JPH056931A - ウエハ吸着装置 - Google Patents
ウエハ吸着装置Info
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- JPH056931A JPH056931A JP3032614A JP3261491A JPH056931A JP H056931 A JPH056931 A JP H056931A JP 3032614 A JP3032614 A JP 3032614A JP 3261491 A JP3261491 A JP 3261491A JP H056931 A JPH056931 A JP H056931A
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- suction
- flexible pad
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- suction chuck
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ウエハを真空吸着して搬送する場合において、
ウエハが傾斜して収容または載置されている場合であっ
ても、確実に吸着して搬送するものである。 【構成】ウエハの吸着チャックを中空で蛇腹形状、伸縮
自在のフレキシブルパットに接続し、その中空内のエア
−の圧力を可変にして、前記吸着チャックの傾斜を自在
に変更できるようにする。 【効果】
ウエハが傾斜して収容または載置されている場合であっ
ても、確実に吸着して搬送するものである。 【構成】ウエハの吸着チャックを中空で蛇腹形状、伸縮
自在のフレキシブルパットに接続し、その中空内のエア
−の圧力を可変にして、前記吸着チャックの傾斜を自在
に変更できるようにする。 【効果】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、硬質で脆い板状体の吸
着技術に関するもので、例えば、半導体ウエハを搬送す
る必要のあるウエハ処理設備に適用して有効な技術に関
するものである。
着技術に関するもので、例えば、半導体ウエハを搬送す
る必要のあるウエハ処理設備に適用して有効な技術に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】主表面に半導体素子を複数形成した半導
体ウエハ（以下、単にウエハという）の表面を加工する
場合に、その表面に均一な厚さで、かつ薄い感光性のレ
ジストを塗布することが行なわれている（電子材料１９
８７年１１月号別冊超ＬＳＩ製造・試験装置ガイドブッ
クＰ．７３〜７７工業調査会発行）。
体ウエハ（以下、単にウエハという）の表面を加工する
場合に、その表面に均一な厚さで、かつ薄い感光性のレ
ジストを塗布することが行なわれている（電子材料１９
８７年１１月号別冊超ＬＳＩ製造・試験装置ガイドブッ
クＰ．７３〜７７工業調査会発行）。
【０００３】ところで、レジスト塗布装置等のウエハ表
面処理装置において、複数枚のウエハ１を収容するウエ
ハカ−トリッジ２からウエハを１枚ずつ取り出し搬送す
る手段として、第３図で示すようなウエハ吸着治具３に
より所定位置まで搬送することが行なわれている。
面処理装置において、複数枚のウエハ１を収容するウエ
ハカ−トリッジ２からウエハを１枚ずつ取り出し搬送す
る手段として、第３図で示すようなウエハ吸着治具３に
より所定位置まで搬送することが行なわれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなウエハ吸
着治具３にあっては次のような問題があった。
着治具３にあっては次のような問題があった。
【０００５】（１）ウエハを多数枚収容しているウエハ
カ−トリッジに歪みが生じているような場合には、ウエ
ハが水平に収容されておらず傾斜している場合が有り、
ウエハ１とウエハ吸着治具３のウエハ吸着チャック４と
の間に角度θの隙間５が生じて、図示しない減圧装置を
用いて真空引してもウエハ１を真空吸着孔６で吸着する
のに十分な負圧をかけることができず、吸着ミスがしば
しば発生することがあった。（２）吸着チャックがウエ
ハと平行精度が悪くても吸着できるように、その材質を
フッ素系樹脂、ステンレススチ−ル、アルミニウム等の
硬い材質から弾力性のあるゴム等の材質に変更すること
が考えられるが、ゴムは発塵の度合いが高くウエハを汚
染する可能性が極めて大であり、また耐熱性等の問題で
適用できないことが分かった。
カ−トリッジに歪みが生じているような場合には、ウエ
ハが水平に収容されておらず傾斜している場合が有り、
ウエハ１とウエハ吸着治具３のウエハ吸着チャック４と
の間に角度θの隙間５が生じて、図示しない減圧装置を
用いて真空引してもウエハ１を真空吸着孔６で吸着する
のに十分な負圧をかけることができず、吸着ミスがしば
しば発生することがあった。（２）吸着チャックがウエ
ハと平行精度が悪くても吸着できるように、その材質を
フッ素系樹脂、ステンレススチ−ル、アルミニウム等の
硬い材質から弾力性のあるゴム等の材質に変更すること
が考えられるが、ゴムは発塵の度合いが高くウエハを汚
染する可能性が極めて大であり、また耐熱性等の問題で
適用できないことが分かった。
【０００６】本発明の目的は、吸着チャックがウエハ等
の吸着物に対して平行精度が不良であっても、吸着ミス
が生じない技術を提供するものである。
の吸着物に対して平行精度が不良であっても、吸着ミス
が生じない技術を提供するものである。
【０００７】本発明の他の目的は、上記目的を達成しつ
つ吸着チャック自体を発塵等汚染の少ない硬質材で構成
できる技術を提供できるものである。
つ吸着チャック自体を発塵等汚染の少ない硬質材で構成
できる技術を提供できるものである。
【０００８】本発明の前記並びその他の目的と新規な特
徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
【００１０】すなわち、吸着チャックに蛇腹状のフレキ
シブルパットを取り付け、吸着チャック面の角度を自在
にするものである。
シブルパットを取り付け、吸着チャック面の角度を自在
にするものである。
【００１１】
【作用】上記した手段によれば、板状の吸着物が傾斜し
た状態であっても、フレキシブルパットが板状物の傾斜
に合わせて吸着チャック自体の角度を自由に調整するの
で、吸着ミスを防止することができ、かつ装置稼動率を
向上させることができる。
た状態であっても、フレキシブルパットが板状物の傾斜
に合わせて吸着チャック自体の角度を自由に調整するの
で、吸着ミスを防止することができ、かつ装置稼動率を
向上させることができる。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明の１実施例であるウエハ吸着
装置の概略図、図２Ａから図２Ｃは図１のウエハ吸着装
置の動作説明図である。以下図面に従い説明する。
装置の概略図、図２Ａから図２Ｃは図１のウエハ吸着装
置の動作説明図である。以下図面に従い説明する。
【００１３】図において、１０は円形の吸着チャックで
あり、発塵がなく耐熱性の高い、例えばフッ素系樹脂や
ステンレススチ−ル等の硬質材で形成されている。この
吸着チャック１０の中心位置には、吸着孔１１が吸着チ
ャック１０の表面から裏面にかけて貫通している。上記
吸着チャック１０の裏面には、吸着孔１１を囲うように
伸縮自在な蛇腹状のフレキシブルパット１３の一端側が
接続している。このフレキシブルパット１３の反対側端
は、常時水平状態を保持している基台１４に接続してい
る。１５は、基台１４の表面ａ上に取り付けられた高さ
Ｈのストッパ−リングであり、その上端ｂは基台１４の
表面に対し平行に設けられている。なお、フレキシブル
パット１３が縮み吸着チャック１０の裏面ｃがストッパ
−リング１５に対接した状態で、常にウエハＷが水平状
態となるように設定されている。
あり、発塵がなく耐熱性の高い、例えばフッ素系樹脂や
ステンレススチ−ル等の硬質材で形成されている。この
吸着チャック１０の中心位置には、吸着孔１１が吸着チ
ャック１０の表面から裏面にかけて貫通している。上記
吸着チャック１０の裏面には、吸着孔１１を囲うように
伸縮自在な蛇腹状のフレキシブルパット１３の一端側が
接続している。このフレキシブルパット１３の反対側端
は、常時水平状態を保持している基台１４に接続してい
る。１５は、基台１４の表面ａ上に取り付けられた高さ
Ｈのストッパ−リングであり、その上端ｂは基台１４の
表面に対し平行に設けられている。なお、フレキシブル
パット１３が縮み吸着チャック１０の裏面ｃがストッパ
−リング１５に対接した状態で、常にウエハＷが水平状
態となるように設定されている。
【００１４】１６は、図示しない移動機構に連結した移
動軸であり、基台１４に固設され、吸着チャック１０を
随意に移動させることが可能となっている。１７は、そ
の一端をフレキシブルパット１３内の圧力を自在に変換
できる加圧吸引ポンプ１８に接続している管であり、そ
の他端は、基台１４を介してフレキシブルパット１３に
連通している。
動軸であり、基台１４に固設され、吸着チャック１０を
随意に移動させることが可能となっている。１７は、そ
の一端をフレキシブルパット１３内の圧力を自在に変換
できる加圧吸引ポンプ１８に接続している管であり、そ
の他端は、基台１４を介してフレキシブルパット１３に
連通している。
【００１５】次に、本実施例の動作について説明する。
【００１６】まず、加圧吸引ポンプ１８から管１７を介
してエア−を注入して加圧し、フレキシブルパット１３
が伸長した状態にする。すなわち、吸着チャック１０の
裏面ｃがストッパ−リング１５から離間して、吸着チャ
ック１０はフリ−な状態、初期状態となっている。な
お、このとき吸着チャック１０は、ほぼ水平状態である
ようにフレキシブルパット１３内のエア−圧が調整され
ていることが好ましい。
してエア−を注入して加圧し、フレキシブルパット１３
が伸長した状態にする。すなわち、吸着チャック１０の
裏面ｃがストッパ−リング１５から離間して、吸着チャ
ック１０はフリ−な状態、初期状態となっている。な
お、このとき吸着チャック１０は、ほぼ水平状態である
ようにフレキシブルパット１３内のエア−圧が調整され
ていることが好ましい。
【００１７】次に、前述の状態のまま、図２Ａで示すよ
うにウエハを他数枚収容しているウエハカ−トリッジ１
９の下端まで移動させ、ウエハＷの真下で停止させる。
ここで、今、例えば搬送する目的物であるウエハＷ２
が、変形したウエハカ−トリッジ１９内に収容されてお
り、処理面Ｌ（一般には、水平に設定されている）に対
してθだけ傾斜していたと仮定する。吸着チャック１０
をフレキシブルパット１３にエア−を供給することによ
り若しくは移動軸１６を上昇させることにより、または
ウエハを収容しているウエハカ−トリッジを下降させる
ことにより、上記吸着チャック１０の表面の一端におい
てウエハＷ２と対接させる。この場合一般の吸着チャッ
クではその表面が水平状態に固定されているため、吸着
チャックとウエハの間に隙間がある場合は完全に吸着す
ることが困難であり、吸着ミスが生じる場合がある。し
かしながら、図２Ｂで示すように吸着チャック１０の表
面の角度がフレキシブルに、しかもウエハＷ２の傾斜に
合わせてフレキシブルパット１３が自在に伸縮して吸着
チャック１０の角度を調整しているので、ウエハＷ２を
確実に吸着チャック１０に吸着させることが可能とな
る。この状態のまま移動軸１６を水平方向に動かし、ウ
エハカ−トリッジ１９からウエハＷ２を取り出す。次
に、移動しながら若しくは移動前において加圧吸引ポン
プ１８を駆動させ管１７を介してエア−を吸引し、フレ
キシブルパット１３を縮め、吸着チャック１０の裏面が
ストッパ−リング１５の上端１５ｂに対接したところで
停止させる。この状態においては、ウエハＷ２は処理面
Ｌに対して平行となっている（図２Ｃ）ので、そのまま
ウエハＷ２を処理位置まで移動させる。そして、ウエハ
を位置決めした後、スパッタリング、ホトレジスト塗
布、露光など所望のウエハ表面の処理を行なう。
うにウエハを他数枚収容しているウエハカ−トリッジ１
９の下端まで移動させ、ウエハＷの真下で停止させる。
ここで、今、例えば搬送する目的物であるウエハＷ２
が、変形したウエハカ−トリッジ１９内に収容されてお
り、処理面Ｌ（一般には、水平に設定されている）に対
してθだけ傾斜していたと仮定する。吸着チャック１０
をフレキシブルパット１３にエア−を供給することによ
り若しくは移動軸１６を上昇させることにより、または
ウエハを収容しているウエハカ−トリッジを下降させる
ことにより、上記吸着チャック１０の表面の一端におい
てウエハＷ２と対接させる。この場合一般の吸着チャッ
クではその表面が水平状態に固定されているため、吸着
チャックとウエハの間に隙間がある場合は完全に吸着す
ることが困難であり、吸着ミスが生じる場合がある。し
かしながら、図２Ｂで示すように吸着チャック１０の表
面の角度がフレキシブルに、しかもウエハＷ２の傾斜に
合わせてフレキシブルパット１３が自在に伸縮して吸着
チャック１０の角度を調整しているので、ウエハＷ２を
確実に吸着チャック１０に吸着させることが可能とな
る。この状態のまま移動軸１６を水平方向に動かし、ウ
エハカ−トリッジ１９からウエハＷ２を取り出す。次
に、移動しながら若しくは移動前において加圧吸引ポン
プ１８を駆動させ管１７を介してエア−を吸引し、フレ
キシブルパット１３を縮め、吸着チャック１０の裏面が
ストッパ−リング１５の上端１５ｂに対接したところで
停止させる。この状態においては、ウエハＷ２は処理面
Ｌに対して平行となっている（図２Ｃ）ので、そのまま
ウエハＷ２を処理位置まで移動させる。そして、ウエハ
を位置決めした後、スパッタリング、ホトレジスト塗
布、露光など所望のウエハ表面の処理を行なう。
【００１８】次に、本実施例の作用効果について説明す
る。
る。
【００１９】（１）吸着チャック１０の表面の傾斜をウ
エハの傾斜にあわせて自在に変更できるので、ウエハカ
−ドリッジ内にウエハが傾斜して収容されている場合で
も、確実に吸着することが出来るという効果が得られ
る。
エハの傾斜にあわせて自在に変更できるので、ウエハカ
−ドリッジ内にウエハが傾斜して収容されている場合で
も、確実に吸着することが出来るという効果が得られ
る。
【００２０】（２）吸着チャック１０の表面の傾斜を空
気圧で伸縮するフレキシブルパットで調整することによ
り、吸着チャックにウエハが対接するときに加わる衝撃
をフレキシブルパットエア−圧を調節することで制御す
ることが出来るという効果が得られる。
気圧で伸縮するフレキシブルパットで調整することによ
り、吸着チャックにウエハが対接するときに加わる衝撃
をフレキシブルパットエア−圧を調節することで制御す
ることが出来るという効果が得られる。
【００２１】（３）基台１４にストッパ−リング１５を
設けることにより、ウエハの水平だしを容易に、しかも
確実に行なうことが出来るという効果が得られる。
設けることにより、ウエハの水平だしを容易に、しかも
確実に行なうことが出来るという効果が得られる。
【００２２】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、本
実施例では空気圧を利用しているが、窒素ガス等のその
他のガスを利用しても良い。また、液体であっても良
い。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、本
実施例では空気圧を利用しているが、窒素ガス等のその
他のガスを利用しても良い。また、液体であっても良
い。
【００２３】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【００２４】すなわち、吸着の際ウエハと吸着チャック
が平行でなくても、吸着チャックをウエハの傾斜に合わ
せることができるので、搬送ミスをなくし、装置稼動率
及び歩留りを向上させることができるものである。
が平行でなくても、吸着チャックをウエハの傾斜に合わ
せることができるので、搬送ミスをなくし、装置稼動率
及び歩留りを向上させることができるものである。
【図１】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の側面
一部断面図、
一部断面図、
【図２Ａ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図２Ｂ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図２Ｂ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図３】従来のウエハ処理装置の概略構成図である。
１０…吸着チャック、１１…吸着孔、１３…フレキシブ
ルパット、１４…基台、１５…ストッパ−リング、１６
…移動軸、１７…管、１８…加圧吸引ポンプ、１９…ウ
エハカ−トリッジ
ルパット、１４…基台、１５…ストッパ−リング、１６
…移動軸、１７…管、１８…加圧吸引ポンプ、１９…ウ
エハカ−トリッジ
【手続補正書】
【提出日】平成４年８月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の側面
一部断面図、
一部断面図、
【図２Ａ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図２Ｂ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図２Ｃ】本発明の一実施例であるウエハ吸着装置の動
作説明部、
作説明部、
【図３】従来のウエハ処理装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１０…吸着チャック、１１…吸着孔、１３…フレキシブ
ルパット、１４…基台、１５…ストッパ−リング、１６
…移動軸、１７…管、１８…加圧吸引ポンプ、１９…ウ
エハカ−トリッジ
ルパット、１４…基台、１５…ストッパ−リング、１６
…移動軸、１７…管、１８…加圧吸引ポンプ、１９…ウ
エハカ−トリッジ
Claims (4)
- 【請求項１】表面が平坦であり、ウエハを載値可能な吸
着チャックと、前記吸着チャックの表面から裏面にかけ
て貫通しているウエハを吸着するための吸着孔と、上記
吸着孔の裏面側と一端が連結し、かつ他端が基台に接続
している中空の伸縮自在なフレキシブルパットと、上記
フレキシブルパットに直接もしくは間接的に接続し、フ
レキシブルパット内を加圧及び減圧ができる圧力変換機
構を有するウエハ吸着装置。 - 【請求項２】表面が平坦でウエハを載置可能な吸着チャ
ックと、前記吸着チャックの表面から裏面にかけて貫通
しているウエハを吸着するための吸着孔と、上記吸着孔
の裏面側と一端が連結し、かつ他端が基台に接続してい
る中空の伸縮自在なフレキシブルパットと、上記フレキ
シブルパットに直接もしくは間接的に接続し、フレキシ
ブルパット内を加減圧が可能な圧力変換機構を有すると
ともに、吸着チャックの下降限界を規定するためのスト
ッパを基台に配設していることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のウエハ吸着装置。 - 【請求項３】基台が水平方向に移動可能であることを特
徴とする特許請求の範囲第２項記載のウエハ吸着装置。 - 【請求項４】上面が平坦に形成されたウエハを吸着する
吸着孔を有する伸縮自在なフレキシブルパットと、上記
フレキシブルパットの下端に接続している基台と、フレ
キシブルパットの周囲に設けた表面が平坦な突起体から
なるストッパと、フレキシブルパット内を加減圧が自在
な圧力変換機構を有するウエハ吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3032614A JPH056931A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | ウエハ吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3032614A JPH056931A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | ウエハ吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH056931A true JPH056931A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=12363733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3032614A Pending JPH056931A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | ウエハ吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH056931A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7486384B2 (en) | 2003-03-31 | 2009-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic support structure |
| EP2319815A1 (en) * | 2008-08-08 | 2011-05-11 | Asahi Glass Company, Limited | Board holding device, board holding method, and method of manufacturing laminated glass |
| WO2016145404A1 (en) * | 2015-03-12 | 2016-09-15 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and method for chucking warped wafers |
-
1991
- 1991-02-27 JP JP3032614A patent/JPH056931A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7486384B2 (en) | 2003-03-31 | 2009-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic support structure |
| EP2319815A1 (en) * | 2008-08-08 | 2011-05-11 | Asahi Glass Company, Limited | Board holding device, board holding method, and method of manufacturing laminated glass |
| EP2319815A4 (en) * | 2008-08-08 | 2011-08-24 | Asahi Glass Co Ltd | PLATE HOLDING DEVICE, PLATE HOLDING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING VERTICAL GLASS |
| WO2016145404A1 (en) * | 2015-03-12 | 2016-09-15 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and method for chucking warped wafers |
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