JPH06107731A - プロピレン共重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 透明性と剛性のバランスに優れたプロピレン
共重合体を製造する方法を提供する。 【構成】 下記１）〜３）により得られる重合触媒成分
を用いて、プロピレンとエチレンを共重合することから
なるエチレン含量０．０１〜１０重量％のプロピレン共
重合体の製造法。 １）金属酸化物，マグネシウム，チタン，ハロゲン及び
電子供与性化合物を必須とする固体触媒成分を、 ２）有機アルミニウム化合物の存在下、 ３）アルケニル基含有アルコキシシランと接触させてな
る重合触媒成分。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プロピレン共重合体の
製造方法に関し、より詳しくは、特定の触媒成分を用い
てプロピレンと少量のエチレンをランダム共重合するこ
とにより、透明性と剛性に優れたポリプロピレン共重合
体を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】さまざまな種類の高立体規則性触媒を用
いて製造される高結晶性ポリプロピレンは、剛性や耐熱
性に優れているが、乳白色の樹脂であり、用途によって
はより高い透明性が望まれる場合がある。透明性を改良
する手段としては、プロピレンを重合する際に少量のエ
チレンを添加してランダム共重合体を製造する方法がよ
く知られている。しかしながら、添加するエチレン量の
割合が多ければ多いほど透明性は向上するものの、ポリ
プロピレンの結晶性が乱され、ひいては、ポリプロピレ
ン本来の特性である剛性の高さが損われてしまう。

【０００３】一方、剛性を改良する方法も種々提案され
ているが、それらの多くはポリプロピレンに核剤等を添
加するなどの後処理を施す方法である。従って、プロセ
ス面からコスト高となる上、添加剤によっては成形品の
外観を損うものもある。添加剤による処理なしで、重合
方法により剛性を改良する方法も提案されているが、い
ずれも剛性は不十分である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明性と剛
性のバランスに優れたプロピレン共重合体を得る方法を
提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
行った結果、特定の重合触媒成分を用いて、少量のエチ
レンと共にプロピレンを重合することにより、本発明の
目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。

【０００６】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、（Ａ）金属酸化物，マグネ
シウム，チタン，ハロゲン及び電子供与性化合物を必須
成分とする固体触媒成分を、（Ｂ）有機アルミニウム化
合物の存在下、（Ｃ）一般式

【化２】 〔但し、Ｒ¹ は炭素数１〜１０個のアルキレン基若しく
はアリーレン基、Ｒ² は炭素数１〜１０個の脂肪族、脂
環式若しくは芳香族炭化水素基又はＲ⁴ Ｏ、Ｒ³は炭素
数３〜１０個の脂肪族、脂環式若しくは芳香族炭化水素
基、Ｒ⁴ はＲ³ と同一か異なる炭素数３〜１０個の脂肪
族、脂環式若しくは芳香族炭化水素基であり、ｘは１若
しくは２、ｙは０若しくは１、ｚは４−ｘ−ｙであ
る。〕で表わされる有機珪素化合物と接触させてなる重
合触媒成分の存在下、プロピレンとエチレンを共重合す
ることからなるエチレン含量が０．０１〜１０重量％の
プロピレン共重合体の製造法にある。

【０００７】固体触媒成分 本発明で用いられる触媒成分（以下本発明の触媒成分と
いう）の一成分である固体触媒成分（以下、成分Ａとい
う）は、金属酸化物，マグネシウム，チタン，ハロゲン
及び電子供与性化合物を必須成分とするが、このような
成分は通常金属酸化物，マグネシウム化合物，チタン化
合物及び電子供与性化合物、更に前記各化合物がハロゲ
ンを有しない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物を、
それぞれ接触することにより調製される。

【０００８】（１）金属酸化物 本発明で用いられる金属酸化物は、元素の周期表第II族
〜第IV族の元素の群から選ばれる元素の酸化物であり、
それらを例示すると、Ｂ₂ Ｏ₃ ，ＭｇＯ，Ａｌ ₂ Ｏ₃ ，
ＳｉＯ₂ ，ＣａＯ，ＴｉＯ₂ ，ＺｎＯ，ＺｒＯ₂ ，Ｓｎ
Ｏ₂ ，ＢａＯ，ＴｈＯ₂ 等が挙げられる。これらの中で
もＢ₂ Ｏ₃ ，ＭｇＯ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，Ｔｉ
Ｏ₂ ，ＺｒＯ₂ が望ましく、特にＳｉＯ₂ が望ましい。
更に、これら金属酸化物を含む複合酸化物、例えばＳｉ
Ｏ₂ −ＭｇＯ，ＳｉＯ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃，ＳｉＯ₂ −Ｔｉ
Ｏ₂ ，ＳｉＯ₂ −Ｖ₂ Ｏ₅ ，ＳｉＯ₂ −Ｃｒ₂ Ｏ₃ ，Ｓ
ｉＯ₂−ＴｉＯ₂ −ＭｇＯ等も使用し得る。これら金属
酸化物の形状は通常粉末状のものが用いられる。粉末の
大きさ及び形状等の形体は、得られるオレフィン重合体
の形体に影響を及ぼすことが多いので、適宜調節するこ
とが望ましい。金属酸化物は、使用に当って被毒物質を
除去する目的等から、可能な限り高温で焼成し、更に大
気と直接接触しないように取扱うのが望ましい。

【０００９】（２）マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式ＭｇＲ¹ Ｒ² で表わされ
る。式において、Ｒ¹及びＲ² は同一か異なる炭化水素
基、ＯＲ基（Ｒは炭化水素基）、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、Ｒ¹ 及びＲ² の炭化水素基としては、炭
素数１〜２０個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、ＯＲ基としては、Ｒが炭素
数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。

【００１０】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル、Ｐｒ :プ
ロピル、Ｂｕ：ブチル、Ｈｅ：ヘキシル、Ｏｃｔ：オク
チル、Ｐｈ：フェニル、ｃｙＨｅ：シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。ＭｇＭｅ₂ ，ＭｇＥｔ₂ , Ｍｇｉ−Ｐ
ｒ₂ , ＭｇＢｕ₂ ，ＭｇＨｅ₂ ，ＭｇＯｃｔ₂ ，ＭｇＥ
ｔＢｕ，ＭｇＰｈ₂ ，ＭｇｃｙＨｅ₂ ，Ｍｇ（ＯＭｅ）
₂ ，Ｍｇ（ＯＥｔ）₂ ，Ｍｇ（ＯＢｕ）₂ ，Ｍｇ（ＯＨ
ｅ）₂ ，Ｍｇ（ＯＯｃｔ）₂ ，Ｍｇ（ＯＰｈ）₂ ，Ｍｇ
（ＯｃｙＨｅ）₂ , ＥｔＭｇＣｌ，ＢｕＭｇＣｌ，Ｈｅ
ＭｇＣｌ，ｉ−ＢｕＭｇＣｌ，ｔ−ＢｕＭｇＣｌ，Ｐｈ
ＭｇＣｌ，ＰｈＣＨ₂ ＭｇＣｌ，ＥｔＭｇＢｒ，ＢｕＭ
ｇＢｒ，ＰｈＭｇＢｒ，ＢｕＭｇＩ，ＥｔＯＭｇＣｌ，
ＢｕＯＭｇＣｌ，ＨｅＯＭｇＣｌ，ＰｈＯＭｇＣｌ，Ｅ
ｔＯＭｇＢｒ，ＢｕＯＭｇＢｒ，ＥｔＯＭｇＩ，ＭｇＣ
ｌ₂ ，ＭｇＢｒ₂ ，ＭｇＩ₂ 。

【００１１】上記マグネシウム化合物は、成分Ａを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Ｘ_n Ｍ（ＯＲ) _m-n のアルコキシ基含有化合物〔式に
おいて、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２
０個の炭化水素基、Ｍは硼素、炭素、アルミニウム、珪
素又は燐原子、Ｒは炭素数１〜２０個の炭化水素基、ｍ
はＭの原子価、ｍ＞ｎ≧０を示す。〕を接触させる方法
が挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のＸ
及びＲの炭化水素基としては、メチル（Ｍｅ）、エチル
（Ｅｔ) 、プロピル、（Ｐｒ）、ｉ−プロピル（ｉ−Ｐ
ｒ) 、ブチル（Ｂｕ) 、ｉ−ブチル（ｉ−Ｂｕ) 、ヘキ
シル（Ｈｅ) 、オクチル（Ｏｃｔ）等のアルキル基、シ
クロヘキシル（ｃｙＨｅ) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル（Ｐｈ) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、３−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数１〜１０個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。

【００１２】Ｍが炭素の場合の化合物 式 Ｃ（ＯＲ）₄ に含まれるＣ（ＯＭｅ）₄ ，Ｃ（ＯＥ
ｔ）₄ , Ｃ（ＯＰｒ） ₄ , Ｃ（ＯＢｕ）₄ , Ｃ（Ｏｉ−
Ｂｕ）₄ ，Ｃ（ＯＨｅ）₄ , Ｃ（ＯＯｃｔ）₄：式 Ｘ
Ｃ（ＯＲ）₃ に含まれるＨＣ（ＯＭｅ）₃ , ＨＣ（ＯＥ
ｔ）₃ ，ＨＣ（ＯＰｒ）_{3 ,} ＨＣ（ＯＢｕ）₃ ，ＨＣ
（ＯＨｅ）₃ , ＨＣ（ＯＰｈ）₃ ；ＭｅＣ（ＯＭ
ｅ）₃ , ＭｅＣ（ＯＥｔ）₃ ，ＥｔＣ（ＯＭｅ）₃ ,Ｅ
ｔＣ（ＯＥｔ）₃，ｃｙＨｅＣ（ＯＥｔ）₃ , ＰｈＣ
（ＯＭｅ）₃ ，ＰｈＣ（ＯＥｔ）₃ ，ＣＨ₂ＣｌＣ（Ｏ
Ｅｔ）₃ ，ＭｅＣＨＢｒＣ（ＯＥｔ）₃ , ＭｅＣＨＣｌ
Ｃ（ＯＥｔ） ₃ ；ＣｌＣ（ＯＭｅ）₃ ，ＣｌＣ（ＯＥ
ｔ）₃ ，ＣｌＣ（Ｏｉ−Ｂｕ）₃ ，ＢｒＣ（ＯＥ
ｔ）₃ ；式 Ｘ₂ Ｃ（ＯＲ）₂ に含まれるＭｅＣＨ（Ｏ
Ｍｅ）₂ , ＭｅＣＨ（ＯＥｔ）₂ , ＣＨ₂ （ＯＭ
ｅ）₂ , ＣＨ₂ （ＯＥｔ）₂ ，ＣＨ₂ ＣｌＣＨ（ＯＥ
ｔ）₂ ，ＣＨＣｌ₂ ＣＨ（ＯＥｔ）₂ ，ＣＣｌ₃ ＣＨ
（ＯＥｔ）₂ ，ＣＨ ₂ ＢｒＣＨ（ＯＥｔ）₂ ，ＰｈＣＨ
（ＯＥｔ）₂ 。

【００１３】Ｍが珪素の場合の化合物 式 Ｓｉ（ＯＲ）₄ に含まれるＳｉ（ＯＭｅ）₄ ，Ｓｉ
（ＯＥｔ）₄ ，Ｓｉ（ＯＢｕ）₄ ，Ｓｉ（Ｏｉ−Ｂｕ）
₄ ，Ｓｉ（ＯＨｅ）₄ ，Ｓｉ（ＯＯｃｔ）₄ ，Ｓｉ（Ｏ
Ｐｈ）₄ ：式 ＸＳｉ（ＯＲ）₃ に含まれるＨＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）₃ ，ＨＳｉ（ＯＢｕ）₃ ，ＨＳｉ（ＯＨｅ）₃ ，
ＨＳｉ（ＯＰｈ）₃ ；ＭｅＳｉ（ＯＭｅ）₃ ，ＭｅＳｉ
（ＯＥｔ）₃ ，ＭｅＳｉ（ＯＢｕ）₃ ，ＥｔＳｉ（ＯＥ
ｔ）₃ ，ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）₃ ，ＥｔＳｉ（ＯＰ
ｈ）₃ ；ＣｌＳｉ（ＯＭｅ）₃ ，ＣｌＳｉ（ＯＥ
ｔ）₃ ，ＣｌＳｉ（ＯＢｕ）₃ ，ＣｌＳｉ（ＯＰ
ｈ）₃ ，ＢｒＳｉ（ＯＥｔ）₃ ；式 Ｘ₂ Ｓｉ（ＯＲ）
₂ に含まれるＭｅ₂ Ｓｉ（ＯＭｅ）₂ ，Ｍｅ₂Ｓｉ（Ｏ
Ｅｔ）₂ ，Ｅｔ₂ Ｓｉ（ＯＥｔ）₂ ；ＭｅＣｌＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）₂ ；ＣＨＣｌ₂ ＳｉＨ（ＯＥｔ）₂ ；ＣＣｌ₃ Ｓ
ｉＨ（ＯＥｔ）₂ ；ＭｅＢｕＳｉ（ＯＥｔ）₂ ：Ｘ₃ Ｓ
ｉＯＲに含まれるＭｅ₃ ＳｉＯＭｅ，Ｍｅ₃ ＳｉＯＥ
ｔ，Ｍｅ₃ＳｉＯＢｕ，Ｍｅ₃ ＳｉＯＰｈ，Ｅｔ₃ Ｓｉ
ＯＥｔ，Ｐｈ₃ ＳｉＯＥｔ。

【００１４】Ｍが硼素の場合の化合物 式 Ｂ（ＯＲ）₃ に含まれるＢ（ＯＥｔ）₃ ，Ｂ（ＯＢ
ｕ）₃ , Ｂ（ＯＨｅ） ₃ ，Ｂ（ＯＰｈ）₃ 。

【００１５】Ｍがアルミニウムの場合の化合物 式 Ａｌ（ＯＲ）₃ に含まれるＡｌ（ＯＭｅ）₃ ，Ａｌ
（ＯＥｔ）₃ ，Ａｌ（ＯＰｒ）₃ ，Ａｌ（Ｏｉ−Ｐｒ）
₃ ，Ａｌ（ＯＢｕ）₃ ，Ａｌ（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ａｌ
（ＯＨｅ）₃ ，Ａｌ（ＯＰｈ）₃ 。

【００１６】Ｍが燐の場合の化合物 式 Ｐ（ＯＲ）₃ に含まれるＰ（ＯＭｅ）₃ , Ｐ（ＯＥ
ｔ）₃ , Ｐ（ＯＢｕ） ₃ ，Ｐ（ＯＨｅ）₃ ，Ｐ（ＯＰ
ｈ）₃ 。

【００１７】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIａ族金属（Ｍ）の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 ＭｇＲ¹ Ｒ
² ・ｎ（ＭＲ³ _m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、Ｒ³ は炭素数
１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、ｍは金属Ｍの原子価
を、ｎは０．１〜１０の数を示す。ＭＲ³ _m で表わされ
る化合物の具体例としては、ＡｌＭｅ₃ , ＡｌＥｔ₃ ，
Ａｌｉ−Ｂｕ₃ ，ＡｌＰｈ₃ ，ＺｎＭｅ₂ ，ＺｎＥ
ｔ₂ ，ＺｎＢｕ₂ ，ＺｎＰｈ₂ ，ＣａＥｔ₂ ，ＣａＰｈ
₂ 等が挙げられる。

【００１８】（３）チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。

【００１９】（４）電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。

【００２０】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−１，２−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−４−メチルシクロヘキセン−１，
２−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。

【００２１】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、ｐ−トルイル酸メチル、ｐ
−第三級ブチル安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ２−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。

【００２２】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイ
ル酸ブロミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。

【００２３】アルコール類は、一般式 ＲＯＨで表わさ
れる。式においてＲは炭素数１〜１２個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、ｐ−ターシャリーブチルフェノール、
ｎ−オクチルフェノール等である。

【００２４】エーテル類は、一般式ＲＯＲ¹ で表わされ
る。式においてＲ，Ｒ¹ は炭素数１〜１２個のアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キルであり、ＲとＲ¹ は同じでも異ってもよい。その具
体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイ
ソアミルエーテル、ジ−２−エチルヘキシルエーテル、
ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリ
ルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチル
フェニルエーテル等である。

【００２５】成分Ａの調製法としては、金属酸化物
（成分１）、マグネシウム化合物（成分２）、チタン化
合物（成分３）及び電子供与性化合物（成分４）をその
順序に接触させる。成分１と成分２を接触させた後、
成分４と成分３をその順序に接触させる。成分１，成
分２を接触させた後、成分３と成分４を同時に用いて接
触させる、成分２と成分３を接触させた後、成分４と
成分１をその順序に接触させる、成分２と成分４を接
触させた後、成分３と成分１をその順序に接触させる、
成分２，成分３及び成分４を同時に接触させた後、成
分１を接触させる等の方法が採用し得る。又、成分３を
用いて接触させる前にハロゲン含有化合物と接触させる
こともできる。

【００２６】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第 IIIａ族、IVａ
族、Ｖａ族元素のハロゲン化物（以下、金属ハライドと
いう。）等が挙げられる。

【００２７】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数１〜
１２個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、１，２−
ジクロルエタン、１，２−ジブロムエタン、１，２−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、１，１，２−トリクロルエチ
レン、１，１，２−トリブロモエチレン、１，１，２,
２−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、ｎ−プロピルク
ロライド、１，２−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ｐ−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、ｐ−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。

【００２８】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。それら化合
物を例示すると、２−クロルエタノール、１−クロル−
２−プロパノール、３−クロル−１−プロパノール、１
−クロル−２−メチル−２−プロパノール、４−クロル
−１−ブタノール、５−クロル−１−ペンタノール、６
−クロル−１−ヘキサノール、３−クロル−１，２−プ
ロパンジオール、２−クロルシクロヘキサノール、４−
クロルベンズヒドロール、（ｍ，ｏ，ｐ）−クロルベン
ジルアルコール、４−クロルカテコール、４−クロル−
（ｍ，ｏ）−クレゾール、６−クロル−（ｍ，ｏ）−ク
レゾール、４−クロル−３，５−ジメチルフェノール、
クロルハイドロキノン、２−ベンジル−４−クロルフェ
ノール、４−クロル−１−ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）
−クロルフェノール、ｐ−クロル−α−メチルベンジル
アルコール、２−クロル−４−フェニルフェノール、６
−クロルチモール、４−クロルレゾルシン、２−ブロム
エタノール、３−ブロム−１−プロパノール、１−ブロ
ム−２−プロパノール、１−ブロム−２−ブタノール、
２−ブロム−ｐ−クレゾール、１−ブロム−２−ナフト
ール、６−ブロム−２−ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−
ブロムフェノール、４−ブロムレゾルシン、（ｍ，ｏ，
ｐ）−フロロフェノール、ｐ−イオドフェノール：２，
２−ジクロルエタノール、２，３−ジクロル−１−プロ
パノール、１，３−ジクロル−２−プロパノール、３−
クロル−１−（α−クロルメチル）−１−プロパノー
ル、２，３−ジブロム−１−プロパノール、１，３−ジ
ブロム−２−プロパノール、２，４−ジブロムフェノー
ル、２，４−ジブロム−１−ナフトール：２，２，２−
トリクロルエタノール、１，１，１−トリクロル−２−
プロパノール、β，β，β−トリクロル−ｔｅｒｔ−ブ
タノール、２，３，４−トリクロルフェノール、２，
４，５−トリクロルフェノール、２，４，６−トリクロ
ルフェノール、２，４，６−トリブロムフェノール、
２，３，５−トリブロム−２−ヒドロキシトルエン、
２，３，５−トリブロム−４−ヒドロキシトルエン、
２，２，２−トリフルオロエタノール、α，α，α−ト
リフルオロ−ｍ−クレゾール、２，４，６−トリイオド
フェノール：２，３，４，６−テトラクロルフェノー
ル、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビスフ
ェノールＡ、テトラブロムビスフェノールＡ、２，２，
３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、２，３，
５，６−テトラフルオロフェノール、テトラフルオロレ
ゾルシン等が挙げられる。

【００２９】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、ＨＳｉＣｌ₃ ，Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ ，Ｈ₃ Ｓ
ｉＣｌ，ＨＣＨ₃ ＳｉＣｌ₂ , ＨＣ₂ Ｈ₅ ＳｉＣｌ₂ ，
Ｈ（ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）ＳｉＣｌ₂ ，ＨＣ₆ Ｈ₅ ＳｉＣｌ
_{2 ,} Ｈ（ＣＨ₃ ) ₂ ＳｉＣｌ，Ｈ（ｉ−Ｃ₃ Ｈ₇ ）₂ Ｓ
ｉＣｌ，Ｈ₂ Ｃ₂ Ｈ₅ ＳｉＣｌ，Ｈ₂ （ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）
ＳｉＣｌ、Ｈ₂ （Ｃ₆ Ｈ₄ ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ、ＨＳｉＣ
ｌ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₂ 等が挙げられる。

【００３０】金属ハライドとしては、Ｂ，Ａｌ，Ｇａ，
Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂ
ｉの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にＢＣｌ₃ ，ＢＢｒ₃ , ＢＩ₃ ，ＡｌＣｌ₃ ，ＡｌＢｒ
₃ , ＧａＣｌ₃ ，ＧａＢｒ₃, ＩｎＣｌ₃ ，ＴｌＣ
ｌ₃ ，ＳｉＣｌ₄ ，ＳｎＣｌ₄ ，ＳｂＣｌ₅ ，ＳｂＦ₅
等が好適である。

【００３１】成分１，成分２，成分３及び成分４、更に
必要に応じて接触させることのできるハロゲン含有化合
物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混
合攪拌するか、機械的に共粉砕することによりなされ
る。接触は４０〜１５０℃の加熱下で行うことができ
る。

【００３２】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。

【００３３】本発明における成分Ａの調製法の具体例と
しては、特開昭５８−１６２６０７号、同５５−９４９
０９号、同５５−１１５４０５号、同５７−１０８１０
７号、同６１−２１１０９号、同６１−１７４２０４
号、同６１−１７４２０５号、同６１−１７４２０６
号、同６２−７７０６号公報等に開示されている方法等
が挙げられる。より詳細には、

【００３４】 金属酸化物とマグネシウムジアルコキ
シドとの反応生成物を、電子供与性化合物及び４価のハ
ロゲン化チタンと接触させる方法（特開昭５８−１６２
６０７号公報）、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド
化合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物及び四塩化
チタンと接触させる方法（特開昭５５−９４９０９号公
報）、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合
物との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電
子供与性化合物及びハロゲン化珪素化合物と接触させる
方法（特開昭５５−１１５４０５号、同５７−１０８１
０７号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボ
ン酸若しくはその誘導体及びチタン化合物を接触させる
方法（特開昭６１−１７４２０４号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、水素−珪素結合を有する珪素化合物、電子供与性化
合物及びチタン化合物を接触させる方法（特開昭６１−
１７４２０５号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、ハロゲン元素若しくはハロゲン含有化合物、電子供
与性化合物及びチタン化合物を接触させる方法（特開昭
６１−１７４２０６号公報）、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウム及びハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物及びチタン化合物を
接触させる方法（特開昭６１−２１１０９号公報）、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウム及びヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物（前記アルコキシ基含有
化合物に相当）を接触させることによって得られる固体
を、ハロゲン含有アルコールと接触させ、更に電子供与
性化合物及びチタン化合物と接触させる方法（特開昭６
２−７７０６号公報）である。これらの内でも〜の
方法が、特に，の方法が望ましい。

【００３５】上記のようにして成分Ａは調製されるが、
成分Ａは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。

【００３６】又、成分Ａは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分Ａ中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機アルミニウム化合物の中から選ばれる。

【００３７】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常１００℃以下、望ましくは−１０〜＋
５０℃の温度で行われる。成分Ａ中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分Ａ１ｇ当り通常０．１〜１０
０ｇである。

【００３８】成分Ａとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Ａを調製する際に用いら
れる化合物およびＳｉ−Ｏ−Ｃ結合もしくはＳｉ−Ｎ−
Ｃ結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Ａは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。

【００３９】有機アルミニウム化合物 有機アルミニウム化合物（以下成分Ｂという。）は、一
般式 Ｒ_n ＡｌＸ_3-n（但し、Ｒはアルキル基又はアリ
ール基、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子
を示し、ｎは１≦ｎ≦３の範囲の任意の数である。）で
示されるものであり、例えばトリアルキルアルミニウ
ム、ジアルキルアルミニウムモノハライド、モノアルキ
ルアルミニウムジハライド、アルキルアルミニウムセス
キハライド、ジアルキルアルミニウムモノアルコキシド
及びジアルキルアルミニウムモノハイドライドなどの炭
素数１ないし１８個、好ましくは炭素数２ないし６個の
アルキルアルミニウム化合物又はその混合物若しくは錯
化合物が特に好ましい。具体的には、トリメチルアルミ
ニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミ
ニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリブチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシ
ルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジメ
チルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジエチルアルミ
ニウムアイオダイド、ジイソブチルアルミニウムクロリ
ドなどのジアルキルアルミニウムモノハライド、メチル
アルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリ
ド、メチルアルミニウムジブロミド、エチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジアイオダイド、イ
ソブチルアルミニウムジクロリドなどのモノアルキルア
ルミニウムジハライド、エチルアルミニウムセスキクロ
リドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド、ジメ
チルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジプロ
ピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウ
ムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムフェノキシド
などのジアルキルアルミニウムモノアルコキシド、ジメ
チルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウム
ハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、
ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキ
ルアルミニウムハイドライドが挙げられる。これらの中
でも、トリアルキルアルミニウムが、特にトリエチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが望ましい。

【００４０】有機珪素化合物 有機アルミニウム化合物（成分Ｂ）の存在下、固体触媒
成分（成分Ａ）と接触させる有機珪素化合物（以下、成
分Ｃという。）は、前記一般式で表わされる。

【００４１】式において、Ｒ¹ のアルキレン基は−Ｃ_n
Ｈ_2n−（ｎ＝１〜１０）で表わされるが、望ましくは−
（ＣＨ₂ ）_n −で表わされる（ポリ）メチレン基及びイ
ソプロピレン基である。又、アリーレン基は二価の芳香
族炭化水素を示すが、望ましくはフェニレン、ビフェニ
レン、ナフチレン基、特に望ましくはフェニレン基であ
る。

【００４２】Ｒ² ，Ｒ³ 及びＲ⁴ ＯにおけるＲ⁴ の脂肪
族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基等
が、脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基、シ
クロアルケニル基、シクロアルカジエニル基等が、芳香
族炭化水素基としては、アリール基、アルアルキル基等
が挙げられる。

【００４３】アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、アミル、ｉ−アミル、ｔ−アミル、ヘ
キシル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル基等
が、アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニ
ル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、
１−オクテニル、１−デケニル、１−メチル−１−ペン
チニル、１−メチル−１−ヘプテニル、１−メチルエテ
ニル、１−エチルエテニル、１−ｎ−プロピルエテニ
ル、１−ｎ−ブチルエテニル等が、シクロアルキル基と
しては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシク
ロヘキシル基等が、シクロアルケニル基としては、シク
ロペンテニル、シクロヘキセニル、メチルシクロヘキセ
ニル基等が、シクロアルカジエニル基としては、シクロ
ペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、インデ
ニル基等が、アリール基としては、フェニル、トリル、
キシリル基等が、アルアルキル基としては、ベンジル、
フェネチル、３−フェニルプロピル基等が挙げられる。

【００４４】以下、成分Ｃの具体例を列挙する。なお、
下記において、ＶはＣＨ₂ ＝ＣＨを意味し、ＭｅはＣＨ
₃ （メチル基）、ＥｔはＣ₂ Ｈ₅ （エチル基）、Ｐｒは
（Ｃ ₃ Ｈ₇ （プロピル基）、ＢｕはＣ₄ Ｈ₉ （ブチル
基）、ＰｅはＣ₅ Ｈ₁₁（ペンチル基）、ＨｅｘはＣ₆ Ｈ
₁₃（ヘキシル基）、ＰｈはＣ₆ Ｈ₅ （フェニル基）、ｃ
ｙはシクロをそれぞれ示す。なお、以下化学式における
〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕のＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅは１−
メチルエテニルを、〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕のＣ（＝
ＣＨ₂ ）Ｅｔは１−エチルエテニルをそれぞれ示す。

【００４５】（１）ｘ＝１，ｙ＝０，ｚ＝３のとき Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｏｓ−Ｂ
ｕ）₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ
₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ
（Ｏｎ−Ｈｅｘ） ₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ〔ＯＣ（＝Ｃ
Ｈ₂ ）Ｍｅ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ〔ＯＣ（＝Ｃ
Ｈ₂ ）Ｅｔ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ
₃ Ｈ₆ −Ｓｉ（Ｏｓ−Ｂｕ）₃ ，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｓｉ
（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）
₃ ，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ） ₃ ，Ｖ−Ｃ₃
Ｈ₆ −Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆
−Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓ
ｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂ
ｕ）₃，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｏｓ−Ｂｕ）₃ ，Ｖ−Ｃ
₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ
（Ｏｎ−Ｐｅ）₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅ
ｘ） ₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕
₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₃ ，
Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ（Ｏｓ−Ｂ
ｕ）₃ ，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ
₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₃ ，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ
（Ｏｎ−Ｈｅｘ） ₃ ，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ〔ＯＣ（＝Ｃ
Ｈ₂ ）Ｍｅ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀−Ｓｉ〔ＯＣ（＝Ｃ
Ｈ₂ ）Ｅｔ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｓ−Ｂｕ）₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ
（Ｏｔ−Ｂｕ）₃，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）
₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ） ₃ ，Ｖ−Ｃ₆
Ｈ₁₂−Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂
−Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓ
ｉ（ＯＰｈ）₃ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（ＯｃｙＨｅｘ）
₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（ＯＰｈ）₃ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −
Ｓｉ（ＯｃｙＨｅｘ）₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（ＯＰ
ｈ）₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（ＯｃｙＨｅｘ）₃ ，Ｖ−
Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₃ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｓｉ
（Ｏｔ−Ｂｕ）₃ 。

【００４６】（２）ｘ＝１，ｙ＝１，ｚ＝２のとき Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ
₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｔ−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄
−Ｓｉ（Ｅｔ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ ₄ −Ｓｉ
（ｎ−Ｐｒ）（Ｏｔ−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ
（Ｏｔ−Ｂｕ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ
（Ｍｅ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈−Ｓｉ（Ｅ
ｔ）（Ｏｔ−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（ｎ−Ｐ
ｒ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（ｉ−Ｐ
ｒ）（Ｏｔ−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｍｅ）
（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｔ
−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂｕ）（Ｏｉ
−Ｐｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）（Ｏｔ
−Ｂｕ）₂ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｐｈ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（ｃｙＨｅｘ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（Ｐｈ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ −Ｓｉ（ｃｙＨｅｘ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（Ｐｈ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂−Ｓｉ（ｃｙＨｅｘ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｉ−Ｐ
ｒ）₂ ，Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）₂ 。

【００４７】（３）ｘ＝２，ｙ＝０，ｚ＝２のとき （Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₂
Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓ
ｉ（Ｏｓ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−
Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₂ ，
（Ｖ−Ｃ₂ Ｈ₄）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）₂ ，（Ｖ−Ｃ
₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₂ Ｈ₄ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ ）₂
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ（Ｏｓ
−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₂ ，
（Ｖ−Ｃ₃ Ｈ₆）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）₂ ，（Ｖ−Ｃ
₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₃ Ｈ₆ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ ）₂
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ（Ｏｓ
−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₂ ，
（Ｖ−Ｃ₄ Ｈ₈）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）₂ ，（Ｖ−Ｃ
₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₄ Ｈ₈ ）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀）₂
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ（Ｏｓ
−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₂ ，
（Ｖ−Ｃ₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）₂ ，（Ｖ−Ｃ
₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₅ Ｈ₁₀）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂
Ｓｉ（Ｏｎ−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｓ
−Ｂｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂ
ｕ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｐｅ）₂ ，
（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）₂ ，（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｍｅ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ〔ＯＣ（＝ＣＨ₂ ）Ｅｔ〕₂ ，（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂） ₂ Ｓｉ（ＯＰｈ）₂ ，（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ
（ＯｃｙＨｅｘ）₂ 。

【００４８】（４）ｘ＝２，ｙ＝１，ｚ＝１のとき （Ｖ−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｔ−Ｂｕ），（Ｖ
−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｏｎ−Ｐｅ），（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｅｔ）（Ｏｎ−Ｈｅｘ），（Ｖ−Ｃ₆
Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｔ−Ｂｕ）（Ｏｉ−Ｐｒ），（Ｖ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｏｎ−Ｈｅｘ）（Ｏｔ−Ｂｕ），（Ｖ
−Ｃ₆ Ｈ₁₂）₂ Ｓｉ（Ｐｈ）（ＯＰｈ），（Ｖ−Ｃ₆ Ｈ
₁₂）₂ Ｓｉ（ｃｙＨｅｘ）（ＯｃｙＨｅｘ）。

【００４９】予備重合 固体触媒成分（成分Ａ）と有機珪素化合物（成分Ｃ）の
接触は、有機アルミニウム化合物（成分Ｂ）の存在下に
行われる。この接触（以下、予備重合という。）により
成分Ａに成分Ｃの重合体が取り込まれる。

【００５０】予備重合は、前記の不活性媒体の存在下で
行うのが望ましい。予備重合は、通常１００℃以下の温
度、望ましくは−３０℃〜＋５０℃、更に望ましくは−
５℃〜＋３０℃の温度で行われる。重合方式としては、
バッチ式、連続式のいずれでもよく、又二段以上の多段
で行ってもよい。多段で行う場合、重合条件をそれぞれ
変え得ることは当然である。成分Ｂは、予備重合系での
濃度が５０〜５００ミリモル／リットル、望ましくは８
０〜２００ミリモル／リットルになるように用いられ、
又成分Ａ中のチタン１グラム原子当り、４〜５０，００
０モル、望ましくは６〜１，０００モルとなるように用
いられる。

【００５１】予備重合は、電子供与性化合物の存在下に
行ってもよい。電子供与性化合物としては、成分Ａを調
製する際に用いられる前記の化合物の中から適宜選ばれ
る他、有機珪素化合物からなる電子供与性化合物や、窒
素、イオウ、酸素、リン等のヘテロ原子を含む電子供与
性化合物も使用可能である。

【００５２】有機珪素化合物としては、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結
合又はＳｉ−Ｎ−Ｃ結合を有する有機珪素化合物が挙げ
られるが、望ましくはＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物
である。このような化合物としては、一般式 Ｒ_n Ｓｉ
（ＯＲ¹ ）_4-n 〔但し、Ｒは炭化水素基又はハロゲン原
子、Ｒ¹ は炭化水素基、０≦ｎ≦３を示す。〕で表され
る化合物が挙げられる。上記一般式におけるＲの炭化水
素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基、アルケニル基、アルカジエニル
基、シクロアルケニル基、シクロアルカジニル基等が挙
げられる。Ｒのハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨ
ウ素等が挙げられる。又、Ｒ¹ の炭化水素基としてはア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル
基等が挙げられる。更に、ｎ個のＲの炭化水素と（４−
ｎ）個のＯＲ¹ のＲ¹ の炭化水素基は同じでも異なって
もよい。

【００５３】その具体例としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラ（ｐ−メチルフェノキシ）シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフェノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフェノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジメ
チルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ジメチルジヘキシルオキシシラン、ジメチルジフェ
ノキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ
イソブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ
ブチルジイソプロポキシシラン、ジブチルジブトキシシ
ラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジイソブチルジエ
トキシシラン、ジイソブチルジイソブトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラ
ン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベンジルジエトキ
シシラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプ
ロポキシシラン、ジフェニルジアリルオキシシラン、メ
チルフェニルジメトキシシラン、クロロフェニルジエト
キシシラン等が挙げられる。

【００５４】ヘテロ原子を含む電子供与性化合物の具体
例としては、窒素原子を含む化合物として、２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、２，６−ジメチルピ
ペリジン、２，６−ジエチルピペリジン、２，６−ジイ
ソプロピルピペリジン、２，６−ジイソブチル−４−メ
チルピペリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジン、２，２，５，５−テトラメチルピロリジン、
２，５−ジメチルピロリジン、２，５−ジエチルピロリ
ジン、２，５−ジイソプロピルピロリジン、１，２，
２，５，５−ペンタメチルピロリジン、２，２，５−ト
リメチルピロリジン、２−メチルピリジン、３−メチル
ピリジン、４−メチルピリジン、２，６−ジイソプロピ
ルピリジン、２，６−ジイソブチルピリジン、１，２，
４−トリメチルピペリジン、２，５−ジメチルピペリジ
ン、ニコチン酸メチル、ニコチン酸エチル、ニコチン酸
アミド、安息香酸アミド、２−メチルピロール、２，５
−ジメチルピロール、イミダゾール、トルイル酸アミ
ド、ベンゾニトリル、アセトニトリル、アニリン、パラ
トルイジン、オルトトルイジン、メタトルイジン、トリ
エチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、テト
ラメチレンジアミン、トリブチルアミン等が、イオウ原
子を含む化合物として、チオフェノール、チオフェン、
２−チオフェンカルボン酸エチル、３−チオフェンカル
ボン酸エチル、２−メチルチオフェン、メチルメルカプ
タン、エチルメルカプタン、イソプロピルメルカプタ
ン、ブチルメルカプタン、ジエチルチオエーテル、ジフ
ェニルチオエーテル、ベンゼンスルフォン酸メチル、メ
チルサルファイト、エチルサルファイト等が、酸素原子
を含む化合物として、テトラヒドロフラン、２−メチル
テトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、
２−エチルテトラヒドロフラン、２，２，５，５−テト
ラエチルテトラヒドロフラン、２，２，５，５−テトラ
メチルテトラヒドロフラン、２，２，６，６−テトラエ
チルテトラヒドロピラン、２，２，６，６−テトラメチ
ルヒドロピラン、ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテ
ル、ジフェニルエーテル、アニソール、アセトフェノ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン、ｏ−トリル−ｔ−ブチルケトン、メチル−２，６−
ジｔ−ブチルフェニルケトン、２−フラル酸エチル、２
−フラル酸イソアミル、２−フラル酸メチル、２−フラ
ル酸プロピル等が、リン原子を含む化合物として、トリ
フェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェ
ニルホスファイト、トリベンジルホスファイト、ジエチ
ルホスフェート、ジフェニルホスフェート等が挙げられ
る。

【００５５】必要に応じて用いられる電子供与性化合物
は、予備重合系での濃度が１〜１００ミリモル／リット
ル、望ましくは５〜５０ミリモル／リットルになるよう
に用いられる。

【００５６】予備重合により成分Ａ中に取り込まれる成
分Ｃの重合体を、成分Ａ１ｇ当り０．０５〜５００ｇ、
特に０．２〜５０ｇとするのが望ましい。

【００５７】上記のようにして調製された本発明の触媒
成分は、前記の不活性媒体で希釈或いは洗浄することが
できるが、触媒成分の保存劣化を防止する観点からは、
特に洗浄するのが望ましい。洗浄後、必要に応じて乾燥
してもよい。又、触媒成分を保存する場合は、出来る丈
低温で保存するのが望ましく、−５０℃〜＋３０℃、特
に−２０℃〜＋５℃の温度範囲が推奨される。

【００５８】α−オレフィンの重合 上記のようにして得られた本発明の触媒成分は、有機金
属化合物、更には必要に応じて電子供与性化合物と組み
合せて炭素数３〜１０個のα−オレフィンの単独重合又
は他のモノオレフィン若しくは炭素数３〜１０個のジオ
レフィンとの共重合の触媒として有用であるが、特に炭
素数３ないし６個のα−オレフィン、例えばプロピレ
ン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキ
セン等の単独重合又は上記のα−オレフィン相互及び／
又はエチレンとのランダム及びブロック共重合の触媒と
して極めて優れた性能を示す。

【００５９】用い得る有機金属化合物は、周期表第Ｉ族
ないし第III 族金属の有機化合物である。該化合物とし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、前記固体触媒成分
（成分Ａ）の予備重合の際に用いられる化合物の中から
適宜選ばれるが、トリアルキルアルミニウム、特にトリ
エチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが望
ましい。又、これらトリアルキルアルミニウムは、その
他の有機アルミニウム化合物、例えば、工業的に入手し
易いジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウ
ムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジ
エチルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウム
ハイドライド又はこれらの混合物若しくは錯化合物等と
併用することができる。

【００６０】又、酸素原子や窒素原子を介して２個以上
のアルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物も使
用可能である。そのような化合物としては、例えば（Ｃ
₂ Ｈ₅ ）₂ ＡｌＯＡｌ（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ ，（Ｃ₄ Ｈ₉ ）₂
ＡｌＯＡｌ（Ｃ₄ Ｈ ₉ ）₂ 、

【化３】 等を例示できる。

【００６１】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他ＬｉＡｌ（Ｃ
₂ Ｈ₅ ）₄ ，ＬｉＡｌ（Ｃ₇ Ｈ₁₅）₄ 等の化合物が挙げ
られる。

【００６２】本発明の触媒成分及び有機金属化合物と必
要に応じて組み合せることができる電子供与性化合物と
しては、前記成分Ａの予備重合の際に用いられることが
ある電子供与性化合物の中から適宜選ばれる。これら電
子供与性化合物は、二種以上用いてもよい。又、これら
電子供与性化合物は、有機金属化合物を触媒成分と組合
せて用いる際に用いてもよく、予め有機金属化合物と接
触させた上で用いてもよい。

【００６３】本発明の触媒成分に対する有機金属化合物
の使用量は、該触媒中のチタン１グラム原子当り、通常
１〜２，０００グラムモル、特に２０〜５００グラムモ
ルが望ましい。

【００６４】又、有機金属化合物と電子供与性化合物の
比率は、電子供与性化合物１モルに対して有機金属化合
物がアルミニウムとして０．１〜４０、好ましくは１〜
２５グラム原子の範囲で選ばれる。

【００６５】プロピレンの共重合 プロピレンの共重合は、前記の重合触媒成分の存在下、
プロピレンとエチレンを共重合することにより行われ
る。重合反応は、気相、液相のいずれでもよく、液相で
重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブタン、ノル
マルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー中で行うこと
ができる。重合温度は、通常−８０℃〜＋１５０℃、好
ましくは４０〜１２０℃の範囲である。重合圧力は、例
えば１〜６０気圧でよい。プロピレンとエチレンの使用
割合は、得られる共重合体中のエチレン含量が０．０１
〜１０重量％、望ましくは０．１〜５重量％となるよう
に適宜設定される。又共重合反応は、得られる共重合体
のメルトフローレート（ＭＦＲ）を０．０１〜２００ｇ
／１０分、特に０．１〜１００ｇ／１０分とするのが望
ましく、その調節は通常水素若しくは公知の分子量調節
剤の使用量を調節することによりなされる。

【００６６】

【実施例】本発明を実施例及び比較例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント（％）は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、ＢＨＴ（２，６−ジターシャリーブチル−４
−メチルフェノール）を０．１８重量％、ＤＳＴＤＰ
（ジステアリルチオジプロピオネート）を０．０８重量
％、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０〔テトラキス−｛メチレン
−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロ−シンナメート）メタン｝〕を０．０４重量％、カ
ルシウムステアレートを０．０６重量％それぞれ添加
し、溶融混練によりペレットとした後、射出成形により
試験片を作成して（ヘイズの測定には厚さ１．０mmのシ
ートとした）行った。曲げ弾性率：ＪＩＳ Ｋ ７２０
３−１９８２に：ヘイズ：ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準
拠。又、ポリマーのＭＦＲはＡＳＴＭ Ｄ−１２３８に
従って測定した。共重合体のエチレン含量は、赤外線吸
収スペクトル法により、７３３cm^-1の吸収の透過率を測
定して求めた。なお、試験片は、プレス成形により約
０．５mmの厚さのフィルムとしたものを、アニーリング
処理して得た。

【００６７】実施例１ 成分Ａの調製 滴下ロート及び攪拌機を取付けた２００mlのフラスコを
窒素ガスで置換した。このフラスコに、酸化ケイ素（Ｄ
ＡＶＩＳＯＮ社製、商品名Ｇ−９５２）を窒素気流中に
おいて２００℃で２時間、更に７００℃で５時間焼成し
たものを５ｇ及びｎ−ヘプタンを４０ml入れた。更にｎ
−ブチルエチルマグネシウム（以下、ＢＥＭという。）
の２０％ｎ−ヘプタン溶液（テキサスアルキルズ社製、
商品名ＭＡＧＡＬＡ ＢＥＭ）２０mlを加え、９０℃で
１時間攪拌した。上記懸濁液を０℃に冷却した後、これ
にテトラエトキシシラン１１．２ｇを２０mlのｎ−ヘプ
タンに溶解した溶液を滴下ロートから３０分掛けて滴下
した。滴下終了後、２時間掛けて５０℃に昇温し、５０
℃で１時間攪拌を続けた。反応終了後、デカンテーショ
ンにより上澄液を除去し、生成した固体を６０mlのｎ−
ヘプタンにより室温で洗浄し、更にデカンテーションに
より上澄液を除去した。このｎ−ヘプタンによる洗浄処
理を更に４回行った。上記の固体に、５０mlのｎ−ヘプ
タンを加えて懸濁液とし、これに２，２，２−トリクロ
ルエタノール８．０ｇを１０mlのｎ−ヘプタンに溶解し
た溶液を、滴下ロートから２５℃において１５分間掛け
て滴下した。滴下終了後２５℃で３０分間攪拌を続け
た。反応終了後、室温において、６０mlのｎ−ヘプタン
にて２回、６０mlのトルエンにて３回それぞれ洗浄を行
った。得られた固体（固体成分Ｉ）を分析したところ、
ＳｉＯ₂ ３６．６％、マグネシウム５．１％、塩素３
８．５％を含んでいた。上記で得られた固体成分Ｉに、
ｎ−ヘプタン１０ml及び四塩化チタン４０mlを加え、９
０℃迄昇温し、ｎ−ヘプタン５mlに溶解したフタル酸ジ
ｎ−ブチル０．６ｇを５分間掛けて添加した。その後、
１１５℃に昇温し、２時間反応させた。９０℃に降温し
た後、デカンテーションにより上澄液を除き、ｎ−ヘプ
タン７０mlで２回洗浄を行った。更に、ｎ−ヘプタン１
５mlと四塩化チタン４０mlを加え、１１５℃で２時間反
応させた。反応終了後、得られた固体物質を６０mlのｎ
−ヘキサンにて室温で８回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて１時間乾燥を行い、８．３ｇの触媒成分（成
分Ａ）を得た。この成分Ａには、３．１％のチタンの他
酸化ケイ素、塩素及びフタル酸ジｎ−ブチルが含まれて
いた。

【００６８】予備重合 攪拌機を取付けた５００mlの反応器に、窒素ガス雰囲気
下、上記で得られた成分Ａ２．１ｇ及びｎ−ヘプタン１
８０mlを入れ、攪拌しながら１０℃に冷却した。次にト
リエチルアルミニウム（以下ＴＥＡＬと略称する。）の
ｎ−ヘプタン溶液（２．０モル／リットル）を最終的な
反応系におけるＴＥＡＬ濃度が１００ミリモル／リット
ルになるように添加し、５分間攪拌した。次いで１−ヘ
キセニルトリイソプロポキシシラン１００mlを添加し、
４時間重合させた。重合終了後、各１００mlのｎ−ヘキ
サンで３回、室温にて固相部を洗浄した。更に、固相部
を室温で１時間減圧乾燥して、触媒成分を調製した。触
媒成分に含まれるマグネシウム量を測定した結果、予備
重合量は成分Ａ１ｇ当り１．３ｇであった。

【００６９】実施例２〜４ 実施例１の予備重合において、１−ヘキセニルトリイソ
プロポキシシランの代りに、表−１に示す有機珪素化合
物を、又ＴＥＡＬ若しくはＴＥＡＬの代りにトリイソブ
チルアルミニウム（ＴＩＢＡＬ）をそれぞれ表−１に示
す濃度で用い、かつ予備重合条件を表−１に示す通りに
した以外は、実施例１と同様にして成分Ｃの重合を行
い、触媒成分を調製した。なお実施例２及び３において
は、表−１に示す電子供与性化合物を表−１に示す濃度
で用いた。

【００７０】比較例１ 予備重合を行わなかった以外は、実施例１と同様にして
触媒成分（成分Ａ）を調製した。

【００７１】比較例２ 実施例１の予備重合において、１−ヘキセニルトリイソ
プロポキシシランの代りに、プロピレンを用いた以外
は、実施例１と同様にして触媒成分を調製した。

【００７２】

【表１】

【００７３】プロピレンの重合 窒素置換をして充分に乾燥された５リットルのオートク
レーブに、上記で得られた触媒成分５５．２mg、ｎ−ヘ
プタン１リットル中に０．６モルのトリエチルアルミウ
ニムを含む溶液４ml、及びｎ−ヘプタン１リットル中に
０．０８モルのジフェニルジメトキシシランを含む溶液
３mlを混合し、５分間保持したものを入れた。次いで、
水素を２．０リットル、液体プロピレン３リットルを圧
入した後、オートクレーブ内部温度を７０℃に昇温し、
エチレンを連続的に供給して、１時間重合を行った。重
合終了後、未反応のプロピレン、エチレン及び水素をパ
ージして、オートクレーブ内のポリマーを取り出した。
得られたポリマーのＭＦＲは１５．０ｇ／１０分、エチ
レン含量は３．１％であった。物性を測定したところ、
曲げ弾性率は１０．４１×１０³ kg／cm² 、ヘイズは１
８．７％であった。

【００７４】実施例２〜４、比較例１，２ 実施例１と同様にしてプロピレンの共重合を行い、それ
らの結果を表２に示した。各実施例及び比較例で得られ
た共重合体の曲げ弾性率とヘイズの値を図１にプロット
したが、各実施例で得られた共重合体は、曲げ弾性率と
ヘイズの物性バランスが、比較例で得られた共重合体の
それらに比べ優れていることが図１の結果から明白であ
る。

【００７５】

【表２】

【００７６】

【発明の効果】本発明の方法を実施することによって、
透明性と剛性のバランスに優れたポリプロピレン共重合
体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の実施例及び比較例で得られた
共重合体の曲げ弾性率とヘイズの測定値をプロットした
ものである。

【図２】図２は、本発明の方法を示すフローチャート図
である。

フロントページの続き (72)発明者 大倉 正寿 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 植木 聰 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）金属酸化物，マグネシウム，チタ
   ン，ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
   体触媒成分を、（Ｂ）有機アルミニウム化合物の存在
   下、（Ｃ）一般式 【化１】 〔但し、Ｒ¹ は炭素数１〜１０個のアルキレン基若しく
   はアリーレン基、Ｒ² は炭素数１〜１０個の脂肪族、脂
   環式若しくは芳香族炭化水素基又はＲ⁴ Ｏ、Ｒ³は炭素
   数３〜１０個の脂肪族、脂環式若しくは芳香族炭化水素
   基、Ｒ⁴ はＲ³ と同一か異なる炭素数３〜１０個の脂肪
   族、脂環式若しくは芳香族炭化水素基であり、ｘは１若
   しくは２、ｙは０若しくは１、ｚは４−ｘ−ｙであ
   る。〕で表わされる有機珪素化合物と接触させてなる重
   合触媒成分の存在下、プロピレンとエチレンを共重合す
   ることからなるエチレン含量０．０１〜１０重量％のプ
   ロピレン共重合体の製造方法。