JPH057239Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH057239Y2
JPH057239Y2 JP1987008306U JP830687U JPH057239Y2 JP H057239 Y2 JPH057239 Y2 JP H057239Y2 JP 1987008306 U JP1987008306 U JP 1987008306U JP 830687 U JP830687 U JP 830687U JP H057239 Y2 JPH057239 Y2 JP H057239Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ring
fluid supply
quartz tube
collar
fluid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1987008306U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS63119667U (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1987008306U priority Critical patent/JPH057239Y2/ja
Publication of JPS63119667U publication Critical patent/JPS63119667U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH057239Y2 publication Critical patent/JPH057239Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 (産業上の利用分野) この考案は、半導体製造に用いるCVDやエピ
タキシヤル成長装置などの石英管に関するもの
で、更に述べると、鍔付石英管のシール装置に関
するものである。
[Detailed explanation of the invention] [Purpose of the invention] (Field of industrial application) This invention relates to quartz tubes used in CVD and epitaxial growth equipment used in semiconductor manufacturing. This invention relates to a sealing device.

(従来の技術) 近年、石英管の軸方向をマニホルドにより縦長
に配設する縦型炉が使用されているが、この炉に
は、石英管内の反応ガスが外部に漏れないように
シール装置が設けられている。
(Prior art) In recent years, vertical furnaces have been used in which the axial direction of quartz tubes are arranged vertically by a manifold, but these furnaces are equipped with a sealing device to prevent the reaction gas inside the quartz tubes from leaking to the outside. It is provided.

従来のシール装置は、第4図に示すように、石
英管1のリング状鍔2を、上マニホルド3と下マ
ニホルド4で挟持し、該下マニホルド4のリング
溝5に嵌着したOリング6で、該下マニホルド4
のリング溝5と該石英管1の鍔の下面を押圧シー
ルするものである。
As shown in FIG. 4, the conventional sealing device holds a ring-shaped collar 2 of a quartz tube 1 between an upper manifold 3 and a lower manifold 4, and an O-ring 6 fitted into a ring groove 5 of the lower manifold 4. And the lower manifold 4
The ring groove 5 of the quartz tube 1 is press-sealed to the lower surface of the collar of the quartz tube 1.

なお、7は、石英管1の開口部を開閉するキヤ
ツプ、8は、下マニホルド4とキヤツプ7との間
をシールするシールリングである。
Note that 7 is a cap that opens and closes the opening of the quartz tube 1, and 8 is a seal ring that seals between the lower manifold 4 and the cap 7.

(考案が解決しようとする課題) 従来例の石英管のシール装置は、鍔2を設けて
いるので、シールし易いが、その反面、鍔2が石
英製なので、張力に対して極めて弱い。
(Problems to be Solved by the Invention) The conventional sealing device for a quartz tube has a flange 2, so it is easy to seal, but on the other hand, since the flange 2 is made of quartz, it is extremely weak against tension.

そのため、下マニホルド4の上面に突出するO
リング6を鍔2で押しつぶす際、鍔2が傾いたり
して、鍔2に大きな曲モーメントが加わると破損
する恐れがある。
Therefore, the O protruding from the upper surface of the lower manifold 4
When the ring 6 is crushed by the collar 2, if the collar 2 is tilted and a large bending moment is applied to the collar 2, there is a risk of damage.

また、石英管は手作業で製造されるので、鍔2
の下面は、機械加工のように平坦となりにくい。
Also, since the quartz tube is manufactured by hand, the tsuba 2
The bottom surface of the machine is difficult to flatten, unlike when machined.

そのため、Oリングを押しつぶす際、石英管1
の鍔2は局部的に張力が加わるので、鍔2は益々
壊れやすくなる。また、Oリング6の押圧力は石
英管の圧力を増減しながら、ウエハ処理を行う場
合には、石英管内の圧力に応じて大気圧によりシ
ール部が押され、シール部材であるOリング6の
押圧力が変化してしまう。
Therefore, when crushing the O-ring, quartz tube 1
Since tension is applied locally to the tsuba 2, the tsuba 2 becomes more and more easily broken. In addition, when processing wafers while increasing or decreasing the pressure in the quartz tube, the pressure force of the O-ring 6 is determined by the atmospheric pressure pressing the seal portion according to the pressure inside the quartz tube, and the pressure of the O-ring 6, which is a sealing member, being pressed. The pressing force changes.

従つて、シール力が強すぎたり、又は、弱すぎ
たりすることがあるので、シール力を加減して適
切なシール力を常に維持することができない。
Therefore, the sealing force may be too strong or too weak, and it is not possible to always maintain an appropriate sealing force by adjusting the sealing force.

この考案は、上記事情に鑑み、壊れやすい石英
管の鍔の破壊事故を防止すると共にシール力の調
整を図ることを目的とする。
In view of the above circumstances, the purpose of this invention is to prevent the breakage of the fragile quartz tube collar and to adjust the sealing force.

〔考案の構成〕[Structure of the idea]

(課題を解決するための手段) この考案は、容器が所定の圧力に排気される容
器のシール装置において、上記容器のシール対向
部の少なくとも一方の面に設けられた環状溝部
と、この溝部に挿入され流体給排気口を備えた管
状の弾性体からなる環状シール部材と、前記流体
給排気口と接続された流体給排気管と、この流体
給排気管を介して上記環状シール部材に流体を導
入する流体給排気装置と、を設けたことを特徴と
するシール装置である。
(Means for Solving the Problem) This invention provides a sealing device for a container in which the container is evacuated to a predetermined pressure. an annular seal member made of a tubular elastic body inserted and provided with a fluid supply/exhaust port; a fluid supply/exhaust pipe connected to the fluid supply/exhaust port; and a fluid supplied to the annular seal member through the fluid supply/exhaust pipe. This sealing device is characterized by being provided with a fluid supply/exhaust device for introducing the fluid.

(作用) 下マニホルドのリング構内に管状の弾性リング
を嵌着し、該リングが下マニホルドの上面に突出
いないように管状弾性リング内の空気を抜いた
後、石英管の鍔を、上マニホルドと下マニホルド
で挟持し固定する。
(Function) After fitting a tubular elastic ring into the ring structure of the lower manifold and removing the air inside the tubular elastic ring so that the ring does not protrude above the upper surface of the lower manifold, the collar of the quartz tube is connected to the upper manifold. Clamp and fix with the lower manifold.

次に、流体給排口から空気を管状弾性リング内
に供給して弾性リングを膨らませ、鍔の下面に圧
接させてシールする。
Next, air is supplied from the fluid supply/discharge port into the tubular elastic ring to expand the elastic ring, which is then pressed against the underside of the flange to form a seal.

(実施例) この考案の一実施例を添付図面により説明する
が、同一図面符号は、その名称も機能も同一であ
る。
(Embodiment) An embodiment of this invention will be described with reference to the accompanying drawings, where the same reference numerals have the same names and functions.

CVDの石英管10は、開口部11を下方にし
て縦長に設置され、この開口部11の外周縁に
は、リング状の鍔12が形成されている。
A CVD quartz tube 10 is installed vertically with an opening 11 facing downward, and a ring-shaped collar 12 is formed on the outer periphery of this opening 11.

この鍔12は、上マニホルド13と下マニホル
ド14により挟持されているが、このマニホルド
13,14は、図示しない組立ボルトにより固定
されている。
The collar 12 is held between an upper manifold 13 and a lower manifold 14, and the manifolds 13 and 14 are fixed by assembly bolts (not shown).

下マニホルド14の鍔12の下面12aに対向
部にリング溝16が形成され、また、このリング
溝16は切欠部15と連通している。
A ring groove 16 is formed on the lower surface 12a of the collar 12 of the lower manifold 14 at an opposing portion, and this ring groove 16 communicates with the notch 15.

この溝16には、流体室17aを備えた管状の
弾性リング17が嵌着されているが、このリング
17の流体室17aには、流体給排口18が設け
られ、この給排口18は、切欠部15に嵌着した
パイプ19に接続されている。
A tubular elastic ring 17 having a fluid chamber 17a is fitted into this groove 16, and the fluid chamber 17a of this ring 17 is provided with a fluid supply/discharge port 18. , is connected to a pipe 19 fitted into the notch 15.

リング溝16は、弾性リング17の自然状態に
おける厚さd以上の深さDに形成されている。2
0は、キヤツプ、21は、下マニホルド14とキ
ヤツプ20との間をシールするためのシールリン
グである。
The ring groove 16 is formed to a depth D that is greater than the thickness d of the elastic ring 17 in its natural state. 2
0 is a cap, and 21 is a seal ring for sealing between the lower manifold 14 and the cap 20.

次に、この実施例の作動につき説明すると、図
示しない給排装置を駆動し、パイプ19を介して
流体室17a内の流体、例えば、空気を抜き弾性
リングを萎ませた後リング溝16に該リング17
を嵌着する。
Next, to explain the operation of this embodiment, a supply/discharge device (not shown) is driven to remove fluid, e.g., air, from the fluid chamber 17a through the pipe 19 and deflate the elastic ring. ring 17
Insert.

この下マニホルド14の上面に石英管10の鍔
12を乗せ、その上を上マニホルド13で押さえ
付けると共にマニホルド13,14を図示しない
組立ボルトで螺着し、第2図の状態にする。
The collar 12 of the quartz tube 10 is placed on the upper surface of the lower manifold 14, and the collar 12 of the quartz tube 10 is pressed down by the upper manifold 13, and the manifolds 13 and 14 are screwed together with assembly bolts (not shown) to form the state shown in FIG.

この時、リング17は、鍔の下面12aから完
全に離れているので、鍔12に大きな曲げモーメ
ントがかかることはない。
At this time, since the ring 17 is completely separated from the lower surface 12a of the collar, no large bending moment is applied to the collar 12.

次に、開口部11にキヤツプ20をかぶせると
共に給排装置により流体室に空気を供給して弾性
リングを膨らませながら鍔12の下面12aにリ
ング17を押圧し第1図の状態にしてシールす
る。この時、鍔12は、マニホルド13,14に
より固定されているので、弾性リング17の押圧
力を受けても、破損することが無い。
Next, the opening 11 is covered with the cap 20, and the elastic ring is inflated by supplying air to the fluid chamber by the supply/discharge device, and the ring 17 is pressed against the lower surface 12a of the collar 12 to form a seal as shown in FIG. At this time, since the collar 12 is fixed by the manifolds 13 and 14, it will not be damaged even if it receives the pressing force of the elastic ring 17.

この押圧力の強さ、即ち、シール力の強さは流
体室17aに供給する空気量により調整するが、
シールに必要な強さであれば足りるので、石英管
内の圧力に対応させながらその強さを調整する。
The strength of this pressing force, that is, the strength of the sealing force, is adjusted by the amount of air supplied to the fluid chamber 17a.
The strength required for sealing is sufficient, so adjust the strength to correspond to the pressure inside the quartz tube.

この考案は、上記実施例に限定されるものでは
なく、例えば、縦型炉の代わりに、石英管を横長
に配設した横型炉に用いても良いことは勿論であ
る。
This invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it goes without saying that it may be used, for example, in a horizontal furnace in which quartz tubes are arranged horizontally in place of the vertical furnace.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

この考案は以上の様に構成したので次の如き顕
著な効果を奏する。
Since this invention is constructed as described above, it has the following remarkable effects.

(1) もろく破損しやすい容器、例えば石英管の鍔
部をシールする場合には、流体給排気装置を用
いて環状シール部材の流体を抜き出して集めた
状態で該部材を環状溝部に挿入した後、石英管
の鍔を上下マニボルトで挟持するとともに前記
流体給排気装置を用いて環状シール部材に流体
を供給して膨らませて鍔の下面に押圧してシー
ルすることができる。
(1) When sealing the brim of a container that is fragile and easily damaged, such as a quartz tube, use a fluid supply/exhaust device to draw out the fluid from the annular seal member, collect it, and then insert the member into the annular groove. The flange of the quartz tube is held between the upper and lower mani bolts, and the annular seal member is inflated by supplying fluid to the annular seal member using the fluid supply/exhaust device, and is pressed against the lower surface of the flange for sealing.

従つて、従来例と異なり、鍔に過大な曲げモ
ーメント等が加わらないので、シール部がもろ
く破損しやすい部材で形成されていても、破損
事故の発生を防止することができる。
Therefore, unlike the conventional example, an excessive bending moment etc. is not applied to the flange, so even if the seal portion is made of a brittle and easily damaged member, occurrence of breakage accidents can be prevented.

(2) 流体給排気装置を用いて環状シール部材の膨
らませ具合を調整しシール圧力を調整できるの
で、容器内の圧力に見合つた最適なシール力を
維持することができる。
(2) Since the sealing pressure can be adjusted by adjusting the degree of inflation of the annular seal member using the fluid supply/exhaust device, it is possible to maintain an optimal sealing force commensurate with the pressure inside the container.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの考案の実施例を示す縦断面図の要
部を示す図、第2図は第1図の他の状態を示す
図、第3図は弾性リングの斜視図、第4図は従来
例を示す平面図の一部断面図である。 10……石英管、12……鍔、13……上マニ
ホルド、14……下マニホルド、16……リング
溝、17……弾性リング。
Fig. 1 is a longitudinal sectional view showing the main part of an embodiment of this invention, Fig. 2 is a view showing another state of Fig. 1, Fig. 3 is a perspective view of the elastic ring, and Fig. 4 is It is a partial sectional view of a plan view showing a conventional example. 10...Quartz tube, 12...Brim, 13...Upper manifold, 14...Lower manifold, 16...Ring groove, 17...Elastic ring.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 容器が所定の圧力に排気される容器のシール装
置において、上記容器のシール対向部の少なくと
も一方の面に設けられた環状溝部と、この溝部に
挿入され流体給排気口を備えた管状の弾性体から
なる環状シール部材と、前記流体給排気口と接続
された流体給排気管と、この流体給排気管を介し
て上記環状シール部材に流体を導入する流体給排
気装置と、を設けたことを特徴とするシール装
置。
A sealing device for a container in which the container is evacuated to a predetermined pressure, comprising: an annular groove provided on at least one surface of the seal-facing portion of the container; and a tubular elastic body inserted into the groove and provided with a fluid supply/exhaust port. a fluid supply/exhaust pipe connected to the fluid supply/exhaust port; and a fluid supply/exhaust device for introducing fluid to the annular seal member through the fluid supply/exhaust pipe. Features a sealing device.
JP1987008306U 1987-01-23 1987-01-23 Expired - Lifetime JPH057239Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1987008306U JPH057239Y2 (en) 1987-01-23 1987-01-23

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1987008306U JPH057239Y2 (en) 1987-01-23 1987-01-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63119667U JPS63119667U (en) 1988-08-02
JPH057239Y2 true JPH057239Y2 (en) 1993-02-24

Family

ID=30792564

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1987008306U Expired - Lifetime JPH057239Y2 (en) 1987-01-23 1987-01-23

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH057239Y2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10027461A1 (en) * 2000-06-02 2001-12-06 Glatt Gmbh Container used as a fluidized bed reactor in the chemical and pharmaceutical industries comprises housing parts connected by coupling parts and held by a holder with a theoretical separating site in the sealing position

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4855247U (en) * 1971-10-29 1973-07-16
JPS48111790U (en) * 1972-04-01 1973-12-21

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63119667U (en) 1988-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04269822A (en) Sealing device
EP0246784A3 (en) Low compliance seal for gas-enhanced wafer cooling in vacuum
KR100280689B1 (en) Heat treatment device
EP0688888A3 (en) Apparatus and method for substrate processing
US20050258142A1 (en) Sealed line structure for use in process chamber
WO1999035037A3 (en) Gas exchange apparatus
US4852916A (en) High temperature vacuum probe
JPH057239Y2 (en)
US3705567A (en) Device for indiffussing dopants into semiconductor wafers
JP3436955B2 (en) Heat treatment equipment
JPH05183042A (en) Suction of wafer
JPH08653U (en) Quartz tube sealing device
JPH06459Y2 (en) Vertical epitaxial growth system
EP1285977A3 (en) Apparatus and method for insulating a seal in a process chamber
JP2009224504A (en) Substrate processing apparatus
GB2375432A (en) Electrostatic clamping
JP3749471B2 (en) High purity silicon production reactor and high purity silicon production method
JPS6339961Y2 (en)
JPH0831743A (en) Method and equipment for preventing contamination of cvd system
CN210332213U (en) Exhaust-gas treatment ware's panel beating shell
CN217194847U (en) Graphite ring adsorption type clamp
CN220724412U (en) Phosphorus gas recovery device
JPH01289254A (en) Heat treatment apparatus
JP3602410B2 (en) Film forming equipment
JPH0163132U (en)