JPH06122635A - ジアルキルナフタレンの異性化法 - Google Patents
ジアルキルナフタレンの異性化法Info
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- JPH06122635A JPH06122635A JP4250129A JP25012992A JPH06122635A JP H06122635 A JPH06122635 A JP H06122635A JP 4250129 A JP4250129 A JP 4250129A JP 25012992 A JP25012992 A JP 25012992A JP H06122635 A JPH06122635 A JP H06122635A
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ジアルキルナフタレン異性体の少なくとも一
種を、ヘキサゴナル晶系に属するフォージャサイト型ゼ
オライトからなる触媒の存在下で加熱処理することを特
徴とするジアルキルナフタレンの異性化方法。 【効果】 所望のジアルキルナフタレン異性体を効率よ
く得ることができる。
種を、ヘキサゴナル晶系に属するフォージャサイト型ゼ
オライトからなる触媒の存在下で加熱処理することを特
徴とするジアルキルナフタレンの異性化方法。 【効果】 所望のジアルキルナフタレン異性体を効率よ
く得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はジアルキルナフタレンの
異性化法に関するものである。中でも２，６−ジアルキ
ルナフタレン、特に２，６−ジメチルナフタレンを工業
的に有利に製造するために好適なジアルキルナフタレン
の異性化法に関するものである。
異性化法に関するものである。中でも２，６−ジアルキ
ルナフタレン、特に２，６−ジメチルナフタレンを工業
的に有利に製造するために好適なジアルキルナフタレン
の異性化法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ジアルキルナフタレンには多数の異性体
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには１０種類
の異性体が存在するが、これらの異性体は、次の
（Ｉ）、（II）、（III)及び（IV）の４つの族に分類す
ることができ、一般に各族内で行なわれる族内異性化反
応は比較的容易であるのに対して、他の族への族間異性
化反応は生起し難いことが知られている（例えば、触媒
Ｖｏｌ．３３ Ｎｏ．８ １９９１ ５５９〜５６５
頁）。
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには１０種類
の異性体が存在するが、これらの異性体は、次の
（Ｉ）、（II）、（III)及び（IV）の４つの族に分類す
ることができ、一般に各族内で行なわれる族内異性化反
応は比較的容易であるのに対して、他の族への族間異性
化反応は生起し難いことが知られている（例えば、触媒
Ｖｏｌ．３３ Ｎｏ．８ １９９１ ５５９〜５６５
頁）。
【０００３】（Ｉ）：１，５−、１，６−及び２，６−
ジメチルナフタレンのグループ（以下２，６族と略記） （II) ：１，７−、１，８−及び２，７−ジメチルナフ
タレンのグループ（以下２，７族と略記） (III) ：１，３−、１，４−及び２，３−ジメチルナフ
タレンのグループ（以下２，３族と略記） （IV) ：１，２−ジメチルナフタレンのグループ（以下
１，２族と略記）
ジメチルナフタレンのグループ（以下２，６族と略記） （II) ：１，７−、１，８−及び２，７−ジメチルナフ
タレンのグループ（以下２，７族と略記） (III) ：１，３−、１，４−及び２，３−ジメチルナフ
タレンのグループ（以下２，３族と略記） （IV) ：１，２−ジメチルナフタレンのグループ（以下
１，２族と略記）
【０００４】ところで、ジメチルナフタレンの主要な用
途の一つはナフタレンジカルボン酸の製造であり、原料
物質として特に２，６−ジメチルナフタレンが好んで用
いられる。２，６−ジメチルナフタレンを得る場合、一
般にジメチルナフタレン異性体混合物を主成分として含
む原料油から２，６−ジメチルナフタレンを分離する
が、２，６−ジメチルナフタレン分離後のラフィネート
の活用を図るためには、他の族から２，６族への異性化
が必要となる。
途の一つはナフタレンジカルボン酸の製造であり、原料
物質として特に２，６−ジメチルナフタレンが好んで用
いられる。２，６−ジメチルナフタレンを得る場合、一
般にジメチルナフタレン異性体混合物を主成分として含
む原料油から２，６−ジメチルナフタレンを分離する
が、２，６−ジメチルナフタレン分離後のラフィネート
の活用を図るためには、他の族から２，６族への異性化
が必要となる。
【０００５】このような異性化反応には、ＺＳＭ−５型
のゼオライト触媒を使用する方法が提案されている（特
開昭５９−８８４３３号公報）。しかし、この方法で
は、２，６−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が１４％程度に過ぎないため、２，６−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。一方、近年、
ジアルキルナフタレン、特にジメチルナフタレンをアル
キルベンゼン類から合成する方法が注目されている。こ
の方法によれば、目的とする２，６−異性体を含む２，
６群のみを主成分とするジメチルナフタレンの異性体混
合物が得られる。該異性体混合物を原料として、２，６
−群内だけでの異性化反応が実施できれば、２，６−異
性体の２，６−群内での熱力学的平衡濃度は約５０％と
いう高濃度になるので、工業的に極めて効率的である。
のゼオライト触媒を使用する方法が提案されている（特
開昭５９−８８４３３号公報）。しかし、この方法で
は、２，６−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が１４％程度に過ぎないため、２，６−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。一方、近年、
ジアルキルナフタレン、特にジメチルナフタレンをアル
キルベンゼン類から合成する方法が注目されている。こ
の方法によれば、目的とする２，６−異性体を含む２，
６群のみを主成分とするジメチルナフタレンの異性体混
合物が得られる。該異性体混合物を原料として、２，６
−群内だけでの異性化反応が実施できれば、２，６−異
性体の２，６−群内での熱力学的平衡濃度は約５０％と
いう高濃度になるので、工業的に極めて効率的である。
【０００６】２，６−ジメチルナフタレンを得るため
に、２，６−群内だけで異性化を制御する試みは古くか
ら知られており、特表平３−５０００５２号公報には、
ベータ型ゼオライト、Ｙ型超安定（キュービック晶系フ
ォージャサイト型）ゼオライト等の触媒を用い、温度約
２００〜３００℃において２，６族内での異性化を行な
う方法が記載されている。この方法では、族内異性化に
おいて比較的優れた選択性が達成される。
に、２，６−群内だけで異性化を制御する試みは古くか
ら知られており、特表平３−５０００５２号公報には、
ベータ型ゼオライト、Ｙ型超安定（キュービック晶系フ
ォージャサイト型）ゼオライト等の触媒を用い、温度約
２００〜３００℃において２，６族内での異性化を行な
う方法が記載されている。この方法では、族内異性化に
おいて比較的優れた選択性が達成される。
【０００７】しかしながら、なお、充分とはいえず、ま
た、ベータ型ゼオライトについては、水熱合成により製
造する際の合成スラリーの濾過性が極めて悪く、触媒の
工業的な供給が困難であるという副次的な問題が内在す
る。一方、Ｙ型ゼオライトのような従来公知のフォージ
ャサイト型ゼオライトでは、一般に、触媒の活性劣化が
著しいという致命的な欠点が存在する。
た、ベータ型ゼオライトについては、水熱合成により製
造する際の合成スラリーの濾過性が極めて悪く、触媒の
工業的な供給が困難であるという副次的な問題が内在す
る。一方、Ｙ型ゼオライトのような従来公知のフォージ
ャサイト型ゼオライトでは、一般に、触媒の活性劣化が
著しいという致命的な欠点が存在する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ジアルキル
ナフタレンの異性化を容易な操作で実施し得ると共に、
触媒ライフを延長し、異性化反応が優先的に進行し、他
の不均化、トランスアルキル化等の副反応を極力抑制す
ることのできる異性化反応を提供することを目的とす
る。
ナフタレンの異性化を容易な操作で実施し得ると共に、
触媒ライフを延長し、異性化反応が優先的に進行し、他
の不均化、トランスアルキル化等の副反応を極力抑制す
ることのできる異性化反応を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は長年ジアル
キルナフタレンの異性化方法について検討を行ってきた
ところ、近年、その合成法あるいは結晶構造等について
の基礎研究が進みつつあるヘキサゴナル晶系に属するフ
ォージャサイト型ゼオライトが、ジメチルナフタレンの
異性化反応において特異的な反応活性を有していること
を見い出し、本発明に到達した。
キルナフタレンの異性化方法について検討を行ってきた
ところ、近年、その合成法あるいは結晶構造等について
の基礎研究が進みつつあるヘキサゴナル晶系に属するフ
ォージャサイト型ゼオライトが、ジメチルナフタレンの
異性化反応において特異的な反応活性を有していること
を見い出し、本発明に到達した。
【００１０】即ち、本発明の要旨は、ジアルキルナフタ
レン異性体の少なくとも一種を、ヘキサゴナル晶系に属
するフォージャサイト型ゼオライトからなる触媒の存在
下で加熱処理することを特徴とするジアルキルナフタレ
ンの異性化法に存する。以下、本発明を詳細に説明す
る。本発明は触媒としてヘキサゴナル晶系（Ｈｅｘａｇ
ｏｎａｌ、六方）に属するフォージャサイト型ゼオライ
トを用いる点に特徴を有する。
レン異性体の少なくとも一種を、ヘキサゴナル晶系に属
するフォージャサイト型ゼオライトからなる触媒の存在
下で加熱処理することを特徴とするジアルキルナフタレ
ンの異性化法に存する。以下、本発明を詳細に説明す
る。本発明は触媒としてヘキサゴナル晶系（Ｈｅｘａｇ
ｏｎａｌ、六方）に属するフォージャサイト型ゼオライ
トを用いる点に特徴を有する。
【００１１】フォージャサイト型のゼオライトは古くか
らよく知られているが、例えば、ゼオライトＸ（米国特
許第２，８８２，２４４号明細書）、ゼオライトＹ（米
国特許第３，１３０，００７号明細書）等に見られるよ
うにその結晶系は一般にキュービック系（Ｃｕｂｉｃ、
等軸あるいは立方）に属する。しかしながら、近年、ヘ
キサゴナル晶系のフォージャサイト型のゼオライトの存
在が知られるようになり、その系統的な合成法や物性が
明らかになってきている（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，
８６，Ｐ．５８１（１９８２）、米国特許第５，０９
８，６８６号明細書、ＺＥＯＬＩＴＥ，１２，Ｐ．１６
０（１９９２））。また、かかるゼオライトにつき、炭
化水素の分解、水添、異性化、アルキル化等の反応触媒
としての応用の可能性も提案されている（国際公開番号
ＷＯ ９１／１５ ２９４号）。
らよく知られているが、例えば、ゼオライトＸ（米国特
許第２，８８２，２４４号明細書）、ゼオライトＹ（米
国特許第３，１３０，００７号明細書）等に見られるよ
うにその結晶系は一般にキュービック系（Ｃｕｂｉｃ、
等軸あるいは立方）に属する。しかしながら、近年、ヘ
キサゴナル晶系のフォージャサイト型のゼオライトの存
在が知られるようになり、その系統的な合成法や物性が
明らかになってきている（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，
８６，Ｐ．５８１（１９８２）、米国特許第５，０９
８，６８６号明細書、ＺＥＯＬＩＴＥ，１２，Ｐ．１６
０（１９９２））。また、かかるゼオライトにつき、炭
化水素の分解、水添、異性化、アルキル化等の反応触媒
としての応用の可能性も提案されている（国際公開番号
ＷＯ ９１／１５ ２９４号）。
【００１２】本発明で用いるヘキサゴナル晶系に属する
フォージャサイト型ゼオライトの製造法については特に
制限はないが、例えば、前記の米国特許第５，０９８，
６８６号明細書に開示された方法をあげることができ
る。かかるゼオライトの原料としては、シリカ源、アル
ミナ源、アルカリ源は通常の合成ゼオライトで使用され
る化合物を用いればよいが、テンプレート剤として特定
のクラウンエーテル化合物を用いる点が特徴的であり、
特に１８−クラウン−６（１，４，７，１０，１３，１
６−ヘキサオキソアシルオクタデカン）が好ましい。原
料仕込モル比としては、Ｓｉ／Ａｌが通常２〜２０、好
ましくは４〜１０であり、ＯＨ／Ａｌが通常０．５〜
８、好ましくは１〜６、また、テンプレート剤／Ａｌが
通常０．１〜４、好ましくは０．１〜１である。これら
原料を、通常のゼオライトと同様に水熱合成を行う。合
成したゼオライトは、通常、常法によりイオン交換、焼
成、乾燥を経てＨ型で触媒に供されるが、Ｈ型ではな
く、種々の金属イオンでイオン交換したものも使用する
ことができる。
フォージャサイト型ゼオライトの製造法については特に
制限はないが、例えば、前記の米国特許第５，０９８，
６８６号明細書に開示された方法をあげることができ
る。かかるゼオライトの原料としては、シリカ源、アル
ミナ源、アルカリ源は通常の合成ゼオライトで使用され
る化合物を用いればよいが、テンプレート剤として特定
のクラウンエーテル化合物を用いる点が特徴的であり、
特に１８−クラウン−６（１，４，７，１０，１３，１
６−ヘキサオキソアシルオクタデカン）が好ましい。原
料仕込モル比としては、Ｓｉ／Ａｌが通常２〜２０、好
ましくは４〜１０であり、ＯＨ／Ａｌが通常０．５〜
８、好ましくは１〜６、また、テンプレート剤／Ａｌが
通常０．１〜４、好ましくは０．１〜１である。これら
原料を、通常のゼオライトと同様に水熱合成を行う。合
成したゼオライトは、通常、常法によりイオン交換、焼
成、乾燥を経てＨ型で触媒に供されるが、Ｈ型ではな
く、種々の金属イオンでイオン交換したものも使用する
ことができる。
【００１３】触媒としては、そのまま粉末状で用いても
よいが、ベーマイト、アルミナ、カオリンシリカ等の結
合剤を、触媒に対して５〜５０重量％、好ましくは１０
〜３０重量％程度混合し、粒径０．５〜５mm程度の粒
状、ペレット状、球状等に成形して使用することもでき
る。以上の本発明で用いるフォージャサイト型ゼオライ
トの結晶系は、その展型は完全なヘキサゴナル晶のもの
である。
よいが、ベーマイト、アルミナ、カオリンシリカ等の結
合剤を、触媒に対して５〜５０重量％、好ましくは１０
〜３０重量％程度混合し、粒径０．５〜５mm程度の粒
状、ペレット状、球状等に成形して使用することもでき
る。以上の本発明で用いるフォージャサイト型ゼオライ
トの結晶系は、その展型は完全なヘキサゴナル晶のもの
である。
【００１４】しかしながら、場合によっては、従来のフ
ォージャサイト型ゼオライトで一般的なキュービック晶
とヘキサゴナル晶との混晶（インターグロス）の結晶を
得ることも可能である。本発明においては、このインタ
ーグロス晶系のものもヘキサゴナル晶系に属するものと
する。インターグロス晶系のフォージャサイト型ゼオラ
イトを製造する方法として、前記のＺＥＯＬＩＴＥ，１
２，Ｐ．１６０（１９９２）に、テンプレート剤とし
て、キュービック晶系のものを生成させる１５−クラウ
ン−６と、前述のヘキサゴナル晶系のものを生成させる
１８−クラウン−６の２種を併用する方法が記載されて
いる。
ォージャサイト型ゼオライトで一般的なキュービック晶
とヘキサゴナル晶との混晶（インターグロス）の結晶を
得ることも可能である。本発明においては、このインタ
ーグロス晶系のものもヘキサゴナル晶系に属するものと
する。インターグロス晶系のフォージャサイト型ゼオラ
イトを製造する方法として、前記のＺＥＯＬＩＴＥ，１
２，Ｐ．１６０（１９９２）に、テンプレート剤とし
て、キュービック晶系のものを生成させる１５−クラウ
ン−６と、前述のヘキサゴナル晶系のものを生成させる
１８−クラウン−６の２種を併用する方法が記載されて
いる。
【００１５】本発明においては以上のゼオライト触媒を
用いてジアルキルナフタレンの異性化を行う。原料とす
るジアルキルナフタレンとしては、単一成分でも各種異
性体の混合物でもよい。また、ジアルキルナフタレンの
アルキル基としては、メチル基、エチル基、インプロピ
ル基等が例示されるが、好ましくはメチル基である。更
に、該ジアルキルナフタレンは原料の由来については特
に限定はなく、芳香族炭化水素原料油より分離したもの
でもよいし、ナフタレン等より合成して得たものでもよ
い。
用いてジアルキルナフタレンの異性化を行う。原料とす
るジアルキルナフタレンとしては、単一成分でも各種異
性体の混合物でもよい。また、ジアルキルナフタレンの
アルキル基としては、メチル基、エチル基、インプロピ
ル基等が例示されるが、好ましくはメチル基である。更
に、該ジアルキルナフタレンは原料の由来については特
に限定はなく、芳香族炭化水素原料油より分離したもの
でもよいし、ナフタレン等より合成して得たものでもよ
い。
【００１６】異性化の反応条件としては、加熱処理温度
を通常１００〜５００℃の範囲で、液相反応あるいは気
相反応のいずれでも実施することができる。また、反応
圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいずれでもよ
い。更に、反応形式としては、回分法、連続法のいずれ
でもよい。なお、反応雰囲気は水素が存在しないと触媒
活性が劣化し易いので、触媒活性の維持の上からも水素
ガスの存在下が好ましい。
を通常１００〜５００℃の範囲で、液相反応あるいは気
相反応のいずれでも実施することができる。また、反応
圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいずれでもよ
い。更に、反応形式としては、回分法、連続法のいずれ
でもよい。なお、反応雰囲気は水素が存在しないと触媒
活性が劣化し易いので、触媒活性の維持の上からも水素
ガスの存在下が好ましい。
【００１７】本発明のジメチルナフタレンの異性化法の
特徴としては、反応条件を適宜設定することにより、ジ
アルキルナフタレンの各異性体の（１）族間異性化を抑
制し、族内異性化のみを行なわせる条件と、（２）族間
異性化を促進させる条件のいずれかを選択することがで
きる。即ち、１，５−ジメチルナフタレンの高純度品を
原料として２，６−ジメチル−ナフタレンを製造したい
ような場合は（１）の条件が有利であるし、全ての異性
体を含むジメチルナフタレンの原料油から２，６−ジメ
チルナフタレンを得たいような場合は（２）の条件が有
利である。
特徴としては、反応条件を適宜設定することにより、ジ
アルキルナフタレンの各異性体の（１）族間異性化を抑
制し、族内異性化のみを行なわせる条件と、（２）族間
異性化を促進させる条件のいずれかを選択することがで
きる。即ち、１，５−ジメチルナフタレンの高純度品を
原料として２，６−ジメチル−ナフタレンを製造したい
ような場合は（１）の条件が有利であるし、全ての異性
体を含むジメチルナフタレンの原料油から２，６−ジメ
チルナフタレンを得たいような場合は（２）の条件が有
利である。
【００１８】一般的に−反応温度を高くし、触媒濃度を
大きくし、接触時間を長くするとより族間異性化が起こ
り易くなる。具体的には、反応温度は、（１）の族内異
性化なら通常１００〜４００℃、好ましくは１５０〜２
５０℃であり、（２）の族間異性化なら通常２００〜５
００℃、好ましくは３００〜４５０℃の範囲で行う。な
お、長時間使用して活性の低下した触媒は、酸素含有ガ
スにより酸化処理、あるいは水素含有ガスによる水素化
処理によって再生することができる。
大きくし、接触時間を長くするとより族間異性化が起こ
り易くなる。具体的には、反応温度は、（１）の族内異
性化なら通常１００〜４００℃、好ましくは１５０〜２
５０℃であり、（２）の族間異性化なら通常２００〜５
００℃、好ましくは３００〜４５０℃の範囲で行う。な
お、長時間使用して活性の低下した触媒は、酸素含有ガ
スにより酸化処理、あるいは水素含有ガスによる水素化
処理によって再生することができる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。また、以下の例における１，
５−ジメチルナフタレン、２，６−ジメチルナフタレン
（以下、各々を「１，５−ＤＭＮ」、「２，６−ＤＭ
Ｎ」と略記する）の平衡到達率とは、以下のように定義
される。
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。また、以下の例における１，
５−ジメチルナフタレン、２，６−ジメチルナフタレン
（以下、各々を「１，５−ＤＭＮ」、「２，６−ＤＭ
Ｎ」と略記する）の平衡到達率とは、以下のように定義
される。
【００２０】
【数１】
【数２】
【００２１】実施例１ シリカゾル（触媒化成工業（株）“カタロイド、Ｓ−３
０Ｈ”）２００．２ｇに１８−クラウン−６ ２６．７
ｇを添加し溶解した（溶液−１）。また、アルミン酸ナ
トリウム水溶液（住友化学工業（株）、“ＮＡ−１７
０”、Ａｌ2 Ｏ3１８．１５％、Ｎａ2 Ｏ１９．２４％
含有）５２．０１ｇ、水酸化ナトリウム（９３％純度）
３．４９ｇ、弗化ナトリウム１．６８ｇを脱塩水８０．
７ｇに溶解した（溶液−２）。次に、溶液−２に溶液−
１を激しく攪拌しながら添加した。該混合液を１リット
ルのテフロン内筒つきのオートクレーブに移し、２４時
間室温で攪拌熟成した。次いで、昇温し、１１０−１１
５℃にて、１０日間反応させた。
０Ｈ”）２００．２ｇに１８−クラウン−６ ２６．７
ｇを添加し溶解した（溶液−１）。また、アルミン酸ナ
トリウム水溶液（住友化学工業（株）、“ＮＡ−１７
０”、Ａｌ2 Ｏ3１８．１５％、Ｎａ2 Ｏ１９．２４％
含有）５２．０１ｇ、水酸化ナトリウム（９３％純度）
３．４９ｇ、弗化ナトリウム１．６８ｇを脱塩水８０．
７ｇに溶解した（溶液−２）。次に、溶液−２に溶液−
１を激しく攪拌しながら添加した。該混合液を１リット
ルのテフロン内筒つきのオートクレーブに移し、２４時
間室温で攪拌熟成した。次いで、昇温し、１１０−１１
５℃にて、１０日間反応させた。
【００２２】反応終了後、スラリーを濾過、水洗し、次
いで６０℃で乾燥した。得られた粉体は、Ｘ線回析およ
び電子顕微鏡観察により、ヘキサゴナル晶系フォージャ
サイト型ゼオライトのパターンであることが確認され
た。以下の表−１に得られたヘキサゴナル（Ｈｅｘａｇ
ｏｎａｌ）晶系のゼオライトのＸ線回析の主要ピークを
示す。表−１にキュービック（Ｃｕｂｉｃ）晶系のＹ型
ゼオライトの主要ピークを参考として示す。表−１よ
り、Ｃｕｂｉｃ晶系にはないＨｅｘａｇｏｎａｌ晶系特
有の多くの回析ピークが認められることがわかる。
いで６０℃で乾燥した。得られた粉体は、Ｘ線回析およ
び電子顕微鏡観察により、ヘキサゴナル晶系フォージャ
サイト型ゼオライトのパターンであることが確認され
た。以下の表−１に得られたヘキサゴナル（Ｈｅｘａｇ
ｏｎａｌ）晶系のゼオライトのＸ線回析の主要ピークを
示す。表−１にキュービック（Ｃｕｂｉｃ）晶系のＹ型
ゼオライトの主要ピークを参考として示す。表−１よ
り、Ｃｕｂｉｃ晶系にはないＨｅｘａｇｏｎａｌ晶系特
有の多くの回析ピークが認められることがわかる。
【００２３】
【表１】
【００２４】更に、該粉体を５４０℃で約５時間、空気
焼成した。これについて、ｎ−ヘキサン及びシクロヘキ
サンの吸着量を測定したところ、１４．３重量％及び１
６．０重量％を示した。なお、該吸着量は、２５℃及び
１２０±２５mmHgのシクロヘキサン又はｎ−ヘキサンの
飽和ガス雰囲気中に評量済のゼオライトを６時間保持
し、吸着前後のゼオライトの重量差から測定される。
焼成した。これについて、ｎ−ヘキサン及びシクロヘキ
サンの吸着量を測定したところ、１４．３重量％及び１
６．０重量％を示した。なお、該吸着量は、２５℃及び
１２０±２５mmHgのシクロヘキサン又はｎ−ヘキサンの
飽和ガス雰囲気中に評量済のゼオライトを６時間保持
し、吸着前後のゼオライトの重量差から測定される。
【００２５】得られたヘキサゴナル晶系フォージャサイ
ト型ゼオライトは、１．２５Ｍ濃度の硝酸アンモニウム
を用いて、固液比１／１０（ｇ／ml）、１００℃、２時
間回分法でイオン交換処理を行なった。この処理を後２
回繰り返した。イオン交換処理後、温水で洗浄し、１２
０℃にて一昼夜乾燥した。次に空気流通下５４０℃で５
時間焼成した。これを打錠成型し、１０〜２０メッシュ
にそろえて触媒として反応に供した。
ト型ゼオライトは、１．２５Ｍ濃度の硝酸アンモニウム
を用いて、固液比１／１０（ｇ／ml）、１００℃、２時
間回分法でイオン交換処理を行なった。この処理を後２
回繰り返した。イオン交換処理後、温水で洗浄し、１２
０℃にて一昼夜乾燥した。次に空気流通下５４０℃で５
時間焼成した。これを打錠成型し、１０〜２０メッシュ
にそろえて触媒として反応に供した。
【００２６】２，６−ＤＭＮ（純度９９．９％）１８．
０ｇに、触媒４．５ｇを混合して、攪拌しながら１７０
℃で液相懸濁反応を行なった。反応時間１時間で１，５
−ＤＭＮの平衡到達率は１０３．４％であり、２，６−
族以外の族への異性化は０．７％以下とロスも少なく、
良好な成績を示した。この反応を更に４時間継続実施
後、熱時濾過し、同じ仕込み量で再び、反応を行い、触
媒の活性を評価した。その結果１，５−ＤＭＮの平衡到
達率は１時間後では６４．１％まで低下したが、２時間
後は１０２．０％であり、活性が残存した。
０ｇに、触媒４．５ｇを混合して、攪拌しながら１７０
℃で液相懸濁反応を行なった。反応時間１時間で１，５
−ＤＭＮの平衡到達率は１０３．４％であり、２，６−
族以外の族への異性化は０．７％以下とロスも少なく、
良好な成績を示した。この反応を更に４時間継続実施
後、熱時濾過し、同じ仕込み量で再び、反応を行い、触
媒の活性を評価した。その結果１，５−ＤＭＮの平衡到
達率は１時間後では６４．１％まで低下したが、２時間
後は１０２．０％であり、活性が残存した。
【００２７】比較例１ 市販のベーター型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ＝
２５のＨ型品）触媒に用いて実施例１と同一条件で２，
６−ジメチルナフタレンの異性化反応を行なったとこ
ろ、反応時間１時間で、１，５−ＤＭＮの平衡到達率は
５９．８％であった。
２５のＨ型品）触媒に用いて実施例１と同一条件で２，
６−ジメチルナフタレンの異性化反応を行なったとこ
ろ、反応時間１時間で、１，５−ＤＭＮの平衡到達率は
５９．８％であった。
【００２８】比較例２ 市販のＹ型ゼオライト（キュービック型フォージャサイ
ト）（Ｈ+ 型、ＳｉＯ 2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ＝６．４）を用い
て実施例１と同一条件で２，６−ＤＭＮの異性化反応を
行なった。反応時間１時間で１，５−ＤＭＮの平衡到達
率は１０１．７％であったが、２，６−族以外の族への
異性化は６．８％に達し、ヘキサゴナル型のフォージャ
サイトに比較して選択率が劣ることが判明した。また、
実施例１と同様に熱時濾過して再度反応活性評価を行な
った。その結果、１，５−ＤＭＮの平衡到達率は１時間
後では１４．８％、５時間後でも６２．７％と大きく低
下した。
ト）（Ｈ+ 型、ＳｉＯ 2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ＝６．４）を用い
て実施例１と同一条件で２，６−ＤＭＮの異性化反応を
行なった。反応時間１時間で１，５−ＤＭＮの平衡到達
率は１０１．７％であったが、２，６−族以外の族への
異性化は６．８％に達し、ヘキサゴナル型のフォージャ
サイトに比較して選択率が劣ることが判明した。また、
実施例１と同様に熱時濾過して再度反応活性評価を行な
った。その結果、１，５−ＤＭＮの平衡到達率は１時間
後では１４．８％、５時間後でも６２．７％と大きく低
下した。
【００２９】実施例２ 実施例１で製造した触媒を用い、吸着分離操作で２，６
−ＤＭＮの濃度をジメチルナフタレン（「ＤＭＮ」）中
１．０４％に低めたラフィネートを原料として気相異性
化反応を行った。触媒０．５７ｇをパイレックス製内径
２０mmのガラス製反応器に充填し水素気流下３５０℃に
保った。原料を０．８２ｇ／hrで反応器上部より導入
し、同伴水素ガス７２４ml／hrを流して気相異性化反応
を行なった。生成物は反応器下部のトラップ内に捕集し
た。
−ＤＭＮの濃度をジメチルナフタレン（「ＤＭＮ」）中
１．０４％に低めたラフィネートを原料として気相異性
化反応を行った。触媒０．５７ｇをパイレックス製内径
２０mmのガラス製反応器に充填し水素気流下３５０℃に
保った。原料を０．８２ｇ／hrで反応器上部より導入
し、同伴水素ガス７２４ml／hrを流して気相異性化反応
を行なった。生成物は反応器下部のトラップ内に捕集し
た。
【００３０】その結果、生成物中のＤＭＮ中の２，６−
ＤＭＮの濃度は７．５０％にまで高められ、２，６−Ｄ
ＭＮの平衡到達率は６４．０％であり、また、ＤＭＮの
回収率は９６．３％と良好であった。
ＤＭＮの濃度は７．５０％にまで高められ、２，６−Ｄ
ＭＮの平衡到達率は６４．０％であり、また、ＤＭＮの
回収率は９６．３％と良好であった。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、ジアルキルナフタレン
類またはそれらの異性体混合物を、不均化やトランスア
ルキル化等の副反応による損失を抑制しつつ、短時間で
工業的有利に熱力学的平衡組成に近づけることができ、
かつ触媒の再生も容易である。また、本発明では、反応
条件を適宜調節することにより、族内、族間どちらの異
性化にも適用可能で多大な工業的利益を提供するもので
ある。
類またはそれらの異性体混合物を、不均化やトランスア
ルキル化等の副反応による損失を抑制しつつ、短時間で
工業的有利に熱力学的平衡組成に近づけることができ、
かつ触媒の再生も容易である。また、本発明では、反応
条件を適宜調節することにより、族内、族間どちらの異
性化にも適用可能で多大な工業的利益を提供するもので
ある。
Claims (4)
- 【請求項１】 ジアルキルナフタレン異性体の少なくと
も一種を、ヘキサゴナル晶系に属するフォージャサイト
型ゼオライトからなる触媒の存在下で加熱処理すること
を特徴とするジアルキルナフタレンの異性化法。 - 【請求項２】 ヘキサゴナル晶系のフォージャサイト型
ゼオライトが、キュービック晶系とヘキサゴナル晶系の
混晶構造であることを特徴とする請求項１のジアルキル
ナフタレンの異性化法。 - 【請求項３】 加熱処理温度を１５０〜２５０℃とし、
ジアルキルナフタレン異性体の族内異性化を行うことを
特徴とする請求項１のジアルキルナフタレンの異性化
法。 - 【請求項４】 加熱処理温度を３００〜４５０℃とし、
ジアルキルナフタレン異性体の族間異性化を行うことを
特徴とする請求項１のジアルキルナフタレンの異性化
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4250129A JPH06122635A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | ジアルキルナフタレンの異性化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4250129A JPH06122635A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | ジアルキルナフタレンの異性化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122635A true JPH06122635A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17203263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4250129A Pending JPH06122635A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | ジアルキルナフタレンの異性化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06122635A (ja) |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP4250129A patent/JPH06122635A/ja active Pending
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