JPH0596602A - ハニカム成形用ダイスの清掃方法 - Google Patents
ハニカム成形用ダイスの清掃方法Info
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- JPH0596602A JPH0596602A JP3265080A JP26508091A JPH0596602A JP H0596602 A JPH0596602 A JP H0596602A JP 3265080 A JP3265080 A JP 3265080A JP 26508091 A JP26508091 A JP 26508091A JP H0596602 A JPH0596602 A JP H0596602A
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- die
- molding die
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機質バインダーを含有する成形用原料を押
出成形し、複数の貫通孔を有する多孔質のハニカム形状
のセラミックス生成形体を成形する際に使用されるダイ
スを清掃する方法を提供する。 【構成】 複数の貫通孔を有する多孔質のハニカムフィ
ルタを、成形用ダイスにより、多糖類からなるバインダ
ーを含有する成形材料を用いて成形した後に、前記ダイ
スを加水分解酵素を含有する洗浄液中に浸漬する。
出成形し、複数の貫通孔を有する多孔質のハニカム形状
のセラミックス生成形体を成形する際に使用されるダイ
スを清掃する方法を提供する。 【構成】 複数の貫通孔を有する多孔質のハニカムフィ
ルタを、成形用ダイスにより、多糖類からなるバインダ
ーを含有する成形材料を用いて成形した後に、前記ダイ
スを加水分解酵素を含有する洗浄液中に浸漬する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の貫通孔を有する
多孔質のハニカムフィルタを有機質バインダーを含有す
る成形材料を用いてダイスにより成形した後に、そのダ
イスを清掃する方法に関するものである。
多孔質のハニカムフィルタを有機質バインダーを含有す
る成形材料を用いてダイスにより成形した後に、そのダ
イスを清掃する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
この種のハニカムフィルタを製造方法としては、例え
ば、セラミックス粉末を主成分とする成形材料を高粘度
のペーストに調製し、更にそのペーストを押出成形機の
出口側に設けられた成形用ダイスの孔から押し出すこと
により、ハニカム状の成形体となす方法がある。また、
セラミックス粉末を主成分とする前記成形材料には、押
出成形の際の成形性を高める目的で、セラミックス粉末
の他に数％程度のバインダーが配合される。このような
バインダーとしては、カルボキシメチルセルロース、メ
チルセルロース、デンプン、ポリビニルアルコール等の
有機質バインダーまたは珪酸ナトリウム等の無機質バイ
ンダーが使用され、中でもセルロース系のバインダーを
用いることが成形性を向上する上で好適であることが知
られている。
この種のハニカムフィルタを製造方法としては、例え
ば、セラミックス粉末を主成分とする成形材料を高粘度
のペーストに調製し、更にそのペーストを押出成形機の
出口側に設けられた成形用ダイスの孔から押し出すこと
により、ハニカム状の成形体となす方法がある。また、
セラミックス粉末を主成分とする前記成形材料には、押
出成形の際の成形性を高める目的で、セラミックス粉末
の他に数％程度のバインダーが配合される。このような
バインダーとしては、カルボキシメチルセルロース、メ
チルセルロース、デンプン、ポリビニルアルコール等の
有機質バインダーまたは珪酸ナトリウム等の無機質バイ
ンダーが使用され、中でもセルロース系のバインダーを
用いることが成形性を向上する上で好適であることが知
られている。
【０００３】ところが、セルロース系バインダーを配合
した成形材料を用いると、成形用ダイスの孔が目詰まり
を起こし易く、成形用ダイスの清掃が困難になる。その
ため、従来方法では、取り外したダイスを１日以上水槽
中に浸漬した後で高圧水を噴射して洗浄したり、孔内に
目詰まりしたペーストを隙間ゲージ等を用いて除去した
りするなど、清掃作業に多くの労力と時間とを費やすこ
とを余儀なくされた。しかし、このような面倒な方法で
ダイスの洗浄を行ったとしても、ダイスの孔内のペース
トを確実に除去することは難しかった。
した成形材料を用いると、成形用ダイスの孔が目詰まり
を起こし易く、成形用ダイスの清掃が困難になる。その
ため、従来方法では、取り外したダイスを１日以上水槽
中に浸漬した後で高圧水を噴射して洗浄したり、孔内に
目詰まりしたペーストを隙間ゲージ等を用いて除去した
りするなど、清掃作業に多くの労力と時間とを費やすこ
とを余儀なくされた。しかし、このような面倒な方法で
ダイスの洗浄を行ったとしても、ダイスの孔内のペース
トを確実に除去することは難しかった。
【０００４】本発明は上記の事情に鑑みて成されたもの
であり、その目的は、使用後のハニカム成形用ダイスに
付着した成形材料を短時間でかつ確実に除去することが
できるハニカム成形用ダイスの清掃方法を提供すること
にある。
であり、その目的は、使用後のハニカム成形用ダイスに
付着した成形材料を短時間でかつ確実に除去することが
できるハニカム成形用ダイスの清掃方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明では、複数の貫通孔を有する多孔質のハニカ
ムフィルタを、成形用ダイスにより、多糖類からなるバ
インダーを含有する成形材料を用いて成形した後に、前
記ダイスを清掃する方法において、前記成形用ダイスを
加水分解酵素を含有する洗浄液中に浸漬することにし
た。
に、本発明では、複数の貫通孔を有する多孔質のハニカ
ムフィルタを、成形用ダイスにより、多糖類からなるバ
インダーを含有する成形材料を用いて成形した後に、前
記ダイスを清掃する方法において、前記成形用ダイスを
加水分解酵素を含有する洗浄液中に浸漬することにし
た。
【０００６】
【作用】前記酵素の作用により、有機質バインダーを含
む成形材料間の結合力が小さくなるため、成形用ダイス
に付着した成形材料を短時間にかつ確実に除去すること
が可能になる。また、洗浄液中に含まれる加水分解酵素
は特定の化学結合のみを分解するものであるため、成形
用ダイス自体に化学的なダメージを与えることも少な
い。
む成形材料間の結合力が小さくなるため、成形用ダイス
に付着した成形材料を短時間にかつ確実に除去すること
が可能になる。また、洗浄液中に含まれる加水分解酵素
は特定の化学結合のみを分解するものであるため、成形
用ダイス自体に化学的なダメージを与えることも少な
い。
【０００７】前記加水分解酵素はセルラーゼであること
が望ましい。その理由は、前記成形材料に含まれるバイ
ンダーとしてセルロース系の化合物が使用される場合、
その化合物を選択的に分解するためである。
が望ましい。その理由は、前記成形材料に含まれるバイ
ンダーとしてセルロース系の化合物が使用される場合、
その化合物を選択的に分解するためである。
【０００８】成形材料にバインダーとして含まれるセル
ロース分子は、単糖類であるグルコースがβ−１，４−
グルコシド結合によって多数縮合した多糖類であること
が知られている。従って、前記成形用ダイスをセルラー
ゼを含有する洗浄液中に浸漬することにより、成形材料
に含まれるセルロースのβ−１，４−グルコシド結合が
各所で切断され、セルロースがより低分子化される。
ロース分子は、単糖類であるグルコースがβ−１，４−
グルコシド結合によって多数縮合した多糖類であること
が知られている。従って、前記成形用ダイスをセルラー
ゼを含有する洗浄液中に浸漬することにより、成形材料
に含まれるセルロースのβ−１，４−グルコシド結合が
各所で切断され、セルロースがより低分子化される。
【０００９】前記洗浄液中のセルラーゼの濃度は０．１
％〜１．０％であることが望ましい。この濃度が前記範
囲未満であると、セルロースに対して充分にセルラーゼ
が作用せず、成形材料が確実に除去されない。また、こ
の濃度が前記範囲を越えると、清掃にかかるコストが高
騰するため好ましくない。
％〜１．０％であることが望ましい。この濃度が前記範
囲未満であると、セルロースに対して充分にセルラーゼ
が作用せず、成形材料が確実に除去されない。また、こ
の濃度が前記範囲を越えると、清掃にかかるコストが高
騰するため好ましくない。
【００１０】前記洗浄液のｐＨは４．０〜４．５に調整
されることが望ましい。その理由は、前記範囲はセルラ
ーゼを使用する場合の好適な酵素活性領域だからであ
る。前記洗浄液に対する浸漬時間は３０分〜１８０分で
あることが望ましい。浸漬時間が前記範囲未満である
と、セルロースに対して充分にセルラーゼが作用せず、
成形材料が確実に除去されない。一方、前記範囲を越え
て浸漬処理を行ったとしても、効果に顕著な差は期待で
きない。また、ダイスの清掃作業全体に要する時間が長
くなるため好ましくない。
されることが望ましい。その理由は、前記範囲はセルラ
ーゼを使用する場合の好適な酵素活性領域だからであ
る。前記洗浄液に対する浸漬時間は３０分〜１８０分で
あることが望ましい。浸漬時間が前記範囲未満である
と、セルロースに対して充分にセルラーゼが作用せず、
成形材料が確実に除去されない。一方、前記範囲を越え
て浸漬処理を行ったとしても、効果に顕著な差は期待で
きない。また、ダイスの清掃作業全体に要する時間が長
くなるため好ましくない。
【００１１】前記洗浄液の温度は４０℃〜６０℃である
ことが望ましい。その理由は、前記範囲はセルラーゼを
使用する場合の好適な酵素活性領域だからである。この
温度が前記範囲未満であると、酵素反応が進む速度が遅
くなり、長い処理時間が必要になる。また、この温度が
前記範囲を越えると、熱によって酵素活性が失われる虞
れがある。
ことが望ましい。その理由は、前記範囲はセルラーゼを
使用する場合の好適な酵素活性領域だからである。この
温度が前記範囲未満であると、酵素反応が進む速度が遅
くなり、長い処理時間が必要になる。また、この温度が
前記範囲を越えると、熱によって酵素活性が失われる虞
れがある。
【００１２】前記洗浄液に対する浸漬処理は超音波振動
を付与しながら行われることが望ましい。その理由は、
洗浄液に物理的な振動を加えることにより、成形用ダイ
スを洗浄する効果が向上するからである。
を付与しながら行われることが望ましい。その理由は、
洗浄液に物理的な振動を加えることにより、成形用ダイ
スを洗浄する効果が向上するからである。
【００１３】
〔実施例１〕以下に、ハニカム成形体を押出成形した後
に、本発明のハニカム成形用ダイスの清掃方法に従い成
形用ダイスの清掃を行った一実施例について、図面に基
づき詳細に説明する。
に、本発明のハニカム成形用ダイスの清掃方法に従い成
形用ダイスの清掃を行った一実施例について、図面に基
づき詳細に説明する。
【００１４】図１には、本実施例にて使用される真空押
出成形機Ｍが示されている。この真空押出成形機Ｍは、
成形材料を混練するためのバックミルＢと、前記バック
ミルＢから送られる成形材料を圧縮するためのスクリュ
ー羽根Ｓと、成形材料をハニカム状に成形するための成
形用ダイスＤとを備えたオーガーＯと、バックミルＢと
オーガーＯとの間に設けられた脱気装置Ｖとによって構
成されている。
出成形機Ｍが示されている。この真空押出成形機Ｍは、
成形材料を混練するためのバックミルＢと、前記バック
ミルＢから送られる成形材料を圧縮するためのスクリュ
ー羽根Ｓと、成形材料をハニカム状に成形するための成
形用ダイスＤとを備えたオーガーＯと、バックミルＢと
オーガーＯとの間に設けられた脱気装置Ｖとによって構
成されている。
【００１５】本実施例ではハニカム成形体を成形するた
めの材料として、炭化珪素粉末１００重量部、セルロー
ス系バインダーとしてのカルボキシメチルセルロース７
重量部、グリセリン１重量部、界面活性剤としてのステ
アリン酸水溶液２重量部、ワックス水溶液４重量部及び
イオン交換水１５重量部を配合したものを用い、これら
をバックミルＢの中に投入して、均一に混練した。
めの材料として、炭化珪素粉末１００重量部、セルロー
ス系バインダーとしてのカルボキシメチルセルロース７
重量部、グリセリン１重量部、界面活性剤としてのステ
アリン酸水溶液２重量部、ワックス水溶液４重量部及び
イオン交換水１５重量部を配合したものを用い、これら
をバックミルＢの中に投入して、均一に混練した。
【００１６】前記成形材料のペーストは脱気装置Ｖによ
り脱気された後、オーガーＯに供給されると共に、スク
リュー羽根Ｓの回転によってオーガーＯの押出口側に圧
送される。これにより、成形用ダイスＤから連続的に成
形材料ペーストが押し出され、押し出されたペーストを
順次切断することにより、所望のハニカム成形体を得
た。
り脱気された後、オーガーＯに供給されると共に、スク
リュー羽根Ｓの回転によってオーガーＯの押出口側に圧
送される。これにより、成形用ダイスＤから連続的に成
形材料ペーストが押し出され、押し出されたペーストを
順次切断することにより、所望のハニカム成形体を得
た。
【００１７】このようにしてハニカム成形体の押出成形
を行った後、成形機の押出口から成形用ダイスＤを取り
外し、ダイスＤの清掃を行った。尚、使用後のダイスＤ
を観察したところ、ダイスＤの孔には前記ペーストが付
着し、全体的に目詰まりが生じていた。
を行った後、成形機の押出口から成形用ダイスＤを取り
外し、ダイスＤの清掃を行った。尚、使用後のダイスＤ
を観察したところ、ダイスＤの孔には前記ペーストが付
着し、全体的に目詰まりが生じていた。
【００１８】次いで、超音波洗浄機の水槽内に、０．５
％のセルラーゼ（和光製薬、商品名：ＥＣ３．２．１
４）水溶液を満たした後、その水溶液をｐＨ４．２，４
５℃に調節して、成形用ダイスＤ用の洗浄液とした。こ
の洗浄液中にダイスＤを浸漬して、６０分間超音波振動
を与えた。その後、１００kg/cm3の高圧水を噴射するこ
とにより目詰まりを除去した。
％のセルラーゼ（和光製薬、商品名：ＥＣ３．２．１
４）水溶液を満たした後、その水溶液をｐＨ４．２，４
５℃に調節して、成形用ダイスＤ用の洗浄液とした。こ
の洗浄液中にダイスＤを浸漬して、６０分間超音波振動
を与えた。その後、１００kg/cm3の高圧水を噴射するこ
とにより目詰まりを除去した。
【００１９】上記方法にて清掃されたダイスＤを調査し
た結果、成形体ダイスＤの孔内に目詰まりしていた成形
材料のペーストは完全に除去され、成形体ダイスＤ自体
に傷等が発生することもなかった。また、本実施例の清
掃方法によれば、ダイスＤの洗浄に１日以上要する従来
方法とは異なり、清掃に要する時間は１．５時間であっ
て、極めて短いものであった。 〔実施例２〕次に、実施例２のハニカム成形体の清掃方
法について説明する。本実施例２でも、使用後の成形用
ダイスＤを前記実施例１と同様の洗浄液に浸漬して洗浄
を行った。この場合、成形用ダイスＤを洗浄液内にて前
後、左右に振動させたり、回転させたりして、洗浄性の
向上を図った。その結果、前記実施例１と同様に、成形
体ダイスＤの孔内に目詰まりしていた成形材料のペース
トを完全に除去することができた。尚、洗浄に要した時
間は約３．０時間であり、従来の清掃方法に比して短時
間で清掃することができた。
た結果、成形体ダイスＤの孔内に目詰まりしていた成形
材料のペーストは完全に除去され、成形体ダイスＤ自体
に傷等が発生することもなかった。また、本実施例の清
掃方法によれば、ダイスＤの洗浄に１日以上要する従来
方法とは異なり、清掃に要する時間は１．５時間であっ
て、極めて短いものであった。 〔実施例２〕次に、実施例２のハニカム成形体の清掃方
法について説明する。本実施例２でも、使用後の成形用
ダイスＤを前記実施例１と同様の洗浄液に浸漬して洗浄
を行った。この場合、成形用ダイスＤを洗浄液内にて前
後、左右に振動させたり、回転させたりして、洗浄性の
向上を図った。その結果、前記実施例１と同様に、成形
体ダイスＤの孔内に目詰まりしていた成形材料のペース
トを完全に除去することができた。尚、洗浄に要した時
間は約３．０時間であり、従来の清掃方法に比して短時
間で清掃することができた。
【００２０】尚、本発明は上記の実施例１及び２のみに
限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内
において、その構成を変更することが勿論可能である。
例えば、前記セルロース系のバインダーに代えてデンプ
ンが用いられた場合には、アミラーゼ（α−アミラーゼ
等）を含む洗浄液に成形用ダイスＤを浸漬すれば良い。
前記酵素の作用により、デンプンのα−１，４−グルコ
シド結合が切断されるため、ダイスＤを確実に清掃する
ことができる。
限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内
において、その構成を変更することが勿論可能である。
例えば、前記セルロース系のバインダーに代えてデンプ
ンが用いられた場合には、アミラーゼ（α−アミラーゼ
等）を含む洗浄液に成形用ダイスＤを浸漬すれば良い。
前記酵素の作用により、デンプンのα−１，４−グルコ
シド結合が切断されるため、ダイスＤを確実に清掃する
ことができる。
【００２１】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のハニカム
成形用ダイスの清掃方法によれば、使用後のハニカム成
形用ダイスに付着した成形原料を短時間でかつ確実に除
去することができるという優れた効果を奏する。
成形用ダイスの清掃方法によれば、使用後のハニカム成
形用ダイスに付着した成形原料を短時間でかつ確実に除
去することができるという優れた効果を奏する。
【図１】 本実施例にて用いられる真空押出成形機の構
成を示す簡略図である。
成を示す簡略図である。
Ｄ （成形用）ダイス。
Claims (7)
- 【請求項１】複数の貫通孔を有する多孔質のハニカムフ
ィルタを、成形用ダイス（Ｄ）により、多糖類からなる
バインダーを含有する成形材料を用いて成形した後、前
記ダイス（Ｄ）を清掃する方法において、 前記成形用ダイス（Ｄ）を加水分解酵素を含有する洗浄
液中に浸漬することを特徴とするハニカム成形用ダイス
の清掃方法。 - 【請求項２】前記加水分解酵素はセルラーゼであること
を特徴とする請求項１に記載のハニカム成形用ダイスの
清掃方法。 - 【請求項３】前記洗浄液中のセルラーゼの濃度は０．１
％〜１．０％であることを特徴とする請求項２に記載の
ハニカム成形用ダイスの清掃方法。 - 【請求項４】前記洗浄液のｐＨは４．０〜４．５に調整
されることを特徴とする請求項２または３に記載のハニ
カム成形用ダイスの清掃方法。 - 【請求項５】前記洗浄液に対する浸漬時間は３０分〜１
８０分であることを特徴とする請求項２乃至４の何れか
一項に記載のハニカム成形用ダイスの清掃方法。 - 【請求項６】前記洗浄液の温度は４０℃〜６０℃である
ことを特徴とする請求項２乃至５の何れか一項に記載の
ハニカム成形用ダイスの清掃方法。 - 【請求項７】前記洗浄液に対する浸漬処理は超音波振動
を付与しながら行われることを特徴とする請求項２乃至
６の何れか一項に記載のハニカム成形用ダイスの清掃方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265080A JPH0596602A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ハニカム成形用ダイスの清掃方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265080A JPH0596602A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ハニカム成形用ダイスの清掃方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596602A true JPH0596602A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17412323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3265080A Pending JPH0596602A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ハニカム成形用ダイスの清掃方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0596602A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110881A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Konica Minolta Opto Inc | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
| KR100775978B1 (ko) * | 2005-05-18 | 2007-11-15 | 고등기술연구원연구조합 | 촉매 제조용 압출성형기 |
| WO2008078793A1 (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Hitachi Metals, Ltd. | 口金部材の洗浄方法及び口金部材の洗浄装置 |
| JP2010221588A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Ngk Insulators Ltd | ハニカムフィルタの目詰まり除去治具及び除去治具を用いた目詰まり除去方法 |
| JP2012513923A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | コーニング インコーポレイテッド | ダイの清浄方法 |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP3265080A patent/JPH0596602A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110881A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Konica Minolta Opto Inc | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
| JP4609030B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2011-01-12 | コニカミノルタオプト株式会社 | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
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| WO2008078793A1 (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Hitachi Metals, Ltd. | 口金部材の洗浄方法及び口金部材の洗浄装置 |
| US20100012155A1 (en) * | 2006-12-27 | 2010-01-21 | Hitachi Metals, Ltd. | Die-member-cleaning method and apparatus |
| JP5321064B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2013-10-23 | 日立金属株式会社 | 口金部材の洗浄方法及び口金部材の洗浄装置 |
| US8961697B2 (en) | 2006-12-27 | 2015-02-24 | Hitachi Metals, Ltd. | Die-member-cleaning method and apparatus |
| JP2012513923A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | コーニング インコーポレイテッド | ダイの清浄方法 |
| JP2010221588A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Ngk Insulators Ltd | ハニカムフィルタの目詰まり除去治具及び除去治具を用いた目詰まり除去方法 |
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