JPH0596126A - 排ガス処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、排ガスと薬液との
気−液接触を最大限にする事により排ガス処理効率を向
上させて装置をコンパクトにまとめると同時に装置費用
やメンテナンス費用もできる限り小さくする事にある。 【構成】 箱形の装置本体(1)の天井部から垂
下板(2)を垂下すると共に底部から立設板(3)を立設し、
これら垂下板(2)と立設板(3)とを交互に配置して上下に
ジグザグ状になった排ガス通路(4)を装置本体(1)内に形
成し、装置本体(1)内に薬液(5)を貯水すると共に、垂下
板(2)と立設板(3)との間に排ガス流通マット(6)を配設
した事を特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はコンパクトで無害化効果
に優れた新規な排ガス処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図２は、従来の排ガス処理装置であるス
クラバ(B)である。本装置(B)は、主として薬液(5)を貯
蔵した薬液槽(C)と排ガス塔(D)とで構成されている。排
ガス塔(D)は多段に仕切られており、テラレット(14)な
どが充填されており、最上段に薬液(5)が揚水ポンプ(1
3)で揚水されて散布される。排ガス塔(D)の天井部分に
はミストセパレータ(17)が設置されている。(20)は排ガ
ス用送風ファンであり、排ガス塔(D)の底部の開口(15)
に接続している。(9)は水位計で、薬液槽(D)中の薬液量
を検出して不足が生じれば新しい薬液(5)を供給して一
定に保つ。(8)はオーバーフローで、消費された薬液(5)
を徐々に薬液槽(C)から取り出す働きをなす。

【０００３】このスクラバ(B)によると、排ガス(H)は排
ガス用送風ファン(20)から排ガス塔(D)に送り込まれて
塔内を上昇する際に、各段に積まれたテラレット(14)に
接触し、最上段から散布され、テラレット(14)の表面を
ぬらしつつ流下している薬液(5)と気−液接触し、排ガ
ス(H)中の有害成分が薬液(5)中に吸収され、無害化され
て清浄ガス(h)となり、最終的にミストセパレータ(17)
によってガス(h)中のミストが除去された後、大気放出
される。

【０００４】このような排ガス処理装置(B)が従来は一
般的で、排ガス処理の最も重要な働きをなす気−液接触
部分がテラレット(14)であるが、テラレット(14)は単に
樹脂を複雑なかご形の形状に形成しただけものであって
表面積を上げるとしても限界があり、テラレット(14)内
部を通過してしまうだけの排ガス(H)も存在し、排ガス
(H)中に有害成分が残存して排ガス処理効率が良くなか
った。

【０００５】そこで、有害成分を完全に除去しようとす
れば、テラレット(14)の量を増すしか方法がなく、排ガ
ス塔(D)を高くしてその容積を増すか、連棟方式にして
複数の排ガス塔(D)…に排ガス(H)を通すという方法しか
なく、装置高さが高くなり過ぎ、圧損が過大になるとう
問題点や装置が複雑且つ大きくなり過ぎてコスト高にな
るという問題点があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の解決課題は、
排ガスと薬液との気−液接触を最大限にする事により排
ガス処理効率を向上させて装置をコンパクトにまとめる
と同時に装置費用やメンテナンス費用もできる限り小さ
くする事にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するために、 箱形の装置本体(1)の天井部から垂下された垂下板(2)
と、底部から立設した立設板(3)とを交互に配置して上
下にジグザグ状になった排ガス通路(4)を装置本体(1)内
に形成し、 装置本体(1)内に薬液(5)を貯水すると共に、 垂下板(2)と立設板(3)との間に排ガス流通マット(6)
を配設した事を特徴とするものである。請求項２はこれ
に加えて、 天井部に消泡用シャワー(7)を設置して成る事を特徴
とするものである。

【０００８】これにより、上下にジグザグ状になった排
ガス通路(4)に送り込まれた排ガス(H)は、流通マット
(6)中を通過する内に流通マット(6)の繊維と気−液接触
すると同時に発泡して極く微細な薬液(5)の泡に包ま
れ、この泡と共に流通マット(6)中を上昇し、この上昇
中に泡を構成する薬液(5)と泡内部の排ガス(H)とが気−
液接触し、又、泡が弾ける際に気−液接触して排ガス処
理効率が大幅に向上し、装置(A)をコンパクトにまとめ
る事ができると同時に装置費用やメンテナンス費用もで
きる限り小さく出来た。

【０００９】

【実施例】以下、本発明を図示実施例に従って説明す
る。図１は、本発明にかかる排ガス処理装置(A)の断面
図である。装置本体(1)は箱形のもので、その天井部か
ら垂下された垂下板(2)と、底部から立設した立設板(3)
とを交互に配置して上下にジグザグ状になった排ガス通
路(4)が装置本体(1)内に形成されている。図１中、右端
の部屋は導入室(30)で、排ガス(H)を供給する導入管(1
0)が挿入されており、その下端開口が底部に貯水された
薬液(5)中に浸漬されている。

【００１０】図１の第２室(31)から第７室(36)までは、
上下にジグザグ状になった排ガス通路(4)中、洗浄室を
構成し、垂下板(2)と立設板(3)との間に排ガス流通マッ
ト(6)が配設されている。流通マット(6)は、本実施例で
は、シュロ製マットが使用されたが、勿論これに限られ
ず、連続気泡型樹脂マットのようなものも使用する事が
できる。

【００１１】本実施例では、排ガス通路(4)の天井部に
は、消泡用シャワー(7)が設置されており、流通マット
(6)からあふれた泡(11)に薬液(5)を散布して消泡するよ
うになっているものである。泡(11)の量が少ない場合に
は、消泡用シャワー(7)を設けなくともよい。

【００１２】図１の第９室(38)には活性炭(12)が充填さ
れており、薬液洗浄された排ガス(h)の最終処理を行う
もので、排ガス(h)中に含まれる微細粒子を吸着する。

【００１３】排ガス(H)には、酸性、中性、アルカリ
性、爆発性、毒性、腐食性、ダストを含むもの、薬液
(5)と反応してダストや粘稠物質を生成するものなど様
々な性質をもつものがあり、薬液(5)はこれら排ガスの
種類によって選択されるものである。排ガス(H)がアル
カリ性のもの、例えばアンモニアを含む排ガスの場合に
は希塩酸溶液が用いられ、逆に排ガス(H)が酸性のも
の、例えば塩酸ミストを含むようなものである場合には
水酸化ナトリウム溶液など各種のものが用いられる。図
１中、(5)は装置本体(1)の底部に貯水された薬液であ
る。(8)はオーバーフローであり、(9)は水位計であり、
薬液供給パイプが併設されている。

【００１４】しかして、排ガス(H)が導入管(10)により
導入室(30)に導入されると、薬液(5)中に放出され、泡
(11)となって上昇する。ここで、排ガス(H)と薬液(5)と
の気−液接触による若干の洗浄が行なわれた後、第２室
(31)に導入される。ここでは、通気マット(6)を通過す
る際に薬液(5)でぬれた流通マット(6)の繊維表面で効率
良く気−液接触が行なわれる。加えて、通気マット(6)
は押し込まれた排ガス(H)を微細に分割してこれを薬液
(5)が取り囲んで気泡化する働きを有しているので、微
細な気泡(11)に包まれた排ガス(H)はそのまま装置本体
(1)の底部に溜っている薬液(5)中に押し込まれ、激しく
撹拌されて更に気−液接触が進み、排ガス(H)の浄化が
進む。

【００１５】このようにして洗浄された排ガス(H)は第
３室(32)に導入され、再び流通マット(6)中に押し込ま
れ、気−液接触による浄化が進行する。ここでは、気泡
化された排ガス(H)は泡状で流通マット(6)上に噴き上が
る。必要があれば、天井部に消泡シャワー(7)を設置し
ておき、消泡シャワー(7)によって噴き上がった泡(11)
が立設板(3)を越えて隣接の第４室(33)に溢れ出ないよ
うに消泡する。この際にも消泡時に泡(11)が弾けて排ガ
ス(H)と薬液(5)とが気−液接触して排ガス(H)の浄化が
進行する。本実施例では、消泡シャワー(7)を設置して
いる場合である。尚、消泡シャワー(7)にの薬液(5)の供
給は揚水ポンプ(13)によって行なわれる。

【００１６】このような作業が第４,５室(34)(35)、第
６,７室(36)(37)で行なわれ、排ガス(H)の浄化が十分行
なわれる。排ガス濃度が希薄な場合には第２,３室(31)
(32)だけでも良いし、排ガス濃度が高い場合や洗浄効果
が低い場合には適宜室数を増やす事が出来る。

【００１７】第６,７室(35)(36)で洗浄のほとんど完了
した第８室(37)に入って最後の洗浄を行い、第９室(38)
に移動して活性炭層(12)を通過して大気放出される。活
性炭層(12)では、浄化されたガス(h)中に含まれる微細
ミストや極くわずか残留している臭いを取り、大気放出
ガスをほとんど無臭化する。

【００１８】薬液(5)は、常に少量づつオーバーフロー
(8)しており、新規な薬液(5)が供給されて常に薬液(5)
の更新が行なわれている。薬液量は水位計(9)で常時観
測されてており、一定量に保たれるようになっている。

【００１９】

【効果】本発明は叙上のように、箱形の装置本体の天井
部から垂下された垂下板と、底部から立設した立設板と
を交互に配置して上下にジグザグ状になった排ガス通路
を装置本体内に形成し、装置本体内に薬液を貯水すると
共に垂下板と立設板との間に排ガス流通マットを配設し
ているので、流通マット中を通過する排ガスは気泡化さ
れると同時に流通マット繊維に接触して十分な気−液接
触による洗浄が効率よくなされ、その結果、装置をコン
パクトにまとめる事が出来て装置費用を抑制する事がで
き、加えて、従来のスクラバのように常時薬液を揚水す
る必要がなく、メンテナンス費用も小さくする事が出来
る。

【００２０】更に、天井部に消泡用シャワーを設置する
事により、消泡際の泡の弾けによる排ガスとシャワーさ
れている薬液との積極的な気−液接触効果も発生し、よ
り十分な排ガス浄化を行う事ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる排ガス処理装置の１実施例の断
面図

【図２】従来の排ガス処理装置の断面図

【符号の説明】

(A)…本発明にかかる排ガス処理装置 (1)…装置本体 (2)…垂下板 (3)…立設板 (4)…排ガス通路 (5)…薬液 (6)…流通マット

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【手続補正書】

【提出日】平成３年１１月２１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】しかして、排ガス（Ｈ）が導入管（１０）
により導入室（３０）に導入されると、薬液（５）中に
放出され、泡（１１）となって上昇する。ここで、排ガ
ス（Ｈ）と薬液（５）との気−液接触による若干の洗浄
が行なわれた後、第２室（３１）に導入される。ここで
は、通気マット（６）を通過する際に薬液（５）でぬれ
た流通マット（６）の繊維表面で効率良く気−液接触が
行なわれる。加えて、通気マット（６）は押し込まれた
排ガス（Ｈ）を微細に分割してこれを薬液（５）が取り
囲んで気泡化する働きを有しているので、微細な気泡
（１１）に包まれた排ガス（Ｈ）はそのまま装置本体
（１）の底部に溜っている薬液（５）に向かって進む。
この場合、第２室（３１）では薬液（５）方向に排ガス
（Ｈ）が圧送されるので、薬液（５）の水面は垂下板
（２）の下縁より下になるように圧し込まれて薬液
（５）の水面と垂下板（２）の下縁との間に隙間が生
じ、この隙間から次室である第３室（３２）へ排ガス
（Ｈ）が移動する。この点は、第４室（３３）、第５室
（３５）でも同様である。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１７】第６，７室（３５）（３６）で洗浄のほと
んど完了した排ガス（Ｈ）は、第８室（３７）に入って
最後の洗浄を行い、第９室（３８）に移動して活性炭層
（１２）を通過して大気放出される。活性炭層（１２）
では、浄化されたガス（ｈ）中に含まれる微細ミストや
極くわずか残留している臭いを取り、大気放出ガスをほ
とんど無臭化する。

【手続補正３】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 箱形の装置本体の天井部から垂下
   された垂下板と、底部から立設した立設板とを交互に配
   置して上下にジグザグ状になった排ガス通路を装置本体
   内に形成し、装置本体内に薬液を貯水すると共に垂下板
   と立設板との間に排ガス流通マットを配設して成る事を
   特徴とする排ガス処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１の排ガス処理装置におい
   て、流通マットの上方にて天井部に消泡用シャワーを設
   置して成る事を特徴とする排ガス処理装置。