JPH0580829B2 - - Google Patents

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JPH0580829B2
JPH0580829B2 JP58055853A JP5585383A JPH0580829B2 JP H0580829 B2 JPH0580829 B2 JP H0580829B2 JP 58055853 A JP58055853 A JP 58055853A JP 5585383 A JP5585383 A JP 5585383A JP H0580829 B2 JPH0580829 B2 JP H0580829B2
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JP
Japan
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chip
cell
output buffer
internal
circuit
Prior art date
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JP58055853A
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Japanese (ja)
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JPS59181642A (en
Inventor
Mitsuaki Natsume
Eiji Sugyama
Toshiharu Saito
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • H01L27/118Masterslice integrated circuits

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の技術分野 本発明はマスタースライスゲートアレーの集積
回路に係り、特にエミツタカツプルドロジツク
(以下ECLと呼ぶ)に於けるマスタースライスゲ
ートアレーのセル配置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to a master slice gate array integrated circuit, and particularly to a cell arrangement of a master slice gate array in emitter coupling logic (hereinafter referred to as ECL). .

(2) 技術の背景 半導体技術の進歩に伴い、高速のロジツク回路
も集積化されてきている。ECL回路においても
同様であり高集積度のECLICが実現している。
(2) Technology background As semiconductor technology advances, high-speed logic circuits are becoming more integrated. The same applies to ECL circuits, and highly integrated ECLIC has been realized.

一方、半導体論理回路の基本回路すなわちゲー
ト回路をあらかじめ製作し、目的に応じてその基
本回路を半導体チツプ内で結線するマスタースラ
イスゲートアレーも実現されている。
On the other hand, master slice gate arrays have also been realized in which basic circuits of semiconductor logic circuits, that is, gate circuits, are manufactured in advance and the basic circuits are connected within a semiconductor chip according to the purpose.

マスタースライスゲートアレーは集積回路を構
成する各素子例えばトランジスタや抵抗等を構成
するためのパターンや製作に多くの時間を有する
ので、それを共通化し、それらの素子を結線する
工程のみを使用者が要求する時に結線パターンを
作り結線すなわち各素子を配線するものである。
この方法によつてカスタムICと同様の機能を有
するICが低コストで実現できる。
Master slice gate arrays require a lot of time to pattern and manufacture the elements that make up the integrated circuit, such as transistors and resistors. A wiring pattern is created and connections are made, that is, each element is wired, when required.
By this method, an IC having the same functions as a custom IC can be realized at low cost.

また、ECL回路においてもこのマスタースラ
イスゲートアレーが応用されている。
This master slice gate array is also applied to ECL circuits.

(3) 従来技術と問題点 従来、前述のマスタースライスゲートアレーは
内部セル(以下インターナルセルとする)と出力
バツフアセル(以下アストプツトバツフアセルと
する)によつて構成される。インターナルセルは
チツプ内においてはアルミ配線等で配線され、使
用者の希望する論理が構成される。
(3) Prior Art and Problems Conventionally, the master slice gate array described above is composed of internal cells (hereinafter referred to as internal cells) and output buffer cells (hereinafter referred to as stopped buffer cells). The internal cells are wired with aluminum wiring or the like within the chip, and the logic desired by the user is configured.

例えば1セルによつてフリツプフロツプを構成
したり、複数のセルを用いてアダー回路等を構成
し、それらをさらに組み合わせて様々な機能の論
理回路を作つている。
For example, one cell constitutes a flip-flop, a plurality of cells constitutes an adder circuit, and these are further combined to create logic circuits with various functions.

前述のようにインターナルセルの構成回路は外
部回路と論理レベルを合わせるためにアウトプツ
トバツフアを必要とする。(また場合によつては
入力するためのインプツトバツフアを必要とする
場合もある。)このようなレベルの変換を行うの
がアウトプツトバツフアセルである。アウトプツ
トバツフアセルは前述のようにレベル変換を行う
ためのものであるので、単機能しか有していな
い。そのため、論理結果をラツチして出力するよ
うな場合にはインターナルセルにおいてラツチ機
能を構成し、その出力アウトプツトバツフアを介
して出力していた。この方法はインターナルセル
を出力ラツチとして使用しているので、他の論理
機能を発生するために使われるセルの数が低下し
ていまう問題を有していた。
As mentioned above, the internal cell component circuit requires an output buffer to match the logic level with the external circuit. (In some cases, an input buffer may be required for input.) An output buffer cell performs such level conversion. Since the output buffer cell is for level conversion as described above, it has only a single function. Therefore, when a logic result is to be latched and output, a latch function is configured in an internal cell, and the output is output via the output buffer. This method has the problem of using internal cells as output latches, reducing the number of cells that can be used to generate other logic functions.

一方、ECL回路には一般的には終端抵抗が接
続される。これは出力データが伝送路を介して他
のECL回路等に入力する時に整合するように挿
入されるものである。
On the other hand, a terminating resistor is generally connected to an ECL circuit. This is inserted to match the output data when it is input to other ECL circuits etc. via the transmission line.

すなわち、終端抵抗は使用する伝送路によつて
決るものであり、その値は例えば25,50,100Ω
等様々な値を有する。これらの終端抵抗をドライ
ブするためにはECL回路の出力バツフアのドラ
イブ能力をそれらに対向して変化させなくてはな
らない。そのため、従来では、終端抵抗に対応し
たアウトプツトバツフアを有するチツプを揃えて
おかなくてはならないという問題を有していた。
すなわち、結論のみを変更するだけで共通に使用
できる範囲には限界を有していた。これはコスト
を高くする結果となつていた。
In other words, the terminating resistance is determined by the transmission line used, and its value is, for example, 25, 50, 100Ω.
etc. have various values. In order to drive these termination resistors, the drive capability of the output buffer of the ECL circuit must be changed in opposition to them. Therefore, in the past, there was a problem in that chips having output buffers corresponding to the terminating resistors had to be prepared in advance.
In other words, there is a limit to the range that can be commonly used by simply changing the conclusion. This resulted in higher costs.

(4) 発明の目的 本発明は前記問題点を解決するものであり、そ
の目的は配線工程によつて終端抵抗値が選択で
き、さらに配線工程によつて論理機能が変えられ
るアウトプツトバツフアを有するECLマスター
スライスゲートアレーICを提供することにある。
(4) Purpose of the Invention The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide an output buffer in which the termination resistance value can be selected by the wiring process and the logic function can be changed by the wiring process. An object of the present invention is to provide an ECL master slice gate array IC having an ECL master slice gate array IC.

(5) 発明の構成 チツプの中央領域に設けられた複数の内部セル
と、該チツプの外縁領域に設けられた複数のボン
デイングパツドと、該内部セルと該ボンデイング
パツドとの間に設けられ、該内部セルからの信号
の論理を取ると共にその演算結果を該ボンデイン
グパツドを介して該チツプ外に伝達する機能を有
する第1の出力バツフアセルと、該内部セルと該
ボンデイングパツドとの間に設けられ、該内部セ
ルからの信号を該ボンデイングパツドを介して該
チツプ外に伝達する機能のみを有する第2の出力
バツフアセルと、該ボンデイングパツドに該チツ
プ外から接続される負荷に応じて、該ボンデイン
グパツドに接続する駆動トランジスタの数を選択
する選択手段とを含むことを特徴とする集積回路
装置にある。
(5) Structure of the invention A plurality of internal cells provided in the central region of the chip, a plurality of bonding pads provided in the outer edge region of the chip, and a plurality of bonding pads provided between the internal cells and the bonding pads. , a first output buffer cell having a function of taking the logic of the signal from the internal cell and transmitting the calculation result to the outside of the chip via the bonding pad, and between the internal cell and the bonding pad. a second output buffer cell provided in the chip and having only the function of transmitting a signal from the internal cell to the outside of the chip via the bonding pad; and selecting means for selecting the number of drive transistors connected to the bonding pad.

(6) 発明の実施例 以下、図面を用いて本発明を詳細に説明する。(6) Examples of the invention Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第1図は本発明の実施例のセル構成図である。
チツプ1上の中心部に10×10セルより成るインタ
ーナルセルINTを配置し、その上辺と下辺にそ
れぞれアウトプツトバツフアセルOBUF1を10
セルずつ設ける。
FIG. 1 is a cell configuration diagram of an embodiment of the present invention.
An internal cell INT consisting of 10 x 10 cells is placed in the center of chip 1, and 10 output buffer cells OBUF1 are placed on the top and bottom sides of the internal cell INT.
Provide each cell.

また、左右に辺にアウトプツトバツフアセル
OBU2を配置する。インターナルセルINTの信
号レベルは外部信号レベルとは異なる。例えば外
部信号のローレベルとハイレベルの差が800mV、
インターナルセルINTの信号レベルのローレベ
ルとハイレベルの差が600mV等のように異なる。
In addition, there are output buttons on the left and right sides.
Place OBU2. The signal level of the internal cell INT is different from the external signal level. For example, if the difference between the low level and high level of the external signal is 800mV,
The difference between the low level and high level of the signal level of the internal cell INT is different, such as 600 mV.

アウトプツトバツフアセルOBUF1はインタ
ーナルセルINTと同様の論理機能を有する。例
えば5入力OR、NORを1ゲートとしてそのゲー
トが1セル内に4ゲート有する。
Output buffer cell OBUF1 has the same logical function as internal cell INT. For example, one gate has five inputs OR and NOR, and one cell has four gates.

第2図はインターナルセルINTの回路構成図
を示す。トランジスタT1〜T5、抵抗R1,R′1
R2,R′2,R3,R4よりなり、トランジスタT4
ベースに電圧VBB、トランジスタT2のベースに電
圧Vcsが印加される。また、電源Vccは一般的に
接地電圧である。電源VEEは例えば−5.2Vであり
この電源によつてこの回路が動作するための電力
が供給されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of the internal cell INT. Transistors T 1 to T 5 , resistors R 1 , R′ 1 ,
It consists of R 2 , R′ 2 , R 3 , and R 4 , and a voltage V BB is applied to the base of the transistor T 4 and a voltage Vcs is applied to the base of the transistor T 2 . Further, the power supply Vcc is generally a ground voltage. The power supply V EE is, for example, -5.2V, and this power supply supplies power for the operation of this circuit.

第2図に示した回路に於いては一般的なECL
におけるOR・NORゲート回路であり、OOR
ONORがそれぞれOR出力、NOR出力に対応する。
In the circuit shown in Figure 2, the general ECL
It is an OR/NOR gate circuit in O OR ,
O NOR corresponds to OR output and NOR output, respectively.

尚、第2図の回路においては入力INは1入力
で示してあるが複数の入力の場合にはトランジス
タT3と同様のトランジスタが複数あり、そのト
ランジスタのコレクタとエミツタがそれぞれ共通
にトランジスタT3のコレクタとエミツタに接続
された構成となる。この時の複数のトランジスタ
のそれぞれのベースが複数の入力となる。ここで
抵抗R′1,R′2はこのゲート回路が高速を要求され
る場合に接続され、高速を要求されない場合には
接続されない。これは配線工程によつてなされる
ものである。
In the circuit of Fig. 2, input IN is shown as one input, but in the case of multiple inputs, there are multiple transistors similar to transistor T3 , and the collector and emitter of each transistor are common to transistor T3. The configuration is connected to the collector and emitter. At this time, the bases of the plurality of transistors serve as the plurality of inputs. Here, resistors R' 1 and R' 2 are connected when this gate circuit requires high speed, and are not connected when high speed is not required. This is done through a wiring process.

第3図は第2図における回路のセル上の配置を
示すパターン図である。前述の抵抗R′1,R′2は配
線工程時に選択的に配線される。
FIG. 3 is a pattern diagram showing the arrangement of the circuit in FIG. 2 on cells. The aforementioned resistors R' 1 and R' 2 are selectively wired during the wiring process.

抵抗R′1,R′2が接続された場合にはこのゲート
で消費する電力は増加し、それとともにスピード
も速くなる。
When resistors R′ 1 and R′ 2 are connected, the power consumed by this gate increases, and the speed also increases.

第4図はインターナルセルINTの他の回路図
である。第2図の回路と異なる点は抵抗R10を有
することである。即ち抵抗R1の一端はトランジ
スタT3,T4のコレクタにそれぞれ接続され他端
が共通に抵抗R10の一端に接続されている。そし
て抵抗R10の他端が電源Vccに接続されている。
この抵抗R10は前述と同様に配線工程において選
択的に挿入されるものであり、挿入された時はこ
のゲート内で消費する電力は低下し、それと共に
スピードも低下する。
FIG. 4 is another circuit diagram of the internal cell INT. The difference from the circuit of FIG. 2 is that it includes a resistor R10 . That is, one end of the resistor R 1 is connected to the collectors of the transistors T 3 and T 4 , respectively, and the other end is commonly connected to one end of the resistor R 10 . The other end of resistor R10 is connected to power supply Vcc.
This resistor R10 is selectively inserted in the wiring process as described above, and when inserted, the power consumed within this gate decreases, and the speed also decreases.

すなわち、第2図において本発明の実施例にお
けるセルの各ゲートが論理演算スピードを速く要
求される場合には第2図においてはR′1,R′2を付
加し、スピードを要求されない場合には、付加し
ない様に配線工程でおこなう。
That is, in FIG. 2, when each gate of the cell in the embodiment of the present invention is required to have high logic operation speed, R' 1 and R' 2 are added in FIG. 2, and when no speed is required, R' 1 and R' 2 are added. This should be done during the wiring process so that it is not added.

同様に第4図においては、スピードを要求され
ない場合には抵抗R10を挿入し、スピードを要求
される場合には抵抗R10を挿入しないように配線
工程でおこなう。これはスピードを要求しない場
合の低消費電力化をおこなうためになされるもの
である。
Similarly, in FIG. 4, when speed is not required, resistor R10 is inserted, and when speed is required, resistor R10 is not inserted during the wiring process. This is done to reduce power consumption when speed is not required.

第5図はアウトプツトバツフアセルOBUF2
内のゲートの回路図を示す。この回路は第2図に
示したインターナルセルの1ゲートの回路図の抵
抗R3,R4を除いたものである。この時出力OOR
ONORは外部回路に出力するものであり、ボンデイ
ングパツドに接続される。
Figure 5 shows the output buffer cell OBUF2.
The circuit diagram of the gate inside is shown. This circuit is the same as the circuit diagram of one gate of the internal cell shown in FIG. 2, except that the resistors R 3 and R 4 are removed. At this time, the output O OR ,
O NOR outputs to the external circuit and is connected to the bonding pad.

第5図に示した回路は1入力であるが、トラン
ジスタT3を複数接続することによつて多入力の
ゲートとなり、その場合の回路がアウトプツトバ
ツフアOBUF1の1ゲートに対応する。
The circuit shown in FIG. 5 has one input, but by connecting a plurality of transistors T3 , it becomes a multi-input gate, and the circuit in this case corresponds to one gate of the output buffer OBUF1.

すなわち、複数のトランジスタT3のコレクタ
が共通に接続され、さらにエミツタも共通に接続
され、その複数のトランジスタT3のベースが入
力となるのである。アウトプツトバツフア
OBUF1は前述の第5図に示した回路のトラン
ジスタT3が複数有するものを1ゲート回路とし
て複数ゲート回路を有する。この回路は第2図に
示した回路と同様の回路であり、機能的には全く
同じである。
That is, the collectors of the plurality of transistors T3 are connected in common, the emitters are also connected in common, and the bases of the plurality of transistors T3 serve as inputs. output buffer
The OBUF 1 has a plurality of gate circuits, each of which includes a plurality of transistors T3 in the circuit shown in FIG. 5 described above. This circuit is similar to the circuit shown in FIG. 2, and is functionally completely the same.

さらに、第5図の回路におけるトランジスタは
負荷抵抗即ち終端抵抗が接続される。この終端抵
抗は25Ω,50Ω,100Ωと低く、50Ω等の場合には
それを完全にドライブできるトランジスタでなく
てはならない。
Furthermore, the transistor in the circuit of FIG. 5 is connected to a load resistor, that is, a terminating resistor. This termination resistance is as low as 25Ω, 50Ω, or 100Ω, and if it is 50Ω, the transistor must be able to completely drive it.

第6図は前述の終端抵抗をドライブするトラン
ジスタT1,T5のドライブ容量を可変するための
パターン図を示す。ボンデイングパツドPA1は
外部に50Ωが接続される端子であり、2個のトラ
ンジスタよりなるエリアHのそれぞれのエミツタ
が配線パターンL50によつて接続されされてい
る。また、ボンデイングパツドPA2は外部に、
100Ωが接続される端子であり、2個のトランジ
スタより成るエリアHの1個のトランジスタのエ
ミツタが配線パターンL100によつて接続されて
いる。図示しないが例えば25Ωの場合には同様に
4個のトランジスタが接続される。この接続は終
端用抵抗の値によつて決まるものであり、その値
によつて配線工程時に選択的にその数が決定す
る。
FIG. 6 shows a pattern diagram for varying the drive capacitance of the transistors T 1 and T 5 that drive the aforementioned termination resistor. Bonding pad PA1 is a terminal to which 50Ω is connected to the outside, and the respective emitters of area H consisting of two transistors are connected by wiring pattern L50. In addition, the bonding pad PA2 is externally
This is a terminal to which 100Ω is connected, and the emitter of one transistor in area H consisting of two transistors is connected by a wiring pattern L100. Although not shown, in the case of 25Ω, for example, four transistors are similarly connected. This connection is determined by the value of the terminating resistor, and the number of connections is selectively determined during the wiring process depending on the value.

本発明の実施例はすべてECLを用いたがこれ
はECLに限らず例えばCMOS等のICにも応用で
きる。
All of the embodiments of the present invention use ECL, but this is not limited to ECL, but can also be applied to ICs such as CMOS.

(7) 発明の効果 以上述べたように本発明によれば、配線工程に
よつて終端抵抗値が選択でき、さらに配線工程に
よつて論理機能が変えられるアウトプツトバツフ
アを有するECLマスタースライスゲートアレー
ICを得ることができる。さらに配線工程によつ
てインターナルセルの論理スピードや消費電力を
も選択できる。
(7) Effects of the Invention As described above, according to the present invention, an ECL master slice gate having an output buffer whose terminating resistance value can be selected by the wiring process and whose logic function can be changed by the wiring process is provided. array
You can get IC. Furthermore, the logic speed and power consumption of internal cells can be selected by the wiring process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例のセル構成図、第2図
および第4図はインターナルセルの回路構成図、
第3図は第2図の回路構成図の配線パターン図、
第5図はアウトプツトバツフアセルの回路構成
図、第6図はアウトプツトバツフアの出力トラン
ジスタの配線パターン図である。 1……チツプ、INT……インターナルセル、
OUBF1,2……アウトプツトバツフアセル、
T1〜T5……トランジスタ、R1〜R4,R10,R′1
R′2……抵抗。
FIG. 1 is a cell configuration diagram of an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 4 are internal cell circuit configuration diagrams,
Figure 3 is a wiring pattern diagram of the circuit configuration diagram in Figure 2,
FIG. 5 is a circuit diagram of the output buffer cell, and FIG. 6 is a wiring pattern diagram of the output transistor of the output buffer. 1...chip, INT...internal cell,
OUBF1,2...Output buffer cell,
T 1 to T 5 ...transistor, R 1 to R 4 , R 10 , R′ 1 ,
R′ 2 ...Resistance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 チツプの中央領域に設けられた複数の内部セ
ルと、該チツプの外縁領域に設けられた複数のボ
ンデイングパツドと、 該内部セルと該ボンデイングパツドとの間に設
けられ、該内部セルからの信号の論理を取ると共
にその演算結果を該ボンデイングパツドを介して
該チツプ外に伝達する機能を有する第1の出力バ
ツフアセルと、 該内部セルと該ボンデイングパツドとの間に設
けられ、該内部セルからの信号を該ボンデイング
パツドを介して該チツプ外に伝達する機能のみを
有する第2の出力バツフアセルと、 該ボンデイングパツドに該チツプ外から接続さ
れる負荷に応じて、該ボンデイングパツドに接続
する駆動トランジスタの数を選択する選択手段と
を含むことを特徴とする集積回路装置。 2 該内部セルはエミツタが共通接続された一対
のトランジスタを有するゲートを含むことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の集積回路装
置。 3 該複数の内部セルは該チツプの矩形領域内に
配置され、該第1のバツフアセルは該矩形領域に
対向する一対の辺に沿つて配置され、該第2の出
力バツフアセルは該矩形領域の対向する他の一対
の辺に沿つて配置されてなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の集積回路装置。
[Claims] 1. A plurality of internal cells provided in the central region of the chip, a plurality of bonding pads provided in the outer edge region of the chip, and a plurality of bonding pads provided between the internal cells and the bonding pads. a first output buffer cell having a function of taking the logic of the signal from the internal cell and transmitting the calculation result to the outside of the chip via the bonding pad; a second output buffer cell provided between the chips and having only the function of transmitting a signal from the internal cells to outside the chip via the bonding pad; and a load connected to the bonding pad from outside the chip. and selecting means for selecting the number of drive transistors connected to the bonding pad accordingly. 2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the internal cell includes a gate having a pair of transistors whose emitters are commonly connected. 3. The plurality of internal cells are arranged within a rectangular area of the chip, the first buffer cell is arranged along a pair of opposite sides of the rectangular area, and the second output buffer cell is arranged along a pair of opposite sides of the rectangular area. 2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the integrated circuit device is arranged along the other pair of sides.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5493376A (en) * 1977-12-30 1979-07-24 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit device

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