JPH0590067U - Rotary micro valve - Google Patents

Rotary micro valve

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JPH0590067U
JPH0590067U JP2938292U JP2938292U JPH0590067U JP H0590067 U JPH0590067 U JP H0590067U JP 2938292 U JP2938292 U JP 2938292U JP 2938292 U JP2938292 U JP 2938292U JP H0590067 U JPH0590067 U JP H0590067U
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diaphragm
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寧 尾上
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 調整が容易でリークのない回転式マイクロバ
ルブを提供する。 【構成】 一方の面に円状の凹部が形成され,該凹部と
他方の面でダイアフラム(21)が形成された第1基板(20)
と,一方の面に流路(28)が形成され,他方の面の中心を
通って直線状の磁石(23)が形成された円状の回転板(22)
と,前記回転板を前記第1基板の凹部に収納した状態
で,その回転板を覆って前記第1基板に固定される入出
流路(25)を有する第2基板(24)と,前記第1基板のダイ
アフラムを押圧する押圧手段(26)と,前記磁石の中央付
近から略等距離離れた前記第1,第2基板の厚み方向に
設けられた磁界発生手段(29)と,前記磁界の方向を前記
押圧手段の押圧タイミングと関連させて切換える。
(57) [Summary] [Objective] To provide a rotary microvalve that is easy to adjust and does not leak. [Structure] A first substrate (20) having a circular recess formed on one surface and a diaphragm (21) formed on the recess and the other surface.
And a circular rotary plate (22) with a flow path (28) formed on one surface and a linear magnet (23) formed through the center of the other surface.
A second substrate (24) having an inlet / outlet channel (25) fixed to the first substrate while covering the rotating plate in a state where the rotating plate is housed in the recess of the first substrate; A pressing means (26) for pressing the diaphragm of one substrate, a magnetic field generating means (29) provided in the thickness direction of the first and second substrates at a substantially equal distance from the vicinity of the center of the magnet, and the magnetic field The direction is switched in association with the pressing timing of the pressing means.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は,例えばシリコン基板上に形成された超小型ガスクロマトグラフィの ガス流路切換えに用いて好適なマイクロバルブに関するものである。 The present invention relates to a microvalve which is suitable for use in gas channel switching of a micro gas chromatography formed on a silicon substrate, for example.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

従来,この種のマイクロバルブとしては実開平1−154460に記載された 図4に断面で示す構造のものが知られている。 図4において,1はシリコンからなる第1基板であり,このシリコン基板1に はエッチングにより形成された中央部にメサ部6を有するダイアフラムが形成さ れ,このダイアフラムを形成する凹部に連通して溝7が形成されている。2はパ イレックスガラスからなる第2の基板で,メサ部6と溝7の位置に合わせて流体 の出入口となる貫通孔9,10が形成されており,第1,第2の基板は陽極接合 により重ねて形成されている。 Conventionally, as this type of microvalve, there is known a microvalve having a structure shown in cross section in FIG. In FIG. 4, reference numeral 1 denotes a first substrate made of silicon, and a diaphragm having a mesa portion 6 in a central portion formed by etching is formed on the silicon substrate 1 and communicates with a concave portion forming the diaphragm. The groove 7 is formed. Reference numeral 2 is a second substrate made of pyrex glass. Through holes 9 and 10 serving as fluid inlets and outlets are formed at the positions of the mesa 6 and the groove 7, and the first and second substrates are anodes. It is formed by joining.

【0003】 4は断面コ字状の支持部材であり,第1の基板1に形成されたメサ部6の裏面 を覆って接着剤により固定されている。5は圧電アクチュエータ(以下,単にア クチュエータという)で,このアクチュエータ5は一端が支持部材4の底部に, 他端が第1基板のメサ部6の裏面に接して配置されている。12はアクチュエー タに電圧を印加するための電源である。Reference numeral 4 denotes a support member having a U-shaped cross section, which covers the back surface of the mesa portion 6 formed on the first substrate 1 and is fixed by an adhesive. Reference numeral 5 denotes a piezoelectric actuator (hereinafter, simply referred to as an actuator). One end of the actuator 5 is arranged at the bottom of the support member 4, and the other end thereof is arranged at the back surface of the mesa portion 6 of the first substrate. Reference numeral 12 is a power supply for applying a voltage to the actuator.

【0004】 なお,第1の基板の厚さは0.3mm,第2の基板の間隙Dは6μm程度であ り,アクチュエータの断面は4.2mm2,長さ9mm程度とされ150Vの電 圧により8μm程度変位する。The first substrate has a thickness of 0.3 mm, the second substrate has a gap D of about 6 μm, the actuator has a cross section of 4.2 mm 2 , and a length of about 9 mm. Is displaced by about 8 μm.

【0005】 上記の構成のバルブによれば,アクチュエータ5の電源12がオフの時に流体 が貫通孔9から流入して貫通孔10側へ流れ,電源12がオンの時はアクチュエ ータ5が伸長してメサ部6により流出孔10を閉塞するので,ノーマリオープン 型のバルブを実現することができる。According to the valve having the above configuration, when the power source 12 of the actuator 5 is off, the fluid flows from the through hole 9 to the through hole 10 side, and when the power source 12 is on, the actuator 5 extends. Since the outflow hole 10 is closed by the mesa portion 6, a normally open type valve can be realized.

【0006】[0006]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

しかしながら,上記従来のマイクロバルブは圧電アクチュエータの伸長距離が 極めて短いため調整が難しいという問題がある。 本考案は上記従来技術の問題点を解決するためになされたもので,ダイアフラ ム押圧手段は回転板の固定/解放手段として機能させ,流路の切換えは回転板を 回転させて行なうことにより調整が容易でリークのないマイクロバルブを提供す ることを目的とする。 However, the conventional microvalve described above has a problem that adjustment is difficult because the extension distance of the piezoelectric actuator is extremely short. The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art. The diaphragm pressing means functions as the fixing / releasing means of the rotary plate, and the switching of the flow path is performed by rotating the rotary plate. It is an object of the present invention to provide a microvalve that is easy to manufacture and does not leak.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上記課題を解決する為に本考案は,一方の面に円状の凹部が形成され,該凹部 と他方の面でダイアフラムが形成された第1基板と,一方の面に流路が形成され ,他方の面の中心を通って直線状の磁石が形成された円状の回転板と,前記回転 板を前記第1基板の凹部に収納した状態で,その回転板を覆って前記第1基板に 固定される入出流路を有する第2基板と,前記第1基板のダイアフラムを押圧す る押圧手段と,前記磁石の中央付近から略等距離離れた前記第1,第2基板の厚 み方向に設けられた磁界発生手段と,前記磁界の方向を前記押圧手段の押圧タイ ミングと関連させて切換えることを特徴とするものである。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises a first substrate having a circular recess formed on one surface, a diaphragm formed on the recess and the other surface, and a channel formed on one surface. A circular rotary plate having a linear magnet formed through the center of the other surface, and a state where the rotary plate is housed in the recess of the first substrate, and the rotary plate is covered to the first substrate. A second substrate having a fixed inlet / outlet channel, a pressing means for pressing the diaphragm of the first substrate, and a thickness direction of the first and second substrates that are substantially equidistant from the center of the magnet. It is characterized in that the provided magnetic field generating means and the direction of the magnetic field are switched in association with the pressing timing of the pressing means.

【0008】[0008]

【作用】[Action]

通常状態ではダイアフラムは押圧手段により押圧されて回転板の動きを規制し ている。流路を切り換える場合は押圧手段を駆動して回転板の規制を解除し,磁 界発生手段により磁界を発生させると回転板が180°回転して流路が切り換わ る。その後押圧手段の駆動を解除して回転板を固定する。 In the normal state, the diaphragm is pressed by the pressing means to restrict the movement of the rotary plate. When switching the flow paths, the pressing means is driven to release the regulation of the rotary plate, and when the magnetic field generating means generates a magnetic field, the rotary plate rotates 180 ° and the flow paths are switched. Then, the driving of the pressing means is released to fix the rotary plate.

【0009】[0009]

【実施例】【Example】

以下図面を用いて本考案を説明する。 図1は本考案のマイクロバルブの一実施例を示す断面図(a),(a)図のX −X視図(b),回転板22の平面図および底面図である。これらの図において 20は例えば直径5mm,厚さ0.5mm程度のシリコン単結晶からなる第1基 板であり,この第1基板20の一方の面には等方性エッチングを用いて凹部が形 成され他方の表面とで直径2mm,厚さ0.1μm程度のダイアフラム21が形 成されている。 The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view (a) showing an embodiment of the microvalve of the present invention, a view (b) taken along line XX of FIG. 1, a plan view and a bottom view of a rotary plate 22. In these figures, reference numeral 20 denotes a first substrate made of, for example, a silicon single crystal having a diameter of 5 mm and a thickness of about 0.5 mm, and one surface of the first substrate 20 has a concave portion formed by isotropic etching. A diaphragm 21 having a diameter of 2 mm and a thickness of about 0.1 μm is formed on the other surface.

【0010】 22は例えば直径2mm,厚さ0.4mm程度のシリコン単結晶からなる回転 板であり,(c)図に示す様に一方の面には等方性エッチングを用いて深さ0. 1mm程度の流路25が形成され,他方の面には中央にPt−Coからなる線状 の磁石23がスパッタ等により形成されている(この磁石部分は磁石を形成した 状態で回転板の平面から凸とならない様に予め回転板の表面を部分的に除去して おいた方が望ましい)。24は例えば直径5mm,厚さ0.5mm程度のシリコ ン単結晶からなる第2基板であり,この第2基板には3箇所に入出流路25a〜 25cが形成されている。Reference numeral 22 is a rotating plate made of, for example, a silicon single crystal having a diameter of 2 mm and a thickness of about 0.4 mm, and one surface has a depth of 0. A flow path 25 of about 1 mm is formed, and a linear magnet 23 made of Pt—Co is formed in the center on the other surface by sputtering or the like (this magnet portion is a flat surface of the rotating plate with the magnet formed). It is desirable to partially remove the surface of the rotating plate in advance so that it does not become convex.) Reference numeral 24 denotes a second substrate made of, for example, a silicon single crystal having a diameter of about 5 mm and a thickness of about 0.5 mm, and the second substrate has inlet / outlet channels 25a to 25c formed at three locations.

【0011】 なお,第1基板の凹部とここに収納される回転板の関係は,第2基板を固定し た状態で滑らかに動く程度にしっくりと加工する。26はダイアフラム21上に 配置されたピエゾアクチュエータからなる押圧手段である。この押圧手段26は 固定板30側に固着されており,電圧が印加されない場合はダイアフラムは押圧 されず,電圧が印加されて伸長した状態でダイアフラム21を押圧する。この場 合固定板30の高さを調節して回転板22の規制具合を調整するが,固定板の高 さをねじで調整すれば規制具合の調整が簡単である。また,この押圧手段は例え ば図2の断面図に示す様に構成してもよい。即ち,図2においてダイアフラム2 1の外径より大きな内径を有する円筒状のピエゾアクチュエータ26aがダイア フラム21を囲むように配置され,その中央にダイアフラムの直径よりも小さな 直径を有する支柱26bが配置されている。Note that the relationship between the concave portion of the first substrate and the rotary plate housed therein is processed so that it smoothly moves while the second substrate is fixed. Reference numeral 26 is a pressing means composed of a piezoelectric actuator arranged on the diaphragm 21. The pressing means 26 is fixed to the fixed plate 30 side, and the diaphragm is not pressed when the voltage is not applied, and presses the diaphragm 21 in the expanded state when the voltage is applied. In this case, the height of the fixed plate 30 is adjusted to adjust the regulation of the rotary plate 22, but the regulation can be easily adjusted by adjusting the height of the fixed plate with a screw. Further, this pressing means may be constructed as shown in the sectional view of FIG. 2, for example. That is, in FIG. 2, a cylindrical piezo actuator 26a having an inner diameter larger than the outer diameter of the diaphragm 21 is arranged so as to surround the diaphragm 21, and a column 26b having a diameter smaller than the diameter of the diaphragm is arranged at the center thereof. ing.

【0012】 そしてピエゾアクチュエータ26aに電圧を印加しない状態で支柱26bがダ イアフラムを押圧して回転板22の動きを規制し,アクチュエータ26aに電圧 を印加した状態ではアクチュエータの伸長により押圧力が解除されて回転板が滑 らかになるように調整する。この場合の調整は回転板の板厚を調整すれば良いの で加工が簡単である。 29は電源29a,コイル29b,負荷抵抗29cからなる磁界発生手段であ り通電によりコイルの周りに磁界を発生する。Then, the pillar 26b presses the diaphragm to restrict the movement of the rotary plate 22 without applying a voltage to the piezo actuator 26a, and when the voltage is applied to the actuator 26a, the pressing force is released by the extension of the actuator. Adjust so that the rotating plate becomes smooth. In this case, the adjustment can be performed by adjusting the plate thickness of the rotary plate, so that the processing is easy. Reference numeral 29 is a magnetic field generating means including a power source 29a, a coil 29b, and a load resistor 29c, which generates a magnetic field around the coil by energization.

【0013】 上記の構成において,はじめにアクチュエータをオンとしてアクチュエータ を伸長させ回転板の規制を解除した状態とし,磁界発生手段に通電するとコイル の周りに磁界が発生し右ねじの法則により磁界の接線方向に力を受け,回転板は 磁石のNSの向きに従って静止する。回転板が静止した時点でアクチュエータを オフとしてアクチュエータを収縮させ回転板の動きを規制する。流路25は回転 板22が静止した状態で例えば入出流路25aと25bが連通する。次に流路を 切り換える場合には同様の動作を行なって回転板の規制を解除して磁界発生手段 29に流す電流の向きを切り換えると回転板は180°回転し,入出流路25a と25cが連通する。 図3はアクチュエータ駆動回路系と回転回路系のタイムチャートを示すもので アクチュエータがオンになって回転板の規制が解除されたΔt1時間後に回転回 路系がオンとなり回転板が180°回転したΔt2時間後にアクチュエータがオ フとなって回転板を規制する。In the above structure, when the actuator is first turned on to extend the actuator to release the regulation of the rotating plate and the magnetic field generating means is energized, a magnetic field is generated around the coil, and the tangential direction of the magnetic field is generated according to the right-hand screw law. The rotating plate rests according to the direction of the NS of the magnet. When the rotating plate comes to rest, the actuator is turned off to contract the actuator and regulate the movement of the rotating plate. In the flow path 25, for example, the inlet / outlet flow paths 25a and 25b communicate with each other while the rotary plate 22 is stationary. Next, when switching the flow paths, the same operation is performed to release the regulation of the rotary plate and switch the direction of the current flowing to the magnetic field generating means 29, whereby the rotary plate rotates 180 ° and the flow paths 25a and 25c Communicate. Fig. 3 shows a time chart of the actuator drive circuit system and the rotary circuit system. At 1 hour after the actuator was turned on and the regulation of the rotary plate was released, the rotary circuit system was turned on and the rotary plate rotated 180 °. After Δt 2 hours, the actuator turns off and regulates the rotating plate.

【0014】 上記の構成によれば流路の形状と入出流路の数と位置を変えることにより種々 の流路切り換えが可能である。 なお,上記実施例ではマイクロポンプの寸法と材質を示したが,必要に応じて 種々設計可能である。また,押圧手段も実施例に限定するものではない。According to the above configuration, various flow passages can be switched by changing the shape of the flow passages and the number and positions of the input and output flow passages. Although the dimensions and materials of the micropump are shown in the above embodiment, various designs can be made if necessary. Also, the pressing means is not limited to the embodiment.

【0015】[0015]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上実施例とともに具体的に説明したように本考案によれば,流路の切り換え を回転板で行ない押圧手段の押圧タイミングと関連させて動作させる様にしたの で調整が容易でリークのないマイクロバルブを実現することができる。 According to the present invention, as described in detail with reference to the above-described embodiments, the flow path is switched by the rotating plate and is operated in association with the pressing timing of the pressing means. A valve can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案のマイクロバルブの一実施例を示す断面
図(a),(a)図のX−X視図(b),回転板の平面
図および底面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view (a), an XX view (b) of FIG.

【図2】本考案に使用する押圧手段の一実施例を示す断
面構成図である。
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram showing an embodiment of a pressing means used in the present invention.

【図3】本考案のマイクロバルブのアクチュエータ駆動
回路系と回転回路系のタイムチャートを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a time chart of an actuator drive circuit system and a rotary circuit system of the microvalve of the present invention.

【図4】従来のマイクロバルブの断面構成図である。FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram of a conventional microvalve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 第1基板 21 ダイアフラム 22 回転板 23 磁石 24 第2基板 25 入出流路 26 押圧手段 28 流路 29 磁界発生手段 30 固定板 20 First Substrate 21 Diaphragm 22 Rotating Plate 23 Magnet 24 Second Substrate 25 Inlet / Outlet Flow Path 26 Pressing Means 28 Flow Path 29 Magnetic Field Generating Means 30 Fixed Plate

フロントページの続き (72)考案者 蒲原 敦彦 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内Front page continuation (72) Inventor Atsuhiko Kambara 2-3-9 Nakamachi, Musashino City, Tokyo Yokogawa Electric Co., Ltd.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 一方の面に円状の凹部が形成され,該凹
部と他方の面でダイアフラム(21)が形成された第1基板
(20)と,一方の面に流路(28)が形成され,他方の面の中
心を通って直線状の磁石(23)が形成された円状の回転板
(22)と,前記回転板を前記第1基板の凹部に収納した状
態で,その回転板を覆って前記第1基板に固定される入
出流路(25)を有する第2基板(24)と,前記第1基板のダ
イアフラムを押圧する押圧手段(26)と,前記磁石の中央
付近から略等距離離れた前記第1,第2基板の厚み方向
に設けられた磁界発生手段(29)と,前記磁界の方向を前
記押圧手段の押圧タイミングと関連させて切換えること
を特徴とする回転式マイクロバルブ。
1. A first substrate having a circular recess formed on one surface and a diaphragm (21) formed on the recess and the other surface.
(20) and a circular rotary plate having a flow path (28) formed on one surface and a linear magnet (23) formed through the center of the other surface.
(22) and a second substrate (24) having an inlet / outlet channel (25) fixed to the first substrate while covering the rotor plate in a state where the rotor plate is housed in the recess of the first substrate, A pressing means (26) for pressing the diaphragm of the first substrate, and a magnetic field generating means (29) provided in the thickness direction of the first and second substrates at a substantially equal distance from the vicinity of the center of the magnet, A rotary microvalve wherein the direction of the magnetic field is switched in association with the pressing timing of the pressing means.
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