JPH0570660B2 - - Google Patents

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JPH0570660B2
JPH0570660B2 JP59039781A JP3978184A JPH0570660B2 JP H0570660 B2 JPH0570660 B2 JP H0570660B2 JP 59039781 A JP59039781 A JP 59039781A JP 3978184 A JP3978184 A JP 3978184A JP H0570660 B2 JPH0570660 B2 JP H0570660B2
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JP
Japan
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maleate
bis
dibutyltin
dioctyltin
mercaptopropionate
Prior art date
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Application number
JP59039781A
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English (en)
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JPS60184535A (ja
Inventor
Yoshuki Kogo
Naotaka Marushima
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Sankyo Organic Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Organic Chemicals Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sankyo Organic Chemicals Co Ltd filed Critical Sankyo Organic Chemicals Co Ltd
Priority to JP3978184A priority Critical patent/JPS60184535A/ja
Publication of JPS60184535A publication Critical patent/JPS60184535A/ja
Publication of JPH0570660B2 publication Critical patent/JPH0570660B2/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は塩素化ポリエチレンの安定化法に関
し、より詳しくは塩素化ポリエチレンに対してハ
イドロタルサイト及び、有機錫マレエート系化合
物及び少量の有機錫メルカプタイド系化合物を併
用添加することにより、当該樹脂を熱安定化する
方法に関する。 塩素化ポリエチレンは加熱成形加工を行う際に
主として脱塩化水素に起因する熱分解を起こしや
すく、このための加工製品の機械的性質の低下、
色調の悪化を生じ著しい不利益を招く。かかる不
利益を避けるために一種又は数種の熱安定剤を塩
素化ポリエチレンに添加し加工工程に於ける劣化
を抑制する必要がある。かかる目的で多種の金属
石鹸、酸化防止剤等が使用されている。 例えば、特開昭53−134045号公報(含硫黄カル
ボン酸マグネシウム塩を添加してなる安定化法)、
同53−134046号公報(含硫黄カルボン酸マグネシ
ウム塩とジアルキル錫マレエートとを併用添加し
てな安定化法)、同57−117549号公報(フエノー
ル系抗酸化剤、チオプロピオネート系酸化剤防止
剤、塩化ビニル系重合体の脱塩化水素防止剤及び
有機過酸化物からなる組成物)等が挙げられる
が、いずれも熱安定化効果が不充分であつた。 本発明者等は多くの検討を重ねた結果、塩素化
ポリエチレンにハイドロタルサイトと有機錫マレ
エート系化合物と有機錫メルカプタイド系化合物
とを併用添加することによりそれらを単独で使用
するよりもなお一層優れた熱安定化効果が得られ
ることを見出した。 すなわち、本発明者等は塩素化ポリエチレンに
対して (1) 一般式 Mg1-XAlX(OH)2(CO3X/2・mH2O (式中、Xは0<x≦0.5なる数を示し、mは
0〜5の数を示す。) で示されるハイドロタルサイト及び、(2)有機錫マ
レエート系化合物及び、(3)少量の有機錫メルカプ
タイド系化合物(但し、ジアルキル錫マレエート
ポリマー及びジアルキル錫3−メルカプトプロピ
オネートポマーとの併用を除く)とを併用添加す
ることにより塩素化ポリエチレンが熱に対して著
しく安定化されることを見出し本発明を完成し
た。 本発明方法を詳しく述べると、本発明に使用さ
れ、上記一般式で示されるハイドロタルサイトは
天然及び合成のハイドロタルサイトが挙げられ、
Mg≧Alであるような種々の金属比のものが挙げ
られる。 また本発明に使用されるハイドロタルサイト
は、例えばステアリン酸やオレフイン酸アルカリ
金属塩のような高級脂肪酸アルカリ金属塩や、例
えばドデシルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩
のような有機スルホン酸アルカリ金属塩等で表面
処理されていてもよい。 本発明に使用さる有機錫マレエート系化合物は
一般に使用される化合物を挙げることができ、例
えば、一般式(1)及び(2)
【化】
〔式(1)、(2)中、R1はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基、R2は炭素数が1〜12のアルキル基、Aは酸素または−OOCCH=CHCOO−で示される基、kは0または1、lは1〜10の整数を示す。〕
が挙げられる。 上記一般式(1)で示される有機錫マレエート系化
合物の例としては次のものが挙げられる。ジメチ
ル錫ビス(メチルマレエート)、ジメチル錫ビス
(エチルマレエート)、ジメチル錫ビス(イソプロ
ピルマレエート)、ジメチル錫ビス(ブチルマレ
エート)、ジメチル錫ビス(ヘキシルマレエー
ト)、ジメチル錫ビス(オクチルマレエート)、ジ
メチル錫ビス(イソオクチルマレエート)、ジメ
チル錫ビス(2−エチルヘキシルマレエート)、
ジメチル錫ビス(デシルマレエート)、ジメチル
錫ビス(ドデシルマレエート)、ジメチル錫ビス
(トリデシルマレエート)、ジメチル錫ビス(オク
タデシルマレエート)、ジメチル錫ビス(オレイ
ルマレエート)、ジメチル錫ビス(ベンジルマレ
エート)、ジメチル錫ビス(シクロヘキシルマレ
エート)、ジメチル錫ビス(メトキシブチルマレ
エート)、ジブチル錫ビス(メチルマレエート)、
ジブチル錫ビス(エチルマレエート)、ジブチル
錫ビス(プロピルマレエート)、ジブチル錫ビス
(イソプロピルマレエート)、ジブチル錫ビス(ブ
チルマレエート)、ジブチル錫ビス(アミルマレ
エート)、ジブチル錫ビス(ヘキシルマレエー
ト)、ジブチル錫ビス(ヘプチルマレエート)、ジ
ブチル錫ビス(オクチルマレエート)、ジブチル
錫ビス(イソオクチルマレエート)、ジブチル錫
ビス(2−エチルヘキシルマレエート)、ジブチ
ル錫ビス(ノニルマレエート)、ジブチル錫ビス
(デシルマレエート)、ジブチル錫ビス(ドデシル
マレエート)、ジブチル錫ビス(トリデシルマレ
エート)、ジブチル錫ビス(オクタデシルマレエ
ート)、ジブチル錫ビス(アリルマレエート)、ジ
ブチル錫ビス(オレイルマレエート)、ジブチル
錫ビス(ベンジルマレエート)、ジブチル錫ビス
(シクロヘキシルマレエート)、ジブチル錫ビス
(メトキシブチルマレエート)、ジオクチル錫ビス
(エチルマレエート)、ジオクチル錫ビス(プロピ
ルマレエート)、ジオクチル錫ビス(イソプロピ
ルマレエート)、ジオクチル錫ビス(ブチルマレ
エート)、ジオクチル錫ビス(ヘキシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(オクチルマレエート)、
ジオクチル錫ビス(イソオクチルマレエート)、
ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(デシルマレエート)、ジ
オクチル錫ビス(ドデシルマレエート)、ジオク
チル錫ビス(トリデシルマレエート)、ジオクチ
ル錫ビス(オクタデシルマレエート)、ジオクチ
ル錫ビス(オレイルマレエート)、ジオクチル錫
ビス(ベンジルマレエート)、ジオクチル錫ビス
(シクロヘキシルマレエート)、ジオクチル錫ビス
(メトキシブチルマレエート)、ジラウリル錫ビス
(エチルマレエート)、ジラウリル錫ビス(イソプ
ロピルマレエート)、ジラウリル錫ビス(ブチル
マレエート)、ジラウリル錫ビス(ヘキシルマレ
エート)、ジラウリル錫ビス(オクチルマレエー
ト)、ジラウリル錫ビス(イソオクチルマレエー
ト)、ジラウリル錫ビス(2−エチルヘキシルマ
レエート)、ジラウリル錫ビス(デシルマレエー
ト)、ジラウリル錫ビス(ドデシルマレエート)、
ジラウリル錫ビス(トリデシルマレエート)、ジ
ラウリル錫ビス(オクタデシルマレエート)、ジ
ラウリル錫ビス(オレイルマレエート)、ジラウ
リル錫ビス(ベンジルマレエート)、ジラウリル
錫ビス(シクロヘキシルマレエート)、ジラウリ
ル錫ビス(メトキシブチルマレエート)、ビス
(ジメチル錫メチルマレエート)マレエート、ビ
ス(ジメチル錫エチルマレエート)マレエート、
ビス(ジメチル錫イソプロピルマレエート)マレ
エート、ビス(ジメチル錫ブチルマレエート)マ
レエート、ビス(ジメチル錫ヘキシルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジメチル錫オクチルマレ
エート)マレエート、ビス(ジメチル錫イソオク
チルマレエート)マレエート、ビス(ジメチル錫
2−エチルヘキシルマレエート)マレエート、ビ
ス(ジメチル錫デシルマレエート)マレエート、
ビス(ジメチル錫ドデシルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジメチル錫トリデシルマレエート)、
マレエート、ビス(ジメチル錫オクタデシルマレ
エート)マレエート、ビス(ジメチル錫オレイル
マレエート)マレエート、ビス(ジメチル錫ベン
ジルマレエート)マレエート、ビス(ジメチル錫
シクロヘキシルマレエート)マレエート、ビス
(ジメチル錫メトキシブチルマレエート)マレエ
ート、ビス(ジブチル錫メチルマレエート)マレ
エート、ビス(ジブチル錫エチルマレエート)マ
レエート、ビス(ジブチル錫プロピルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジブチル錫イソプロピル
マレエート)マレエート、ビス(ジブチル錫ブチ
ルマレエート)マレエート、ビス(ジブチル錫ア
ミルマレエート)マレエート、ビス(ジブチル錫
ヘキシルマレエート)マレエート、ビス(ジブチ
ル錫ヘプチルマレエート)マレエート、ビス(ジ
ブチル錫オクチルマレエート)マレエート、ビス
(ジブチル錫イソオクチルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジブチル錫2−エチルヘキシルマレエ
ート)マレエート、ビス(ジブチル錫ノニルマレ
エート)マレエート、ビス(ジブチル錫デシルマ
レエート)マレエート、ビス(ジブチル錫ドデシ
ルマレエート)マレエート、ビス(ジブチル錫ト
リデシルマレエート)マレエート、ビス(ジブチ
ル錫オクタデシルマレエート)マレエート、ビス
(ジブチル錫アリルマレエート)マレエート、ビ
ス(ジブチル錫オレイルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジブチル錫ベンジルマレエート)マレ
エート、ビス(ジブチル錫シクロヘキシルマレエ
ート)マレエート、ビス(ジブチル錫メトキシブ
チルマレエート)マレエート、ビス(ジオクチル
錫エチルマレエート)マレエート、ビス(ジオク
チル錫プロピルマレエート)マレエート、ビス
(ジオクチル錫イソプロピルマレエート)マレエ
ート、ビス(ジオクチル錫ブチルマレエート)マ
レエート、ビス(ジオクチル錫ヘキシルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジオクチル錫オクチルマ
レエート)マレエート、ビス(ジオクチル錫イソ
オクチルマレエート)マレエート、ビス(ジオク
チル錫2−エチルヘキシルマルエート)マレエー
ト、ビス(ジオクチル錫デシルマレエート)マレ
エート、ビス(ジオクチル錫ドデシルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジオクチル錫トリデシル
マレエート)マレエート、ビス(ジオクチル錫オ
クタデシルマレエート)マレエート、ビス(ジオ
クチル錫オレイルマレエート)マレエート、ビス
(ジオクチル錫ベンジルマレエート)マレエート、
ビス(ジオクチル錫シクロヘキシルマレエート)
マレエート、ビス(ジオクチル錫メトキシブチル
マレエート)マレエート、ビス(ジラウリル錫エ
チルマレエート)マレエート、ビス(ジラウリル
錫イソプロピルマレエート)マレエート、ビス
(ジラウリル錫ブチルマレエート)マレエート、
ビス(ジラウリル錫ヘキシルマレエート)マレエ
ート、ビス(ジラウリル錫オクチルマレエート)
マレエート、ビス(ジラウリル錫イソオクチルマ
レエート)マレエート、ビス(ジラウリル錫2−
エチルヘキシルマレエート)マレエート、ビス
(ジラウリル錫デシルマレエート)マレエート、
ビス(ジラウリル錫ドデシルマレエート)マレエ
ート、ビス(ジラウリル錫トリデシルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジラウリル錫オクタデシ
ルマレエート)マレエート、ビス(ジラウリル錫
オレイルマレエート)マレエート、ビス(ジラウ
リル錫ベンジルマレエート)マレエート、ビス
(ジラウリル錫シクロヘキシルマレエート)マレ
エート、ビス(ジラウリル錫メトキシブチルマレ
エート)マレエート、ビス(ジメチル錫メチルマ
レエート)オキサイド、ビス(ジメチル錫ブチル
マレエート)オキサイド、ビス(ジメチル錫イソ
オクチルマレエート)オキサイド、ビス(ジメチ
ル錫ベンジルマレエート)オキサイド、ビス(ジ
ブチル錫メチルマレエート)オキサイド、ビス
(ジブチル錫ブチルマレエート)オキサイド、ビ
ス(ジブチル錫イソオクチルマレエート)オキサ
イド、ビス(ジブチル錫ベンジルマレエート)オ
キサイド、ビス(ジオクチル錫ブチルマレエー
ト)オキサイド、ビス(ジオクチル錫イソオクチ
ルマレエート)オキサイド、ビス(ジオクチル錫
ベンジルマレエート)オキサイド、ビス(ジラウ
リル錫ブチルマレエート)オキサイド、ビス(ジ
ラウリル錫イソオクチルマレエート)オキサイ
ド、ビス(ジラウリル錫ベンジルマレエート)オ
キサイド等であり、好ましい例としてはジブチル
錫ビス(メチルマレエート)、ジブチル錫ビス
(ブチルマレエート)、ジブチル錫ビス(イソオク
チルマレエート)、ジブチル錫ビス(2−エチル
ヘキシルマレエート)、ジブチル錫ビス(トリデ
シルマレエート)、ジブチル錫ビス(オクタデシ
ルマレエート)、ジブチル錫ビス(オレイルマレ
エート)、ジブチル錫ビス(ベンジルマレエー
ト)、ジブチル錫ビス(シクロヘキシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(ブチルマレエート)、ジ
オクチル錫ビス(イソオクチルマレエート)、ジ
オクチル錫ビス(2−エチルヘキシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(トリデシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(オクタデシルマレエー
ト)、ジオクチル錫ビス(オレイルマレエート)、
ジオクチル錫ビス(ベンジルマレエート)、ジオ
クチル錫ビス(シクロヘキシルマレエート)、ビ
ス(ジブチル錫メチルマレエート)マレエート、
ビス(ジブチル錫ブチルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジブチル錫イソオクチルマレエート)
マレエート、ビス(ジブチル錫2−エチルヘキシ
ルマレエート)マレエート、ビス(ジブチル錫ト
リデシルマレエート)マレエート、ビス(ジブチ
ル錫オクタデシルマレエート)マレエート、ビス
(ジブチル錫オレイルマレエート)マレエート、
ビス(ジブチル錫ベンジルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジブチル錫シクロヘキシルマレエー
ト)マレエート、ビス(ジオクチル錫ブチルマレ
エート)マレエート、ビス(ジオクチル錫イソオ
クチルマレエート)マレエート、ビス(ジオクチ
ル錫2−エチルヘキシルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジオクチル錫トリデシルマレエート)
マレエート、ビス(ジオクチル錫オクタデシルマ
レエート)マレエート、ビス(ジオクチル錫オレ
イルマレエート)マレエート、ビス(ジオクチル
錫ベンジルマレエート)マレエート、ビス(ジオ
クチル酸シクロヘキシルマレエート)マレエー
ト、ビス(ジブチル錫メチルマレエート)オキサ
イド、ビス(ジブチル錫ブチルマレエート)オキ
サイド、ビス(ジブチル錫ベンジルマレエート)
オキサイド、ビス(ジオクチル錫ブチルマレエー
ト)オキサイド、ビス(ジオクチル錫ベンジルマ
レエート)オキサイド等を挙げることができる。
一般式(2)で示される有機錫マレエート系化合物の
例としては次のものが挙げられる。ジメチル錫マ
レエート、ジブチル錫マレエート、ジオクチル錫
マレエート、ジラウリル錫マレエートおよびこれ
らのポリマー等である。一般式(1)及び(2)の有機錫
マレエート系化合物の中でも、特に好ましい例と
してはジブチル錫ビス(メチルマレエート)、ジ
ブチル錫マレエートポリマー、ジオクチル錫マレ
エートポリマー等である。 本発明に使用される有機錫メルカプタイド系化
合物は一般に使用される化合物を挙げることがで
き、例えば一般式(3)及び(4)
【化】
〔式(3)、(4)中、R3はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、R4は炭素数が1〜12のアルキル基、Bは酸素、B′は硫黄または−S(CH2)pCOO−で示される基、pは1または2の整数、XはR4または−S(CH2)pCOOR3で示される基、mは0または1、nは1〜10の整数を示す。〕
が挙げられる。 一般式(3)で示される有機錫メルカプタイド系化
合物の例としては次のものが挙げられる。 モノメチル錫トリス(イソオクチルメルカプト
アセテート)、モノメチル錫トリス(2−エチル
ヘキシルメルカプトアセテート)、モノメチル錫
トリス(オクタデシルメルカプトアセテート)、
モノメチル錫トリス(オレイルメルカプトアセテ
ート)、モノメチル錫トリス(メトキシブチルメ
ルカプトアセテート)、モノブチル錫トリス(ブ
チルメルカプトアセテート)、モノブチル錫トリ
ス(オクチルメルカプトアセテート)、モノブチ
ル錫トリス(イソオクチルメルカプトアセテー
ト)、モノブチル錫トリス(2−エチルヘキシル
メルカプトアセテート)、モノブチル錫トリス
(オクタデシルメルカプトアセテート)、モノブチ
ル錫トリス(オレイルメルカプトアセテート)、
モノブチル錫トリス(ベンジルメルカプトアセテ
ート)、モノブチル錫トリス(メトキシブチルメ
ルカプトアセテート)、モノオクチル錫トリス
(ブチルメルカプトアセテート)、モノオクチル錫
トリス(オクチルメルカプトアセテート)、モノ
オクチル錫トリス(イソオクチルメルカプトアセ
テート)、モノオクチル錫トリス(2−エチルヘ
キシルメルカプトアセテート)、モノオクチル錫
トリス(メトキシブチルメルカプトアセテート)、
ジメチル錫ビス(イソオクチルメルカプトアセテ
ート)、ジメチル錫ビス(2−エチルヘキシルメ
ルカプトアセテート)、ジメチル錫ビス(オクタ
デシルメルカプトアセテート)、ジメチル錫ビス
(オレイルメルカプトアセテート)、ジメチル錫ビ
ス(メトキシブチルメルカプトアセテート)、ジ
ブチル錫ビス(ブチルメルカプトアセテート)、
ジブチル錫ビス(オクチルメルカプトアセテー
ト)、ジブチル錫ビス(イソオクチルメルカプト
アセテート)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキ
シルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ビス
(オクタデシルメルカプトアセテート)、ジブチル
錫ビス(オレイルメルカプトアセテート)、ジブ
チル錫ビス(ベンジルメルカプトアセテート)、
ジブチル錫ビス(シクロヘキシルメルカプトアセ
テート)、ジブチル錫ビス(メトキシブチルメル
カプトアセテート)、ジオクチル錫ビス(ブチル
メルカプトアセテート)、ジオクチル錫ビス(オ
クチルメルカプトアセテート)、ジオクチル錫ビ
ス(イソオクチルメルカプトアセテート)、ジオ
クチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトア
セテート)、ジオクチル錫ビス(メトキシブチル
メルカプトアセテート)、ビス(ジメチル錫イソ
オクチルメルカプトアセテート)オキサイド、ビ
ス(ジメチル錫2−エチルヘキシルメルカプトア
セテート)オキサイド、ビス(ジブチル錫イソオ
クチルメルカプトアセテート)オキサイド、ビス
(ジブチル錫2−エチルヘキシルメルカプトアセ
テート)オキサイド、ビス(ジオクチル錫イソオ
クチルメルカプトアセテート)オキサイド、ビス
(ジオクチル錫2−エチルヘキシルメルカプトア
セテート)オキサイド、モノメチル錫トリス(イ
ソオクチル3−メルカプトプロピオネート)、モ
ノメチル錫トリス(2−エチルヘキシル3−メル
カプトプロピオネート)、モノメチル錫トリス
(オクタデシル3−メルカプトプロピオネート)、
モノメチル錫トリス(オレイル3−メルカプトプ
ロピオネート)、モノメチル錫トリス(メトキシ
ブチル3−メルカプトプロピオネート)、モノブ
チル錫トリス(ブチル3−メルカプトプロピオネ
ート)、モノブチル錫トリス(オクチル3−メル
カプトプロピオネート)、モノブチル錫トリス
(イソオクチル3−メルカプトプロピオネート)、
モノブチル錫トリス(2−エチルヘキシル3−メ
ルカプトプロピオネート)、モノブチル錫トリス
(オクタデシル3−メルカプトプロピオネート)、
モノブチル錫トリス(オレイル3−メルカプトプ
ロピオネート)、モノブチル錫トリス(ベンジル
3−メルカプトプロピオネート)、モノブチル錫
トリス(メトキシブチル3−メルカプトプロピオ
ネート)、モノオクチル錫トリス(ブチル3−メ
ルカプトプロピオネート)、モノオクチル錫トリ
ス(オクチル3−メルカプトプロピオネート)、
モノオクチル錫トリス(イソオクチル3−メルカ
プトプロピオネート)、モノオクチル錫トリス
(2−エチルヘキシル3−メルカプトプロピオネ
ート)、モノオクチル錫トリス(メトキシブチル
3−メルカプトプロピオネート)、モノラウリル
錫トリス(2−エチルヘキシル3−メルカプトプ
ロピオネート)、ジメチル錫ビス(イソオクチル
3−メルカプトプロピオネート)、ジメチル錫ビ
ス(2−エチルヘキシル3−メルカプトプロピオ
ネート)、ジメチル錫ビス(オクタデシル3−メ
ルカプトプロピオネート)、ジメチル錫ビス(オ
レイル3−メルカプトプロピオネート)、ジメチ
ル錫ビス(メトキシブチル3−メルカプトプロピ
オネート)、ジブチル錫ビス(ブチル3−メルカ
プトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(オクチ
ル3−メルカプトプロピオネート)、ジブチル錫
ビス(イソオクチル3−メルカプトプロピオネー
ト)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシル3−
メルカプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス
(オクタデシル3−メルカプトプロピオネート)、
ジブチル錫ビス(オレイル3−メルカプトプロピ
オネート)、ジブチル錫ビス(ベンジル3−メル
カプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(シク
ロヘキシル3−メルカプトプロピオネート)、ジ
ブチル錫ビス(メトキシブチル3−メルカプトプ
ロピオネート)、ジオクチル錫ビス(ブチル3−
メルカプトプロピオネート)、ジオクチル錫ビス
(オクチル3−メルカプトプロピオネート)、ジオ
クチル錫ビス(イソオクチル3−メルカプトプロ
ピオネート)、ジオクチル錫ビス(2−エチルヘ
キシル3−メルカプトプロピオネート)、ジオク
チル錫ビス(メトキシブチル3−メルカプトプロ
ピオネート)、ジラウリル錫ビス(2−エチルヘ
キシル3−メチルカプトロピオネート)、ビス
(ジメチル錫イソオクチル3−メルカプトプロピ
オネート)オキサイド、ビス(ジメチル錫2−エ
チルヘキシル3−メルカプトプロピオネート)オ
キサイド、ビス(ジブチル錫イソオクチル3−メ
ルカプトプロピオネート)オキサイド、ビス(ジ
ブチル錫2−エチルヘキシル3−メルカプトプロ
ピオネート)オキサイド、ビス(ジオクチル錫イ
ソオクチル3−メルカプトプロピオネート)オキ
サイド、ビス(ジオクチル錫2−エチルヘキシル
3−メルカプトプロピオネート)オキサイド等で
あり、好ましい例としてはジブチル錫ビス(イソ
オクチルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ビ
ス(2−エチルヘキシルメルカプトアセテート)、
ジオクチル錫ビス(イソオクチルメルカプトアセ
テート)、ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシ
ルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ビス(イ
ソオクチル3−メルカプトプロピオネート)、ジ
ブチル錫ビス(2−エチルヘキシル3−メルカプ
トプロピオネート)、ジブチル錫ビス(メトキシ
ブチル3−メルカプトプロピオネート)、ジオク
チル錫ビス(イソオクチル3−メルカプトプロピ
オネート)、ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキ
シル3−メルカプトプロピオネート)、ビス(ジ
ブチル錫イソオクチル3−メルカプトプロピオネ
ート)オキサイド、ビス(ジブチル錫2−エチル
ヘキシル3−メルカプトプロピオネート)オキサ
イド、ビス(ジオクチル錫イソオクチル3−メル
カプトプロピオネート)オキサイド、ビス(ジオ
クチル錫2−エチルヘキシル3−メルカプトプロ
ピオネート)オキサイド等が挙げられ、特に好ま
しい例としてはジブチル錫ビス(イソオクチルメ
ルカプトアセテート)、ジブチル錫ビス(2−エ
チルヘキシルメルカプトアセテート)、ジオクチ
ル錫ビス(イソオクチルメルカプトアセテート)、
ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプ
トアセテート)等を挙げることができる。 一般式(4)で示される有機錫メルカプタイド系化
合物の例としては次のものが挙げられる。 ジメチル錫メルカプトアセテート、ジブチル錫
メルカプトアセテート、ジオクチル錫メルカプト
アセテート、ジラウリン錫メルカプトアセテー
ト、ジメチル錫3−メルカプトプロピオネート、
ジブチル錫3−メルカプトプロピオネート、ジオ
クチル錫3−メルカプトプロピオネート、ジラウ
リル錫3−メルカプトプロピオネート、ジメチル
錫サルフアイド、ジブチル錫サルフアイド、ジオ
クチル錫サルフアイド、ジラウリル錫サルフアイ
ドおよびこれらのポリマー等であり、好ましくは
ジブチル錫3−メルカプトプロピオネート、ジオ
クチル錫3−メルカプトプロピオネート、ジブチ
ル錫サルフアイド、ジオクチル錫サルフアイドお
よびこれらのポリマー等を挙げることができる。 本発明に使用されるハイドロタルサイトの添加
量は特に制限はないが、本発明者等の研究によれ
ば塩素化ポリエチレン100重量部に対して0.1〜5
重量部、好適には0.5〜5重量部である。また有
機錫マレエート系化合物及び有機錫メルカプタイ
ド系化合物の添加量は塩素化ポリエチレン100重
量部に対して通常それぞれ0.01〜4重量部、0.01
〜1重量部、好適にはそれぞれ0.1〜2重量部、
0.03〜1重量部である。ハイドロタルサイトと有
機錫マレエート系化合物と有機錫メルカプタイド
系化合物の添加割合は重量比で60〜95:30〜4:
10〜1が好ましい。有機錫マレエート系化合物お
よび有機錫メルカプタイド系化合物の添加割合を
上記の重量比よりも多くすると熱安定化効果が減
ると共に加工時に金型へのベタツキや加工臭が増
加する。特に有機錫メルカプタイド系化合物を多
くすると悪臭の原因となるので出来るだけ少ない
添加量が好ましい。また有機錫マレエート系化合
物および有機錫メルカプタイド系化合物の添加割
合を上記の重量比より少なくなると熱安定化効果
が減少する。 本発明の塩素化ポリエチレンの安定化に際し
て、酸化防止剤を添加することは塩素化ポリエチ
レンの酸化劣化を防止し得るので使用目的に応じ
て適宜使用できる。これら酸化防止剤にはフエノ
ール系酸化防止剤、ホスフアイト系酸化防止剤、
アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが含
まれる。 又塩素化ポリエチレンに光安定剤を添加すれば
光安定性が向上するので使用目的に応じて適宜こ
れらを選択して使用することができる。これらは
ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系、サリ
チレート系、置換アクリロニトリル系等が含まれ
る。その他必要に応じて例えば、金属石鹸、エポ
キシ化合物、有機キレーター、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、防曇剤、プレートアウト防止
剤、表面処理剤、滑剤等を使用することができ
る。 本発明に用いられる塩素化ポリエチレンとして
は塩素含有量が20乃至60%のものが好ましい。
又、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
等のα−オレフイン重合体や他の共重合体例えば
アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレ
ン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体等とのポリマーブレ
ンドであることができる。 次に実施例によつて本発明を具体的に説明す
る。しかしながら本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。実施例中、部とは重
量部を意味する。 以下の実施例において熱安定性は次の基準で評
価した。 無 色:1 褐 色:4 淡黄色:2 黒褐色:5 黄 色:3 又、(表−1)及び(表−2)に使用したA〜T
までの記号は、それぞれ次の化合物を表わす。 A:Mg0.67Al0.33(OH)2(CO30.165・0.3H2O B:Mg0.7Al0.3(OH)2(CO30.15・0.54H2O C:Mg0.75Al0.25(OH)2(CO30.125・0.5H2O D:Mg0.67Al0.33(OH)2(CO30.165 E:Mg(OH)2 F:(C12H25SCH2CH2COO)2Mgとジオクチル錫
マレエートポリマー(1:1) G:ジブチル錫マレエートポリマー H:ジオクチル錫マレエートポリマー I:ジブチル錫ビス(メチルマレエート) J:ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルマレエ
ート) K:ジブチル錫ビス(トリデシルマレエート) L:ジブチル錫ビス(オレイルマレエート) M:ジオクチル錫ビス(ベンジルマレエート) N:ビス(ジブチル錫メチルマレエート)マレエ
ート O:ビス(ジブチル錫ブチルマレエート)オキサ
イド P:ジブチル錫ビス(イソオクチル3−メルカプ
トプロピオネート) Q:ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシルメル
カプトアセテート) R:ビス(ジブチル錫2−エチルヘキシル3−メ
ルカプトプロピオネート)オキサイド S:ジブチル錫3−メルカプトプロピオネート T:ジオクチル錫3−メルカプトプロピオネート 実施例 1 塩素化ポリエチレン〔エラスレン351A、昭和
電工(株)製〕100部に滑剤〔ロキシオールG−70、
ヘンケル白水(株)製〕0.5部と(表−1)に示す安
定剤を添加配合し、配合物を150℃に加熱調整し
たテストロールにて5分間混練し、厚さ0.5mmの
シートを作製した。得られた各シートを40mm×40
mmの大きさに切断しその試験片をガラス板上にの
せて200℃に加熱調整したギヤー式老化試験機の
中に入れ15分毎に試験片を取り出して熱安定性を
調べた。その結果を(表−1)に示す。(表−1)
に示されるように本発明に使用されるハイドロタ
ルサイトと有機錫マレエート系化合物と有機錫メ
ルカプタイド系化合物とを併用することにより特
に初期着色が少なく熱安定化効果に優れ、更に加
工臭も少ないことがわかる。
【表】
【表】 実施例 2 塩素化ポリエチレン〔エラスレンTC−4、昭
和電工(株)製〕100部にステアリン酸カルシウム1
部とエポキシ化大豆油2部と(表−2)に示す安
定剤を添加配合し、配合物を150℃に加熱調整し
たテストロールにて5分間混練し、厚さ0.5mmの
シートを作製した。得られた各シートを40mm×40
mmの大きさに切断しその試験片をガラス板上にの
せて200℃に加熱調整したギヤー式老化試験機の
中に入れ15分毎に試験片を取り出して熱安定性を
調べた。その結果を(表−2)に示す。(表−2)
に示されるように本発明に使用されるハイドロタ
ルサイトと有機錫マレエート系化合物と有機錫メ
ルカプタイド系化合物とを併用することにより特
に初期着色が少なく熱安定化効果に優れ、更に加
工臭も少ないことがわかる。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 塩素化ポリエチレン100重量部に対して (1) 一般式 Mg1-XAlX(OH)2(CO3X/2・mH2O (式中、xは0<x≦0.5なる数を示し、mは
    0〜5の数を示す。) で示されるハイドロタルサイト0.1〜5重量部 並びに (2) 有機錫マレエート系化合物0.01〜4重量部及
    び (3) 有機錫メルカプタイド系化合物(但し、ジア
    ルキル錫マレエートポリマー及びジアルキル錫
    3−メルカプトプロピオネートポリマーとの併
    用を除く)0.01〜1重量部 とを、それぞれ60〜95:30〜4:10〜1の割合で
    併用添加することを特徴とする塩素化ポリエチレ
    ンの安定化法。
JP3978184A 1984-03-02 1984-03-02 塩素化ポリエチレンの安定化法 Granted JPS60184535A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57209943A (en) * 1981-06-18 1982-12-23 Adeka Argus Chem Co Ltd Stabilized halogen-containing resin composition
JPS60177053A (ja) * 1984-02-23 1985-09-11 Nitto Kasei Kk 安定化されたハロゲン含有樹脂組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57209943A (en) * 1981-06-18 1982-12-23 Adeka Argus Chem Co Ltd Stabilized halogen-containing resin composition
JPS60177053A (ja) * 1984-02-23 1985-09-11 Nitto Kasei Kk 安定化されたハロゲン含有樹脂組成物

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