole 150 changes its shape in accordance with the shape of the work, and FIG. 7 discloses a circular shape.

【0004】この状態で、キャリア100は、内周ギア
120の回転(図7における実線矢印A)によって自転
(図7における実線矢印C)すると共に、外周ギア14
0の回転(図7における実線矢印B)によって公転(図
7における実線矢印D)し、研磨剤水溶液が供給される
上定盤及び下定盤110の間を回転摺動して、ワーク用
穴150に保持したワークの研磨を行うものである。
In this state, the carrier 100 rotates (solid arrow C in FIG. 7) by the rotation of the inner gear 120 (solid arrow A in FIG. 7) and the outer gear 14 rotates.
0 (solid arrow B in FIG. 7) revolves (solid arrow D in FIG. 7) and rotationally slides between the upper surface plate 110 and the lower surface plate 110 to which the aqueous polishing solution is supplied, and the work hole 150 The work held at is polished.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、技術の進歩と共
にワークを精密極薄仕上げにする要求が増加し、これに
付随してキャリアを極薄に形成する必要が生じてきた。
このために、キャリアは、薄く形成することが容易であ
り、均質で、強度があり、且つ安価である点から鋼材に
よって形成されるものであるが、鋼材の圧延及び焼入焼
戻し時に生じる内部残留応力歪、若しくは、回転時にキ
ャリアにかかる負荷のために発生する歪み(外部応力
歪)のために、キャリアに不均一な減耗が生じ、ワーク
のラップが不均一になったり、ワークがキャリアから脱
落する不具合が生じていた。
In recent years, along with the progress of technology, there has been an increasing demand for precision ultra-thin finishing of workpieces, and accompanying this, it has become necessary to form carriers extremely thin.
For this reason, the carrier is formed of a steel material because it is easy to form a thin film, is homogeneous, has strength, and is inexpensive, but internal residuals that occur during rolling and quenching and tempering of the steel material. Due to stress strain or strain (external stress strain) that occurs due to the load applied to the carrier during rotation, uneven wear of the carrier occurs, uneven wrapping of the work piece, and work piece falling off the carrier. There was a problem.

【0006】このために、この発明は、内部残留応力歪
若しくは外部応力歪を外部に発散させ、回転時に発生す
る歪を防止する構造をしたラッピング用キャリアを提供
することにある。
Therefore, the present invention is to provide a lapping carrier having a structure in which internal residual stress strain or external stress strain is diverged to the outside to prevent the strain generated during rotation.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】しかして、請求項1記載
の発明は、上定盤によって下定盤に押圧され、内周ギア
及び外周ギアの回転によって前記上定盤と下定盤の間で
自転及び公転し、内部に保持した被研磨体を前記上定盤
及び下定盤に摺動させて研磨するラッピング用キャリア
において、外周部分に形成され、前記内周ギア及び外周
ギアに噛合する各々の歯と、この各々の歯間にある歯底
位置から中心方向に向かって所定の長さに形成されたス
リットと、被研磨体を保持するために、被研磨体の形状
に応じて形成された複数のワーク用穴とによって構成さ
れたことにあり、また請求項2記載の発明は、上定盤に
よって下定盤に押圧され、内周ギア及び外周ギアの回転
によって前記上定盤と下定盤の間で自転及び公転し、内
部に保持した被研磨体を前記上定盤及び下定盤に摺動さ
せて研磨するラッピング用キャリアにおいて、外周部分
に形成され、前記内周ギア及び外周ギアに噛合する各々
の歯と、被研磨体を保持するために、被研磨体の形状に
応じて形成された複数のワーク用穴と、片表面若しくは
両面に形成された微細な複数の凹部とによって構成され
たことにある。さらに、請求項3記載の発明は、上定盤
によって下定盤に押圧され、内周ギア及び外周ギアの回
転によって前記上定盤と下定盤の間で自転及び公転し、
内部に保持した被研磨体を前記上定盤及び下定盤に摺動
させて研磨するラッピング用キャリアにおいて、外周部
分に形成され、前記内周ギア及び外周ギアに噛合する各
々の歯と、この各々の歯間にある歯底位置から中心方向
に向かって所定の長さに形成されたスリットと、被研磨
体を保持するために、被研磨体の形状に応じて形成され
た複数のワーク用穴と、片表面若しくは両面に形成され
た微細な複数の凹部とによって構成されたことにある。
According to the invention of claim 1, the upper surface plate presses the lower surface plate, and the inner peripheral gear and the outer peripheral gear rotate to rotate between the upper surface plate and the lower surface plate. In the lapping carrier that revolves and slides the object to be polished held inside by sliding on the upper platen and the lower platen, each tooth formed on the outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear. And a slit formed in a predetermined length from the root position between the teeth toward the center, and a plurality of slits formed according to the shape of the object to be held to hold the object to be polished. According to the invention of claim 2, the upper surface plate presses the lower surface plate, and the rotation of the inner peripheral gear and the outer peripheral gear causes the space between the upper surface plate and the lower surface plate. Rotated and revolved at In the lapping carrier that slides the body on the upper platen and the lower platen for polishing, each tooth formed on the outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and for holding the object to be polished It is composed of a plurality of work holes formed according to the shape of the object to be polished and a plurality of fine recesses formed on one surface or both surfaces. Further, in the invention according to claim 3, the upper surface plate presses the lower surface plate, and the inner peripheral gear and the outer peripheral gear rotate and revolve between the upper surface plate and the lower surface plate.
In the lapping carrier that slides and polishes the object to be polished held on the upper surface plate and the lower surface plate, each tooth formed on the outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and each of these teeth. Slits formed in a predetermined length from the root position between the teeth toward the center, and a plurality of work holes formed according to the shape of the object to be held to hold the object to be polished. And a plurality of fine recesses formed on one surface or both surfaces.

【0008】[0008]

【作用】したがって、請求項1記載の発明によれば、各
歯間の歯底から中心方向に所定の長さのスリットを設け
たことによって、ラッピング用キャリア形成時に生じる
鋼材の内部残留応力歪を外部に逃がして発散させると共
に、ラッピング時(ラッピング用キャリアの回転時)
に、ラッピング用キャリアの外周に形成された歯にかか
る回転応力負荷に対して弾性的な緩衝機能を果たすため
に、外部応力歪も解消でき、上記課題を達成できるもの
である。
Therefore, according to the first aspect of the invention, the internal residual stress strain of the steel material generated when the lapping carrier is formed is provided by providing the slit having a predetermined length in the center direction from the root of each tooth. At the time of lapping (when the lapping carrier is rotating) while escaping to the outside and diverging
In addition, since the elastic buffering function against the rotational stress load applied to the teeth formed on the outer periphery of the lapping carrier is fulfilled, the external stress strain can be eliminated and the above-mentioned problems can be achieved.

【0009】また、請求項2記載の発明によれば、ラッ
ピング用キャリアの片表面若しくは両面に微細で浅い凹
部を複数形成することにより、この複数の凹部から内部
残留応力歪を発散させることができ、また回転応力負荷
によって生じる外部応力歪も発散させることができるた
めに、上記課題を達成できるものである。
According to the second aspect of the present invention, by forming a plurality of fine and shallow concave portions on one surface or both surfaces of the lapping carrier, internal residual stress strain can be diffused from the plurality of concave portions. In addition, since the external stress strain generated by the rotational stress load can also be diverged, the above problem can be achieved.

【0010】さらに、請求項3記載の発明によれば、各
歯間の歯底から中心方向に所定の長さのスリットを設け
ると共に、ラッピング用キャリアの片表面若しくは両面
に微細で浅い凹部を複数形成することにより、内部残留
応力歪及び外部応力歪を効果的に発散できるために、上
記課題を達成できるものである。
Further, according to the third aspect of the present invention, a slit having a predetermined length is provided in the center direction from the root of each tooth, and a plurality of fine and shallow recesses are formed on one surface or both surfaces of the lapping carrier. When formed, the internal residual stress strain and the external stress strain can be effectively diverged, so that the above problems can be achieved.

【0011】[0011]

【実施例】以下、この発明の実施例について図面により
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1において示すように、ラッピング機械
は、上定盤1、下定盤2、自転用ギア3が設けられた中
心軸4、公転用ギア5が回転自在に設けられた外部ケー
ス6、及び被研磨体(例えば、シリコンウェハー、水晶
振動子、ガラス、磁性体など)7を保持する歯車状のラ
ッピング用キャリア(以下、キャリア)8によって少な
くとも構成されるものである。
As shown in FIG. 1, the lapping machine includes an upper surface plate 1, a lower surface plate 2, a central shaft 4 provided with a rotation gear 3, and an outer case 6 provided with a revolving gear 5 rotatably. And a gear-shaped lapping carrier (hereinafter referred to as carrier) 8 for holding an object to be polished (eg, silicon wafer, crystal oscillator, glass, magnetic material, etc.) 7.

【0013】このラッピング機械においては、図2に示
すように、先ず被研磨体(以下、ワーク)7を保持する
キャリア8を自転用ギア3及び公転用ギア5に噛合させ
て取付け、上定盤1によってキャリア8を下定盤2に押
圧する。この後、自転用ギア3及び公転用ギア5を同一
方向(図2中、矢印A,B)に回動させることにより、
キャリア8は、自転用ギア3により図中矢印Cの方向に
自転すると共に矢印Dの方向に公転する。キャリア8に
保持されたワーク7は、上定盤1及び下定盤2の間を回
転しながら摺動することとなり、上定盤1及び下定盤2
の表面に供給された研磨剤9(図1)によって表面が研
磨されるものである。
In this lapping machine, as shown in FIG. 2, first, a carrier 8 for holding an object to be polished (hereinafter referred to as a work) 7 is attached by meshing with a rotating gear 3 and a revolving gear 5, and then an upper platen. The carrier 8 is pressed against the lower platen 2 by 1. After that, by rotating the rotation gear 3 and the revolution gear 5 in the same direction (arrows A and B in FIG. 2),
The carrier 8 is rotated by the rotation gear 3 in the direction of arrow C and revolves in the direction of arrow D. The work 7 held by the carrier 8 slides while rotating between the upper surface plate 1 and the lower surface plate 2, and thus the upper surface plate 1 and the lower surface plate 2
The surface is polished by the abrasive 9 (FIG. 1) supplied to the surface of the.

【0014】図3に示す上記ラッピング機械に使用され
る請求項1の発明に係るキャリア8は、ワーク7の研磨
後の厚さに合わせて所定の厚さ(40μ〜300μm)
に形成された円板状の本体10と、この本体10の外周
部分に所定の数形成された歯11と、本体10の中央に
形成された捨て穴12と、本体10にワーク7の形状に
応じて形成された複数のワーク用穴13(本実施例にお
いては円形)と、前記各々の歯11の間の歯底14から
中心方向に形成されたスリット17とによって構成され
ている。このスリット17は、歯底14から中心方向に
形成された切れ込み15と、この切れ込み15の先端に
形成された丸み16によって構成されており、この丸み
16はスリット17の必須条件ではないが、この丸み1
6を設けることによってスリット17のもたらす効果を
さらに増大させることができるものである。
The carrier 8 according to the invention of claim 1 used in the lapping machine shown in FIG. 3 has a predetermined thickness (40 μm to 300 μm) according to the thickness of the work 7 after polishing.
The disk-shaped main body 10 formed on the main body 10, a predetermined number of teeth 11 formed on the outer peripheral portion of the main body 10, a waste hole 12 formed in the center of the main body 10, and the main body 10 in the shape of the work 7. It is composed of a plurality of work holes 13 (circular in this embodiment) formed correspondingly, and a slit 17 formed in the center direction from the root 14 between the teeth 11. The slit 17 is composed of a notch 15 formed in the center direction from the tooth bottom 14 and a roundness 16 formed at the tip of the notch 15. The roundness 16 is not an essential condition of the slit 17, but Roundness 1
By providing 6, the effect of the slit 17 can be further increased.

【0015】このキャリア8は、例えば、通常0.08
mm程度の鋼材をフィルム状に圧延し、800℃の温度で
焼入した後に、300℃の温度で焼戻をし、プレスによ
って先ず歯を形成した後、ワークの形状に合わせて、ワ
ーク用穴をプレスによって形成するという加工工程によ
って形成されるものである。また、プレスに代えて、エ
ッチングで形成することもできるものである。
The carrier 8 is usually 0.08, for example.
After rolling a steel material of about mm into a film, quenching it at a temperature of 800 ° C, tempering it at a temperature of 300 ° C, first forming teeth by pressing, and then matching the shape of the workpiece with a hole for the workpiece. Is formed by a processing step of forming by pressing. Further, instead of pressing, it can be formed by etching.

【0016】この圧延時、焼入焼戻時、又はプレス時に
生じた内部残留応力歪は、前記スリット17の緩衝作用
によって吸収され、さらに、図6で示すようにキャリア
8の回転時において、自転用ギア3及び公転用ギア5に
よってキャリア8の歯11に与えられる回転応力負荷E
に対してもスリット17において吸収できるために、ワ
ーク7の不均一な研磨、ワーク7の脱落等の不具合を解
消できるものである。
The internal residual stress strain generated during rolling, quenching and tempering, or pressing is absorbed by the buffering action of the slit 17, and further, as shown in FIG. Rotational stress load E applied to the teeth 11 of the carrier 8 by the diversion gear 3 and the revolution gear 5
However, since it can be absorbed by the slit 17, problems such as uneven polishing of the work 7 and dropping of the work 7 can be eliminated.

【0017】また、図4で示す請求項2記載の発明に係
るキャリア8は、鋼材からなる円板状の本体10と、外
周部分に所定数形成された歯11と、本体10の中央に
形成された捨て穴12と、複数のワーク用穴13によっ
て構成され、さらに本体10の一方の片表面若しくは両
面に微細にエッチング加工によって形成された凹部21
が格子状に形成されている。
A carrier 8 according to the second aspect of the present invention shown in FIG. 4 is a disk-shaped main body 10 made of steel, teeth 11 formed in a predetermined number on the outer peripheral portion, and a central portion of the main body 10. A concave portion 21 that is formed by a discarded hole 12 and a plurality of work holes 13 and that is finely formed on one surface or both surfaces of the main body 10 by etching.
Are formed in a grid pattern.

【0018】この凹部21を形成することにより、前述
のキャリア8の加工工程において生じる内部残留応力歪
を発散させ、また外部応力歪も同様に発散できるため
に、キャリア8の回転時における歪を解消でき、安定し
た研磨を実行できるものである。また、この凹部21
は、研磨時の供給される研磨剤水溶液をキャリア表面に
均一且つ適量に付着させることができ、キャリア8、ワ
ーク7、上定盤1及び下定盤2の相互のなじみを良好に
することができるものである。
By forming the concave portion 21, internal residual stress strain generated in the above-mentioned processing step of the carrier 8 can be diverged and external stress strain can be diverged in the same manner, so that the strain during rotation of the carrier 8 is eliminated. Therefore, stable polishing can be performed. In addition, this recess 21
Can uniformly and appropriately adhere the polishing agent aqueous solution supplied during polishing to the surface of the carrier, and improve the mutual familiarity of the carrier 8, the work 7, the upper surface plate 1 and the lower surface plate 2. It is a thing.

【0019】また、図5で示す請求項3記載の発明に係
るキャリア8は、円板状の本体10と、この本体10の
外周部分に所定の数形成された歯11と、本体10の中
央に形成された捨て穴12と、本体10にワーク7の形
状に応じて形成された複数のワーク用穴13(本実施例
においては円形)と、前記各々の歯11の間の歯底14
から中心方向に形成された切れ込み15及びこの切れ込
み15の先端部分に形成された丸み16とを有するスリ
ット17とによって構成されると共に、本体10の一方
の片表面若しくは両面にエッチング加工によって微細な
凹部21が格子状に形成される。
The carrier 8 according to the third aspect of the present invention shown in FIG. 5 is a disk-shaped main body 10, a predetermined number of teeth 11 formed on the outer peripheral portion of the main body 10, and the center of the main body 10. , A plurality of work holes 13 (circular in this embodiment) formed in the main body 10 according to the shape of the work 7, and a tooth bottom 14 between the teeth 11.
And a slit 17 having a notch 15 formed in the direction of the center and a roundness 16 formed at the tip of the notch 15, and at the same time one side or both sides of the main body 10 are finely recessed by etching. 21 are formed in a grid pattern.

【0020】これによって、スリット17及び凹部21
の相乗効果により、さらに効果的に内部残留応力歪及び
外部応力歪を解消でき、さらに凹部21により研磨時に
供給される研磨剤水溶液をキャリア表面に均一且つ適量
に付着させ、キャリア8、ワーク7、上定盤1及び下定
盤2の相互のなじみを良好にするという効果も付随する
ものである。尚、この実施例においては、凹部21を格
子状に形成したが、点状、線状、中心に向かった放射状
に形成しても良く、さらにこれらを混合して形成しても
同様の効果を得ることができるものである。
As a result, the slit 17 and the recess 21 are formed.
The internal residual stress strain and the external stress strain can be more effectively eliminated by the synergistic effect of, and further, the polishing agent aqueous solution supplied at the time of polishing is uniformly and appropriately adhered to the carrier surface by the recesses 21, so that the carrier 8, the work 7, The effect of making the upper surface plate 1 and the lower surface plate 2 compatible with each other is also accompanied. In addition, in this embodiment, the concave portions 21 are formed in a lattice shape, but may be formed in a dot shape, a linear shape, or a radial shape toward the center. Is what you can get.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、キャリアの外周に形成された各歯間の歯底
部分にスリットを形成したことから、キャリアの回転時
に生じる外部応力による歪をこのスリットによって吸収
でき、またキャリア成形時に生じる内部残留応力歪も吸
収できるために、キャリアの安定した回転が得られ、被
研磨体のキャリアからの脱落、不均一な研磨が防止でき
るものである。
As described above, according to the first aspect of the present invention, since the slits are formed in the root portions between the teeth formed on the outer periphery of the carrier, the external stress generated when the carrier rotates. This slit can absorb the strain caused by the above, and can also absorb the internal residual stress strain generated during carrier molding, so that stable rotation of the carrier can be obtained, and the object to be polished can be prevented from falling off the carrier and uneven polishing. Is.

【0022】また、請求項2記載の発明によれば、キャ
リアの表面に微細な凹部を形成することによって、内部
残留応力歪及び外部応力歪を吸収できるためにキャリア
の安定した回転が得られるものである。また、この凹部
により、研磨剤水溶液をキャリア表面に均一に付着させ
ることができるために、キャリア、被研磨体、上定盤及
び下定盤の相互のなじみを良好にすることができるもの
である。
According to the second aspect of the invention, by forming fine recesses on the surface of the carrier, internal residual stress strain and external stress strain can be absorbed, so that stable rotation of the carrier can be obtained. Is. Further, since the abrasive solution can be uniformly adhered to the surface of the carrier by the recesses, the carrier, the object to be polished, the upper surface plate and the lower surface plate can be made to fit well with each other.

【0023】さらに、請求項3記載の発明によれば、キ
ャリアに前記スリット及び前記凹部を設けたことによ
り、内部残留応力歪及び外部応力歪を効率よく解消でき
るものである。
Furthermore, according to the third aspect of the present invention, the internal residual stress strain and the external stress strain can be efficiently eliminated by providing the carrier with the slit and the recess.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ラッピング機械の構成を説明するための一部構
成図である。
FIG. 1 is a partial configuration diagram for explaining a configuration of a lapping machine.

【図2】ラッピング用キャリアの動作を説明するために
説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining an operation of a lapping carrier.

【図3】請求項1の発明に係る実施例のラッピング用キ
ャリアの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a lapping carrier according to an embodiment of the present invention.

【図4】請求項2の発明に係る実施例のラッピング用キ
ャリアの平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a lapping carrier of an embodiment according to the invention of claim 2;

【図5】請求項3の発明に係る実施例のラッピング用キ
ャリアの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a lapping carrier of an embodiment according to the invention of claim 3;

【図6】外部応力の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of external stress.

【図7】従来のラッピング用キャリアを説明するために
説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a conventional lapping carrier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 上定盤 2 下定盤 3 自転用ギア 5 公転用ギア 7 被研磨体(ワーク) 8 ラッピング用キャリア 10 本体 11 歯 12 捨て穴 13 ワーク用穴 14 歯底部分 15 切り込み 16 丸み 17 スリット 21 凹部 1 Upper surface plate 2 Lower surface plate 3 Spinning gear 5 Revolution gear 7 Grinding object (work) 8 Lapping carrier 10 Main body 11 Teeth 12 Waste hole 13 Work hole 14 Teeth bottom part 15 Notch 16 Roundness 17 Slit 21 Recess

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年11月27日[Submission date] November 27, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図7[Name of item to be corrected] Figure 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図7】 [Figure 7]

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上定盤によって下定盤に押圧され、内周
ギア及び外周ギアの回転によって前記上定盤と下定盤の
間で自転及び公転し、内部に保持した被研磨体を前記上
定盤及び下定盤に摺動させて研磨するラッピング用キャ
リアにおいて、 外周部分に形成され、前記内周ギア及び外周ギアに噛合
する各々の歯と、 この各々の歯間にある歯底位置から中心方向に向かって
所定の長さに形成されたスリットと、 被研磨体を保持するために、被研磨体の形状に応じて形
成された複数のワーク用穴とによって構成されたことを
特徴とするラッピング用キャリア。
1. An upper surface plate is pressed against a lower surface plate, and is rotated and revolved between the upper surface plate and the lower surface plate by rotation of an inner peripheral gear and an outer peripheral gear, and an object to be polished held inside is fixed to the upper surface plate. In the lapping carrier that slides and polishes on the platen and the lower surface plate, each tooth formed on the outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and the center direction from the tooth bottom position between these teeth Lapping characterized by a slit formed in a predetermined length toward and a plurality of work holes formed in accordance with the shape of the object to be polished to hold the object to be polished. For carrier.
【請求項2】 上定盤によって下定盤に押圧され、内周
ギア及び外周ギアの回転によって前記上定盤と下定盤の
間で自転及び公転し、内部に保持した被研磨体を前記上
定盤及び下定盤に摺動させて研磨するラッピング用キャ
リアにおいて、 外周部分に形成され、前記内周ギア及び外周ギアに噛合
する各々の歯と、 被研磨体を保持するために、被研磨体の形状に応じて形
成された複数のワーク用穴と、 片表面若しくは両面に形成された微細な複数の凹部とに
よって構成されたことを特徴とするラッピング用キャリ
ア。
2. The upper surface plate is pressed against the lower surface plate and is rotated and revolved between the upper surface plate and the lower surface plate by the rotation of the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and the object to be polished held inside is fixed to the upper surface plate. In a lapping carrier that slides and polishes on a platen and a lower surface plate, each tooth formed on an outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and a member to be polished for holding the target object to be polished. A lapping carrier characterized by comprising a plurality of work holes formed according to the shape and a plurality of fine recesses formed on one surface or both surfaces.
【請求項3】 上定盤によって下定盤に押圧され、内周
ギア及び外周ギアの回転によって前記上定盤と下定盤の
間で自転及び公転し、内部に保持した被研磨体を前記上
定盤及び下定盤に摺動させて研磨するラッピング用キャ
リアにおいて、 外周部分に形成され、前記内周ギア及び外周ギアに噛合
する各々の歯と、 この各々の歯間にある歯底位置から中心方向に向かって
所定の長さに形成されたスリットと、 被研磨体を保持するために、被研磨体の形状に応じて形
成された複数のワーク用穴と、 片表面若しくは両面に形成された微細な複数の凹部とに
よって構成されたことを特徴とするラッピング用キャリ
ア。
3. An object to be ground which is pressed against a lower surface plate by an upper surface plate, rotates and revolves between the upper surface plate and the lower surface plate by rotation of an inner peripheral gear and an outer peripheral gear, and is held inside. In the lapping carrier that slides and polishes on the platen and the lower surface plate, each tooth formed on the outer peripheral portion and meshing with the inner peripheral gear and the outer peripheral gear, and the center direction from the tooth bottom position between these teeth Toward the end, a plurality of holes for workpieces formed according to the shape of the object to be held to hold the object to be polished, and fine holes formed on one surface or both surfaces. A carrier for lapping, comprising a plurality of concave portions.
JP30300692A 1992-10-15 1992-10-15 Carrier for lapping Pending JPH06126614A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007036225A (en) * 2005-07-21 2007-02-08 Siltronic Ag Method of processing semiconductor wafer, carrier, and semiconductor wafer

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