JPH0585858B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0585858B2 JPH0585858B2 JP59115739A JP11573984A JPH0585858B2 JP H0585858 B2 JPH0585858 B2 JP H0585858B2 JP 59115739 A JP59115739 A JP 59115739A JP 11573984 A JP11573984 A JP 11573984A JP H0585858 B2 JPH0585858 B2 JP H0585858B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- repeller
- vacuum
- current
- ion source
- degree
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000004969 ion scattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910001158 Alnico 8 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000828 alnico Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はイオン銃等で使用される電子衝撃型イ
オン源内の真空度を測定する方法に関する。
オン源内の真空度を測定する方法に関する。
イオン銃は固体表面の分析方法としてのAES
(オージエ電子分光法)、ESCA(X線電子分光
法)、SIMS(二次イオン質量分析)、ISS(イオン
散乱分光)等において固体表面をスパツタリング
するために使用される。
(オージエ電子分光法)、ESCA(X線電子分光
法)、SIMS(二次イオン質量分析)、ISS(イオン
散乱分光)等において固体表面をスパツタリング
するために使用される。
(従来の技術)
イオン銃はイオン源でイオンを発生させ、それ
を特定方向へ導き出すように構成されているが、
出射されるイオン量を制御するためにはイオン源
に導入されるガスの圧力を制御しなければならな
い。そのため、従来はイオン源に真空計を設け、
イオン源内の真空度が一定になるように導入ガス
圧を制御している。
を特定方向へ導き出すように構成されているが、
出射されるイオン量を制御するためにはイオン源
に導入されるガスの圧力を制御しなければならな
い。そのため、従来はイオン源に真空計を設け、
イオン源内の真空度が一定になるように導入ガス
圧を制御している。
真空計としては電離真空計が一般に使用され、
中でもBA(Bayard−Alpert)型真空計がよく使
用されている。
中でもBA(Bayard−Alpert)型真空計がよく使
用されている。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者らはイオンビームの集中度を高めて十
分なイオンビーム強度を得ることのできるイオン
源として、熱電子発生源の前方にイオンを取り出
すアパーチヤを有するアパーチヤ面が配置され、
熱電子発生源とアパーチヤ面の間には熱電子発生
源から放出された電子を加速するグリツドが配置
され、グリツドの外側には永久磁石が配置され、
かつ熱電子発生源は前記永久磁石の磁界の零点付
近に配置されている電子衝撃型イオン源を提案し
ている。
分なイオンビーム強度を得ることのできるイオン
源として、熱電子発生源の前方にイオンを取り出
すアパーチヤを有するアパーチヤ面が配置され、
熱電子発生源とアパーチヤ面の間には熱電子発生
源から放出された電子を加速するグリツドが配置
され、グリツドの外側には永久磁石が配置され、
かつ熱電子発生源は前記永久磁石の磁界の零点付
近に配置されている電子衝撃型イオン源を提案し
ている。
イオン源に真空計を設けるためには、真空計測
定球を設けるためのスペースが必要となつてイオ
ン源の構成が複雑化し、また、別途設けられる真
空計の分だけコストが上昇することになる。
定球を設けるためのスペースが必要となつてイオ
ン源の構成が複雑化し、また、別途設けられる真
空計の分だけコストが上昇することになる。
(問題点を解決するための手段)
本発明は永久磁石を配置した上記のイオン源の
真空度を測定するために専用の真空計を設けるの
ではなく、イオン源の構成部材を利用して真空度
を測定するものである。
真空度を測定するために専用の真空計を設けるの
ではなく、イオン源の構成部材を利用して真空度
を測定するものである。
本発明では永久磁石を配置した上記の電子衝撃
型イオン源のリペラー電流又はリペラー電流に対
応する値を測定することによりイオン源の真空度
を測定する。
型イオン源のリペラー電流又はリペラー電流に対
応する値を測定することによりイオン源の真空度
を測定する。
すなわち、第1図に示されるようにフイラメン
トなどの熱電子発生手段2から放出される電子を
押し返すためのリペラー4をその熱電子発生手段
2より低電位に維持し、リペラー4と熱電子発生
手段2の間に電流検出器6を挿入してリペラー電
流Irを検出する。熱電子発生手段2とリペラー4
はイオン源の構成部材であり、電流検出器6は本
発明のために追加されたものである。
トなどの熱電子発生手段2から放出される電子を
押し返すためのリペラー4をその熱電子発生手段
2より低電位に維持し、リペラー4と熱電子発生
手段2の間に電流検出器6を挿入してリペラー電
流Irを検出する。熱電子発生手段2とリペラー4
はイオン源の構成部材であり、電流検出器6は本
発明のために追加されたものである。
(作用)
熱電子発生手段2から電子が放出されると、そ
の電子はイオン源のイオン化室のガス粒子に衝突
してそのガス粒子をイオン化する。発生したイオ
ンは、一部はイオン源から引き出されイオン銃か
らの出射イオンとして利用されるが、多くはリペ
ラー4へ衝突して電荷を失いリペラー電流Irを生
じさせる。イオン化室で発生するイオン量は、熱
電子発生手段2から放出される電子量を一定にす
ると、イオン化室のガス圧力(真空度)に依存す
るので、このリペラー電流Irもイオン化室の真空
度に依存する。
の電子はイオン源のイオン化室のガス粒子に衝突
してそのガス粒子をイオン化する。発生したイオ
ンは、一部はイオン源から引き出されイオン銃か
らの出射イオンとして利用されるが、多くはリペ
ラー4へ衝突して電荷を失いリペラー電流Irを生
じさせる。イオン化室で発生するイオン量は、熱
電子発生手段2から放出される電子量を一定にす
ると、イオン化室のガス圧力(真空度)に依存す
るので、このリペラー電流Irもイオン化室の真空
度に依存する。
そこで、予めイオン化室の真空度(このときは
真空計を用いる)とリペラー電流Irとの関係を測
定しておけば、後はリペラー電流の検出により真
空度を測定することができるようになる。
真空計を用いる)とリペラー電流Irとの関係を測
定しておけば、後はリペラー電流の検出により真
空度を測定することができるようになる。
(実施例)
第2図は本発明が適用される一例のイオン源を
示す図である。熱電子発生手段としてのフイラメ
ント8の後方及び側方にリペラー4が設けられ、
リペラー4にはフイラメント8よりリペラー電圧
Vrだけ低い電圧が印加されている。フイラメン
ト8の前方にはイオンを取り出すアパーチヤ10
を有する軟鉄製のアパーチヤ面12があり、フイ
ラメント8とアパーチヤ面12との間にはフイラ
メント8から放出された電子を加速するグリツド
14が設けられ、グリツド14にはフイラメント
8よりボンバード電圧Vbだけ高い電圧が印加さ
れている。
示す図である。熱電子発生手段としてのフイラメ
ント8の後方及び側方にリペラー4が設けられ、
リペラー4にはフイラメント8よりリペラー電圧
Vrだけ低い電圧が印加されている。フイラメン
ト8の前方にはイオンを取り出すアパーチヤ10
を有する軟鉄製のアパーチヤ面12があり、フイ
ラメント8とアパーチヤ面12との間にはフイラ
メント8から放出された電子を加速するグリツド
14が設けられ、グリツド14にはフイラメント
8よりボンバード電圧Vbだけ高い電圧が印加さ
れている。
16は円筒型永久磁石で、グリツド14を取り
囲むように設けられ、かつフイラメント8はこの
永久磁石16の磁界がゼロになる位置の近傍に配
置されている。この永久磁石16はフイラメント
8からの放出電子をアパーチヤ10を通る中心軸
の周りに集め、イオンをその中心軸近傍で発生し
やすくすることによりアパーチヤ10から取り出
されるイオン量を増加させるためのものである。
囲むように設けられ、かつフイラメント8はこの
永久磁石16の磁界がゼロになる位置の近傍に配
置されている。この永久磁石16はフイラメント
8からの放出電子をアパーチヤ10を通る中心軸
の周りに集め、イオンをその中心軸近傍で発生し
やすくすることによりアパーチヤ10から取り出
されるイオン量を増加させるためのものである。
永久磁石16はアルニコ5、アルニコ8又はフ
イラメントにて形成され、永久磁石16とアパー
チヤ面12にはリペラー4と同電位の電圧が印加
されている。永久磁石16で囲まれた空間がイオ
ン化室になるが、永久磁石16とアパーチヤ面1
0も電子をそのイオン化室に閉じ込めるリペラー
の役目も果たしている。
イラメントにて形成され、永久磁石16とアパー
チヤ面12にはリペラー4と同電位の電圧が印加
されている。永久磁石16で囲まれた空間がイオ
ン化室になるが、永久磁石16とアパーチヤ面1
0も電子をそのイオン化室に閉じ込めるリペラー
の役目も果たしている。
リペラー4とフイラメント8との間にはリペラ
ー電流Irを検出するための電流検出器6が設けら
れ、また、グリツド14とフイラメント8との間
にはフイラメント8から放出されてグリツド14
で捕捉される電子によるエミツシヨン電流Ieを検
出するための電流検出器18が設けられている。
ー電流Irを検出するための電流検出器6が設けら
れ、また、グリツド14とフイラメント8との間
にはフイラメント8から放出されてグリツド14
で捕捉される電子によるエミツシヨン電流Ieを検
出するための電流検出器18が設けられている。
本実施例において、ボンバード電圧Vbを
200V、リペラー電圧Vrを10Vとし、エミツシヨ
ン電流Ieが10mAになるようにフイラメント8の
通電量を制御してArガスを導入したときのリペ
ラー電流Irとイオン化室の真空度との関係を第3
図に示す。イオン化室の真空度はBA型真空計に
より測定したものである。
200V、リペラー電圧Vrを10Vとし、エミツシヨ
ン電流Ieが10mAになるようにフイラメント8の
通電量を制御してArガスを導入したときのリペ
ラー電流Irとイオン化室の真空度との関係を第3
図に示す。イオン化室の真空度はBA型真空計に
より測定したものである。
この結果によればリペラー電流Irとイオン化室
の真空度との間に明瞭な依存性があることがわか
る。したがつて、この結果をもとにすれば、リペ
ラー電流Irの検出によりイオン化室の真空度を測
定することができる。
の真空度との間に明瞭な依存性があることがわか
る。したがつて、この結果をもとにすれば、リペ
ラー電流Irの検出によりイオン化室の真空度を測
定することができる。
また、ボンバード電圧Vb、リペラー電圧Vr、
エミツシヨン電流Ieは他の値に設定することもで
き、その場合にはこのリペラー電流Irと真空度と
の対応関係も変化してくる。
エミツシヨン電流Ieは他の値に設定することもで
き、その場合にはこのリペラー電流Irと真空度と
の対応関係も変化してくる。
リペラー電流Irからイオン化室の真空度を測定
するには、電流検出器6を電流計としてそのリペ
ラー電流Irから第3図のようなデータにより真空
度を読み取ることができる。
するには、電流検出器6を電流計としてそのリペ
ラー電流Irから第3図のようなデータにより真空
度を読み取ることができる。
また、第2図に示されるような真空度演算表示
装置19を電流検出器6に接続し、Vb,Vr,Ie
をパラメータとして第3図のようなリペラー電流
Irと真空度の対応関係のデータをメモリに記憶さ
せておき、電流検出器6により検出されたリペラ
ー電流Irをもとにしてメモリから真空度を呼び出
させ、真空度の値を適当な表示手段により表示さ
せるようにすることもできる。
装置19を電流検出器6に接続し、Vb,Vr,Ie
をパラメータとして第3図のようなリペラー電流
Irと真空度の対応関係のデータをメモリに記憶さ
せておき、電流検出器6により検出されたリペラ
ー電流Irをもとにしてメモリから真空度を呼び出
させ、真空度の値を適当な表示手段により表示さ
せるようにすることもできる。
第4図は本発明が適用されるイオン源の一例を
備えたイオン銃を示す図である。
備えたイオン銃を示す図である。
このイオン銃はイオンを発生させるイオン源部
30、イオン源部30からイオンを引き出し、所
定の方向へ導く中間部40、及び分析室などの超
高真空装置へ挿入される対物レンズ部50から構
成されている。
30、イオン源部30からイオンを引き出し、所
定の方向へ導く中間部40、及び分析室などの超
高真空装置へ挿入される対物レンズ部50から構
成されている。
イオン源部30は第2図のイオン源と類似の構
造を有するが、熱電子発生手段として切断の虞れ
のないランタンボライド(LaB6)カソードを使
用している点で相違している。
造を有するが、熱電子発生手段として切断の虞れ
のないランタンボライド(LaB6)カソードを使
用している点で相違している。
イオン源部30のイオン化室には減圧バルブ3
4とリークバルブ36を介してガスボンベからア
ルゴンガスの如きイオン化されるガスが導入され
る。37はガス導入口である。排気口38は例え
ばターボ分子ポンプのような真空ポンプにより排
気されるようになつている。
4とリークバルブ36を介してガスボンベからア
ルゴンガスの如きイオン化されるガスが導入され
る。37はガス導入口である。排気口38は例え
ばターボ分子ポンプのような真空ポンプにより排
気されるようになつている。
中間部40ではアパーチヤ10の近くにイオン
引出し電極42が設けられ、その前方には引き出
されたイオンを集束させ、偏向させるレンズ系4
4が設けられている。イオン源部30の永久磁石
16とアパーチヤ面12がグランド電位よりVa
(例えば2KV)だけ高電位に保たれ、イオン引出
し電極42が接地されることにより、イオンがア
パーチヤ10を通つて中間部40へ引き出されて
くる。
引出し電極42が設けられ、その前方には引き出
されたイオンを集束させ、偏向させるレンズ系4
4が設けられている。イオン源部30の永久磁石
16とアパーチヤ面12がグランド電位よりVa
(例えば2KV)だけ高電位に保たれ、イオン引出
し電極42が接地されることにより、イオンがア
パーチヤ10を通つて中間部40へ引き出されて
くる。
中間部40にも排気口46が設けられ、中間部
40とイオン源部30の間では、アパーチヤ10
を介して差動排気が行なわれ、中間部40はイオ
ン源部30より2桁程度高真空になつている。
40とイオン源部30の間では、アパーチヤ10
を介して差動排気が行なわれ、中間部40はイオ
ン源部30より2桁程度高真空になつている。
対物レンズ部50には対物レンズ系52が設け
られており、イオン出射口54から超高真空装置
へイオンを出射させる。対物レンズ部50と中間
部40とはイオンが通過するアパーチヤ56を介
してつながり、ここでも差動排気が行なわれて対
物レンズ部50は中間部40より2桁程度高真空
になつている。
られており、イオン出射口54から超高真空装置
へイオンを出射させる。対物レンズ部50と中間
部40とはイオンが通過するアパーチヤ56を介
してつながり、ここでも差動排気が行なわれて対
物レンズ部50は中間部40より2桁程度高真空
になつている。
このイオン銃において、イオン出射口54から
出射されるイオン量を一定に保つには、Va,
Vb,Vrが一定のもとでリペラー電流Irが所定の
値になるように減圧バルブ34とリークバルブ3
6によりイオン化室へのガス導入圧を調整してイ
オン化室の真空度を所定の圧力にしておき、イオ
ン出射口54から出射されるイオン電流を検出し
てそのイオン電流をエミツシヨン電流Ieの調整に
より一定になるようにすればよい。
出射されるイオン量を一定に保つには、Va,
Vb,Vrが一定のもとでリペラー電流Irが所定の
値になるように減圧バルブ34とリークバルブ3
6によりイオン化室へのガス導入圧を調整してイ
オン化室の真空度を所定の圧力にしておき、イオ
ン出射口54から出射されるイオン電流を検出し
てそのイオン電流をエミツシヨン電流Ieの調整に
より一定になるようにすればよい。
リペラー電流Irを一定に保つにはリペラー電流
Irが変動したときに減圧バルブ34又はリークバ
ルブ36を手動で調整するようにしてもよく、又
は、第4図に示されるようにバルブ駆動機構60
をリペラー電流検出器6に接続し、リペラー電流
検出器6の出力信号が一定になるように減圧バル
ブ34又はリークバルブ36を自動的に調整する
ようにすることもできる。
Irが変動したときに減圧バルブ34又はリークバ
ルブ36を手動で調整するようにしてもよく、又
は、第4図に示されるようにバルブ駆動機構60
をリペラー電流検出器6に接続し、リペラー電流
検出器6の出力信号が一定になるように減圧バル
ブ34又はリークバルブ36を自動的に調整する
ようにすることもできる。
また、アパーチヤ面12と永久磁石16もリペ
ラーの役目を果しているので、リペラー電流検出
器6をこれらとカソードの間に設けてもよく、ま
た、リペラー電流はイオン化室で発生するイオン
量に依存するので、リペラー電流値に対応する値
としてイオン電流を検出してもよい。
ラーの役目を果しているので、リペラー電流検出
器6をこれらとカソードの間に設けてもよく、ま
た、リペラー電流はイオン化室で発生するイオン
量に依存するので、リペラー電流値に対応する値
としてイオン電流を検出してもよい。
(発明の効果)
本発明によれば、リペラー電流を検出すること
によりイオン源のイオン化室の真空度を測定する
ことができるので、イオン銃などにおいて出射イ
オン量を制御するために別途真空計を装備する必
要がなくなる。そのためイオン銃などの装置が簡
略化でき、安価にすることができる。
によりイオン源のイオン化室の真空度を測定する
ことができるので、イオン銃などにおいて出射イ
オン量を制御するために別途真空計を装備する必
要がなくなる。そのためイオン銃などの装置が簡
略化でき、安価にすることができる。
第1図は本発明の原理を説明するための概略
図、第2図は本発明が適用されるイオン源の一例
を示す概略断面図、第3図は同イオン源における
イオン化室の真空度とリペラー電流の関係を示す
図、第4図は本発明が適用されるイオン銃の一例
を示す断面図である。 2……熱電子発生手段、4,20……リペラ
ー、6……リペラー電流検出器、8……フイラメ
ント、12……アパーチヤ面、16……永久磁
石、32……ランタンボライドカソード。
図、第2図は本発明が適用されるイオン源の一例
を示す概略断面図、第3図は同イオン源における
イオン化室の真空度とリペラー電流の関係を示す
図、第4図は本発明が適用されるイオン銃の一例
を示す断面図である。 2……熱電子発生手段、4,20……リペラ
ー、6……リペラー電流検出器、8……フイラメ
ント、12……アパーチヤ面、16……永久磁
石、32……ランタンボライドカソード。
Claims (1)
- 1 熱電子発生源の前方にイオンを取り出すアパ
ーチヤを有するアパーチヤ面が配置され、熱電子
発生源とアパーチヤ面の間には熱電子発生源から
放出された電子を加速するグリツドが配置され、
グリツドの外側には永久磁石が配置され、かつ熱
電子発生源は前記永久磁石の磁界の零点付近に配
置されている電子衝撃型イオン源のリペラー電流
値又はリペラー電流値に対応する値を検出するこ
とにより、イオン源内の真空度を求めることを特
徴とする真空度測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11573984A JPS60259924A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | イオン源の真空度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11573984A JPS60259924A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | イオン源の真空度測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60259924A JPS60259924A (ja) | 1985-12-23 |
JPH0585858B2 true JPH0585858B2 (ja) | 1993-12-09 |
Family
ID=14669870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11573984A Granted JPS60259924A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | イオン源の真空度測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60259924A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100477450B1 (ko) * | 2002-08-30 | 2005-03-23 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 마이크로 프로세서를 이용한 소프트웨어 기반 진공이온펌프 컨트롤러 및 이를 이용한 진공도 측정방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5887439A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Tokuda Seisakusho Ltd | ブラウン管内部の真空度測定方法 |
-
1984
- 1984-06-05 JP JP11573984A patent/JPS60259924A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5887439A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Tokuda Seisakusho Ltd | ブラウン管内部の真空度測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60259924A (ja) | 1985-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7291845B2 (en) | Method for controlling space charge-driven ion instabilities in electron impact ion sources | |
EP0970504B1 (en) | Time of flight mass spectrometer and dual gain detector therefor | |
Peacock et al. | Comparison of hot cathode and cold cathode ionization gauges | |
US4058724A (en) | Ion Scattering spectrometer with two analyzers preferably in tandem | |
EP0534935A1 (en) | Method and apparatus for generating particle beams | |
CN107462622A (zh) | 用于静态气体质谱分析的设备和方法 | |
WO2005091331A2 (en) | An ionization gauge | |
Banner et al. | A combined ion probe/spark source analysis system | |
US7295015B2 (en) | Ionization gauge | |
EP1725847A2 (en) | An ionization gauge | |
US3665182A (en) | Elemental analyzing apparatus | |
EP0329461B1 (en) | Mass spectrometer | |
RU2554104C2 (ru) | Масс-спектрометрический анализатор газового течеискателя | |
EP1533828B1 (en) | Ion detector | |
WO2007102202A1 (ja) | 質量分析装置 | |
JPH0585858B2 (ja) | ||
Li et al. | Vacuum Science and Technology for Accelerator Vacuum Systems | |
JP2006221876A (ja) | イオン検出器、イオン検出器を備える質量分析計、イオン検出器を操作する方法 | |
Akimichi et al. | Calibration of an axial symmetric transmission gauge in ultrahigh and extreme high vacuum | |
JPH07272653A (ja) | 電界電離型ガスフェーズイオン源の調整方法およびイオンビーム装置 | |
JPS6082956A (ja) | 交流変調型四重極分析装置 | |
US8803104B2 (en) | Ionization cell for a mass spectrometer, and corresponding leak detector | |
RU137653U1 (ru) | Масс-спектрометрический анализатор газового течеискателя | |
Delmore et al. | Ion and neutral beam tracking with a microchannel plate array detector | |
JPS61256557A (ja) | イオン−サイクロトロン共鳴スペクトロメ−タ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |