JPH0575015A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH0575015A
JPH0575015A JP3234485A JP23448591A JPH0575015A JP H0575015 A JPH0575015 A JP H0575015A JP 3234485 A JP3234485 A JP 3234485A JP 23448591 A JP23448591 A JP 23448591A JP H0575015 A JPH0575015 A JP H0575015A
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JP
Japan
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stacked
semiconductor
lead
leads
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JP3234485A
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Inventor
Akio Goto
昭夫 後藤
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication of JPH0575015A publication Critical patent/JPH0575015A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve a manufacturing yield of devices as a whole by a method wherein a common input/output lead is connected electrically with each of stacked chips and the whole is sealed with resin or a cap. CONSTITUTION:In a semiconductor device 1 wherein four semiconductor chips 2 are stacked, each of the semiconductor chips 2 is provided with bumps 3 on the opposite sides and copper foil leads 4 are connected to the bumps 3 respectively. These chips 2 are stacked with insulating layers 5 interposed. The leads 4 are connected electrically by studs 6 and the stud of the lowermost layer is connected to a lead frame 7. The lead frame 7 is fixed on a base made of plastic and resin packing is conducted in this state. According to this constitution, the number of input/output terminals formed on each chip can be lessened and the quality of the semiconductor chips having the respective functions can be inspected before the chips are assembled.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイス、さら
に詳しくは、半導体チップを上下に複数積層したデバイ
スに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a device in which a plurality of semiconductor chips are vertically stacked.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコン半導体基板上に作られるIC、
LSI等は日夜製造技術が進歩し、トランジスター等の
集積度も飛躍的に増大してきている。集積度が上がるに
つれ、半導体デバイス(半導体チップ)の機能も飛躍的
に向上し、単なる部品としてよりも大きなシステムとし
てみなされるようになってきた。
2. Description of the Related Art ICs formed on a silicon semiconductor substrate,
The manufacturing technology of LSIs and the like has advanced day and night, and the degree of integration of transistors and the like has also dramatically increased. As the degree of integration has increased, the functions of semiconductor devices (semiconductor chips) have also dramatically improved, and have come to be regarded as a system larger than simple components.

【0003】また、同時に、システムの構成要素として
のCPU(論理回路)、マスクROM、EPROM、E
EPROM、フラッシュEPROM、DRAM、SRA
M、I2 L、高速入出力部(バイポーラ、バイCMD
S)等、それぞれの独立したデバイスがそれぞれの専用
の製造工程を用い効率良く生産が行なわれるようになっ
てきている。また、ニューロネット素子等、多数の同種
構成要素の集合した大規模システムの需要も大きくなっ
てきた。
At the same time, a CPU (logical circuit), a mask ROM, an EPROM, an E as system components
EPROM, flash EPROM, DRAM, SRA
M, I 2 L, high-speed input / output unit (bipolar, bi-CMD
Independent devices such as S) are being efficiently manufactured using their own dedicated manufacturing processes. In addition, the demand for large-scale systems in which a large number of components of the same kind such as neuronet elements are aggregated has increased.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような技術的要求
の中で、従来技術では近時以下のような問題が発生して
きている。それは、LSIの集積規模の増大に伴ない、
入出力部の外部接続端子数が大きくなり、チップ面上の
ボンディングパッド及び入出力保護回路の面積比率が増
大することである。これは、結果として集積効率の低下
となる。
In view of such technical requirements, the following problems have recently occurred in the prior art. With the increase in the scale of LSI integration,
This is because the number of external connection terminals of the input / output section is increased and the area ratio of the bonding pad and the input / output protection circuit on the chip surface is increased. This results in reduced integration efficiency.

【0005】また、LSI等、デバイスに求められるシ
ステム的な機能の高度化に伴ない1つの2次元的表面に
形成される従来のLSI製造工程では、あらゆる前記構
成要素を包含する製造プロセスを構築することは非常に
困難であり、仮にそのような複雑な製造プロセスを構築
することができたとしても、最小配線幅寸法(単位面積
当たりに集積できる素子数)に制約が生じ、現在ある個
々の専用の製造プロセスよりも非常に効率の悪いものと
なり、同時にできあがったデバイスの動作速度等性能も
低下したものしかできず、非常にコストパーフォーマン
スの悪いものになってしまう。
Further, in the conventional LSI manufacturing process which is formed on one two-dimensional surface along with the sophistication of system functions required for devices such as LSI, a manufacturing process including all the above-mentioned components is constructed. It is very difficult to do so, and even if such a complicated manufacturing process could be constructed, the minimum wiring width dimension (the number of elements that can be integrated per unit area) is restricted, and each individual It is much less efficient than a dedicated manufacturing process, and at the same time, it is only possible to reduce the operating speed and other performance of the resulting device, resulting in very poor cost performance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】以上のような現状に鑑
み、本発明者は鋭意研究の結果本発明半導体デバイスを
完成させたものであり、その特徴とするところはTAB
方式により実装された半導体チップを上下に複数積層す
るものであって、積層された各チップ間で共通の入出力
リードを電気的に接続したものを樹脂封入又はキャップ
シールを行なう点にある。
In view of the above circumstances, the present inventor has completed the semiconductor device of the present invention as a result of earnest research, and its characteristic feature is TAB.
A plurality of semiconductor chips mounted by the method are stacked one above the other, and a common input / output lead is electrically connected between the stacked chips and resin encapsulation or cap sealing is performed.

【0007】本発明に使用する半導体チップは、TAB
方式により実装された半導体チップである。TAB方式
とは、ワイヤボンディング方式やフリップチップ方式に
対応するものであり、半導体チップの電極を外部に取り
出す方式の1つである。通常は、キャリヤフィルムにイ
ンナーリードとなる金属層を設け、それを打抜き工程等
により配線とし、半導体チップの電極とアウターリード
と接続するものである。本発明は、このTAB方式の利
点を利用して開発したものである。即ち、TAB方式で
は、外部電極又は外部リードと接続する以前に平面状の
リードが存在しているという点である。
The semiconductor chip used in the present invention is TAB.
It is a semiconductor chip mounted by the method. The TAB method corresponds to the wire bonding method and the flip chip method, and is one of the methods of extracting the electrodes of the semiconductor chip to the outside. Usually, the carrier film is provided with a metal layer to be an inner lead, and the metal layer is connected to the electrode of the semiconductor chip and the outer lead by forming a wiring by a punching process or the like. The present invention was developed by taking advantage of this TAB method. That is, in the TAB method, the planar leads are present before being connected to the external electrodes or the external leads.

【0008】半導体デバイスの上下の積層は、絶縁層を
介して上下に積むだけでよい。そして各チップからのリ
ードを電気的に接続すればよい。接続方法は、リードに
予めスタッド(電気通過突起)を設けておき、通常のア
ウターリードボンディングを繰り返せばよい。
The upper and lower layers of the semiconductor device need only be stacked one above the other with an insulating layer interposed therebetween. Then, the leads from each chip may be electrically connected. As a connecting method, a stud (electrically passing protrusion) may be provided in advance on the lead and ordinary outer lead bonding may be repeated.

【0009】積層するチップが、すべて同種の場合、例
えば、SRAMだけを5チップ積層する場合等は、共通
化できない単独のリード端子からはそれぞれの外部ピン
に接続し、共通するリード端子は各チップ間で接続し、
1つの端子として1つの外部ピンに接続することとな
る。このようにすると、メモリー容量が、5倍になるこ
とを意味する。また、上下に積層しているため、投影面
積的には従来と変わらない。このような用途としては、
大規模なメモリー容量が必要な場合であり、SRAMや
DRAMの同種のものを多数積層する。また、ニューロ
ネットワークの場合も同様に、同種の機能を有するもの
を積層する。
When all the chips to be stacked are of the same type, for example, when only 5 SRAMs are stacked, a single lead terminal that cannot be shared is connected to each external pin, and a common lead terminal is used for each chip. Connect between,
It will be connected to one external pin as one terminal. This means that the memory capacity is quintupled. In addition, since they are stacked on top of each other, the projected area is the same as the conventional one. Such applications include:
This is a case where a large-scale memory capacity is required, and a large number of SRAMs and DRAMs of the same kind are stacked. Similarly, in the case of a neuro network, those having the same type of function are stacked.

【0010】また、本発明デバイスには、異種のチップ
を混在せしめて積層することも可能である。この場合、
リードをすべて接続することはできないので、その部分
には動作に関与しないダミーパッドを設けるか、又はイ
ンナーリードの数を減らしておけばよい。このような積
層の例としては、上方よりCCDチップ、CPUチップ
(論理回路)、SRAM、マスクROM、EPROM等
を積層するものが考えられる。これは画像情報処理専用
のデバイスとして使用できる。この場合は、当然封入樹
脂はアクリル樹脂等の透明なものを用いる。
In the device of the present invention, different types of chips can be mixed and stacked. in this case,
Since it is not possible to connect all the leads, a dummy pad not involved in the operation may be provided in that part, or the number of inner leads may be reduced. As an example of such stacking, a stacking of a CCD chip, a CPU chip (logic circuit), an SRAM, a mask ROM, an EPROM, and the like from above may be considered. It can be used as a device dedicated to image information processing. In this case, naturally, the encapsulating resin is transparent such as acrylic resin.

【0011】本発明半導体デバイスは、半導体チップを
上下に積層して、各リードを電気的に接続して(ダミー
パッドの場合もある)、それを一体化するところが新規
であり、個々の構成部品自体は、わずかな製造の煩雑さ
を許容すれば、従来のものでも製造可能であり、特別な
ものである必要はない。
The semiconductor device of the present invention is novel in that semiconductor chips are stacked on top of each other and each lead is electrically connected (in some cases, a dummy pad) and then integrated together. As for itself, a conventional one can be manufactured as long as a slight manufacturing complexity is allowed, and it is not necessary to be special.

【0012】[0012]

【作用】上記のデバイスにより、高い集積度が得られ、
且つ入出力データバスラインを共通化することにより、
入出力端子数を低減することができる。
[Function] With the above device, a high degree of integration can be obtained,
And by sharing the input / output data bus line,
The number of input / output terminals can be reduced.

【0013】[0013]

【実施例】以下図面に示す実施例に基づき、本発明をよ
り詳細に説明する。図1は、本発明半導体デバイス1の
1例を示す断面図である。4枚の半導体チップ2が積層
されている。個々の半導体チップ2には、バンプ3が両
側に設けられ、そのバンプ3に銅箔リード4が接続され
ている。この例では、すべての半導体チップは、SRA
Mであり同種のものである。このチップ2が絶縁層5を
介して積層されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail based on the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of a semiconductor device 1 of the present invention. Four semiconductor chips 2 are stacked. Bumps 3 are provided on both sides of each semiconductor chip 2, and copper foil leads 4 are connected to the bumps 3. In this example, all semiconductor chips are SRA
M is the same kind. The chips 2 are stacked with the insulating layer 5 interposed therebetween.

【0014】個々のリード4をスタッド6で電気的に接
続し、最も下層のスタッドはリードフレーム7に接続さ
れている。リードフレーム7は、基板(プラスチック
製)に固定されている。この状態で、破線で示す部分ま
で樹脂充填を行なう。これで、半導体デバイス1の完成
である。これは、積層されたSRAMが1枚の従来のデ
バイスと比較して、メモリー容量は4倍であり、所要面
積は同じである。ただ高さが従来のものの2倍程度にな
るだけである。この高さは、通常比較的余裕があり、問
題とならない場合が多い。これによって、単位面積当た
りの集積度が大きく向上したこととなる。なお、個々の
半導体チップにおいて、リードフレーム7と接続させな
いバンプ3には銅箔リード4が接続しないように、銅箔
リード4の一部が予め除去される。
The individual leads 4 are electrically connected by studs 6, and the studs in the lowermost layer are connected to the lead frame 7. The lead frame 7 is fixed to the substrate (made of plastic). In this state, resin filling is performed up to the portion indicated by the broken line. This completes the semiconductor device 1. This has a memory capacity four times as large as that of a conventional device having one stacked SRAM and the required area is the same. The height is only twice that of the conventional one. This height is usually relatively generous and often does not pose a problem. As a result, the degree of integration per unit area is greatly improved. In each semiconductor chip, a part of the copper foil lead 4 is removed in advance so that the copper foil lead 4 is not connected to the bump 3 that is not connected to the lead frame 7.

【0015】図2は、図1の各層の接続状況を示す概略
斜視図である。各層からリード4が出て、それらが個々
にスタッドを介して上下に接続されているのが分かる。
また、最終的に外部端子となるリードフレームが最下層
に接続されている。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a connection state of each layer of FIG. It can be seen that the leads 4 emerge from each layer and they are individually connected up and down via studs.
In addition, a lead frame that finally becomes an external terminal is connected to the lowermost layer.

【0016】次に、製造方法について述べる。ウエハー
作成工程をほぼ終了したウエハー状の半導体基板上に、
接着金属並びにメッキの下地となる金属層を真空蒸着若
しくはスパッター法により形成する。その後、フォトリ
ソグラフィーの技術を用いて、バンプ形成部のみを開口
したレジスト層を形成する。次いで、バインプ形成材料
であるAu等の金属を前記開口部分にメッキ液中で電気
メッキを行ない、10〜30μm程度の凸起を形成す
る。不要な前記蒸着若しくはスパッターにより形成した
金属層を該凸起部分をマスクにしてエッチング除去し、
バンプ形成工程を終了する。図3は、その半導体チップ
を示す。尚、半導体チップの厚みは集積度を上げる為、
大凡100〜300μmの厚みとすることが好ましい。
勿論、半導体チップ側ではなく、リード側にバンプを形
成する転写バンプ方式でもよい。
Next, the manufacturing method will be described. On a wafer-shaped semiconductor substrate that has almost completed the wafer creation process,
An adhesive metal and a metal layer as a base of plating are formed by vacuum vapor deposition or sputtering. After that, a photolithography technique is used to form a resist layer having openings only in the bump formation portions. Then, a metal such as Au, which is a bump forming material, is electroplated in the opening portion in a plating solution to form protrusions of about 10 to 30 μm. The unnecessary metal layer formed by vapor deposition or sputtering is removed by etching using the raised portion as a mask,
The bump forming process is completed. FIG. 3 shows the semiconductor chip. The thickness of the semiconductor chip is
The thickness is preferably about 100 to 300 μm.
Of course, a transfer bump method in which bumps are formed on the lead side instead of the semiconductor chip side may be used.

【0017】次に、図4に本発明に使用するリードの1
例を示す。本発明に使用するリードは特に限定はしない
が、本実施例のようなものが好適である。この例では、
ポリイミド製のキャリアーテープ9上にリード4が形成
され、そのリード4上にスタッド6が設けられている。
このスタッドの形成方法は、フォトレジストを用いて製
造すればよい。
Next, FIG. 4 shows one of the leads used in the present invention.
Here is an example: The lead used in the present invention is not particularly limited, but the lead of this embodiment is suitable. In this example,
Leads 4 are formed on a carrier tape 9 made of polyimide, and studs 6 are provided on the leads 4.
This stud may be formed by using a photoresist.

【0018】次に、このTABテープに対して、図3に
示すバンプ形成された半導体チップを、通常のTABプ
ロセスで行なわれるインナーボンディング(ギャングボ
ンディング)を行ない、リードとバンプの機械的、電気
的接合を行なう。この時に、各チップの電気的な機能テ
ストを行ない、不良品を除去する。リード4と、半導体
チップ2が接合された状態を図5に示す。図5に示す半
導体チップには、その下層に絶縁層5が設けられてい
る。
Next, the bump-formed semiconductor chip shown in FIG. 3 is subjected to inner bonding (gang bonding) performed in a normal TAB process with respect to the TAB tape, and the leads and bumps are mechanically and electrically connected. Join. At this time, an electrical function test of each chip is performed to remove defective products. FIG. 5 shows a state in which the lead 4 and the semiconductor chip 2 are joined. The semiconductor chip shown in FIG. 5 is provided with an insulating layer 5 below it.

【0019】次に、本発明に用いるリードフレーム7に
ついて説明する。図6は、本発明に使用するリードフレ
ーム7を示す断面図である。これは、通常のリードフレ
ームにスタッドを設けただけでよく、特別のものである
必要はない。
Next, the lead frame 7 used in the present invention will be described. FIG. 6 is a sectional view showing the lead frame 7 used in the present invention. This need only be provided with studs on a normal leadframe and need not be special.

【0020】最後に、図6で示すリードフレーム7に、
図5で示す半導体チップ2を重ねてアウターリードボン
ディングを繰り返す。最下層のものには、絶縁層5は不
要である。また、最上層のものには、スタッドは不要で
ある。最後に、樹脂モールド、セラミックの場合にはキ
ャップシールを行ない、組み立て完了である。
Finally, in the lead frame 7 shown in FIG.
The semiconductor chip 2 shown in FIG. 5 is overlaid and outer lead bonding is repeated. The insulating layer 5 is unnecessary for the lowermost layer. Also, the topmost layer does not require studs. Finally, in the case of resin mold or ceramic, cap sealing is performed and assembly is completed.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上、詳細に説明した半導体デバイスで
は、単に上下に積層するだけで、メモリー容量を簡単に
増加させることができ、デバイス自体の大きさは高さが
わずかに大きくなることを除いて、変わらない。よっ
て、集積度が大きくできるということとなる。また、種
々の半導体チップを組み合わせることによって、1つの
半導体デバイスで規模の大きなシステムを構成すること
ができる。
In the semiconductor device described in detail above, the memory capacity can be easily increased by simply stacking the semiconductor devices on top of each other, except that the size of the device itself is slightly increased. It doesn't change. Therefore, the degree of integration can be increased. In addition, by combining various semiconductor chips, a large-scale system can be configured with one semiconductor device.

【0022】更に、上下に積層してリードを接続するこ
とにより、各チップ上に形成する入出力端子数を低減す
ることができる。また、各チップを組み立てる前に、そ
れぞれの機能を有する半導体チップの良否を検査するこ
とができるため、デバイス全体としては、製造歩留りが
高くなり、大きなコストメリットが得られることとな
る。
Furthermore, by connecting the leads by stacking them on top of each other, the number of input / output terminals formed on each chip can be reduced. In addition, since the quality of the semiconductor chips having the respective functions can be inspected before assembling each chip, the manufacturing yield of the device as a whole is increased and a great cost merit is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明半導体デバイスの1例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a semiconductor device of the present invention.

【図2】図1に示す例の各層の接続状況を示す概略斜視
図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a connection state of each layer of the example shown in FIG.

【図3】本発明に使用する半導体チップの1例を示す断
面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a semiconductor chip used in the present invention.

【図4】本発明に使用するリードの1例を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing an example of a lead used in the present invention.

【図5】本発明用に接続された半導体チップの1例を示
す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing an example of a semiconductor chip connected for the present invention.

【図6】本発明に使用するリードフレームの1例を示す
断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing an example of a lead frame used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体デバイス 2 半導体チップ 3 バンプ 4 リード 5 絶縁層 6 スタッド 7 リードフレーム 8 プラスチック基板 9 キャリアーテープ 1 Semiconductor Device 2 Semiconductor Chip 3 Bump 4 Lead 5 Insulating Layer 6 Stud 7 Lead Frame 8 Plastic Substrate 9 Carrier Tape

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 TAB方式により実装された半導体チッ
プを上下に複数積層するものであって、積層された各チ
ップ間で共通の入出力リードを電気的に接続したものを
樹脂封入又はキャップシールを行なうことを特徴とする
半導体デバイス。
1. A plurality of semiconductor chips mounted by the TAB method are stacked one above the other, in which common input / output leads are electrically connected between the stacked chips and a resin encapsulation or cap seal is used. Semiconductor device characterized by performing.
JP3234485A 1991-09-13 1991-09-13 Semiconductor device Pending JPH0575015A (en)

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JP3234485A JPH0575015A (en) 1991-09-13 1991-09-13 Semiconductor device

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