JPH06116187A - 芳香族ヒドロキシ化合物の製造方法 - Google Patents

芳香族ヒドロキシ化合物の製造方法

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JPH06116187A
JPH06116187A JP4268643A JP26864392A JPH06116187A JP H06116187 A JPH06116187 A JP H06116187A JP 4268643 A JP4268643 A JP 4268643A JP 26864392 A JP26864392 A JP 26864392A JP H06116187 A JPH06116187 A JP H06116187A
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JP
Japan
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siv
reaction
oxygen
atom
heteropolyacid
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JP4268643A
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Inventor
Fujio Matsuda
藤夫 松田
Kaoru Inoue
薫 井上
Kozo Kato
加藤  高蔵
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ベンゼン等の芳香族化合物から一工程でフェ
ノール等の芳香族ヒドロキシ化合物を製造する方法を提
供することにある。 【構成】 触媒としてのヘテロポリ酸の存在下に、ベン
ゼン等の芳香族炭化水素類を酸素等の酸化剤を用いて酸
化反応させる。反応器に原料としてベンゼン等の芳香族
炭化水素および酸素を仕込み、ヘテロポリ酸の存在下に
反応させればフェノール等の芳香族ヒドロキシ化合物を
製造することができる。さらに、酸素等の酸化剤の追加
添加によって、フェノール等の収率を増大させることが
できる。この製造方法は極めて腐蝕性の少ない、且つ副
生成物の少ない経済性の高い製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族化合物から芳香
族ヒドロキシ化合物の少なくとも一種を一工程で製造す
ことを特徴とする新規な芳香族ヒドロキシ化合物の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ベンゼンと酸素からフェノールを
一工程で製造する方法は、触媒の存在下にベンゼンと酸
素を気相または液相で反応させる方法が知られている。
しかし、気相反応の場合、ベンゼンの完全酸化が起こ
り、フェノールの選択率が大変低い(特開昭56−87
527号)。また、液相反応の場合、銅塩と酸素を用い
てベンゼンを酸化する方法があるが、ベンゼンの転化率
が低く、フェノールの収率が低い(有機合成化学41,
839(1983))。
【0003】さらに、パラジウム系触媒を用い、1,1
0−フェナントロリンおよび一酸化炭素の存在下にベン
ゼンを酸化する方法があるが、フェノールの収量は低い
(特開平2−19809号)。そのため、ベンゼンの直
接酸化でフェノールを製造する方法が望まれていたが、
いまだに工業化されていない。
【0004】また、日本国公開特許公報、特開平3−2
36338号には金属リン酸塩触媒を用いて、ベンゼン
からフェノールを製造する方法が開示されている。この
方法によれば、フェノールの収率が6%前後と従来にな
い高い収率であるが、反応温度が500℃前後と高く、
未だ充分経済的な製法には至っていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、ベンゼン及びベンゼン誘導体に代表される芳香族化
合物からフェノールに代表される芳香族ヒドロキシ化合
物を穏和且つ低腐蝕性の条件下に高収率で製造する方法
を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に関して鋭意検討した結果、ベンゼン及びベンゼン誘導
体に代表される芳香族化合物から酸素等の酸化剤の存在
下にフェノール等に代表される芳香族ヒドロキシ化合物
を穏和且つ低腐蝕性の条件下に高収率で製造する方法を
見いだし本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、
少なくとも1種のヘテロポリ酸の存在下に、芳香族化合
物を酸化剤と反応させることを特徴とする芳香族ヒドロ
キシ化合物の製造方法である。
【0007】この結果、本発明を実施する事で、極めて
効率の高い且つ腐蝕性の低い、経済性の観点から優れた
芳香族ヒドロキシ化合物の製造方法が提供される。
【0008】本発明に用いられる芳香族化合物は、ベン
ゼン、置換ベンゼン類、ナフタレン、置換ナフタレン
類、アンスラセン、置換アンスラセン類、ジュレン、置
換ジュレン類等の炭素6員環縮合化合物、チオフェン、
置換チオフェン類、フラン、置換フラン類、ピリジン、
置換ピリジン類、キノリン、置換キノリン類等のヘテロ
芳香族化合物等である。これらの芳香族化合物が有する
置換基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル基
等のアルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ
基、シアノ基、アセチル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
ル基、アセトキシ基、ハロゲン元素、チオアルコキシ基
等である。具体例としては、トルエン、o-キシレン、m-
キシレン、p-キシレン、エチルベンゼン、プロピルベン
ゼン、ブチルベンゼン、フェノール、ナフトール、アニ
ソール等が有り、これらは単独でまたは二種以上で使用
する。
【0009】本発明方法において製造される芳香族ヒド
ロキシ化合物とは、上記した芳香族化合物類の芳香環を
形成する炭素に直接ヒドロキシ基が少なくとも一個以上
結合した化合物であり、更に詳しくは、上記芳香族化合
物の芳香環を形成する炭素における炭素−水素結合が少
なくとも一個以上炭素−ヒドロキシ結合に変換されたも
のである。例えば、ベンゼンからはフェノール、カテコ
ール、ハイドロキノン、レゾルシン等が生成し、ナフタ
レンからはナフトール類、ジヒドロキシナフタレン類等
が生成し、トルエンからはモノおよびポリヒドロキシト
ルエン類、アニソールからはメトキシフェノール、メト
キシレゾルシン等が生成する。反応条件によっては、ベ
ンゾキノン、ナフトキノンまたはアンスラキノンといっ
た、キノン類も同時に芳香族ヒドロキシ化合物と共に生
成する。
【0010】本発明方法で用いられるヘテロポリ酸は一
般的には異なる二種以上の金属酸化物複合体からなる複
合金属酸化物酸およびこれらの酸のプロトンの一部もし
くは全部を金属カチオンで置き換えたものである。これ
らは通常、一般式Ha(M1b(M2c(M3d(M4
e(O)f(但しHは水素原子、M1、M2、M3およびM4
は金属原子を表しOは酸素原子を表す。更にaおよびb
は0もしくは10以下の正の数、cは1または2の整
数、dは10以下の正の整数、eは20以下の正の整
数、fは100以下の正の整数である。)で表されるヘ
テロポリ酸である。好ましくはM1がアルカリ金属およ
び/またはアルカリ土類金属であり、M2が元素記号で
P、Si、Co、Mn、Ni、As、Ti、Fe、V及びBの何れかで表される元
素の少なくとも一種であり、M3が元素記号でVで表さ
れる金属であり、M4が元素記号でWもしくはMoで表
される金属の少なくとも一種であるヘテロポリ酸であ
る。また、この中で、M2がPもしくはSi原子、M3
V原子、M4がWもしくはMo原子である一般式H(3+n)
PV(n)Mo(12-n)40、H(4+n)SiV(n)Mo(12-n)
40、H(3+n)PV(n)(12-n)40、H(4+n)SiV(n)
(12-n)40(但し、nは0もしくは6以下の正の整数
であり、Hは水素原子、Pはリン原子、Vはヴァナジウ
ム原子、Moはモリブデン原子、Wはタングステン原
子、Oは酸素原子を表す。)で表されるヘテロポリ酸及
びこれらのヘテロポリ酸のプロトンの一部もしくは全部
を金属イオンで交換したヘテロポリ酸類が入手し易いも
のとして例示さる。
【0011】本発明において、プロトンと交換する金属
イオンは典型金属および遷移金属いずれの金属イオンで
あっても差し支えないが、好ましくは典型金属のイオ
ン、更に好ましくはアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属イオンの少なくとも1種と交換したヘテロポリ酸で
ある。本発明方法においては、これらヘテロポリ酸もし
くはヘテロポリ酸塩の少なくとも一種を用いる。従っ
て、本発明方法で言うヘテロポリ酸とはこれらヘテロポ
リ酸の塩も含まれる。プロトンを金属イオンで交換する
方法について、本発明方法では特に限定はされなく、実
質的に金属イオンで交換された形態が得られるならば如
何なる方法で行っても差し支えないが、実施し易い方法
として例示すれば、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属酢
酸塩等の水溶液とヘテロポリ酸水溶液を混合撹拌した
後、蒸発乾固等により単離する等の方法が挙げられる。
【0012】本発明に用いられるヘテロポリ酸を具体的
に例示すれば、H4PVMo11O40、H5PV2Mo10O40、H6PV3Mo9O
40、H7PV4Mo8O40、H8PV5Mo7O40、NaH3PVMo11O40、Na2H2
PVMo11O40、Na3HPVMo11O40、Na4PVMo11O40、KH3PVMo11O
40、K2H2PVMo11O40、K3HPVMo11O40、K4PVMo11O40、LiH3
PVMo11O40、Li2H2PVMo11O40、Li3HPVMo11O4 0、Li4PVMo
11O40、RbH3PVMo11O40、Rb2H2PVMo11O40、Rb3HPVMo11O
40、Rb4PVMo11O40、CsH3PVMo11O40、Cs2H2PVMo11O40、C
s3HPVMo11O40、Cs4PVMo11O40、MgH2PVMo11O40、Mg2PVMo
11O40、CaH2PVMo11O40、Ca2PVMo11O40、NaH4PV2Mo
10O40、Na2H3PV2Mo10O40、Na3H2PV2Mo10O40、Na4HPV2Mo
10O40、Na5PV2Mo10O40、KH4PV2Mo10O40、K2H3PV2Mo10O
40、K3H2PV2Mo10O40、K4HPV2Mo10O40、K5PV2Mo10O40、L
iH4PV2Mo10O40、Li2H3PV2Mo10O40、Li3H2PV2Mo10O40、L
i4HPV2Mo10O40、Li5PV2Mo10O40,RbH4PV2Mo10O40,Rb2H3P
V2Mo10O40,Rb3H2PV2Mo10O40,Rb4HPV2Mo10O40,Rb5PV2Mo
10O40,CsH4PV2Mo10O40,Cs2H3PV2Mo10O40,Cs3H2PV2Mo10O
40,Cs4HPV2Mo10O40,Cs5PV2Mo10O40であり、
【0013】MgH3PV2Mo10O40,Mg2HPV2Mo10O40,Mg2.5PV2
Mo10O40,CaH3PV2Mo10O40 Ca2HPV2Mo10O40,Ca2.5PV2Mo10O40,NaH5PV3Mo9O40,Na2H4
PV3Mo9O40,Na3H3PV3Mo9O40,Na4H2PV3Mo9O40,Na5HPV3Mo9
O40,Na6PV3Mo9O40,KH5PV3Mo9O40 K2H4PV3Mo9O40,K3H3PV3Mo9O40,K4H2PV3Mo9O40,K5HPV3Mo
9O40,K6PV3Mo9O40,LiH5PV3Mo9O40,Li2H4PV3Mo9O40,Li3H
3PV3Mo9O40,Li4H2PV3Mo9O40,Li5HPV3Mo9O40,Li6PV3Mo9O
40,RbH5PV3Mo9O40,Rb2H4PV3Mo9O40,Rb3H3PV3Mo9O40,Rb4
H2PV3Mo9O40,Rb5HPV3Mo9O40,Rb6PV3Mo9O40,CsH5PV3Mo9O
40,Cs2H4PV3Mo9O40,Cs3H3PV3Mo9O40,Cs4H2PV3Mo9O40,Cs
5HPV3Mo9O40,Cs6PV3Mo9O40,MgH4PV3Mo9O40,Mg2H2PV3Mo9
O40,Mg3PV3Mo9O40,CaH4PV3Mo9O40,Ca2H2PV3Mo9O40,Ca3P
V3Mo9O40,NaH6PV4Mo8O40,Na2H5PV4Mo8O40,Na3H4PV4Mo8O
40,Na4H3PV4Mo8O40,Na5H2PV4Mo8O40,Na6HPV4Mo8O40,Na7
PV4Mo8O40,KH6PV4Mo8O40,K2H5PV4Mo8O40,K3H4PV4Mo
8O40,K4H3PV4Mo8O40,K5H2PV4Mo8O40,K6HPV4Mo8O40,K7PV
4Mo8O40,LiH6PV4Mo8O40,Li2H5PV4Mo8O40,Li3H4PV4Mo8O
40,Li4H3PV4Mo8O40,Li5H2PV4Mo8O40,Li6HPV4Mo8O40,Li7
PV4Mo8O40,RbH6PV4Mo8O40,Rb2H5PV4Mo8O40,Rb3H4PV4Mo8
O40,Rb4H3PV4Mo8O40,Rb5H2PV4Mo8O40,Rb6HPV4Mo8O40,Rb
7PV4Mo8H40,CsH6PV4Mo8O40 Cs2H5PV4Mo8O40,Cs3H4PV4Mo8O40,Cs4H3PV4Mo8O40,Cs5H2
PV4Mo8O40,Cs6HPV4Mo8O40,Cs7PV4Mo8O40であり、
【0014】MgH5PV4Mo8O40,Mg2H3PV4Mo8O40,Mg3HPV4Mo
8O40,Mg3.5PV4Mo8O40,CaH5PV4Mo8O40,Ca2H3PV4Mo8O40,C
a3HPV4Mo8O40,Ca3.5PV4Mo8O40,NaH7PV5Mo7O40,Na2H6PV5
Mo7O40,Na3H5PV5Mo7O40,Na4H4PV5Mo7O40,Na5H3PV5Mo7O
40,Na6H2PV5Mo7O40,Na7HPV5Mo7O40,Na8PV5Mo7O40,KH7PV
5Mo7O40,K2H6PV5Mo7O40,K3H5PV5Mo7O40,K4H4PV5Mo7O40,
K5H3PV5Mo7O40,K6H2PV5Mo7O40,K7HPV5Mo7O40,K8PV5Mo7O
40,LiH7PV5Mo7O40,Li2H6PV5Mo7O40,Li3H5PV5Mo7O40,Li4
H4PV5Mo7O40,Li5H3PV5Mo7O40,Li6H2PV5Mo7O40,Li7HPV5M
o7O40,Li8PV5Mo7O40,RbH7PV5Mo7040,Rb2H6PV5Mo7O40,Rb
3H5PV5Mo7O40,Rb4H4PV5Mo7O40,Rb5H3PV5Mo7O40,Rb6H2PV
5Mo7O40,Rb7HPV5Mo7O40,Rb8PV5Mo7O40,CsH7PV5Mo7O40,C
s2H6PV5Mo7O40,Cs3H5PV5Mo7O40,Cs4H4PV5Mo7O40,Cs5H3P
V5Mo7O40,Cs6H2PV5Mo7O40,Cs7HPV5Mo7O40,Cs8PV5Mo
7O40,MgH6PV5Mo7O40,MgH4PV5Mo7O40,Mg3H2PV5Mo7O40,Mg
4PV5Mo7O40,CaH6PV5Mo7O40,Ca2H4PV5Mo7O40,Ca3H2PV5Mo
7O40,Ca4PV5Mo7O40,H5SiVMo11O40,H6SiV2Mo10O40,H7SiV
3Mo9O40,H8SiV4Mo8O40,H9SiV5Mo7O40,NaH4SiVMo11O40,N
a2H3SiVMo11O40、Na3H2SiVMo11O40、Na4HSiVMo11O40、N
a5SiVMo11O40,KH4SiVMo11O40、K2H3SiVMo11O40、K3H2Si
VMo11O40、K4HSiVMo11O40、K5SiVMo11O40であり
【0015】LiH4SiVMo11O40、Li2H3SiVMo11O40、Li3H2
SIVMo11O40、Li4HSiMo11O40、Li5SiVMo11O40,RbH4SiVMo
11O40、Rb2H3SiVMo11O40、Rb3H2SiVMo11O40、Rb4HSiVMo
11O40、Rb5SiVMo11O40,CsH4SiVMo11O40、Cs2H3SiVMo11O
40、Cs3H2SiVMo11O40、Cs4HSiVMo11O40、Cs5SiVMO
11O40,MgH3SiVMo11O40、Mg2HSiVMo11O40、Mg2.5SiVMo11
O40,CaH3SiVMo11O40、Ca2HSiVMo11O40、Ca2.5SiVMo11O
40,NaH5SiV2Mo10O40、Na2H4SiV2Mo10O40、Na3H3SiV2Mo
10O40、Na4H2SiV2Mo10O40、Na5HSiV2Mo10O40、Na6SiV2M
o10O40,KH5SiV2Mo10O40、K2H4SiV2Mo10O40、K3H3SiV2Mo
10O40、K4H2SiV2Mo10O40、K5HSiV2Mo10O40、K6SiV2Mo10
O40,LiH5SiV2Mo10O40、Li2H4SiV2Mo10O40、Li3H3SiV2Mo
10O40、Li4H2SiV2Mo10O40、Li5HSiV2Mo10O40,Li6SiV2Mo
10O40,RbH5SiV2Mo10O40,Rb2H4SiV2Mo10O40,Rb3H3SiV2Mo
10O40,Rb4H2SiV2Mo10O40,Rb5HSiV2Mo10O40,Rb6SiV2Mo10
O40,CsH5SiV2Mo10O40,Cs2H4SiV2Mo10O40,Cs3H3SiV2Mo10
O40,Cs4H2SiV2Mo10O40,Cs5HSiV2Mo10O40,Cs6SiV2Mo10O
40,MgH4SiV2Mo10O40,Mg2H2SiV2Mo10O40,Mg3SiV2Mo
10O40,CaH4SiV2Mo10O40,Ca2H2SiV2Mo10O40,Ca3SiV2Mo10
O40,NaH6SiV3Mo9O40,Na2H5SiV3Mo9O40,Na3H4SiV3Mo
9O40,Na4H3SiV3Mo9O40,Na5H2SiV3Mo9O40,Na6HSiV3Mo9O
40,Na7SiV3Mo9O40,KH6SiV3Mo9O40,K2H5SiV3Mo9O40,K3H4
SiV3Mo9O40,K4H3SiV3Mo9O40,K5H2SiV3Mo9O40,K6HSiV3Mo
9O40,K7SiV3Mo9O40,LiH6SiV3Mo9O40,Li2H5SiV3Mo9O40,L
i3H4SiV3Mo9O40,Li4H3SiV3Mo9O40,Li5H2SiV3Mo9O40,Li6
HSiV3Mo9O40,Li7SiV3Mo9O40,RbH6SiV3Mo9O40,Rb2H5SiV3
Mo9O40,Rb3H4SiV3Mo9O40,Rb4H3SiV3Mo9O40,Rb5H2SiV3Mo
9O40,Rb6HSiV3Mo9O40,Rb7SiV3Mo9O40,CsH6SiV3Mo9O40,C
s2H5SiV3Mo9O40,Cs3H4SiV3Mo9O40,Cs4H3SiV3Mo9O40,Cs5
H2SiV3Mo9O40,Cs6HSiV3Mo9O40,Cs7SiV3Mo9O40であり
【0016】MgH5SiV3Mo9O40,Mg2H3SiV3Mo9O40,Mg3HSiV
3Mo9O40,Mg3.5SiV3Mo9O40,CaH5SiV3Mo9O40,Ca2H3SiV3Mo
9O40,Ca3HSiV3Mo9O40,Ca3.5SiV3Mo9O40,NaH7SiV4Mo
8O40,Na2H6SiV4Mo8O40,Na3H5SiV4Mo8O40,Na4H4SiV4Mo8O
40,Na5H3SiV4Mo8O40,Na6H2SiV4Mo8O40,Na7HSiV4Mo8O40,
Na8SiV4Mo8O40,KH7SiV4Mo8O40,K2H6SiV4Mo8O40,K3H5SiV
4Mo8O40,K4H4SiV4Mo8O40,K5H3SiV4Mo8O40,K6H2SiV4Mo8O
40,K7HSiV4Mo8O40,K8SiV4Mo8O40,LiH7SiV4Mo8O40,Li2H6
SiV4Mo8O40,Li3H5SiV4Mo8O40,Li4H4SiV4Mo8O40,Li5H3Si
V4Mo8O40,Li6H2SiV4Mo8O40,Li7HSiV4Mo8O40,Li8SiV4Mo8
O40,RbH7SiV4Mo8O40,Rb2H6SiV4Mo8O40,Rb3H5SiV4Mo
8O40,Rb4H4SiV4Mo8O40,Rb5H3SiV4Mo8O40,Rb6H2SiV4Mo8O
40,Rb7HSiV4Mo8H40,Rb8SiV4Mo8O40,CsH7SiV4Mo8O40Cs2H
6SiV4Mo8O40,Cs3H5SiV4Mo8O40,Cs4H4SiV4Mo8O40,Cs5H3S
iV4Mo8O40,Cs6H2SiV4Mo8O40,Cs7HSiV4Mo8O40,Cs8SiV4Mo
8O40,MgH6SiV4Mo8O40,Mg2H4SiV4Mo8O40,Mg3H2SiV4Mo8O
40,Mg4SiV4Mo8O40,CaH6SiV4Mo8O40,Ca2H4SiV4Mo8O40,Ca
3H2SiV4Mo8O40,Ca4SiPV4Mo8O40,NaH8SiV5Mo7O40,Na2H7S
iV5Mo7O40,Na3H6SiV5Mo7O40,Na4H5SiV5Mo7O40,Na5H4SiV
5Mo7O40,Na6H3SiV5Mo7O40,Na7H2SiV5Mo7O40,Na8HSiV5Mo
7O40,Na9SiV5Mo7O40,KH8SiV5Mo7O40,K2H7SiV5Mo7O40,K3
H6SiV5Mo7O40,K4H5SiV5Mo7O40,K5H4SiV5Mo7O40,K6H3SiV
5Mo7O40,K7H2Si5Mo7O40,K8HSiV5Mo7O40,K9SiV5Mo7O40,L
iH8SiV5Mo7O40,Li2H7SiV5Mo7O40,Li3H6SiV5Mo7O40,Li4H
5SiV5Mo7O40,Li5H4SiV5Mo7O40,Li6H3SiV5Mo7O40,Li7H2S
iV5Mo7O40,Li8HSiV5Mo7O40,Li9SiV5Mo7O40,RbH8SiV5Mo7
040,Rb2H7SiV5Mo7O40,Rb3H6SiV5Mo7O40,Rb4H5SiV5Mo7O
40,Rb5H4SiV5Mo7O40,Rb6H3SiV5Mo7O40,Rb7H2SiV5Mo
7O40,Rb8HSiV5Mo7O40,Rb9SiV5Mo7O40,CsH8SiV5Mo7O40,C
s2H7SiV5Mo7O40,Cs3H6SiV5Mo7O40,Cs4H5SiV5Mo7O40,Cs5
H4SiV5Mo7O40,Cs6H3SiV5Mo7O40,Cs7H2SiV5Mo7O40,Cs8HS
iV5Mo7O40,Cs9SiV5Mo7O40であり、
【0017】MgH7SiV5Mo7O40,MgH5SiV5Mo7O40,Mg3H3SiV
5Mo7O40,Mg4HSiV5Mo7O40,Mg4.5SiV5Mo7O40,CaH7SiV5Mo7
O40,Ca2H5SiV5Mo7O40,Ca3H3SiV5Mo7O40,Ca4HSiV5Mo
7O40,Ca4.5SiV5Mo7O40,H4PVW11O40、H5PV2W10O40、H6PV
3W9O40、H7PV4W8O40、H8PV5W7O40、NaH3PVW11O40、Na2H
2PVW11O40、Na3HPVW11O40、Na4PVW11O40、KH3PVW
11O40、K2H2PVW11O40、K3HPVW11O40、K4PVW11O40、LiH3
PVW11O40、Li2H2PVW11O40、Li3HPVW11O40、Li4PVW
11O40、RbH3PVW11O40、Rb2H2PVW11O40、Rb3HPVW11O40
Rb4PVW11O40、CsH3PVW11O40、Cs2H2PVW11O40、Cs3HPVW
11O40、Cs4PVW11O40、MgH2PVW11O40、Mg2PVW11O40、CaH
2PVW11O40、Ca2PVW11O40、NaH4PV2W10O40、Na2H3PV2W10
O40、Na3H2PV2W10O40、Na4HPV2W10O40、Na5PV2W10O40
KH4PV2W10O40、K2H3PV2W10O40、K3H2PV2W10O40、K4HPV2
W10O40、K5PV2W10O40、LiH4PV2W10O40、Li2H3PV2W
10O40、Li3H2PV2W10O40、Li4HPV2W10O40、Li5PV2W
10O40,RbH4PV2W10O40,Rb2H3PV2W10O40,Rb3H2PV2W10O40,
Rb4HPV2W10O40,Rb5PV2W10O40,CsH4PV2W10O40,Cs2H3PV2W
10O40,Cs3H2PV2W10O40,Cs4HPV2W10O40,Cs5PV2W10O40,Mg
H3PV2W10O40,Mg2HPV2W10O40,Mg2.5PV2W10O40,CaH3PV2W
10O40,Ca2HPV2W10O40,Ca2.5PV2W10O40,NaH5PV3W9O40,Na
2H4PV3W9O40,Na3H3PV3W9O40,Na4H2PV3W9O40,Na5HPV3W9O
40,Na6PV3W9O40,KH5PV3W9O40K2H4PV3W9O40,K3H3PV3W9O
40,K4H2PV3W9O40,K5HPV3W9O40,K6PV3W9O40であり、
【0018】LiH5PV3W9O40,Li2H4PV3W9O40,Li3H3PV3W9O
40,Li4H2PV3W9O40,Li5HPV3W9O40,Li6PV3W9O40,RbH5PV3W
9O40,Rb2H4PV3W9O40,Rb3H3PV3W9O40,Rb4H2PV3W9O40,Rb5
HPV3W9O40,Rb6PV3W9O40,CsH5PV3W9O40,Cs2H4PV3W9O40,C
s3H3PV3W9O40,Cs4H2PV3W9O40,Cs5HPV3W9O40,Cs6PV3W9O
40,MgH4PV3W9O40,Mg2H2PV3W9O40,Mg3PV3W9O40,CaH4PV3W
9O40,Ca2H2PV3W9O40,Ca3PV3W9O40,NaH6PV4W8O40,Na2H5P
V4W8O40,Na3H4PV4W8O40,Na4H3PV4W8O40,Na5H2PV4W8O40,
Na6HPV4W8O40,Na7PV4W8O40,KH6PV4W8O40,K2H5PV4W8O40,
K3H4PV4W8O40,K4H3PV4W8O40,K5H2PV4W8O40,K6HPV4W
8O40,K7PV4W8O40,LiH6PV4W8O40,Li2H5PV4W8O40,Li3H4PV
4W8O40,Li4H3PV4W8O40,Li5H2PV4W8O40,Li6HPV4W8O40,Li
7PV4W8O40,RbH6PV4W8O40,Rb2H5PV4W8O40,Rb3H4PV4W
8O40,Rb4H3PV4W8O40,Rb5H2PV4W8O40,Rb6HPV4W8O40,Rb7P
V4W8H40,CsH6PV4W8O40,Cs2H5PV4W8O40,Cs3H4PV4W8O40,C
s4H3PV4W8O40,Cs5H2PV4W8O40,Cs6HPV4W8O40,Cs7PV4W8O
40,MgH5PV4W8O40,Mg2H3PV4W8O40,Mg3HPV4W8O40,Mg3.5PV
4W8O40,CaH5PV4W8O40,Ca2H3PV4W8O40,Ca3HPV4W8O40,Ca
3.5PV4W8O40,NaH7PV5W7O40,Na2H6PV5W7O40,Na3H5PV5W7O
40,Na4H4PV5W7O40,Na5H3PV5W7O40,Na6H2PV5W7O40,Na7HP
V5W7O40,Na8PV5W7O40,KH7PV5W7O40,K2H6PV5W7O40,K3H5P
V5W7O40,K4H4PV5W7O40,K5H3PV5W7O40,K6H2PV5W7O40,K7H
PV5W7O40,K8PV5W7O40,LiH7PV5W7O40,Li2H6PV5W7O40,Li3
H5PV5W7O40,Li4H4PV5W7O40,Li5H3PV5W7O40,Li6H2PV5W7O
40,Li7HPV5W7O40,Li8PV5W7O40,RbH7PV5W7040,Rb2H6PV5W
7O40,Rb3H5PV5W7O40,Rb4H4PV5W7O40,Rb5H3PV5W7O40,Rb6
H2PV5W7O40,Rb7HPV5W7O40,Rb8PV5W7O40,CsH7PV5W7O40,C
s2H6PV5W7O40,Cs3H5PV5W7O40,Cs4H4PV5W7O40,Cs5H3PV5W
7O40,Cs6H2PV5W7O40,Cs7HPV5W7O40,Cs8PV5W7O40であ
り、
【0019】MgH6PV5W7O40,MgH4PV5W7O40,Mg3H2PV5W7O
40,Mg4PV5W7O40,CaH6PV5W7O40,Ca2H4PV5W7O40,Ca3H2PV5
W7O40,Ca4PV5W7O40,H5SiVW11O40,H6SiV2W10O40,H7SiV3W
9O40,H8SiV4W8O40,H9SiV5W7O40,NaH4SiVW11O40,Na2H3Si
VW11O40、Na3H2SiVW11O40、Na4HSiVW11O40、Na5SiVW11O
40,KH4SiVW11O40、K2H3SiVW11O40、K3H2SiVW11O40、K4H
SiVW11O40、K5SiVW11O40,LiH4SiVW11O40、Li2H3SiVW11O
40、Li3H2SiVW11O40、Li4HSiW11O40、Li5SiVW11O40,RbH
4SiVW11O40、Rb2H3SiVW11O 40、Rb3H2SiVW11O40、Rb4HSi
VW11O40、Rb5SiVW11O40,CsH4SiVW11O40、Cs2H3SiVW11O
401、Cs3H2SiVW11O40、Cs4HSiVW11O40、Cs5SiVW11O40,M
gH3SiVW11O40、Mg2HSiVW11O40、Mg2.5SiVW11O40,CaH3Si
VW11O40、Ca2HSiVW11O40、Ca2.5SiVW11O40,NaH5SiV2W10
O40、Na2H4SiV2W10O40、Na3H3SiV2W10O40、Na4H2SiV2W
10O40、Na5HSiV2W10O40、Na6SiV2W10O40,KH5SiV2W
10O40、K2H4SiV2W10O40、K3H3SiV2W10O40、K4H2SiV2W10
O40、K5HSiV2W10O40、K6SiV2W10O40,LiH5SiV2W10O40、L
i2H4SiV2W10O40、Li3H3SiV2W10O40、Li4H2SiV2W10O40
Li5HSiV2W10O40,Li6SiV2W10O40,RbH5SiV2W10O40,Rb2H4S
iV2W10O40,Rb3H3SiV2W10O40,Rb4H2SiV2W10O40,Rb5HSiV2
W10O40,Rb6SiV2W10O40,CsH5SiV2W10O40,Cs2H4SiV2W10O
40,Cs3H3SiV2W10O40,Cs4H2SiV2W10O40,Cs5HSiV2W10O40,
Cs6SiV2W10O40,MgH4SiV2W10O40,Mg2H2SiV2W10O40,Mg3Si
V2W10O40,CaH4SiV2W10O40,Ca2H2SiV2W10O40,Ca3SiV2W10
O40,NaH6SiV3W9O40,Na2H5SiV3W9O40,Na3H4SiV3W9O40,Na
4H3SiV3W9O40,Na5H2SiV3W9O40,Na6HSiV3W9O40,Na7SiV3W
9O40,KH6SiV3W9O40,K2H5SiV3W9O40,K3H4SiV3W9O40,K4H3
SiV3W9O40,K5H2SiV3W9O40,K6HSiV3W9O40,K7SiV3W9O40,L
iH6SiV3W9O40,Li2H5SiV3W9O40,Li3H4SiV3W9O40,Li4H3Si
V3W9O40,Li5H2SiV3W9O40,Li6HSiV3W9O40,Li7SiV3W9O40,
RbH6SiV3W9O40,Rb2H5SiV3W9O40,Rb3H4SiV3W9O40,Rb4H3S
iV3W9O40,Rb5H2SiV3W9O40,Rb6HSiV3W9O40,Rb7SiV3W
9O40,CsH6SiV3W9O40,Cs2H5SiV3W9O40,Cs3H4SiV3W9O40,C
s4H3SiV3W9O40,Cs5H2SiV3W9O40,Cs6HSiV3W9O40,Cs7SiV3
W9O40であり、
【0020】MgH5SiV3W9O40,Mg2H3SiV3W9O40,Mg3HSiV3W
9O40,Mg3.5SiV3W9O40,CaH5SiV3W9O40,Ca2H3SiV3W9O40,C
a3HSiV3W9O40,Ca3.5SiV3W9O40,NaH7SiV4W8O40,Na2H6SiV
4W8O40,Na3H5SiV4W8O40,Na4H4SiV4W8O40,Na5H3SiV4W8O
40,Na6H2SiV4W8O40,Na7HSiV4W8O40,Na8SiV4W8O40,KH7Si
V4W8O40,K2H6SiV4W8O40,K3H5SiV4W8O40,K4H4SiV4W8O40,
K5H3SiV4W8O40,K6H2SiV4W8O40,K7HSiV4W8O40,K8SiV4W8O
40,LiH7SiV4W8O40,Li2H6SiV4W8O40,Li3H5SiV4W8O40,Li4
H4SiV4W8O40,Li5H3SiV4W8O40,Li6H2SiV4W8O40,Li7HSiV4
W8O40,Li8SiV4W8O40,RbH7SiV4W8O40,Rb2H6SiV4W8O40,Rb
3H5SiV4W8O40,Rb4H4SiV4W8O40,Rb5H3SiV4W8O40,Rb6H2Si
V4W8O40,Rb7HSiV4W8H40,Rb8SiV4W8O40,CsH7SiV4W8O40
Cs2H6SiV4W8O40,Cs3H5SiV4W8O40,Cs4H4SiV4W8O40,Cs5H3
SiV4W8O40,Cs6H2SiV4W8O40,Cs7HSiV4W8O40,Cs8SiV4W8O
40,MgH6SiV4W8O40,Mg2H4SiV4W8O40,Mg3H2SiV4W8O40,Mg4
SiV4W8O40,CaH6SiV4W8O40,Ca2H4SiV4W8O40,Ca3H2SiV4W8
O40,Ca4SiPV4W8O40,NaH8SiV5W7O40,Na2H7SiV5W7O40,Na3
H6SiV5W7O40,Na4H5SiV5W7O40,Na5H4SiV5W7O40,Na6H3SiV
5W7O40,Na7H2SiV5W7O40,Na8HSiV5W7O40,Na9SiV5W7O40,K
H8SiV5W7O40,K2H7SiV5W7O40,K3H6SiV5W7O40,K4H5SiV5W7
O40,K5H4SiV5W7O40,K6H3SiV5W7O40,K7H2Si5W7O40,K8HSi
V5W7O40,K9SiV5W7O40,LiH8SiV5W7O40,Li2H7SiV5W7O40,L
i3H6SiV5W7O40,Li4H5SiV5W7O40,Li5H4SiV5W7O40,Li6H3S
iV5W7O40,Li7H2SiV5W7O40,Li8HSiV5W7O40,Li9SiV5W
7O40,RbH8SiV5W7040,Rb2H7SiV5W7O40,Rb3H6SiV5W7O40,R
b4H5SiV5W7O40,Rb5H4SiV5W7O40,Rb6H3SiV5W7O40,Rb7H2S
iV5W7O40,Rb8HSiV5W7O40,Rb9SiV5W7O40,CsH8SiV5W7O40,
Cs2H7SiV5W7O40,Cs3H6SiV5W7O40,Cs4H5SiV5W7O40,Cs5H4
SiV5W7O40,Cs6H3SiV5W7O40,Cs7H2SiV5W7O40,Cs8HSiV5W7
O40,Cs9SiV5W7O40があり、
【0021】MgH7SiV5W7O40,MgH5SiV5W7O40,Mg3H3SiV5W
7O40,Mg4HSiV5W7O40,Mg4.5SiV5W7O40,CaH7SiV5W7O40,Ca
2H5SiV5W7O40,Ca3H3SiV5W7O40,Ca4HSiV5W7O40,Ca4.5SiV
5W7O40等が入手し易いヘテロポリ酸として挙げられる。
ここに例示したプロトンの一部又は全部を金属カチオン
と置換したヘテロポリ酸は殆どがプロトンの整数個置換
された物であるが本発明方法における金属カチオンの置
換個数は必ずしも整数個である必要はなく実数個であっ
て差し支えない。本発明方法においてはへテロポリ酸の
少なくとも一種を使用するが上記例示したヘテロポリ酸
のみに限定されることはない。更にこれらヘテロポリ酸
は結晶水を有していても有していなくても本発明方法を
実施する際には何等差し支えはない。本発明において
は、これらのヘテロポリ酸の使用量は特に限定される事
はないが、実施し易い量として例示すれば、バッチ反応
では使用するベンゼン100gに対して0.001〜5
00g、更に好ましくは0.1〜50gの量である。
【0022】本発明方法において使用される酸化剤と
は、反応系内で反応状態において、酸素分子、酸素原
子、酸素イオン、酸素ラジカルを供給できる物質であ
る。具体的には酸素ガス、空気、希釈空気、過酸化水
素、有機過酸化物、無機過酸化物等が例示され、これら
の一種以上を使用する。
【0023】本発明方法においては、反応系に水を気体
もしくは液体の状態で添加する事でフェノールの収率を
向上させることが出来る。また、反応系は酸性である事
が好ましい。この酸性は反応系にヘテロポリ酸を添加す
ることによっても達成されるが、更に反応系内に酸性物
質を加えても差し支えない。反応系に添加する酸性物質
としては、例えばブレンステッド酸、ルイス酸等であ
る。ブレンステッド酸としては例えば塩酸、硫酸、硝
酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸類、酢酸、安息香酸、ギ
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、
スルホン酸等の有機酸類、ゼオライト類、混合酸化物類
等の無機酸類等が挙げられる。またルイス酸としては、
塩化アルミニウム、塩化第二鉄、塩化ホウ素化合物、塩
化アンチモン化合物、塩化第二錫、フッ化アンチモン、
ゼオライト類、混合酸化物等が挙げられる。さらには無
機および有機酸性塩等も酸性物質として使用される。本
発明を液相で実施する際、反応液の酸性は通常pHが6
以下、好ましくはpHが4以下の範囲で実施される。し
かしながら必ずしも本発明はこれらの範囲のみに限定は
されない。
【0024】本発明方法を実施するに当たり、反応系内
に触媒および反応試剤に対して不活性な、溶媒もしくは
気体を添加して、希釈した状態で行う事も可能である。
具体的には、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘキ
サン、シクロヘキサン等の脂肪族飽和炭化水素類、窒
素、アルゴン、ヘリウム、等の不活性気体等が例示され
る。
【0025】反応温度は、特に限定されないが、好まし
くは0℃〜400℃、更にこのましくは10℃〜300
℃の範囲である。反応温度が極端に低すぎると、芳香族
化合物(反応試剤)の転化率が低い、言い換えれば極端
に反応速度が低下し、反応生成物の生産性が低下する。
一方、反応温度が400℃以上で実施すれば、好ましか
らざる副反応等が進行し副生成物の増大や、原料である
芳香族化合物、更に生成物である芳香族ヒドロキシ化合
物の安定性にも好ましくなく、反応選択率の低下をもた
らし経済的ではない。
【0026】反応は減圧、常圧および加圧の何れの状態
で実施する事も可能である。反応効率(単位体積あたり
の反応効率)の観点から余りに低い圧力で実施する事は
好ましくない。また、反応装置等の設備的な経済性の観
点から余りに高い圧力で実施する事も好ましくない。通
常好ましい実施圧力範囲は0.05〜300気圧であ
り、更に好ましくは0.5〜200気圧である。しかし
ながら本発明はこれらの圧力範囲のみに限定されるもの
ではない。
【0027】また、反応は液相、気−液相または気相の
何れの状態で実施する事も可能である。更に、触媒は均
一、不均一の何れの形態でも使用する事が可能である。
これらの触媒は、溶液状態、二層分離状態、二層混相状
態、スラリー状態、固定床、移動床、流動床等の何れの
方式で用いる事も可能である。
【0028】本発明方法は、通常のバッチ反応、一部の
原料もしくは触媒等を連続的に供給するようなセミバッ
チ反応又は流通連続反応の何れの反応方法においても実
施可能である。また、反応原料、酸化性物質、触媒等の
各成分の添加順序および添加方式等、特に制限される事
はない。
【0029】更に、酸素等の酸化剤を逐次、その消費等
に応じて数段回にわたって添加する等のセミバッチ形式
で行う事も可能であり、これにより、フェノール等の芳
香族ヒドロキシ化合物の収率の向上が可能である。
【0030】反応時間(流通反応においては滞留時間も
しくは触媒接触時間)は特に限定されないが、通常0.
1秒〜30時間、好ましくは0.5秒〜15時間であ
る。反応後、反応生成物を必要であるならば、前記触媒
等から濾過分離、抽出、留去等の方法によって分離回収
する事ができる。目的生成物である芳香族ヒドロキシ化
合物は上記分離回収した生成物から溶媒抽出、蒸留、ア
ルカリ処理、酸処理等の逐次的な処理方法、または、こ
れらを適宜組み合わせた操作等の通常の分離、精製法に
よって分離、精製し取得する事ができる。また、未反応
原料は回収して、再び反応系へリサイクルして使用する
事もできる。
【0031】バッチ式反応の場合、反応後に反応生成物
を分離して回収された触媒はそのまま、又はその一部も
しくは全部を再生した後、繰り返して触媒として反応に
再度、使用する事もできる。固定床又は流動床流通連続
反応方式で実施する場合には、反応に供する事によっ
て、一部又は総てが失活もしくは活性低下した触媒は、
反応を中断後再生して反応に供する事もできるし、ま
た、連続的もしくは断続的に触媒の一部を抜き出し、再
生後、再び反応器へリサイクルして、再使用する事もで
きる。更に、新たな触媒を連続的又は断続的に反応器に
供給する事もできる。移動床式流通連続反応、もしくは
均一触媒流通反応方式で実施する際には、バッチ式反応
と同様に触媒を分離、再生して再使用する事ができる。
【0032】
【実施例】以下、本発明方法を実施例により更に具体的
に説明する。しかしながら、本発明方法はこれらの実施
例のみに限定されるものではない。尚、各実施例および
表中に記した生成物であるヒドロキシ化合物の収率は仕
込みの芳香族化合物を基準とした。
【0033】実施例1 50mlのハステロイC製オートクレーブ中にベンゼン
4.0g、水15.0g、H4PVMo1140・30H2
O、0.42gを仕込んだ後このオートクレーブ内を酸
素9%、窒素91%の混合ガスで置換後更に110kg
/cm2まで圧入した。反応温度を180℃とし撹拌し
ながら1.0時間反応を行った後、冷却し反応液をトル
エンにより抽出した。抽出物をガスクロマトグラフ法に
より分析した結果、仕込ベンゼン基準でフェノールが
3.3%生成していることが確認された。
【0034】実施例2 ヘテロポリ酸をH6PV3Mo940・30H2O、0.4
2gに代えた以外は総て実施例1と同一の条件で反応及
び分析を行った。この結果、フェノール収率は3.2%
であった。
【0035】実施例3 ヘテロポリ酸をH5PV2Mo1040・30H2O、0.
42gに代えた以外は総て実施例1と同一の条件で、反
応及び分析を行った。この結果、フェノールの収率は
3.0%であった。
【0036】実施例4 ヘテロポリ酸をNa33PV3Mo940、0.42gと
した以外は総て実施例1と同一の条件で反応及び分析を
行った。結果は、フェノール収率2.4%であった。
【0037】実施例5 実施例4で実施した方法において、水の代わりに0.1
N硫酸15.0gを用いた以外は総て実施例4と同一の
条件で反応及び分析を行った。この結果、フェノールの
収率は3.1%であった。
【0038】実施例6 実施例1で実施した方法で、ヘテロポリ酸をH4PVM
1140・30H2O;0.42gに代えた以外は総て
実施例1と同一の条件で反応及び分析を行った結果、フ
ェノールの収率は1.2%あった。更に副生物としてジ
フェニルが0.1%得られた。
【0039】実施例7 ヘテロポリ酸をLi33PV3Mo940、0.42gに
代えた以外は総て実施例1と同一の条件及び方法で、反
応及び分析を行った。この結果、フェノールの収率は
2.5%であった。
【0040】実施例8〜10 実施例1で実施した方法において、反応温度を各々10
0、125及び150℃に代えた以外は総て実施例1と
同一の条件及び方法で実施した。結果は表1に掲げた。
尚、実施例1の結果も併せて掲げた。
【0041】
【表1】 ──────────────────────────────────── 反応温度(℃) フェノール収率(%) ──────────────────────────────────── 実施例 8 100 微量 実施例 9 125 微量 実施例10 150 1.2 実施例 1 180 3.3 ────────────────────────────────────
【0042】実施例11〜16 実施例1において、ベンゼンの代わりにそれぞれトルエ
ン、フェノール、ナフタレン、β−ナフトール、アニソ
ール及びp−キシレンを各々4.0gとした以外は総て
実施例1と全く同一の条件及び方法で反応及び分析を行
った。結果は、表2に示したようにそれぞれ良い収率で
芳香族ヒドロキシ化合物の生成が認められた。尚、生成
物中の芳香族ジヒドロキシ化合物は、総ての異性体の合
計で示した。
【0043】
【表2】 ──────────────────────────────────── 芳香族化合物 収率(%) ヒドロキシ化合物 ジヒドロキシ化合物 ──────────────────────────────────── 実施例11 トルエン 2.8 0.1 実施例12 フェノール (原料) 1.2 実施例13 ナフタレン 2.0 0.1 実施例14 β−ナフトール (原料) 1.0 実施例15 アニソール 1.8 0.1 実施例16 p−キシレン 3.1 微量 ────────────────────────────────────
【0044】
【発明の効果】本発明に従えば、以下の効果が得られ
る。 (1)ベンゼンを直接酸化して、フェノールを収率良く
製造することができる。 (2)従来の方法に比較して、フェノールを低温、低圧
の温和な条件で直接酸化して製造することができる。加
えて反応装置等の腐蝕の殆どない条件で実施する事がで
きる。 (3)工業上重要なフェノールを安全上、プロセス上、
経済上著しく優位に生産することができる。 上述のように、本発明によって工業上著しく優れたフェ
ノールの新規な製造方法を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 41/26 43/23 B 7419−4H // C07B 61/00 300

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一種のヘテロポリ酸の存在下
    に、芳香族化合物を酸化剤と反応させることを特徴とす
    る芳香族ヒドロキシ化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】 ヘテロポリ酸が一般式; Ha(M1b(M2c(M3d(M4e(O)f(但しH
    は水素原子、M1、M2、M3およびM4は金属原子を表し
    Oは酸素原子を表す。更にaおよびbは0もしくは10
    以下の正の数、cは1または2の整数、dは10以下の
    正の整数、eは20以下の正の整数、fは100以下の
    正の整数である。)で表されるヘテロポリ酸である請求
    項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 M1がアルカリ金属および/またはアル
    カリ土類金属であり、M2が元素記号でP、Si、Co、Mn、Ni、A
    s、Ti、Fe、V及びBの何れかで表される元素の少なくとも一
    種であり、M3が元素記号でVで表される金属であり、
    4が元素記号でWもしくはMoで表される金属の少な
    くとも一種である請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 ヘテロポリ酸が一般式: H(3+n)PV(n)Mo(12-n)40、H(4+n)SiV(n)Mo
    (12-n)40、H(3+n)PV(n)(12-n)40、H(4+n)
    iV(n)(12-n)40(但し、nは0もしくは6以下の
    正の整数であり、Hは水素原子、Pはリン原子、Vはヴ
    ァナジウム原子、Moはモリブデン原子、Wはタングス
    テン原子、Oは酸素原子を表す。)で表されるヘテロポ
    リ酸及びこれらのヘテロポリ酸のプロトンの一部もしく
    は全部をアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属
    で交換したヘテロポリ酸塩の群から選ばれた少なくとも
    一種以上である請求項2記載の方法。
  5. 【請求項5】 酸化剤が反応系内で酸素分子、酸素原
    子、酸素イオン、もしくは酸素ラジカルを供給できる物
    質である請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 酸化剤が酸素ガスもしくは不活性ガスで
    希釈された酸素ガスである請求項1記載の方法。
  7. 【請求項7】 反応が水の存在下に行われる請求項1記
    載の方法。
  8. 【請求項8】 反応が酸の存在下に行われる請求項1記
    載の方法。
  9. 【請求項9】 酸化剤を断続的に挿入する請求項1記載
    の方法。
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EP1342711A2 (en) * 2002-03-07 2003-09-10 Daicel Chemical Industries, Ltd. Process for producing aromatic compounds
US7019179B2 (en) * 2002-03-07 2006-03-28 Daicel Chemical Industries, Ltd. Process for producing aromatic compounds
US7414160B2 (en) 2002-03-07 2008-08-19 Daicel Chemical Industries, Ltd. Process for producing aromatic compounds

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