JPH0567194A - 光学式基板検査装置 - Google Patents
光学式基板検査装置Info
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- JPH0567194A JPH0567194A JP3254396A JP25439691A JPH0567194A JP H0567194 A JPH0567194 A JP H0567194A JP 3254396 A JP3254396 A JP 3254396A JP 25439691 A JP25439691 A JP 25439691A JP H0567194 A JPH0567194 A JP H0567194A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 異なる直径のスノーホールやバイアホールが
混在する場合にも、目的の穴のみを埋めた状態で光学検
査が行える基板検査装置を提供する。 【構成】 本発明の基板検査装置は、反射光用の照明と
この反射光を撮像する反射光カメラと、被検査基板の裏
面から光を当てる透過光照明と、透過光を撮像する透過
光カメラと、透過光カメラの出力を縮退、膨張させ特定
パターンの画像を抜き取る画像抜取手段と、反射光カメ
ラの撮像画像と画像抜取手段の出力画像を合成する画像
合成手段と、合成画像をパターン検査するパターン検査
手段を備える。これにより、合成画像は目的とする径の
穴のみが埋められた画像になる。
混在する場合にも、目的の穴のみを埋めた状態で光学検
査が行える基板検査装置を提供する。 【構成】 本発明の基板検査装置は、反射光用の照明と
この反射光を撮像する反射光カメラと、被検査基板の裏
面から光を当てる透過光照明と、透過光を撮像する透過
光カメラと、透過光カメラの出力を縮退、膨張させ特定
パターンの画像を抜き取る画像抜取手段と、反射光カメ
ラの撮像画像と画像抜取手段の出力画像を合成する画像
合成手段と、合成画像をパターン検査するパターン検査
手段を備える。これにより、合成画像は目的とする径の
穴のみが埋められた画像になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板等の基板
のパターン検査をイメージセンサで撮像した映像信号を
もとに行う光学式基板検査装置に関する。
のパターン検査をイメージセンサで撮像した映像信号を
もとに行う光学式基板検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学式基板検査装置には一般に反射光を
用いるものが用いられており、この照明装置の例として
は、特公昭６０−１７０４４号公報に記載のものが揚げ
られる。このような反射光方式の装置において、スルー
ホールや、バイアホール等の穴部分からの反射光が得ら
れない事によるランド切れ誤検出を防止するために、反
射方式の装置とさらに、被検査基板の背面から光を照射
し、スルーホールや、バイアホール等の穴部分について
は透過光と反射光の合成光を撮像する事により、スルー
ホールや、バイアホール等の穴を埋めた画像を検査対象
とし、ランド切れ誤検出を防止したものがある。
用いるものが用いられており、この照明装置の例として
は、特公昭６０−１７０４４号公報に記載のものが揚げ
られる。このような反射光方式の装置において、スルー
ホールや、バイアホール等の穴部分からの反射光が得ら
れない事によるランド切れ誤検出を防止するために、反
射方式の装置とさらに、被検査基板の背面から光を照射
し、スルーホールや、バイアホール等の穴部分について
は透過光と反射光の合成光を撮像する事により、スルー
ホールや、バイアホール等の穴を埋めた画像を検査対象
とし、ランド切れ誤検出を防止したものがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】反射光方式の場合には
基板パターンが細密化し、バイアホールが小径化する
と、バイアホールの内壁のみにメッキ処理を施した場合
には反射光がこの内壁部からは得られないためあたかも
そのランドが切れているかのように認識してしまう場合
があった。また、被検査基板の中には、小径のバイアホ
ールと比較的径の大きなスルーホールを両方持つものが
あるが、単に反射光方式に透過光方式を併用する複合型
の場合にはバイアホール、スルーホール共に穴が埋めら
れた状態で検査されるため、スルーホールについてはパ
ットの形状（穴部を含めて）を検査する必要がある場合
には対応できないという問題があった。
基板パターンが細密化し、バイアホールが小径化する
と、バイアホールの内壁のみにメッキ処理を施した場合
には反射光がこの内壁部からは得られないためあたかも
そのランドが切れているかのように認識してしまう場合
があった。また、被検査基板の中には、小径のバイアホ
ールと比較的径の大きなスルーホールを両方持つものが
あるが、単に反射光方式に透過光方式を併用する複合型
の場合にはバイアホール、スルーホール共に穴が埋めら
れた状態で検査されるため、スルーホールについてはパ
ットの形状（穴部を含めて）を検査する必要がある場合
には対応できないという問題があった。
【０００４】本発明は、異なる直径のスルーホールやバ
イアホールが混在する場合にも、目的の穴のみを埋めた
状態で光学検査が行える基板検査装置を提供する事を目
的とする。
イアホールが混在する場合にも、目的の穴のみを埋めた
状態で光学検査が行える基板検査装置を提供する事を目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の基板検査装置は、被検査基板の検査対象
面を照明する第１の照明装置と、被検査基板からの反射
光を撮像する第１の撮像手段を備え、撮像により得られ
た画像信号によって被検査基板の検査を行う光学式基板
検査装置において、被検査基板の非検査対象面を照明す
る第２の照明装置と、被検査基板を透過する透過光を撮
像する第２の撮像手段と、第２の撮像手段の出力から特
定パターンの画像を抜き取る画像抜取手段と、第１の撮
像手段の撮像画像と画像抜取手段の出力画像を合成する
画像合成手段と、合成画像をパターン検査するパターン
検査手段を備える。
めに、本発明の基板検査装置は、被検査基板の検査対象
面を照明する第１の照明装置と、被検査基板からの反射
光を撮像する第１の撮像手段を備え、撮像により得られ
た画像信号によって被検査基板の検査を行う光学式基板
検査装置において、被検査基板の非検査対象面を照明す
る第２の照明装置と、被検査基板を透過する透過光を撮
像する第２の撮像手段と、第２の撮像手段の出力から特
定パターンの画像を抜き取る画像抜取手段と、第１の撮
像手段の撮像画像と画像抜取手段の出力画像を合成する
画像合成手段と、合成画像をパターン検査するパターン
検査手段を備える。
【０００６】
【作用】被検査基板の配線パターンが形成された検査対
象面が第１の照明手段によって照明され、この照明光が
検査対象面によって反射され、その反射光が第１の撮像
手段に因って撮像される。一方、被検査基板の非検査対
象面（通常、検査対象面の裏面）が第２の照明手段によ
って照明される。第２の照明手段からの光は、バイアホ
ールやスルーホールの穴を通過し、基板表面に現れる。
この透過光は第２の撮像手段によって撮像される。透過
光の撮像画像からは目的とする画像パターンのみが画像
抜取手段によって抜き取られ、抜き取られた画像信号が
第１の撮像信号と合成され、出力される。出力画像信号
は後段のパターン検査手段によって検査される。合成画
像は、目的とする径の穴のみが埋められた画像となるの
で正しいパターン検査が行える。
象面が第１の照明手段によって照明され、この照明光が
検査対象面によって反射され、その反射光が第１の撮像
手段に因って撮像される。一方、被検査基板の非検査対
象面（通常、検査対象面の裏面）が第２の照明手段によ
って照明される。第２の照明手段からの光は、バイアホ
ールやスルーホールの穴を通過し、基板表面に現れる。
この透過光は第２の撮像手段によって撮像される。透過
光の撮像画像からは目的とする画像パターンのみが画像
抜取手段によって抜き取られ、抜き取られた画像信号が
第１の撮像信号と合成され、出力される。出力画像信号
は後段のパターン検査手段によって検査される。合成画
像は、目的とする径の穴のみが埋められた画像となるの
で正しいパターン検査が行える。
【０００７】
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。図
１は本実施例の信号処理系のブロック図であり、図２か
ら図５は本発明の基板検査装置の実施例の構造を説明す
る図である。図２は被検査基板８を装着する前の斜視図
であり、図３は被検査基板８を装着した状態の斜視図で
ある。この実施例ではプリント基板を被検査基板として
いる。図４は図３の状態の側面図である。図５は導光板
集合体３２の構造を示す斜視図である。
１は本実施例の信号処理系のブロック図であり、図２か
ら図５は本発明の基板検査装置の実施例の構造を説明す
る図である。図２は被検査基板８を装着する前の斜視図
であり、図３は被検査基板８を装着した状態の斜視図で
ある。この実施例ではプリント基板を被検査基板として
いる。図４は図３の状態の側面図である。図５は導光板
集合体３２の構造を示す斜視図である。
【０００８】図２から図４に示す基板検査装置は基台１
と、基台１上をＹ軸方向に移動可能に固定された移動テ
ーブル７１を含むＹ方向駆動機構７と、反射光を撮像す
る反射光撮像装置５と透過光を撮像する透過光撮像装置
６をＸ方向に移動させるＸ方向駆動機構２を備える。Ｙ
方向駆動機構７は移動テーブル７１とリニア軸受け７２
とラック機構７３、ピノオンギア７４とモータ７５を備
える。基台１にはリニア軸受け７２が設けられ、移動テ
ーブル７１の底面に設けられたラック機構７３がこのリ
ニア軸受け７２にはめこまれ、モータ７５の駆動力をピ
ニオンギア７４に伝える事により、ピニオンギア７４の
回転にともなってピニオンギア７４に噛み合っているラ
ック機構７３がＹ軸方向に移動し、移動テーブル７１が
Ｙ軸方向に移動する。
と、基台１上をＹ軸方向に移動可能に固定された移動テ
ーブル７１を含むＹ方向駆動機構７と、反射光を撮像す
る反射光撮像装置５と透過光を撮像する透過光撮像装置
６をＸ方向に移動させるＸ方向駆動機構２を備える。Ｙ
方向駆動機構７は移動テーブル７１とリニア軸受け７２
とラック機構７３、ピノオンギア７４とモータ７５を備
える。基台１にはリニア軸受け７２が設けられ、移動テ
ーブル７１の底面に設けられたラック機構７３がこのリ
ニア軸受け７２にはめこまれ、モータ７５の駆動力をピ
ニオンギア７４に伝える事により、ピニオンギア７４の
回転にともなってピニオンギア７４に噛み合っているラ
ック機構７３がＹ軸方向に移動し、移動テーブル７１が
Ｙ軸方向に移動する。
【０００９】Ｘ方向駆動機構２は、１次元ＣＣＤリニア
センサ５ａの長さが必ずしも被検査基板８のＸ軸方向の
長さをカバーしていない場合もあるので、Ｘ軸方向に１
次元ＣＣＤリニアセンサ５ａを移動させ、複数回の撮像
によってＸ軸方向の全幅に渡る撮像を可能にするための
ものである。
センサ５ａの長さが必ずしも被検査基板８のＸ軸方向の
長さをカバーしていない場合もあるので、Ｘ軸方向に１
次元ＣＣＤリニアセンサ５ａを移動させ、複数回の撮像
によってＸ軸方向の全幅に渡る撮像を可能にするための
ものである。
【００１０】移動テーブル７１上には配置された導光板
集合体３２が搭載されている。被検査基板８はこの導光
板集合体３２上に被検査面を上にして不図示の手段によ
って固定される。反射光撮像装置５と透過光撮像装置６
は簡単のために図２，図３では一部省略してあるが、図
４に詳細に示すようにＹ方向に距離Ｌだけ隔てて配置さ
れている。反射光照明装置４は導光板集合体３２上に載
せられた被検査基板８を被検査面方向から照明し、被検
査基板８で反射された光が反射光撮像装置５に入射す
る。反射光撮像装置５は１次元ＣＣＤリニアセンサ５ａ
と集合レンズ５ｂを備えている。図２，図３では凸レン
ズを使用したが、場合によっては１次元ＣＣＤリニアセ
ンサ５ａの長手方向に延びたシリンドリカルレンズを用
いても良い。透過光撮像装置６も基本的には同様の構成
を有する。一方、透過光光源３１と導光板集合体３２で
透過光照明装置３が構成されている。
集合体３２が搭載されている。被検査基板８はこの導光
板集合体３２上に被検査面を上にして不図示の手段によ
って固定される。反射光撮像装置５と透過光撮像装置６
は簡単のために図２，図３では一部省略してあるが、図
４に詳細に示すようにＹ方向に距離Ｌだけ隔てて配置さ
れている。反射光照明装置４は導光板集合体３２上に載
せられた被検査基板８を被検査面方向から照明し、被検
査基板８で反射された光が反射光撮像装置５に入射す
る。反射光撮像装置５は１次元ＣＣＤリニアセンサ５ａ
と集合レンズ５ｂを備えている。図２，図３では凸レン
ズを使用したが、場合によっては１次元ＣＣＤリニアセ
ンサ５ａの長手方向に延びたシリンドリカルレンズを用
いても良い。透過光撮像装置６も基本的には同様の構成
を有する。一方、透過光光源３１と導光板集合体３２で
透過光照明装置３が構成されている。
【００１１】Ｙ方向駆動機構７によって移動テーブル７
１がＹ軸方向に移動させられ、これにともない移動テー
ブル７１上の導光板集合体上に固定された被検査基板８
がＹ軸方向に移動し、反射光撮像装置５によって１ライ
ンづつ被検査基板表面からの反射光が撮像される。この
時移動テーブル７１の移動にともない、反射光撮像装置
５の直下の導光板は導光板３２ａから導光板３２ｂ、導
光板３２ｃ、導光板３２ｄと順次移動して行く、透過光
光源３１は基台１に固定されており、検査時には常時発
光しており、移動テーブル７１の移動にともなって透過
光光源３１の光が導入される導光板も導光板３２ａから
導光板３２ｂ、導光板３２ｃ、導光板３２ｄと順次移動
して行く。透過光光源３１の光は、透過光撮像装置６に
よって撮像されている領域の直下の導光板と次の撮像さ
れる領域の下の導光板に限られる（移動にともない隣接
する２つの導光板の境界が透過光撮像装置６の直下にく
る場合にちょうど２つの導光板に供給される光量が等し
くなる）。
１がＹ軸方向に移動させられ、これにともない移動テー
ブル７１上の導光板集合体上に固定された被検査基板８
がＹ軸方向に移動し、反射光撮像装置５によって１ライ
ンづつ被検査基板表面からの反射光が撮像される。この
時移動テーブル７１の移動にともない、反射光撮像装置
５の直下の導光板は導光板３２ａから導光板３２ｂ、導
光板３２ｃ、導光板３２ｄと順次移動して行く、透過光
光源３１は基台１に固定されており、検査時には常時発
光しており、移動テーブル７１の移動にともなって透過
光光源３１の光が導入される導光板も導光板３２ａから
導光板３２ｂ、導光板３２ｃ、導光板３２ｄと順次移動
して行く。透過光光源３１の光は、透過光撮像装置６に
よって撮像されている領域の直下の導光板と次の撮像さ
れる領域の下の導光板に限られる（移動にともない隣接
する２つの導光板の境界が透過光撮像装置６の直下にく
る場合にちょうど２つの導光板に供給される光量が等し
くなる）。
【００１２】プリント基板を検査する場合において、
（１）被検査基板のパターンがスルーホールやバイアホ
ールを含まない基板である場合には反射光照明装置４の
みを動作させ、透過光光源３１は不動作とし、基板表面
からの反射光のみを反射光撮像装置で撮像し、検査を行
い、（２）被検査基板のパターンがスルーホールやバイ
アホールを含む基板である場合には反射光照明装置４
と、透過光光源３１の両照明を動作させ、基板表面から
の反射光と、透過光の両方を撮像し検査を行う。また、
マスクパターンのように透明な基板を検査する場合には
透過光光源３１のみを動作させ、透過光のみ撮像し検査
を行う場合もある。
（１）被検査基板のパターンがスルーホールやバイアホ
ールを含まない基板である場合には反射光照明装置４の
みを動作させ、透過光光源３１は不動作とし、基板表面
からの反射光のみを反射光撮像装置で撮像し、検査を行
い、（２）被検査基板のパターンがスルーホールやバイ
アホールを含む基板である場合には反射光照明装置４
と、透過光光源３１の両照明を動作させ、基板表面から
の反射光と、透過光の両方を撮像し検査を行う。また、
マスクパターンのように透明な基板を検査する場合には
透過光光源３１のみを動作させ、透過光のみ撮像し検査
を行う場合もある。
【００１３】導光板集合体３２は図４に示すように短冊
状の導光板を複数接合したもので、各導光板の側面４
０，４１には反射処理が施されている。具体的には、金
属蒸着等により鏡面処理を施す。端面４２，４３は透過
光光源３１からの光を内部に取り込むために透明になっ
ている。底面４４にも反射処理が施されている。ただ
し、端面４２，４３からの距離にかかわらず均一な光量
の光が上面４５に放射されるように表面加工されてい
る。導光板集合体３２上には図２に示すように拡散板１
５が載せられている。これは、導光板同士の接合面を撮
像装置が撮像する場合の接合面の影響による光量の低下
を防止するためである。
状の導光板を複数接合したもので、各導光板の側面４
０，４１には反射処理が施されている。具体的には、金
属蒸着等により鏡面処理を施す。端面４２，４３は透過
光光源３１からの光を内部に取り込むために透明になっ
ている。底面４４にも反射処理が施されている。ただ
し、端面４２，４３からの距離にかかわらず均一な光量
の光が上面４５に放射されるように表面加工されてい
る。導光板集合体３２上には図２に示すように拡散板１
５が載せられている。これは、導光板同士の接合面を撮
像装置が撮像する場合の接合面の影響による光量の低下
を防止するためである。
【００１４】反射光照明装置４、透過光光源３１として
は、ハロゲンランプが用いられる。したがって従来例に
記載されたようなＬＥＤ面発光体に比べ大きな光量の光
を供給する事が安価にできる。
は、ハロゲンランプが用いられる。したがって従来例に
記載されたようなＬＥＤ面発光体に比べ大きな光量の光
を供給する事が安価にできる。
【００１５】次に信号処理について説明する。図６に図
１の回路での各部の画像を示す。図１に示すように、反
射光撮像装置５で撮像された撮像信号（図６（ａ））は
ディレイ回路５１に供給される。ディレイ回路５１は図
４に示す反射光撮像装置５と透過光撮像装置６の距離Ｌ
に相当する遅延時間Ｔだけ信号を遅延させる。一方透過
光撮像装置６の撮像信号（図６（ｂ））は画像抜取回路
５２に供給される。画像抜取回路５２では目的とする直
径の穴の画像のみが取り出される（図６（ｃ））。尚、
ここでは、バイアホールの穴だけを抽出し、スルーホー
ルのような大きな穴はそのまま検査対象とする事とし
た。ディレイ回路５１の出力と画像抜取回路５２の出力
が合成回路５３で合成されバイアホールの穴だけが埋め
られた画像が得られ（図６（ｄ））パターン検査装置５
４で、パターン検査が行われる。
１の回路での各部の画像を示す。図１に示すように、反
射光撮像装置５で撮像された撮像信号（図６（ａ））は
ディレイ回路５１に供給される。ディレイ回路５１は図
４に示す反射光撮像装置５と透過光撮像装置６の距離Ｌ
に相当する遅延時間Ｔだけ信号を遅延させる。一方透過
光撮像装置６の撮像信号（図６（ｂ））は画像抜取回路
５２に供給される。画像抜取回路５２では目的とする直
径の穴の画像のみが取り出される（図６（ｃ））。尚、
ここでは、バイアホールの穴だけを抽出し、スルーホー
ルのような大きな穴はそのまま検査対象とする事とし
た。ディレイ回路５１の出力と画像抜取回路５２の出力
が合成回路５３で合成されバイアホールの穴だけが埋め
られた画像が得られ（図６（ｄ））パターン検査装置５
４で、パターン検査が行われる。
【００１６】次に画像抜取回路５２の原理について図７
を用いて説明する。図７（ａ）に示す小径ＤA の円形パ
ターンと大径ＤB の円形パターンの２つのパターンの原
画像からの小径ＤA の円形パターンのみを抜き取る場合
を例に説明する。原画像を縮退率ｒ＝（ＤA ／２）＋α
回縮退させると図７（ｂ）に示すように小径ＤA の円形
パターンが消える。この画像を逆に膨張率１／ｒ＝（Ｄ
A ／２）＋α回膨張させると大径ＤB の円形パターンは
元の大きさに復元され、小径ＤA の円形パターンは消え
たままとなる（図７（ｃ））。これを白黒反転させると
図７（ｄ）の画像が得られる。原画像と反転画像を加算
すれば、図７（ｅ）に示すように小径ＤA の円形パター
ンのみの画像が得られる。このとき図７に示すように原
画像と反転パターン画像の時間軸方向のずれを防止する
ために、原画像信号は縮退、膨張、反転の処理時間だけ
遅延される。
を用いて説明する。図７（ａ）に示す小径ＤA の円形パ
ターンと大径ＤB の円形パターンの２つのパターンの原
画像からの小径ＤA の円形パターンのみを抜き取る場合
を例に説明する。原画像を縮退率ｒ＝（ＤA ／２）＋α
回縮退させると図７（ｂ）に示すように小径ＤA の円形
パターンが消える。この画像を逆に膨張率１／ｒ＝（Ｄ
A ／２）＋α回膨張させると大径ＤB の円形パターンは
元の大きさに復元され、小径ＤA の円形パターンは消え
たままとなる（図７（ｃ））。これを白黒反転させると
図７（ｄ）の画像が得られる。原画像と反転画像を加算
すれば、図７（ｅ）に示すように小径ＤA の円形パター
ンのみの画像が得られる。このとき図７に示すように原
画像と反転パターン画像の時間軸方向のずれを防止する
ために、原画像信号は縮退、膨張、反転の処理時間だけ
遅延される。
【００１７】以上により、異なる直径のスルーホールや
バイアホールが混在する場合にも、目的の穴のみを埋め
た状態で光学検査が行える。
バイアホールが混在する場合にも、目的の穴のみを埋め
た状態で光学検査が行える。
【００１８】以上の説明では反射光撮像装置５として１
次元ＣＣＤリニアセンサを用いたが、２次元のセンサを
用いた場合にも被検査基板の大きさに比べ撮像領域が小
さく、複数回の撮像を行う必要がある場合には本発明と
同様に一回の撮像領域に関係する導光板だけに光を供給
する構成にすれば良い。
次元ＣＣＤリニアセンサを用いたが、２次元のセンサを
用いた場合にも被検査基板の大きさに比べ撮像領域が小
さく、複数回の撮像を行う必要がある場合には本発明と
同様に一回の撮像領域に関係する導光板だけに光を供給
する構成にすれば良い。
【００１９】また、長尺の１次元ＣＣＤリニアセンサを
用いる事ができれば、Ｘ方向駆動機構は省略する事がで
きる。Ｙ方向駆動機構についても本実施例に限らずいろ
いろな機構が利用できる事は言うまでもない。
用いる事ができれば、Ｘ方向駆動機構は省略する事がで
きる。Ｙ方向駆動機構についても本実施例に限らずいろ
いろな機構が利用できる事は言うまでもない。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
異なる直径のスルーホールやバイアホールが混在する場
合にも、目的の穴のみを埋めた状態で光学検査が行え
る。
異なる直径のスルーホールやバイアホールが混在する場
合にも、目的の穴のみを埋めた状態で光学検査が行え
る。
【図１】本実施例の信号処理系のブロック図である。
【図２】本発明の実施例の基板検査装置の被検査基板を
装着する前の状態を示す斜視図である。
装着する前の状態を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施例の基板検査装置の被検査基板を
装着した状態を示す斜視図である。
装着した状態を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施例の基板検査装置の側面図であ
る。
る。
【図５】導光板集合体の組み立て構造を示す説明図であ
る。
る。
【図６】本発明の実施例の基板検査装置の信号処理を説
明する説明図である。
明する説明図である。
【図７】画像抜取回路の動作を説明する説明図である。
１ 基台 ２ Ｘ方向駆動機構 ３ 透過光照明装置 ４ 反射光照明装置 ５ 反射光撮像装置 ６ 透過光撮像装置 ７ Ｙ方向駆動機構 ８ 被検査基板 ３２ 導光板集合体 ５２ 画像抜取回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｑ 6921−4Ｅ (72)発明者 井関 日出夫 東京都千代田区大手町２丁目６番３号 新 日本製鐵株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 被検査基板の検査対象面を照明する第１
の照明装置と、前記被検査基板からの反射光を撮像する
第１の撮像手段を備え、撮像により得られた画像信号に
よって被検査基板の検査を行う光学式基板検査装置にお
いて、 前記被検査基板の非検査対象面を照明する第２の照明装
置と、前記被検査基板を透過する透過光を撮像する第２
の撮像手段と、前記第２の撮像手段の出力から特定パタ
ーンの画像を抜き取る画像抜取手段と、前記第１の撮像
手段の撮像画像と前記画像抜取手段の出力画像を合成す
る画像合成手段と、合成画像をパターン検査するパター
ン検査手段を備えた事を特徴とする光学式基板検査装
置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記第１の撮像手段
の出力と前記画像抜取手段の出力の時間ずれを補正する
信号遅延手段を前記第１の撮像手段と前記画像合成手段
の間と前記画像抜取手段と前記画像合成手段の間の少な
くとも一方の間に設けた事を特徴とする光学式基板検査
装置。 - 【請求項３】 請求項２において、前記画像抜取手段
は、抜取対象パターンの大きさに対応する縮退率ｒの縮
退処理を行う縮退処理手段と、縮退された画像を１／ｒ
の膨張率で膨張させる膨張処理を行う膨張処理手段を備
えた事を特徴とする光学式基板検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3254396A JPH0567194A (ja) | 1991-09-06 | 1991-09-06 | 光学式基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3254396A JPH0567194A (ja) | 1991-09-06 | 1991-09-06 | 光学式基板検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0567194A true JPH0567194A (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=17264397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3254396A Withdrawn JPH0567194A (ja) | 1991-09-06 | 1991-09-06 | 光学式基板検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0567194A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6323578B1 (en) | 1999-01-05 | 2001-11-27 | Seiko Instruments Inc. | Piezoelectric actuator, piezoelectric actuator driving method and computer readable storage medium stored with program for making computer execute piezoelectric actuator driving method |
| JP2002163638A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-07 | Ibiden Co Ltd | 画像データ検査装置および画像データ検査方法 |
-
1991
- 1991-09-06 JP JP3254396A patent/JPH0567194A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6323578B1 (en) | 1999-01-05 | 2001-11-27 | Seiko Instruments Inc. | Piezoelectric actuator, piezoelectric actuator driving method and computer readable storage medium stored with program for making computer execute piezoelectric actuator driving method |
| JP2002163638A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-07 | Ibiden Co Ltd | 画像データ検査装置および画像データ検査方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |