JPH0575193B2 - - Google Patents

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JPH0575193B2
JPH0575193B2 JP3048086A JP3048086A JPH0575193B2 JP H0575193 B2 JPH0575193 B2 JP H0575193B2 JP 3048086 A JP3048086 A JP 3048086A JP 3048086 A JP3048086 A JP 3048086A JP H0575193 B2 JPH0575193 B2 JP H0575193B2
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JP
Japan
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temperature
semiconductor laser
effect element
output
operating temperature
Prior art date
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Application number
JP3048086A
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Japanese (ja)
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JPS62188292A (en
Inventor
Nobuo Hori
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Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Publication date
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Priority to JP3048086A priority Critical patent/JPS62188292A/en
Publication of JPS62188292A publication Critical patent/JPS62188292A/en
Publication of JPH0575193B2 publication Critical patent/JPH0575193B2/ja
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06804Stabilisation of laser output parameters by monitoring an external parameter, e.g. temperature

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体レーザー(レーザーダイオー
ド;LDともいう)の動作温度を設定温度に維持
させることのできる半導体レーザーの温度安定化
装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a temperature stabilization device for a semiconductor laser (laser diode; also referred to as LD) that can maintain the operating temperature of the semiconductor laser at a set temperature.

(従来の技術) 近時、半導体レーザーは、入力エネルギーに対
する出力エネルギーの変換効率が大きいことから
光学系を備えた各種の機器に使用されつつある。
ところで、この半導体レーザーは、その発振周波
数、発振出力がその半導体レーザーの動作温度の
変化に依存して変化するという性質を有してい
る。そこで、半導体レーザーの発振周波数、発振
出力を一定に保つために、その半導体レーザーの
動作温度を設定温度に保つことが要請される。
(Prior Art) Semiconductor lasers have recently been used in various devices equipped with optical systems because of their high conversion efficiency of output energy to input energy.
Incidentally, this semiconductor laser has a property that its oscillation frequency and oscillation output change depending on changes in the operating temperature of the semiconductor laser. Therefore, in order to keep the oscillation frequency and oscillation output of the semiconductor laser constant, it is required to maintain the operating temperature of the semiconductor laser at a set temperature.

(発明が解決しようとする問題点) この半導体レーザーの設定温度を所定温度に保
つために、熱電効果型素子としてのペルチエ素子
を有する温度制御装置(特開昭53−1782号公報参
照)を温度安定化装置として用いることが考えら
れるが、半導体レーザーの場合には、その注入電
流によつて半導体レーザーそのものが発熱するた
めに、半導体レーザーの動作温度と設定温度との
温度差に基づいて、動作温度を設定温度に近づけ
るように熱電効果型素子を制御するものとする
と、半導体レーザーの発熱によつて設定温度から
動作温度がずれるという問題点がある。
(Problem to be Solved by the Invention) In order to maintain the set temperature of this semiconductor laser at a predetermined temperature, a temperature control device (see Japanese Patent Application Laid-open No. 1782-1982) having a Peltier element as a thermoelectric effect element is used. It can be considered to be used as a stabilizing device, but in the case of semiconductor lasers, the semiconductor laser itself generates heat due to the injected current. If the thermoelectric effect element is controlled so that the temperature approaches the set temperature, there is a problem in that the operating temperature deviates from the set temperature due to the heat generated by the semiconductor laser.

第1図〜第6図を使用してこの問題点をさらに
詳細に説明する。第1図は、従来のペルチエ効果
型素子を有する温度制御装置の制御回路を示し、
第2図はそのペルチエ効果型素子に半導体レーザ
ーを取付けて熱電変換器KZを構成した状態を示
す概略図である。その制御回路は、比較回路1と
コンプリメンタリーに構成されたトランジスタ2
とペルチエ効果型素子3とから構成されており、
熱電変換器KZはそのペルチエ効果型素子3の一
側に半導体レーザー4を設け、その他側に放熱板
5を設け、サーミスタ6を内蔵して構成される。
This problem will be explained in more detail using FIGS. 1 to 6. FIG. 1 shows a control circuit of a temperature control device having a conventional Peltier effect element.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a thermoelectric converter KZ in which a semiconductor laser is attached to the Peltier effect element. The control circuit includes a comparator circuit 1 and a transistor 2 which is configured complementary.
and a Peltier effect type element 3,
The thermoelectric converter K Z includes a semiconductor laser 4 provided on one side of the Peltier effect element 3, a heat sink 5 provided on the other side, and a thermistor 6 built therein.

サーミスタ6は、半導体レーザー4の動作温度
TTを検出してその動作温度TTを動作温度変換電
圧ETに電圧変換する機能を有し、この動作温度
変換電圧ETは、比較回路1の一端子に入力され
る。この比較回路1の他端子に、設定温度Ts
対応する基準電圧Esが入力される。比較回路1
は、この基準電圧ESとその動作温度変換電圧ET
とを比較してその差分出力をトランジスタ2に向
かつて出力する。トランジスタ2は、トランジス
タ2aとトランジスタ2bとから構成され、ET
>Es(TT>Ts)の時には、ペルチエ効果型素子3
によつて半導体レーザー4が冷却されるようにト
ランジスタ2を通電制御し、ET<Es(TT<Ts)の
時には、ペルチエ効果型素子3によつて半導体レ
ーザー4が加熱されるようにトランジスタ2を通
電制御し、これによつて、半導体レーザー4の動
作温度TTが設定温度Tsに近づく方向に制御され、
平衡状態に達する。この平衡状態に達したときの
平衡温度をTeとする。
The thermistor 6 controls the operating temperature of the semiconductor laser 4.
It has a function of detecting the operating temperature T T and converting the operating temperature T T into an operating temperature converted voltage E T , and this operating temperature converted voltage E T is input to one terminal of the comparator circuit 1 . A reference voltage E s corresponding to the set temperature T s is input to the other terminal of the comparison circuit 1 . Comparison circuit 1
is this reference voltage E S and its operating temperature conversion voltage E T
The differential output is outputted to the transistor 2. Transistor 2 is composed of transistor 2a and transistor 2b, and E T
> E s (T T > T s ), Peltier effect element 3
The energization of the transistor 2 is controlled so that the semiconductor laser 4 is cooled by the Peltier effect element 3, and when E T <E s (T T <T s ), the semiconductor laser 4 is heated by the Peltier effect element 3. energization of the transistor 2 is controlled, thereby controlling the operating temperature T T of the semiconductor laser 4 in a direction approaching the set temperature T s ,
Equilibrium is reached. Let Te be the equilibrium temperature when this equilibrium state is reached.

ところで、ペルチエ効果型素子3は、第3図に
示す特性を有している。この第3図に示す特性図
は、小松エレクトロニクス社製のKSM−0211の
ペルチエ効果型素子3についてのものである。こ
の第3図において、縦軸はこのペルチエ効果型素
子3に加わる熱負荷としての熱量Qを示し、横軸
はこのペルチエ効果型素子3に流れる平衡電流Ie p
を示し、パラメータΔTは、平衡状態に達したと
きの動作温度TT(このとき、TT=Te)とペルチ
エ効果型素子3の放熱側の温度としての境界温度
Thとの温度差であり、 ΔT≡Te−Th である。温度差ΔT=0は、平衡温度Teが環境温
度Thに等しいことを意味する。
By the way, the Peltier effect type element 3 has the characteristics shown in FIG. The characteristic diagram shown in FIG. 3 is for the Peltier effect element 3 of KSM-0211 manufactured by Komatsu Electronics. In FIG. 3, the vertical axis shows the amount of heat Q as a thermal load applied to this Peltier effect type element 3, and the horizontal axis shows the equilibrium current I e p flowing through this Peltier effect type element 3.
, and the parameter ΔT is the operating temperature T T (at this time, T T = Te) when the equilibrium state is reached and the boundary temperature as the temperature on the heat radiation side of the Peltier effect element 3.
It is the temperature difference from T h , and ΔT≡Te−T h . A temperature difference ΔT=0 means that the equilibrium temperature Te is equal to the environmental temperature T h .

ところで、第3図から明らかなように、発熱体
(Q≠0)の場合には、たとえ、温度差ΔT=0
℃のときであつても、熱量Qを放散するために、
ペルチエ効果型素子3に平衡電流Ie pが流れている
ことになる。ここで、半導体レーザー4の動作温
度TTが平衡温度Teに達したときの動作温度変換
電圧ETを平衡温度対応電圧Eeとする。また、第
1図に示す制御回路の電圧・電流変換係数をαと
すると、熱平衡状態のときの半導体レーザー4の
平衡温度Teに対応する平衡温度対応電圧Eeは、 I1 e=α(Ee−ES)の式を変形して、 Ee=Es+I1 e/α ……(1) によつて求められる。
By the way, as is clear from Fig. 3, in the case of a heating element (Q≠0), even if the temperature difference ΔT=0
Even at ℃, in order to dissipate the amount of heat Q,
This means that the equilibrium current I e p flows through the Peltier effect element 3. Here, the operating temperature converted voltage E T when the operating temperature T T of the semiconductor laser 4 reaches the equilibrium temperature Te is defined as the equilibrium temperature corresponding voltage Ee. Further, if the voltage - to - current conversion coefficient of the control circuit shown in FIG. Ee= Es + I1e /α... ( 1 )

ただし、I1 eは、設定温度Tsと環境温度Thとを
等しく制御しようとしたときに、ペルチエ効果型
素子3に流れる電流であり、このとき基準電圧Es
と環境温度対応電圧Ehとの間には、Es=Ehの関
係がある。
However, I 1 e is the current flowing through the Peltier effect element 3 when trying to control the set temperature T s and the environmental temperature T h equally, and at this time, the reference voltage E s
There is a relationship of E s = E h between E h and the environmental temperature corresponding voltage E h .

また、この平衡電流I1 eと熱量Qとは、第3図
に示すように熱量Qが小さい範囲ではリニアの関
係にあるから、変換係数をβとすると熱量Qは、 Q=β・I1 e ……(2) によつて表される。
Also, as shown in Figure 3, this equilibrium current I 1 e and the amount of heat Q have a linear relationship in the range where the amount of heat Q is small, so if the conversion coefficient is β, the amount of heat Q is Q = β・I 1 e is expressed by (2).

そこで、(1)式と(2)式とによつて、平衡温度対応
電圧Eeは、 Ee=Es+Q/α・β ……(3) によつて表される。なお、(3)式が成り立つこと
は、実験結果からも裏付けられる。第4図は、そ
の実験によつて得られた熱量Qの値と平衡温度対
応電圧Eeの値とをプロツトした図である。
Therefore, using equations (1) and (2), the voltage Ee corresponding to the equilibrium temperature is expressed as Ee=E s +Q/α·β (3). It should be noted that the fact that equation (3) holds true is also supported by experimental results. FIG. 4 is a diagram plotting the value of the amount of heat Q and the value of the voltage Ee corresponding to the equilibrium temperature obtained through the experiment.

この(3)式は、Q=0のときには、基準電圧Es
環境温度対応電圧Ehに等しく設定しておくと、
制御回路がEs−ET=ET−Ee=0となるように制
御を行うため、Ee=ES(ΔT=0)となることを
示しているが、Q≠0のときには、たとえ、設定
温度Tsを環境温度Thに等しくしようとしてEs
Ehに設定したとしても、 Ee≠Es ……(4) であることを示している。すなわち、この(3)式
は、半導体レーザー4のような発熱体の場合に
は、平衡温度Teに対応する平衡温度対応電圧Ee
は、設定温度Tsに対応する基準電圧Esに一致せ
ず、この制御回路では、熱量Qの大きさに比例し
た量、すなわち、Q/(α・β)に相当する分だ
け平衡温度Teが設定温度Tsに対してシフトする
ことになる。なお、熱量Qは、半導体レーザー4
の注入電流ILDに比例する。
This equation (3) is expressed as follows: When Q=0, if the reference voltage E s is set equal to the environmental temperature corresponding voltage E h ,
This shows that Ee= ES (ΔT=0) because the control circuit performs control so that E s −E T =E T −Ee=0, but when Q≠0, even if Trying to make the set temperature T s equal to the environmental temperature T h , E s =
Even if E h is set, Ee≠E s ……(4) shows that. In other words, in the case of a heating element such as the semiconductor laser 4, Equation (3) expresses the equilibrium temperature corresponding voltage Ee corresponding to the equilibrium temperature Te.
does not match the reference voltage E s corresponding to the set temperature T s , and in this control circuit, the equilibrium temperature Te will shift with respect to the set temperature T s . Note that the amount of heat Q is the semiconductor laser 4
The injection current I is proportional to LD .

ところで、環境温度Thは、恒常的ではなく、
変化するものであり、設定温度TSと環境温度Th
とは必ずしも一致していない。平衡温度Teが環
境温度Thと異なる場合(ΔT=Te−Th≠0)に
は、発熱体でないときであつても、ペルチエ効果
型素子3には、第3図に示すように、平衡電流
I2 eが流れる。
By the way, the environmental temperature T h is not constant;
The set temperature T S and the environmental temperature T h
are not necessarily consistent. When the equilibrium temperature Te is different from the environmental temperature T h (ΔT=Te−T h ≠0), the Peltier effect element 3 has an equilibrium state as shown in FIG. 3 even when it is not a heating element. current
I 2 e flows.

第5図は、Q=0のときのΔT=Te−Thと平
衡電流I2 eとの関係を示すペルチエ効果型素子3
の特性図であり、平衡温度対応電圧Eeは、 I2 e=α・(Ee−ES)の式によつて、 Ee=Es+I2 e/α (5) ここで、平衡温度Teと環境温度Thとの温度差
ΔTが小さい部分(ΔT≦15℃)では、温度差ΔT
と平衡電流I2 eとは、リニアな関係にある。
Figure 5 shows the relationship between ΔT=Te−T h and equilibrium current I 2 e when Q=0 for Peltier effect element 3.
The voltage Ee corresponding to the equilibrium temperature is calculated by the equation I 2 e = α・(Ee−E S ), Ee=E s + I 2 e /α (5) Here, the equilibrium temperature Te and In areas where the temperature difference ΔT from the environmental temperature T h is small (ΔT≦15℃), the temperature difference ΔT
and the equilibrium current I 2 e have a linear relationship.

そこで、温度差ΔTは、 ΔT=−γ・I2 e ……(6) ただし、ペルチエ効果型素子3に流れる平衡電
流I2 eの流れの方向は、試料を冷却する方向に流
れる場合を正とし、γは変換係数である。
Therefore, the temperature difference ΔT is ΔT=−γ·I 2 e ……(6) However, the direction of flow of the equilibrium current I 2 e flowing through the Peltier effect element 3 is correct when it flows in the direction to cool the sample. and γ is the conversion coefficient.

この(6)式を用いて、(5)式を変形し、平衡温度対
応電圧Eeを温度差ΔTの関数として表すと、 Ee=Es−1/α・γ・ΔT ……(7) となる。
Using this equation (6), we transform equation (5) and express the voltage corresponding to the equilibrium temperature Ee as a function of the temperature difference ΔT, Ee=E s −1/α・γ・ΔT ……(7) Become.

したがつて、第1図に示す回路を使用すると、
設定温度Tsと環境温度Thとが一致していない場
合に、平衡温度Teに対応する平衡温度対応電圧
Eeが、基準電圧Esに一致しないことになり、そ
の差「Ee−Es」は、平衡温度Teが設定温度Ts
対してΔTに比例した量だけシフトすることにな
る。第6図は、このことを実験によつて確認した
グラフを示す図である。
Therefore, using the circuit shown in Figure 1,
Equilibrium temperature corresponding voltage corresponding to equilibrium temperature Te when set temperature T s and environmental temperature T h do not match
Ee does not match the reference voltage Es , and the difference "Ee- Es " causes the equilibrium temperature Te to shift with respect to the set temperature Ts by an amount proportional to ΔT. FIG. 6 is a graph showing this fact confirmed through experiments.

すなわち、設定温度Tsを一定にしても、環境
温度Thが変化すると温度差ΔTが変化するため、
平衡温度Teが環境温度Thの影響を受けて変化す
ることになり、動作温度TTが一定しないことに
なる。
In other words, even if the set temperature T s is constant, if the environmental temperature T h changes, the temperature difference ΔT will change.
The equilibrium temperature Te will change under the influence of the environmental temperature T h , and the operating temperature T T will not be constant.

次に、発熱体であり、かつ、環境温度Thと設
定温度TSとが一致してない場合には、平衡電流Ie p
は、重畳の原理により、 Ie p=I1 e+I2 e=Q/β−ΔT/γ ……(8) によつて表される。
Next, if it is a heating element and the environmental temperature T h and the set temperature T S do not match, the equilibrium current I e p
is expressed by I e p =I 1 e +I 2 e =Q/β−ΔT/γ (8) according to the principle of superposition.

この(8)式を(1)式によつて変形すると、 Ee−Es=Iep/α=Q/α・β−ΔT/α・γ となり、 Ee=EsQ/α・β−ΔT/α・γ……(9) を得る。 Transforming this equation (8) using equation (1), Ee−E s = I e / p / α = Q / α・β − ΔT / α・γ, and Ee = E s Q / α・β −ΔT/α・γ……(9) is obtained.

この(9)式から明らかなように、Q、ΔTによら
ずに、平衡温度Teを設定温度Tsに近づける手段
として、電圧・電流変換係数(電流増幅率ともい
う)αを極力大きくすることが考えられる。しか
しながら、この電圧・電流変換係数αを大きくす
ると、αの大きさに比例してオーバシユートを生
じ、かえつて、動作温度TTが安定しないという
問題点を生じる。
As is clear from equation (9), as a means to bring the equilibrium temperature Te closer to the set temperature Ts , regardless of Q and ΔT, the voltage-to-current conversion coefficient (also called current amplification factor) α should be made as large as possible. is possible. However, when this voltage/current conversion coefficient α is increased, overshoot occurs in proportion to the size of α, and on the contrary, the problem arises that the operating temperature T T is not stable.

(発明の目的) 本発明の目的は、半導体レーザーの発熱量の変
化、半導体レーザーの周囲の環境温度の変化に適
切に応答して熱電効果型素子を制御し、もつて半
導体レーザーの動作温度を常に設定温度に保つこ
とのできる半導体レーザーの温度安定化装置を提
供することにある。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to control a thermoelectric effect element in appropriate response to changes in the amount of heat generated by a semiconductor laser and changes in the environmental temperature around the semiconductor laser, thereby controlling the operating temperature of the semiconductor laser. An object of the present invention is to provide a temperature stabilizing device for a semiconductor laser that can always maintain the temperature at a set temperature.

(問題点を解決するための手段) 本発明の特徴は、半導体レーザーを所定の設定
温度で動作させる半導体レーザーの温度安定化装
置において、その半導体レーザーに注入電流を供
給する電流供給源と、その半導体レーザーの注入
電流に基づく発熱量を検出する発熱量検出部と、
その半導体レーザーに設けられてその動作温度を
検出する動作温度検出部と、その半導体レーザー
の周囲の環境温度を検出する環境温度検出部と、
その半導体レーザーとの間で熱の授受を行う熱電
効果型素子と、その動作温度検出部の出力とその
環境温度検出部の出力とが入力され、その動作温
度とその環境温度との差分に基づいてその動作温
度とその設定温度とがずれることを補正するため
の差分補正用出力を発生する差分補正用出力発生
回路と、その発熱量検出部の出力が入力され、そ
の半導体レーザーの発熱分に基づいてその動作温
度とその設定温度とがずれることを補正するため
の発熱分補正用出力を発生する発熱分補正用出力
発生回路と、その設定温度に対応する基準電圧が
印加され、その差分補正用出力発生回路の差分補
正用出力とその発熱分補正用出力発生回路の発熱
分補正用出力とに基づいて、その基準電圧を補正
して補正基準電圧を出力し、この補正基準電圧と
その動作温度検出部の出力とを比較してその設定
温度にその動作温度が一致するようにその熱電効
果型素子を制御する制御部とを有するところにあ
る。
(Means for Solving the Problems) The present invention is characterized in that, in a semiconductor laser temperature stabilization device that operates a semiconductor laser at a predetermined set temperature, a current supply source that supplies injection current to the semiconductor laser; a calorific value detection unit that detects the calorific value based on the injection current of the semiconductor laser;
an operating temperature detection section that is provided in the semiconductor laser and detects its operating temperature; an environmental temperature detection section that detects the environmental temperature around the semiconductor laser;
The thermoelectric effect element that transfers heat to and from the semiconductor laser, the output of its operating temperature detection section, and the output of its environmental temperature detection section are input, and the difference between its operating temperature and its environment temperature is determined. A difference correction output generation circuit that generates a difference correction output to correct the deviation between the operating temperature and its set temperature, and the output of its heat generation detection section are input, and the output of the heat generation amount detection section is inputted. A heat generation correction output generation circuit that generates a heat generation correction output to correct the deviation between the operating temperature and its set temperature based on the set temperature, and a reference voltage corresponding to the set temperature is applied, and the difference correction is performed. The reference voltage is corrected based on the difference correction output of the output generation circuit and the heat generation correction output of the output generation circuit for heat generation, and the correction reference voltage and its operation are corrected. and a control section that compares the output of the temperature detection section and controls the thermoelectric effect element so that its operating temperature matches the set temperature.

(作用) 本発明によれば、差分補正用出力発生回路が動
作温度と環境温度との差分補正用出力を発生する
と共に、発熱分補正用出力発生回路が発熱分補正
用出力を発生する。この発熱分補正用出力と差分
補正用出力とは制御部に入力される、この制御部
は、設定温度に対応する基準電圧を、差分補正用
出力と発熱分補正用出力とに基づいて補正し、補
正基準電圧を出力する。そして、制御部はこの補
正基準電圧とその動作温度検出部の出力とを比較
してその設定温度にその動作温度が一致するよう
にその熱電効果型素子を制御する。
(Function) According to the present invention, the difference correction output generation circuit generates the difference correction output between the operating temperature and the environmental temperature, and the heat generation correction output generation circuit generates the heat generation correction output. The output for correcting the heat content and the output for correcting the difference are input to the control unit, and the control unit corrects the reference voltage corresponding to the set temperature based on the output for difference correction and the output for heat content correction. , outputs a corrected reference voltage. Then, the control section compares this corrected reference voltage with the output of the operating temperature detection section and controls the thermoelectric effect element so that its operating temperature matches the set temperature.

(実施例) 以下に、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
(Example) Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第7図は、設定温度Tsに対応する基準電圧Es1
が印加され、後述の差分補正用出力発生回路K1
の差分補正用出力Ec″と後述する発熱分補正用出
力発生回路K2の発熱分補正用出力Ec′とに基づい
て、基準電圧Es1を補正して後述する補正基準電
圧Es2を出力し、補正基準電圧Es2と動作温度検出
部の出力とを比較して設定温度Tsに動作温度TT
が一致するように熱電効果型素子3を制御する制
御部K3の構成を示すもので、この第7図におい
て、10はオペアンプである。このオペアンプ1
0の一端子には、設定温度Tsに対応する基準電
圧Es1が入力されている。オペアンプ10の他端
子には、補正用出力としての補正用電圧Ecが入力
されている。この補正用電圧Ecは、半導体レーザ
ー4の熱量Q及び環境温度Thと設定温度Tsとの
温度差ΔTに比例する物理量であり、その補正用
出力発生回路については後述する。オペアンプ1
0は、基準電圧Es1と補正用電圧Ecとの差「Es1
Ec」に相当する補正基準電圧Es2を比較回路1の
他端子に向かつて出力する。比較回路1は、その
一端子に入力されている動作温度検出出力として
の動作温度変換電圧ETとその補正基準電圧Es2
を比較し、その差分の出力によりトランジスタ2
を制御し、そのトランジスタ2によつて動作温度
TTが平衡状態に達するようにペルチエ効果型素
子3を通電制御する。
Figure 7 shows the reference voltage E s1 corresponding to the set temperature T s .
is applied, and the difference correction output generation circuit K1 described later
The reference voltage E s1 is corrected to obtain the corrected reference voltage E s2 (described later) based on the difference correction output E c ″ of the output circuit K 2 and the output E c ′ of the output generation circuit K 2 (described later) . The corrected reference voltage E s2 is compared with the output of the operating temperature detection section, and the operating temperature T
7 shows the configuration of a control section K3 that controls the thermoelectric effect element 3 so that the values coincide with each other. In FIG. 7, 10 is an operational amplifier. This operational amplifier 1
A reference voltage E s1 corresponding to the set temperature T s is input to one terminal of the 0 terminal. A correction voltage E c as a correction output is input to the other terminal of the operational amplifier 10 . This correction voltage E c is a physical quantity proportional to the amount of heat Q of the semiconductor laser 4 and the temperature difference ΔT between the environmental temperature T h and the set temperature T s , and its correction output generation circuit will be described later. operational amplifier 1
0 is the difference between the reference voltage E s1 and the correction voltage E c ``E s1
A corrected reference voltage E s2 corresponding to "E c " is outputted to the other terminal of the comparator circuit 1. The comparator circuit 1 compares the operating temperature conversion voltage E
and the operating temperature is controlled by the transistor 2.
The energization of the Peltier effect element 3 is controlled so that T T reaches an equilibrium state.

この制御によつて、動作温度TTが平衡状態に
達したとすると、(9)式は補正基準電圧Es2を用い
て、 Ee=Es2Q/α・β−ΔT/α・γ……(10) と表現できる。
Assuming that the operating temperature T T reaches an equilibrium state through this control, equation (9) uses the corrected reference voltage E s2 as Ee=E s2 Q/α・β−ΔT/α・γ... It can be expressed as (10).

Es2=Es1−Ecであるから、(10)式は、 Ee=Es1−EcQ/α・β−ΔT/α・γ ……(11) という式に変形できる。 Since E s2 =E s1 −E c , equation (10) can be transformed into the following equation: Ee=E s1 −E c Q/α・β−ΔT/α・γ (11).

平衡温度Teが設定温度Tsと一致するためには、
基準電圧Es1と平衡温度対応電圧Eeとの差が
「0」でなければならない。
In order for the equilibrium temperature Te to match the set temperature T s ,
The difference between the reference voltage E s1 and the equilibrium temperature corresponding voltage Ee must be "0".

この条件のもとで、(11)式を変形すると、 Ee−Es1−EcQ/α・β−ΔT/α・γ=0 の式から Ec=Q/α・β−ΔT/α・γ ……(12) という式をうる。 Under this condition, if we transform equation (11), we get E c = Q/α・β−ΔT/α from the equation Ee−E s1 −E c Q/α・β−ΔT/α・γ=0・γ ……(12) Obtain the formula.

そこで、(12)式において、 Ec′=Q/α・β ……(13) Ec″=−ΔT/α・γ ……(14) とおく。 Therefore, in equation (12), E c ′=Q/α・β ……(13) E c ″=−ΔT/α・γ ……(14)

すなわち、Ec=Ec′+Ec″である。 That is, E c =E c ′+E c ″.

この記号Ec′は半導体レーザー4の発熱分に基
づいて動作温度TTと設定温度Tsとがずれること
を補正するために必要とする発熱分補正用出力と
しての補正用電圧を物理的に意味し、記号Ec″は、
動作温度TTと設定温度Tsとの差分に基づいて動
作温度TTと設定温度Tsとが補正するための差分
補正用出力としての差分補正用電圧を物理的には
意味している。そこで、この補正用電圧Ec′、
Ec″を制御電圧Ecとして加えれば、動作温度TT
平衡状態に達したときの平衡温度Teを設定温度
Tsに一致させることができることになる。
This symbol E c ′ physically represents the correction voltage as the output for correcting the heat generation component, which is required to correct the deviation between the operating temperature T T and the set temperature T s based on the heat generation component of the semiconductor laser 4. The symbol E c ″ means,
Physically, it means a difference correction voltage as a difference correction output for correcting the operating temperature T T and the set temperature T s based on the difference between the operating temperature T T and the set temperature T s . Therefore, this correction voltage E c ′,
If E c ″ is added as the control voltage E c , the equilibrium temperature Te when the operating temperature T T reaches an equilibrium state is set as the set temperature.
This means that it can be matched to T s .

第8図は、その発熱分補正用電圧Ec′を発生さ
せる発熱分補正用発生回路K2の一実施例を示す
ものである。半導体レーザー4の発熱量Qは、第
9図に示すように、注入電流ILDに比例している
から、半導体レーザー4に注入電流ILDを供給す
る電流供給源9と半導体レーザー4とを含む直列
回路の途中に固定抵抗器RFを設け、その電位降
下Vが注入電流に比例することを利用する。
FIG. 8 shows an embodiment of the heating component correction generation circuit K2 that generates the heating component correction voltage E c '. Since the heat generation amount Q of the semiconductor laser 4 is proportional to the injection current ILD as shown in FIG . A fixed resistor R F is provided in the middle of the series circuit, and the fact that the potential drop V is proportional to the injected current is utilized.

このことを数式を用いて表現すると、 Q=C・ILD、V=RF・ILDから、 V=RF・Q/C (15) である。ただし、記号Cは変換係数である。 Expressing this using a mathematical formula, from Q=C・I LD and V= RF・I LD , V= RF・Q/C (15). However, symbol C is a conversion coefficient.

この電圧Vをオペアンプ11の一端子に入力
し、オペアンプ12に接続された可変抵抗器Rv
によつて、その増幅率mを調整する。
This voltage V is input to one terminal of the operational amplifier 11, and the variable resistor R v connected to the operational amplifier 12
The amplification factor m is adjusted accordingly.

オペアンプ12から出力される出力電圧を発熱
分補正用電圧Ec′として利用するものであるから、
Ec′=mVであり、この式と(13)式、(15)式によつて、 増幅率mは、 m=C/R・1/α・β……(16) となる。この(16)式において、右辺の項に含まれて
いる物理量は全て定数とみなすことができるの
で、増幅率mは、一義的に決定される。
Since the output voltage output from the operational amplifier 12 is used as the heat generation compensation voltage E c ',
E c ′=mV, and from this equation, equations (13), and (15), the amplification factor m becomes m=C/R・1/α・β...(16). In this equation (16), all the physical quantities included in the terms on the right side can be regarded as constants, so the amplification factor m is uniquely determined.

この増幅率mは、m<1であつて非反転増幅を
直接行うことができないため、実施例において
は、反転増幅を2回行うことにしている。
Since the amplification factor m is m<1 and non-inverting amplification cannot be performed directly, in the embodiment, inverting amplification is performed twice.

第10図は、その差分補正用電圧Ec″を発生さ
せる差分補正用出力発生回路K1の一実施例を示
している。
FIG. 10 shows an embodiment of the difference correction output generation circuit K1 that generates the difference correction voltage E c ″.

この第10図において、13,14はサーミス
タであり、サーミスタ13は半導体レーザー4に
内蔵され、サーミスタ14は放熱板5に取付けら
れている。そのサーミスタ13は、半導体レーザ
ー4の動作温度TTを検出する動作温度検出部と
して機能する。そのサーミスタ14は、環境温度
Thを検出する環境温度検出部として機能する。
このサーミスタ13,14によつて検出された検
出出力ET1,ET1は、それぞれ温度−電圧変換回路
15,16を介してオペアンプ17に入力され
る。このオペアンプ17は、温度差ΔTに比例し
た電圧VDを発生する機能を有する。
In FIG. 10, 13 and 14 are thermistors, the thermistor 13 is built into the semiconductor laser 4, and the thermistor 14 is attached to the heat sink 5. The thermistor 13 functions as an operating temperature detection section that detects the operating temperature T T of the semiconductor laser 4 . The thermistor 14 is connected to the ambient temperature
It functions as an environmental temperature detection section that detects T h .
Detection outputs E T1 and E T1 detected by the thermistors 13 and 14 are input to an operational amplifier 17 via temperature-voltage conversion circuits 15 and 16, respectively. This operational amplifier 17 has a function of generating a voltage V D proportional to the temperature difference ΔT.

ここで、温度・電圧変換係数を記号nで表現す
ると、ΔTと電圧VDとの関係を、 VD=n・ΔT ……(17) 式で表すことができる。
Here, if the temperature/voltage conversion coefficient is expressed by the symbol n, the relationship between ΔT and voltage V D can be expressed by the following formula: V D =n·ΔT (17).

そこで、オペアンプ17に接続された可変抵抗
器Rv′によつて増幅率m′を調整することにする
と、 Ec″=−ΔT/α・γ=m′・VD=m′・n・ΔT よつて、増幅率m′は、 m′=−ΔT/n・α・γ ……(18) そこで、これらの補正用出力発生回路K1、K2
を第7図に示す制御部K3に接続し、第11図に
示す半導体レーザーの温度安定化装置を構成し、
増幅率m、m′の調整を行うと、半導体レーザー
4の発熱量Q、環境温度Thと動作温度TTとの温
度差ΔTにかかわりなく動作温度TTを設定温度Ts
に一致させることができる。
Therefore, if we decide to adjust the amplification factor m' by the variable resistor R v ' connected to the operational amplifier 17, E c ''=-ΔT/α・γ=m′・V D =m′・n・ΔT Therefore, the amplification factor m′ is m′=−ΔT/n・α・γ……(18) Therefore, these correction output generation circuits K 1 , K 2
is connected to the control unit K3 shown in FIG. 7 to constitute a semiconductor laser temperature stabilization device shown in FIG. 11,
By adjusting the amplification factors m and m', the operating temperature T T becomes the set temperature T s regardless of the heat generation amount Q of the semiconductor laser 4 and the temperature difference ΔT between the environmental temperature T h and the operating temperature T T
can be matched.

ところで、温度差ΔTは、ΔTが小さい部分で
のみリニアであり、設定温度Tsと環境温度Th
の温度差ΔTが大きすぎると、リニアとみなすこ
とができなくなる(第5図参照)。
By the way, the temperature difference ΔT is linear only where ΔT is small, and if the temperature difference ΔT between the set temperature T s and the environmental temperature T h is too large, it cannot be considered linear (see FIG. 5).

この場合には、ペルチエ効果型素子3を二段に
設ける。第12図は、このペルチエ効果型素子3
を二段に設けた熱電変換器Kz′の構成を示すもの
で、18は第1ペルチエ効果型素子、19は第2
ペルチエ効果型素子、20は熱伝導体を示してい
る。熱伝導体20は第1ペルチエ効果型素子18
と第2ペルチエ効果型素子19との間に設けら
れ、この熱伝導体20には、サーミスタ21が設
けられている。このサーミスタ21は熱伝導体2
0の温度Th′を検出する機能を有する。この温度
Th′は、環境温度Thと動作温度TTとの中間の値
を有し、この温度Th′を第1ペルチエ効果素子の
環境温度Thとして取り扱う。そして、第13図
に示す半導体レーザーの温度安定化装置を構成す
る。この半導体レーザーの温度安定化装置は、ペ
ルチエ効果型素子19を制御するためのトランジ
スタ2′と比較回路1′とを有する。この比較回路
1′の一端子には基準電圧Es1を印加し、その他端
子にサーミスタ21から出力される環境温度対応
電圧ET2′を印加する。そしてこの環境温度対応電
圧ET2′と基準電圧Es1とを比較して差分の出力に
基づいてトランジスタ2′を制御し、環境温度Th
が温度Th′に近づくようにコントロールする。ま
た、この温度Th′と動作温度TTに基づいて差分補
正出力Ec″を生成するようにする。そして、この
温度Th′を動作温度TTに極力近づけておくと、
ΔT=TT−Th′を小さくすることができるので、
第1ペルチエ効果型素子18をリニアな領域でコ
ントロールできることになる。また、第2ペルチ
エ効果型素子19によつて環境温度Thの変化を
軽減できるので、設定温度Tsに動作温度TTをよ
り一層維持できることになる。
In this case, the Peltier effect type elements 3 are provided in two stages. FIG. 12 shows this Peltier effect type element 3.
This figure shows the configuration of a thermoelectric converter K z ' provided in two stages, where 18 is the first Peltier effect element, 19 is the second
The Peltier effect element 20 indicates a heat conductor. The thermal conductor 20 is the first Peltier effect element 18
A thermistor 21 is provided between the thermal conductor 20 and the second Peltier effect element 19 . This thermistor 21 is a thermal conductor 2
It has a function of detecting the temperature T h ' of 0. this temperature
T h ' has an intermediate value between the environmental temperature T h and the operating temperature T T , and this temperature T h ' is treated as the environmental temperature T h of the first Peltier effect element. Then, a temperature stabilizing device for a semiconductor laser shown in FIG. 13 is constructed. This temperature stabilizing device for a semiconductor laser includes a transistor 2' for controlling a Peltier effect element 19 and a comparator circuit 1'. A reference voltage E s1 is applied to one terminal of the comparison circuit 1', and an environmental temperature corresponding voltage E T2 ' output from the thermistor 21 is applied to the other terminal. Then, this environmental temperature corresponding voltage E T2 ′ and the reference voltage E s1 are compared, and the transistor 2 ′ is controlled based on the output of the difference, and the environmental temperature T h
is controlled so that it approaches the temperature T h ′. Also, the difference correction output E c ″ is generated based on this temperature T h ′ and the operating temperature TT . Then, if this temperature T h ′ is kept as close to the operating temperature TT as possible,
Since ΔT=T T −T h ′ can be made small,
The first Peltier effect element 18 can be controlled in a linear region. Further, since the second Peltier effect element 19 can reduce changes in the environmental temperature T h , the operating temperature T T can be further maintained at the set temperature T s .

以上、実施例においては、ペルチエ効果型素子
を熱電効果型素子として利用した場合について説
明したが、トムソン効果型素子を熱電効果型素子
として使用することもできる。
In the above embodiments, a case has been described in which a Peltier effect type element is used as a thermoelectric effect type element, but a Thomson effect type element can also be used as a thermoelectric effect type element.

(発明の効果) 本発明は、半導体レーザーに注入電流を供給す
る電流供給源と、その半導体レーザーの注入電流
に基づく発熱量を検出する発熱量検出部と、その
半導体レーザーに設けられてその動作温度を検出
する動作温度検出部と、その半導体レーザーの周
囲の環境温度を検出する環境温度検出部と、その
半導体レーザーとの間で熱の授受を行う熱電効果
型素子と、その動作温度検出部の出力とその環境
温度検出部の出力とが入力され、その動作温度と
環境温度との差分に基づいて動作温度と設定温度
とがずれることを補正するための差分補正用出力
を発生する差分補正用出力発生回路と、その発熱
量検出部の出力が入力され、その半導体レーザー
の発熱分に基づいて動作温度と設定温度とがずれ
ることを補正するための発熱分補正用出力を発生
する発熱分補正用出力発生回路と、その設定温度
に対応する基準電圧が印加され、その差分補正用
出力発生回路の差分補正用出力とその発熱分補正
用出力発生回路の発熱分補正用出力とに基づい
て、その基準電圧を補正して補正基準電圧を出力
し、この補正基準電圧とその動作温度検出部の出
力とを比較してその設定温度にその動作温度が一
致するようにその熱電効果型素子を制御する制御
部とを有するところに特徴があるから、半導体レ
ーザーの発熱量の変化、半導体レーザーの周囲の
環境温度の変化に適切に応答して熱電効果型素子
を制御し、もつて半導体レーザーの動作温度を常
に設定温度に保つことができるという効果を奏す
る。
(Effects of the Invention) The present invention provides a current supply source that supplies injection current to a semiconductor laser, a heat generation amount detection section that detects the amount of heat generated based on the injection current of the semiconductor laser, and a heat generation amount detection section that is provided in the semiconductor laser and operates. An operating temperature detection section that detects temperature, an environmental temperature detection section that detects the environmental temperature around the semiconductor laser, a thermoelectric effect element that transfers heat between the semiconductor laser, and the operation temperature detection section. and the output of its environmental temperature detection section are input, and a difference correction output is generated based on the difference between the operating temperature and the environment temperature to correct the deviation between the operating temperature and the set temperature. The output of the output generation circuit and its heat generation detection section is input, and the heat generation circuit generates a heat generation correction output to correct the deviation between the operating temperature and the set temperature based on the heat generation of the semiconductor laser. A correction output generation circuit and a reference voltage corresponding to its set temperature are applied, and based on the difference correction output of the difference correction output generation circuit and the heat generation correction output of the heat generation correction output generation circuit. , corrects the reference voltage and outputs a corrected reference voltage, compares this corrected reference voltage with the output of its operating temperature detection section, and controls the thermoelectric effect element so that its operating temperature matches the set temperature. It is characterized by having a control section that controls the thermoelectric effect element in response to changes in the amount of heat generated by the semiconductor laser and changes in the environmental temperature around the semiconductor laser, thereby controlling the thermoelectric effect element. This has the effect that the operating temperature can always be kept at the set temperature.

第1熱電効果型素子をリニアな領域でコントロ
ールできることになる。また、第2熱電効果型素
子によつて環境温度の変化を軽減できるので、設
定温度に動作温度をより一層維持できることにな
る。
The first thermoelectric effect element can be controlled in a linear region. Further, since changes in the environmental temperature can be reduced by the second thermoelectric effect element, the operating temperature can be further maintained at the set temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のペルチエ効果型素子を有する温
度制御装置を使用して半導体レーザーの温度安定
化装置を構成した場合の制御回路を示す図、第2
図はそのペルチエ効果型素子に半導体レーザーを
取付けて熱電変換器を構成した状態を示す構成
図、第3図は熱量と平衡電流との関係を示すペル
チエ効果型素子の特性図、第4図は実験によつて
得た熱量の値と平衡温度対応電圧の値とをプロツ
トして示した図、第5図は、発熱体でないときで
あつて平衡温度と環境温度とが異なる場合にペル
チエ効果型素子に流れる平衡電流の特性を示す
図、第6図は第1図に示す制御回路を用いてペル
チエ効果型素子を制御した場合の実験結果を示す
図、第7図は本発明に係る半導体レーザーの温度
安定化装置の制御部を示す回路図、第8図は本発
明に係る発熱分補正用出力発生回路の構成図、第
9図は本発明に係る半導体レーザーの温度安定化
装置に使用する半導体レーザーの熱量と注入電流
との関係を示す特性図、第10図は本発明に係る
差分補正用出力発生発生回路の構成図、第11図
は本発明に係る半導体レーザーの温度安定化装置
の全体構成を示す回路図、第12図は本発明に係
る半導体レーザーの温度安定化装置に使用する熱
電変換器の他の構成を示す図、第13図はその熱
電変換器に使用する半導体レーザーの温度安定化
装置の全体構成を示す回路図である。 3……熱電効果型素子、4……半導体レーザ
ー、9……注入電流供給源、13……動作温度検
出部(サーミスタ)、14……環境温度検出部
(サーミスタ)、K1……差分補正用出力発生回路、
K2……発熱分補正用出力発生回路、K3……制御
部、Th……環境温度、TT……動作温度、Ts……
設定温度、Es,Es1……基準電圧、Es2……補正基
準電圧、Ec′……発熱分補正用出力、Ec″……差分
補正用出力。
Figure 1 is a diagram showing a control circuit when a temperature stabilizing device for a semiconductor laser is configured using a temperature control device having a conventional Peltier effect element.
The figure is a configuration diagram showing a thermoelectric converter constructed by attaching a semiconductor laser to the Peltier effect element, Figure 3 is a characteristic diagram of the Peltier effect element showing the relationship between the amount of heat and the equilibrium current, and Figure 4 is a diagram showing the characteristics of the Peltier effect element. Figure 5, which is a diagram plotting the value of the amount of heat obtained through experiments and the value of the voltage corresponding to the equilibrium temperature, shows the Peltier effect type when the equilibrium temperature and the environmental temperature are different when the heat generating element is not used. A diagram showing the characteristics of the balanced current flowing through the device, FIG. 6 is a diagram showing experimental results when a Peltier effect device is controlled using the control circuit shown in FIG. 1, and FIG. 7 is a diagram showing the semiconductor laser according to the present invention. FIG. 8 is a configuration diagram of an output generation circuit for heat generation correction according to the present invention, and FIG. 9 is a circuit diagram showing a control section of a temperature stabilizing device of a semiconductor laser according to the present invention. A characteristic diagram showing the relationship between the amount of heat and the injection current of a semiconductor laser, FIG. 10 is a configuration diagram of a differential correction output generation circuit according to the present invention, and FIG. 11 is a diagram of a temperature stabilization device for a semiconductor laser according to the present invention. FIG. 12 is a circuit diagram showing the overall configuration, FIG. 12 is a diagram showing another configuration of the thermoelectric converter used in the semiconductor laser temperature stabilization device according to the present invention, and FIG. 13 is a circuit diagram of the semiconductor laser used in the thermoelectric converter. FIG. 2 is a circuit diagram showing the overall configuration of the temperature stabilization device. 3...Thermoelectric effect element, 4...Semiconductor laser, 9...Injection current supply source, 13...Operating temperature detection section (thermistor), 14...Environmental temperature detection section (thermistor), K1 ...Differential correction output generation circuit for
K 2 ... Output generation circuit for heat generation compensation, K 3 ... Control section, T h ... Environmental temperature, T T ... Operating temperature, T s ...
Set temperature, E s , E s1 ... Reference voltage, E s2 ... Correction reference voltage, E c ′ ... Output for heat generation correction, E c ' ' ... Output for difference correction.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 半導体レーザーを所定の設定温度で動作させ
る半導体レーザーの温度安定化装置において、 前記半導体レーザーに注入電流を供給する電流
供給源と、 前記半導体レーザーの注入電流に基づく発熱量
を検出する発熱量検出部と、 前記半導体レーザーに設けられてその動作温度
を検出する動作温度検出部と、 前記半導体レーザーの周囲の環境温度を検出す
る環境温度検出部と、 前記半導体レーザーとの間で熱の授受を行う熱
電効果型素子と、 前記動作温度検出部の出力と前記環境温度検出
部の出力とが入力され、前記動作温度と前記環境
温度との差分に基づいて前記動作温度と前記設定
温度とがずれることを補正するための差分補正用
出力を発生する差分補正用出力発生回路と、 前記発熱量検出部の出力が入力され、前記半導
体レーザーの発熱分に基づいて前記動作温度と前
記設定温度とがずれることを補正するための発熱
分補正用出力を発生する発熱分補正用出力発生回
路と、 前記設定温度に対応する基準電圧が印加され、
前記差分補正用出力発生回路の差分補正用出力と
前記発熱分補正用出力発生回路の発熱分補正用出
力とに基づいて、前記基準電圧を補正して補正基
準電圧を出力し、該補正基準電圧と前記動作温度
検出部の出力とを比較して前記設定温度に前記動
作温度が一致するように前記熱電効果型素子を制
御する制御部と、を有することを特徴とする半導
体レーザーの温度安定化装置。 2 前記熱電効果型素子は、前記半導体レーザー
に接触し前記半導体レーザーと直に熱の授受を行
う第1熱電効果型素子とこの第1熱電効果型素子
と大気との間で熱の授受を行う第2熱電効果型素
子とからなり、前記環境温度検出部は、前記第1
熱電効果型素子と第2熱電効果型素子との間での
温度を検出するように構成したことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の半導体レーザーの温
度安定化装置。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor laser temperature stabilization device that operates a semiconductor laser at a predetermined set temperature, comprising: a current supply source that supplies injection current to the semiconductor laser; and a heat generation amount based on the injection current of the semiconductor laser. an operating temperature detection section that is provided on the semiconductor laser and detects its operating temperature; an environmental temperature detection section that detects the environmental temperature around the semiconductor laser; A thermoelectric effect element that transfers heat between a difference correction output generation circuit that generates a difference correction output for correcting deviation from the set temperature; and an output of the heat generation amount detection section is inputted, and the operating temperature is adjusted based on the heat generation amount of the semiconductor laser. a heating component correction output generation circuit that generates a heating component correction output for correcting a deviation between the temperature and the set temperature; and a reference voltage corresponding to the set temperature is applied;
correcting the reference voltage and outputting a corrected reference voltage based on the difference correction output of the difference correction output generation circuit and the heat generation correction output of the heat generation correction output generation circuit; and a control section that compares the output of the operating temperature detection section and controls the thermoelectric effect element so that the operating temperature matches the set temperature. Device. 2. The thermoelectric effect element is a first thermoelectric effect element that is in contact with the semiconductor laser and directly exchanges heat with the semiconductor laser, and a first thermoelectric effect element that exchanges heat between the first thermoelectric effect element and the atmosphere. a second thermoelectric effect element;
2. The semiconductor laser temperature stabilization device according to claim 1, wherein the device is configured to detect the temperature between the thermoelectric effect element and the second thermoelectric effect element.
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