JPH06120745A - Bipolar integrated circuit - Google Patents

Bipolar integrated circuit

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Publication number
JPH06120745A
JPH06120745A JP26598692A JP26598692A JPH06120745A JP H06120745 A JPH06120745 A JP H06120745A JP 26598692 A JP26598692 A JP 26598692A JP 26598692 A JP26598692 A JP 26598692A JP H06120745 A JPH06120745 A JP H06120745A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
epitaxial layer
type epitaxial
output stage
transistor
Prior art date
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Pending
Application number
JP26598692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Fujita
典之 藤田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a current push pull output circuit in which the problem of a subharmonic distortion can be prevented by biasing the N-type epitaxial layer of an output stage vertical PNP transistor to a potential between a power source potential and a collector potential by a low impedance. CONSTITUTION:The N-type epitaxial layer of an output stage vertical PNP transistor Tr 28 is biased by the low impedance through a terminal 36 by an NPN Tr 37 and a resistance 38. The potential is decided by resistances 39 and 40. Therefore, the potential of the N-type epitaxial layer of the PNP Tr 28 is made higher than the potential of the correcter area, so that the influence of a parasitic Tr can be prevented, and the problem of the subharmonic distortion can be improved even when a potential gradient is generated at the correcter area.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はバイポーラ集積回路に
関し、さらに詳しくは電流プッシュプル出力回路におい
て問題となる低調波歪の現象の改善に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bipolar integrated circuit, and more particularly to improving a phenomenon of subharmonic distortion which is a problem in a current push-pull output circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】電流プッシュプル出力回路においては、
電流を外部に流し出すPNP出力トランジスタと電流を
外部より引っぱるNPN出力トランジスタを組み合わせ
て使用するのが一般に使われる方法である。次にこの一
般的な従来例について、図2を用いて説明する。すなわ
ち図2構成において、1は電流プッシュプル出力回路の
制御回路、2,3は出力段のカレントミラー回路を構成
するバーチカルPNPトランジスタ、4,5はカレント
ミラー回路のミラー比を決定する抵抗、6,7は出力段
のカレントミラー回路を構成するNPNトランジスタ、
8,9はカレントミラー回路のミラー比を決定する抵
抗、10は回路の電源、11は出力段バーチカルPNP
トランジスタ3のN型エピタキシャル層より取り出した
端子である。上記のバーチカルPNPトランジスタ3の
N型エピタキシャル層について、図3を用いて説明す
る。図3は一般的なバーチカルPNPトランジスタのプ
ロセス的構成の断面図である。すなわち図3構成におい
て、12はP型シリコン基板、13はP型シリコン基板
12に埋め込まれたN型埋込層、14は素子分離用のP
型領域、15,16はP型コレクタ領域、17はN型ベ
ース領域、18はベース端子を取り出すためのN型拡散
層、19はP型エミッタ領域、20は素子分離用のP型
領域14とP型コレクタ領域15,16を分離するN型
エピタキシャル層、21は絶縁膜、22はエミッタ電
極、23はベース電極、24はコレクタ電極、25はN
型エピタキシャル層20より取り出した電極である。図
3に示すバーチカルPNPトランジスタでは、そのプロ
セス的構成よりN型エピタキシャル層20が存在する。
従来ではこのN型エピタキシャル層20にバイアスせず
にフローティング状態で使用するか、コレクタ電極24
とN型エピタキシャル層20より取り出した電極25と
を結線し、N型エピタキシャル層20の電位をコレクタ
電位と共通にして使用するか、あるいはN型エピタキシ
ャル層20を電源電位にバイアスして使用しているのが
一般的である。しかし出力電流が大きい場合、上記の従
来の一般的な使い方では低調波歪の現象が発生したり、
プロセス的構成によるトランジスタの耐圧問題が発生し
たりすることが知られている。例えば、図2に示した従
来の電流プッシュプル出力回路では、特に図3に示すコ
レクタ領域15,16とN型エピタキシャル層20間の
耐圧が一般に低いため、図2に示す電源10の電位によ
っては、バーチカルPNPトランジスタのN型エピタキ
シャル層20より取り出した端子11を電源電位にバイ
アスできないことが多い。また端子11にバイアスせ
ず、N型エピタキシャル層20を電位的にフローティン
グ状態で使用した場合、特に出力電流が大きくなった場
合、図3に示すコレクタ領域15,16で電位勾配が生
じ、ベース領域17とコレクタ領域15,16およびN
型エピタキシャル層20、または、コレクタ領域15,
16とN型エピタキシャル層20および素子分離用P型
領域14とP型基板12で寄生トランジスタが生じ、出
力に低調波歪の現象が発生する。上記寄生トランジスタ
の影響を防ぐために、コレクタ電極24とN型エピタキ
シャル層20より取り出した電極25を結線しても、コ
レクタ領域15,16で電位勾配が生じているため寄生
トランジスタが生じ、低調波歪の問題は改善されない。
2. Description of the Related Art In a current push-pull output circuit,
It is a commonly used method to use a PNP output transistor that discharges a current to the outside and an NPN output transistor that pulls a current from the outside in combination. Next, this general conventional example will be described with reference to FIG. That is, in the configuration of FIG. 2, 1 is a control circuit of a current push-pull output circuit, 2 and 3 are vertical PNP transistors that form a current mirror circuit of the output stage, 4 and 5 are resistors that determine the mirror ratio of the current mirror circuit, and 6 , 7 are NPN transistors forming the output stage current mirror circuit,
Reference numerals 8 and 9 are resistors that determine the mirror ratio of the current mirror circuit, 10 is a circuit power supply, and 11 is an output stage vertical PNP.
This is a terminal taken out from the N-type epitaxial layer of the transistor 3. The N-type epitaxial layer of the vertical PNP transistor 3 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a sectional view of a process configuration of a general vertical PNP transistor. That is, in the configuration of FIG. 3, 12 is a P-type silicon substrate, 13 is an N-type buried layer embedded in the P-type silicon substrate 12, and 14 is a P for element isolation.
Type regions, 15 and 16 are P type collector regions, 17 is an N type base region, 18 is an N type diffusion layer for extracting a base terminal, 19 is a P type emitter region, and 20 is a P type region 14 for element isolation. An N-type epitaxial layer separating the P-type collector regions 15 and 16, 21 is an insulating film, 22 is an emitter electrode, 23 is a base electrode, 24 is a collector electrode, and 25 is N.
The electrode is taken out from the mold epitaxial layer 20. In the vertical PNP transistor shown in FIG. 3, the N-type epitaxial layer 20 exists due to its process configuration.
Conventionally, the N-type epitaxial layer 20 is used in a floating state without being biased, or the collector electrode 24 is used.
And the electrode 25 taken out from the N-type epitaxial layer 20 are connected and the potential of the N-type epitaxial layer 20 is used in common with the collector potential, or the N-type epitaxial layer 20 is biased to the power supply potential and used. It is common to have However, when the output current is large, the phenomenon of subharmonic distortion occurs in the above conventional general usage,
It is known that a transistor breakdown voltage problem occurs due to a process configuration. For example, in the conventional current push-pull output circuit shown in FIG. 2, the breakdown voltage between the collector regions 15 and 16 and the N-type epitaxial layer 20 shown in FIG. 3 is generally low, and therefore, depending on the potential of the power supply 10 shown in FIG. In many cases, the terminal 11 taken out from the N-type epitaxial layer 20 of the vertical PNP transistor cannot be biased to the power supply potential. Further, when the N-type epitaxial layer 20 is used in a potential floating state without biasing the terminal 11, a potential gradient occurs in the collector regions 15 and 16 shown in FIG. 17 and collector regions 15, 16 and N
Type epitaxial layer 20, or collector region 15,
16, a parasitic transistor is generated in the N-type epitaxial layer 20, the P-type region 14 for element isolation, and the P-type substrate 12, and a phenomenon of subharmonic distortion occurs in the output. Even if the collector electrode 24 and the electrode 25 taken out from the N-type epitaxial layer 20 are connected in order to prevent the influence of the parasitic transistor, a parasitic transistor is generated because a potential gradient is generated in the collector regions 15 and 16, and the subharmonic distortion occurs. The problem of does not improve.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来例による電流プッ
シュプル出力回路は、前記のように低調波歪の現象が発
生するという問題を持っていた。本発明はかかる点に鑑
みてなされたものであり、低調波歪の問題を生じない出
力回路を提供することを目的としている。
The current push-pull output circuit according to the conventional example has a problem that the phenomenon of subharmonic distortion occurs as described above. The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an output circuit that does not cause the problem of subharmonic distortion.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明は、電流プッシュプル出力回路において、出力
段バーチカルPNPトランジスタを形成しているN型エ
ピタキシャル層を電源とコレクタ電位の間の電位に、低
インピーダンスでバイアスするものである。
To achieve this object, the present invention provides a current push-pull output circuit in which an N-type epitaxial layer forming an output stage vertical PNP transistor is connected to a potential between a power source and a collector potential. In addition, it is biased with low impedance.

【0005】[0005]

【作用】したがってこの発明においては、電流プッシュ
プル出力回路の低調波歪の現象が発生する問題を解消
し、上記出力回路の信頼性を格段に向上し得るのであ
る。
Therefore, in the present invention, the problem that the phenomenon of subharmonic distortion of the current push-pull output circuit occurs can be solved, and the reliability of the output circuit can be remarkably improved.

【0006】[0006]

【実施例】本発明について図面を参照しながら説明す
る。図1は本発明の一実施例である。すなわち図1の構
成において、26は本電流プッシュプル出力回路の制御
回路、27と28は出力段のカレントミラー回路を構成
するバーチカルPNPトランジスタ、29と30はカレ
ントミラー回路のミラー比を決定する抵抗、31と32
は出力段のカレントミラー回路を構成するNPNトラン
ジスタ、33と34はカレントミラー回路のミラー比を
決定する抵抗、35は本回路の電源、36は出力段バー
チカルPNPトランジスタ28を構成しているN型エピ
タキシャル層より取り出した端子、37は端子36を低
インピーダンスでバイアスするためのNPNトランジス
タ、38はNPNトランジスタ37のアイドリング電流
を決定する抵抗、39と40は端子36のバイアス電位
を決定する抵抗である。本実施例においては、出力段バ
ーチカルPNPトランジスタ28のN型エピタキシャル
層は、端子36を介してNPNトランジスタ37、抵抗
38によって、低インピーダンスにバイアスされてお
り、その電位は抵抗39、抵抗40によって決定され
る。したがって、出力段バーチカルPNPトランジスタ
28のN型エピタキシャル層の電位を、そのコレクタ領
域の電位より高くすることによって、コレクタ領域に電
位勾配が生じても寄生トランジスタの影響を防ぎ、低調
波歪の問題が改善される。また、出力段バーチカルPN
Pトランジスタ28のN型エピタキシャル層の電位は抵
抗39、抵抗40の値によって決定されるので、出力段
バーチカルPNPトランジスタ28のN型エピタキシャ
ル層を、耐圧問題が生じないように、低インピーダンス
でバイアスすることが可能である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. That is, in the configuration of FIG. 1, reference numeral 26 is a control circuit of the current push-pull output circuit, 27 and 28 are vertical PNP transistors forming the current mirror circuit of the output stage, and 29 and 30 are resistors that determine the mirror ratio of the current mirror circuit. , 31 and 32
Is an NPN transistor that constitutes the output stage current mirror circuit, 33 and 34 are resistors that determine the mirror ratio of the current mirror circuit, 35 is the power supply for this circuit, and 36 is an N-type transistor that constitutes the output stage vertical PNP transistor 28 A terminal taken out from the epitaxial layer, 37 is an NPN transistor for biasing the terminal 36 with a low impedance, 38 is a resistor that determines the idling current of the NPN transistor 37, and 39 and 40 are resistors that determine the bias potential of the terminal 36. . In the present embodiment, the N-type epitaxial layer of the output stage vertical PNP transistor 28 is biased to a low impedance by the NPN transistor 37 and the resistor 38 via the terminal 36, and its potential is determined by the resistors 39 and 40. To be done. Therefore, by making the potential of the N-type epitaxial layer of the output stage vertical PNP transistor 28 higher than the potential of its collector region, the influence of the parasitic transistor is prevented even if a potential gradient occurs in the collector region, and the problem of subharmonic distortion occurs. Be improved. Also, the output stage vertical PN
Since the potential of the N-type epitaxial layer of the P-transistor 28 is determined by the values of the resistors 39 and 40, the N-type epitaxial layer of the output stage vertical PNP transistor 28 is biased with a low impedance so that the breakdown voltage problem does not occur. It is possible.

【0007】[0007]

【発明の効果】以上のように本発明は、電流プッシュプ
ル出力回路において、出力段バーチカルPNPトランジ
スタのN型エピタキシャル層を、電源とコレクタ電位の
間の電位に、低インピーダンスでバイアスすることによ
り、低調波歪の問題と耐圧問題を改善した出力回路を実
現できるものである。
As described above, according to the present invention, in the current push-pull output circuit, the N-type epitaxial layer of the output stage vertical PNP transistor is biased to a potential between the power supply and the collector potential with a low impedance. It is possible to realize an output circuit that solves the problem of subharmonic distortion and the breakdown voltage problem.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係る電流プッシュプル出力回
路の構成を示す回路図
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a current push-pull output circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来の実施例に係る電流プッシュプル出力回路
の構成を示す回路図
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a current push-pull output circuit according to a conventional example.

【図3】本発明の実施例と従来の実施例に係るバーチカ
ルPNPトランジスタのプロセス構造断面図
FIG. 3 is a sectional view of a process structure of a vertical PNP transistor according to an embodiment of the present invention and a conventional embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 制御回路 2 バーチカルPNPトランジスタ 3 出力段バーチカルPNPトランジスタ 4,5 カレントミラー比を決定する抵抗 6 NPNトランジスタ 7 出力段NPNトランジスタ 8,9 カレントミラー比を決定する抵抗 10 電源 11 出力段バーチカルPNPトランジスタのN型エピ
タキシャル層より取り出した端子 12 P型基板 13 N型埋込層 14 素子分離用P型領域 15,16 P型コレクタ領域 17,18 N型ベース領域 19 エミッタ領域 20 N型エピタキシャル層 21 絶縁膜 22 エミッタ電極 23 ベース電極 24 コレクタ電極 25 N型エピタキシャル層20より取り出した電極 26 制御回路 27 バーチカルPNPトランジスタ 28 出力段バーチカルPNPトランジスタ 29,30 カレントミラー比を決定する抵抗 31 NPNトランジスタ 32 出力段NPNトランジスタ 33,34 カレントミラー比を決定する抵抗 35 電源 36 出力段バーチカルPNPトランジスタのN型エピ
タキシャル層より取り出した端子 37 端子36をバイアスするNPNトランジスタ 38 NPNトランジスタ37のアイドリング電流設定
抵抗 39,40 バイアス電位設定抵抗
1 Control Circuit 2 Vertical PNP Transistor 3 Output Stage Vertical PNP Transistor 4, 5 Resistor that Determines Current Mirror Ratio 6 NPN Transistor 7 Output Stage NPN Transistor 8, 9 Resistor that Determines Current Mirror Ratio 10 Power Supply 11 Output Stage Vertical PNP Transistor Terminal 12 taken out from N type epitaxial layer 12 P type substrate 13 N type buried layer 14 Element isolation P type region 15, 16 P type collector region 17, 18 N type base region 19 Emitter region 20 N type epitaxial layer 21 Insulating film 22 emitter electrode 23 base electrode 24 collector electrode 25 electrode taken out from the N-type epitaxial layer 20 control circuit 27 vertical PNP transistor 28 output stage vertical PNP transistor 29, 30 current mirror ratio is determined Resistor 31 NPN transistor 32 output stage NPN transistor 33, 34 resistor that determines the current mirror ratio 35 power supply 36 output stage vertical PNP terminal of the PNP transistor taken out from the N type epitaxial layer 37 terminal 36 biasing NPN transistor 38 NPN transistor 37 Idling current setting resistor 39, 40 Bias potential setting resistor

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電流プッシュプル出力回路において、出力
段バーチカルPNPトランジスタのN型エピタキシャル
層を、電源とコレクタ電位の間の電位に、低インピーダ
ンスでバイアスしたことを特徴とするバイポーラ集積回
路。
1. A bipolar integrated circuit in a current push-pull output circuit, wherein an N-type epitaxial layer of an output stage vertical PNP transistor is biased with a low impedance to a potential between a power supply and a collector potential.
JP26598692A 1992-10-05 1992-10-05 Bipolar integrated circuit Pending JPH06120745A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017577A (en) * 2001-07-04 2003-01-17 Denso Corp Semiconductor device

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