JPH0564961B2 - - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- -1 magnesium halide Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 13
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 20
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N Ethyl p-anisate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- NWPWRAWAUYIELB-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methylbenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 NWPWRAWAUYIELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSSJZLPUHJDYKF-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 QSSJZLPUHJDYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQWPRMPSCMSAJU-UHFFFAOYSA-N methyl cyclohexanecarboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCCCC1 ZQWPRMPSCMSAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N methyl p-anisate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylsilane Chemical compound [SiH3]CC=C DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylalumane Chemical compound CC(C)C[AlH2] LQIIEHBULBHJKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYRQOXOIZXLSAL-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl hydrogen sulfite Chemical compound CC(C)CCOS(O)=O YYRQOXOIZXLSAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZALOHOLPKHYYAX-UHFFFAOYSA-L CO[Ti](Cl)(Cl)OC Chemical compound CO[Ti](Cl)(Cl)OC ZALOHOLPKHYYAX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N N-[4-cyano-3-(trifluoromethyl)phenyl]-3-[(4-fluorophenyl)sulfonyl]-2-hydroxy-2-methylpropanamide Chemical compound C=1C=C(C#N)C(C(F)(F)F)=CC=1NC(=O)C(O)(C)CS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LKJPYSCBVHEWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N Selenium-L-methionine Chemical compound C[Se]CC[C@H](N)C(O)=O RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N benzocaine Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005274 benzocaine Drugs 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- AIPRAPZUGUTQKX-UHFFFAOYSA-N diethoxyphosphorylmethylbenzene Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CC1=CC=CC=C1 AIPRAPZUGUTQKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJSGABFIILQOEY-UHFFFAOYSA-M diethylalumanylium;bromide Chemical compound CC[Al](Br)CC JJSGABFIILQOEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRXSKIOIHQEGAI-UHFFFAOYSA-M diethylalumanylium;fluoride Chemical compound CC[Al](F)CC HRXSKIOIHQEGAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PPQUYYAZSOKTQD-UHFFFAOYSA-M diethylalumanylium;iodide Chemical compound CC[Al](I)CC PPQUYYAZSOKTQD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMTCVMQBBYEAPC-UHFFFAOYSA-K ethanolate;titanium(4+);trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].CCO[Ti+3] RMTCVMQBBYEAPC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- ZTOMUSMDRMJOTH-UHFFFAOYSA-N glutaronitrile Chemical compound N#CCCCC#N ZTOMUSMDRMJOTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- OKENUZUGNVCOMC-UHFFFAOYSA-K methanolate titanium(4+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].CO[Ti+3] OKENUZUGNVCOMC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroacetate Chemical compound COC(=O)CCl QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNHXTCZZACTEMK-UHFFFAOYSA-N methyl 4-ethoxybenzoate Chemical compound CCOC1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 RNHXTCZZACTEMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N methylparaben Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WOHDXQQIBRMRFA-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-methylbenzoate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 WOHDXQQIBRMRFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- JEJKPKFDMNNGDH-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylsulfanylmethylbenzene Chemical compound C=CCSCC1=CC=CC=C1 JEJKPKFDMNNGDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、
一般式
(ただし、mは0または1乃至20の正の整数、n
は1、2または3、R1は水素、アルキル基、ア
リール基またはハロゲン、R2はアルキレン基ま
たはフエニレン基であつて、R1およびR2は
COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでい
て良い。)で表されるケイ素を含むα−オレフイ
ンを重合させ含ケイ素ポリマーを製造する方法に
関する。 従来の技術 Siを含むポリマーの産業上の利用は、現在、シ
リコーン(オルガノポリシロキサン)が大半であ
る。これに用いる原料は、金属ケイ素とハロゲン
化炭化水素との反応、いわゆる直接法によつて製
造されるアルキクロロシラン類、特にはジメチル
ジクロロシランである。シリコーンを除くと含ケ
イ素ポリマーの実用例は少なく、例えば、 が知られている。()は、下式に示すように、
キシレン等の溶媒中にて製造される。 ()も同様である。()は不溶不融である
が、()は溶媒に可溶かつ熱可塑性である。
()は()を高温高圧下で熱分解することに
よつて得られ、溶媒に可溶で熱可塑性である。
()、()及び()はセラミツクスバインダ
ー用として用いられ、また()および()は
セラミツクス(SiC)の前駆体、特にセラミツク
ス(SiC)繊維用として使用されている(日本カ
ーボン社、商品名“ニカロン”)。()はビニル
シランの重合体であり、エチレンとの共重合体は
水架橋性ポリエチレンとして電線被覆用に大量に
使用されている。 本発明にかかわる の重合体は、殆どその例がなく、わずかにTiCl4
もしくはTiCl3とアルキルアルミニウムとを触媒
に用いたアリルシラン(CH2=CH−CH2−
SiH3)の重合例が見られるに過ぎない(ジヤー
ナル・オブ・ポリマー・サイエンス(Journal of
Polymer Science)、Vol 31、No.122181(1958)、
イタリア特許606018)。しかるにこれらの触媒系
では、一般にシリル基類(−SinH2o+1)の影響
でモノマーの重合性が悪くポリマー収率が低い。
またシリル基類(−SinH2o+1)と触媒との相互
作用のため重合または後処理の過程で分子鎖間の
架橋が起こり易いなどの問題がある。 一方、本発明者らは、本発明にかかわるケイ素
化合物の上述の触媒系による重合体が高温焼成し
た場合にセラミツクス(SiC)への変換収率が高
く、セラミツクス用プレポリマーとして非常に有
望であることを既に提唱している(例えば、特願
昭62−015929、(特開平1−239010)、同62−
031514(特開平1−239011))。この他、該ポリマ
ー中のシリル基類は反応性にすぐれ、C=C、C
=O、N−h、O−H、
は1、2または3、R1は水素、アルキル基、ア
リール基またはハロゲン、R2はアルキレン基ま
たはフエニレン基であつて、R1およびR2は
COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでい
て良い。)で表されるケイ素を含むα−オレフイ
ンを重合させ含ケイ素ポリマーを製造する方法に
関する。 従来の技術 Siを含むポリマーの産業上の利用は、現在、シ
リコーン(オルガノポリシロキサン)が大半であ
る。これに用いる原料は、金属ケイ素とハロゲン
化炭化水素との反応、いわゆる直接法によつて製
造されるアルキクロロシラン類、特にはジメチル
ジクロロシランである。シリコーンを除くと含ケ
イ素ポリマーの実用例は少なく、例えば、 が知られている。()は、下式に示すように、
キシレン等の溶媒中にて製造される。 ()も同様である。()は不溶不融である
が、()は溶媒に可溶かつ熱可塑性である。
()は()を高温高圧下で熱分解することに
よつて得られ、溶媒に可溶で熱可塑性である。
()、()及び()はセラミツクスバインダ
ー用として用いられ、また()および()は
セラミツクス(SiC)の前駆体、特にセラミツク
ス(SiC)繊維用として使用されている(日本カ
ーボン社、商品名“ニカロン”)。()はビニル
シランの重合体であり、エチレンとの共重合体は
水架橋性ポリエチレンとして電線被覆用に大量に
使用されている。 本発明にかかわる の重合体は、殆どその例がなく、わずかにTiCl4
もしくはTiCl3とアルキルアルミニウムとを触媒
に用いたアリルシラン(CH2=CH−CH2−
SiH3)の重合例が見られるに過ぎない(ジヤー
ナル・オブ・ポリマー・サイエンス(Journal of
Polymer Science)、Vol 31、No.122181(1958)、
イタリア特許606018)。しかるにこれらの触媒系
では、一般にシリル基類(−SinH2o+1)の影響
でモノマーの重合性が悪くポリマー収率が低い。
またシリル基類(−SinH2o+1)と触媒との相互
作用のため重合または後処理の過程で分子鎖間の
架橋が起こり易いなどの問題がある。 一方、本発明者らは、本発明にかかわるケイ素
化合物の上述の触媒系による重合体が高温焼成し
た場合にセラミツクス(SiC)への変換収率が高
く、セラミツクス用プレポリマーとして非常に有
望であることを既に提唱している(例えば、特願
昭62−015929、(特開平1−239010)、同62−
031514(特開平1−239011))。この他、該ポリマ
ー中のシリル基類は反応性にすぐれ、C=C、C
=O、N−h、O−H、
【式】O−O
などの種々の結合と反応し得るため、コーテイン
グ剤、相溶化剤、架橋剤等機能性ポリマーへの応
用範囲は広い。 発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、上述のような有用性の高い含
ケイ素ポリマーの新規な製造方法を提供すること
にある。 課題を解決するための手段および作用 本発明者らは上述のような有用性の高い含ケイ
素ポリマーの製造方法の開発に鋭意努力し、特定
の触媒の存在下に反応を行うことによつて本発明
の目的が達成されることを見出し、本発明を完成
させるに至つた すなわち本発明は、 ハロゲン化マグネシウムを含む組成物にチタン
化合物を担持させたもの(A)、および一般式
RnAlX3-o(ただしRは炭素数1〜12のアルキル
基、Xはハロゲン原子、nは1、2または3を示
す)で表される有機アルミニウム化合物(B)から成
る触媒の存在下に、 一般式 (ただし、mは0または1乃至20の正の整数、n
は1、2または3、R1は水素、アルキル基、ア
リール基またはハロゲン、R2はアルキレン基ま
たはフエニレン基であつて、R1およびR2は
COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでい
ても良い。)で表されるケイ素を含むα−オレフ
インを重合させることを特徴とする含ケイ素ポリ
マーの製造方法であり、更には、 電子供与性化合物の共存下に行う前記含ケイ素
ポリマーの製造方法である。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明において重合用いられるケイ素化合物
は、一般式 で表されるものであつて、mは0または1乃至20
の正の整数、nは1、2または3である。R1は
水素、アルキル基、アリール基またはハロゲンで
あつて、例えば、H、CH3、C2H5、i−C3H7、
Ф(Фはフエニル基を示す。以下同じ。)、Ф
CH3、C2HФ、F、Cl、Brなどがあげられ、炭
素数の少ないもの程好ましく、水素が最も好まし
い。R2はアルキレン基またはフエニレン基であ
つて、例えば、CH2、Ф(Фはフエニレン基を示
す。以下同じ。)、CH2Фなどである。なお、上記
R1およびR2はCOOK、NH2、Cl、OHなどの官
能基を含んでいても良い。 本発明にかかるこれらシリル基類を含有するモ
ノマー、すなわち、ケイ素化合物は、種々の方法
で製造することができ、本発明において特に制限
するものではないが、例えば、下式に示すような
方法を採用できる。 HSiCl3+ClH2C−(CH2)o−CH=CH2−HCl ――――→ 600℃ ClH3Si(CH2)o+1−CH=CH2LiAlH4 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 HSiCl3+H3C(CH2)oCH=CH2BCl3、300℃ ――――――――→ −H2 ClH3Si(CH2)o+1CH=CH2LiAlH4 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 siH4+CH2=CH(CH2)oCH=CH2Pt、200℃ ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+2CH=CH2 SiH4+CH≡CHPt、200℃ ―――――――→ siH4+ClH2C−(CH2)o−CH=CH2−HCl ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 siH4+H3C(CH2)oCH=CH2−H2 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 これらのうち、、、はSiH4を原料に
用いて、特に、は族金属を溶媒に用いるヒ
ドロシリル化反応であり、容易に目的とする
SiH3を基を含有するα−オレフインを得ること
ができる。蓋し、SiH4は近年、ボリコシリコン
やアモルフアスシリコン用としての需要が拡大
し、安価にかつ大量に製造されるようになつたも
ので、今後いつそうこの傾向が進むと予想される
新しいケイ素原料である(Si2H6やSi3H8の場合
も同様のことが言える)。 これらのケイ素化合物は、2種以上同時に用い
ることもできる。また、本発明者らが別に提案す
るように、本発明において使用するケイ素化合物
は、ラジカル重合することも可能である。 次に本発明における重合方法について説明す
る。 本発明の方法において、触媒にハロゲン化マグ
ネシウムを含む組成物にチタン化合物を担持させ
たもの(触媒(A)成分)を用いる。 ハロゲン化マグネシウムとしては、塩化マグネ
シウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ム、フツ化マグネシウムがあげられ、これらの中
では塩化マグネシウムがもつとも望ましい。これ
らのハロゲン化マグネシウムの製造方法に特に制
限はなく、例えばMg(OR3)(OR4)、Mg(OR3)k
X2-k(但しR3、R4はアルキル基、アリール基、ま
たはこれらの誘導基、Xはハロゲン原子であり、
kは0<k<2を示す数である)などのマグネシ
ウム化合物をハロゲン化する方法等も採用するこ
とができる。 一方、チタン化合物とは、3価または4価のチ
タン化合物であり、代表例としては三塩化チタ
ン、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタ
ン、メトキシチタントリクロライド、ジメトキシ
チタンジクロライド、トリエトキシチタンクロラ
イドなどがあげられる。中でも四塩化チタンなど
の含塩素チタン化合物が望ましい。 ハロゲン化マグネシウムにチタン化合物を担持
させる方法は、特に本発明において限定するもの
ではなく、例えば以下のような方法が好適なもの
として採用できる。 ハロゲン化マグネシウムとチタン化合物をボ
ールミルなどにより共粉砕する方法。 チタン化合物を含むベンゼン、トルエン、ヘ
プタン、ヘキサンなどの溶液中にハロゲン化マ
グネシウム粉末を注入し担持させる方法。 本発明において、ハロゲン化マグネシウムとチ
タン化合物は必須成分であるが、この他に下記の
ような電子供与性化合物や塩化炭素、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素などの第3成分を包
含させることがポリマー収率およびポリマー物性
上好ましい。前記した方法、においては、こ
れらの第3成分を系内に共存させることにより用
意に目的とする触媒が得られる。 電子供与性化合物は、O、N、P、S、Siを有
する電子供与性化合物で、例えばエステル、エー
テル、ケトン、アルデヒド、アミン、アミド、ニ
トリル、チオエステル、チオエーテルなどがあげ
られる。 エステルとしては、有機酸エステル、および炭
酸、硫酸、燐酸、亜燐酸および珪酸などの無機酸
エステルがあげられる。 有機酸エステルとしては、例えばギ酸メチル、
ギ酸−n−ブチル、酢酸アリル、アクリル酸メチ
ル、クロル酢酸メチルなどの飽和もしくは不飽和
脂肪族有機酸エステル、安息香酸n−またはi−
プロピル、安息香酸シクロヘキシル、p−オキシ
安息香酸メチル、p−オキシ安息香酸シクロヘキ
シル、アニス酸メチル、p−エトキシ安息香酸メ
チル、p−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エ
チル、p−トルイル酸フエニル、p−アミノ安息
香酸エチル、ジメチルテレフタレートなどの芳香
族カルボン酸エステル、シクロヘキサンカルボン
酸メチルなどの脂環族有機酸エステルがあげられ
る。また無機酸エステルの代表例としては、トリ
メチルホスフアイト、トリフエニルホスフアイ
ト、ジエチルベンジルホスホネート、硫酸ジプロ
ピル、亜硫酸イソアミル、またはケイ酸エチル、
ケイ酸メチルなどのアルコキシシランやアルキル
アルコキシシランなどがあげられる。 エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジフエニルエーテルなどが、ケトン
としてはメチルエチルケトンなどが、アルデヒド
としてはアセトアルデヒド、ベンズアルデヒドな
どが、アミンとしてはn−プロピルアミン、アニ
リンなどが、ニトリルとしてはペンタンジニトリ
ルなどが、アミドとしてはプロパンアミドなど
が、チオエーテルとしてはアリルベンジルサルフ
アイドなどがあげられる。 これらの電子供与性化合物は1種または2種以
上併用することができ、特に芳香族基またはその
誘導基を有する有機酸エステルやエーテルが好ま
しい。 以上の触媒成分において、ハロゲン化マグネシ
ウムの含有量は50wt%以上であり、特に70wt%
以上が好ましい。またTiの担持量10wt%以下で
あり、好ましく5wt%以下、更に好ましくは0.5〜
2wt%の範囲である。 次に本発明において重合時に用いられる有機ア
ルミニウム化合物(触媒(B)成分)について説明す
る。 (B)成分に使用される有機アルミニウム化合物、
一般式RnAlX3-o(ただしRは炭素数1〜20個の
アルキル基、Xはハロゲン原子、nは1、2また
は3を示す)で示されるものであり、例えばトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、
トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ−iso−
ブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミ
ニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド−
iso−ブチルアルミニウムモノクライド、エチル
アルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、ジエチルアルミニウムモノブ
ロマイド、ジエチルアルミニウムモノアイオダイ
ド、ジエチルアルミニウムモノフロライドなどを
1種または2種以上混合して使用する。 この他重合に際しては、上述の(A)、(B)両成分の
他に触媒(A)成分で用いたような電子供与性化合
物、特には安息香酸メチル、安息香酸エチル、p
−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エチル、ア
ニス酸メチル、アニス酸エチルなどの有機酸エス
テルを用いることもできる。 (A)、(B)および電子供与性化合物の使用割合は広
範囲に変えることができる。一般に(B)成分は、(A)
成分中のチタン原子1モルに対し1〜500モルの
範囲にあるのが好ましく、他方、電子供与性化合
物については(B)成分として用いられる有機アルミ
ニウム化合物1モル当たり5モル以下、好ましく
は0.01〜1.5モルである。 重合反応は従来の技術において通常行われてい
る方法および条件が採用できる。その際の重合温
度は20〜100℃、好ましくは40〜90℃の範囲であ
り、重合圧力は通常1〜100Kg/cm2abs.、好まし
くは1〜50Kg/cm2abs.の範囲である。重合反応は
一般に脂肪族、脂環族、芳香族の炭化水素類また
はそれらの混合物を溶媒として使用することがで
き、例えばプロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン等およ
びそれらの混合物が用いられる。また液状モノマ
ー自身を溶媒として用いる塊状重合法および溶媒
が実質的に存在しない条件、すなわちガス状モノ
マーと触媒とを接触させるいわゆる気相重合法で
行うこともできる。 本発明の方法において生成するポリマーの分子
量は反応様式、触媒系、重合条件によつて変化す
るが、必要に応じて例えば水素、ハロゲン化アル
キル、ジアルキル亜鉛などの添加によつて制御す
ることができる。 本発明は、一般式R6−CH=CH2(但しR6は炭
素数1〜10個のアルキル基を示す)で示されるα
−オレフイン、例えばプロピレン、ブテン−1、
ヘキセン−1、4−メチル−ペンテン−1などと
のブロツクまたはランダム共重合に応用できるこ
とはいうまでもない。 実施例 以下、本発明を実施例によつて説明する。 実施例 1 (1) 触媒の調製 直径12mmの鋼球80個の入つた内容積600mlの
粉砕用ポツトを装備した振動ミルを使用した。 このポツトに市販のMgCl2を20g、パラトル
イル酸メチルを2ml、CCl4を2ml、ケイ酸エ
チルを1ml加え、室温にて20時間粉砕した。次
に200mlのフラスコにこの粉砕物を10g、
TiCl4を50ml、n−ヘプタンを100ml加え、窒
素雰囲気下80℃にて2時間反応を行つた。さら
に室温にてn−ヘプタンを100ml用い、デカン
テーシヨンによる洗浄を8回繰り返すことによ
り触媒成分スラリー(本発明の(A)成分)を得
た。この一部をサンプリングし、n−ヘプタン
を蒸発させ分析したところ該触媒成分は1.5wt
%のTi、および20wt%のMgを含有していた。 (2) 重合 500mlのオートクレーブにビニルシランを102
g、nヘプタンを240ml、触媒として上述のス
ラリー触媒を固体成分として2.0g、トリイソ
ブチルアルミニウムを8ml加え、70℃にて3時
間反応を行つた。反応終了後、未反応のビニル
シランパージして内容物を取り出し、濾過して
白色粉末状ポリビニルシラン60gを得た。ポリ
マー収率は59%であつた。 得られたポリビニルシランのIRスペクトル、
XRD測定結果を各々第1図および第2図に示
す。 実施例 2 実施例1において重合用モノマーとして、ビニ
ルシランのかわりにアリルシラン109gを用いた
以外は実施例1と同様に実験を行い、ポリアリル
シラン96gを得た。ポリマー収率は88%であつ
た。 得られたポリアリルシランのIRスペクトルを
第3図に示す。 実施例 3 実施例1において、重合時にスラリー触媒およ
びトリイソブチルアルミニウムの他に安息香酸エ
チル2mlを加えた以外は実施例1と同様に実験を
行つた。得られたポリマーは44gで、ポリマー収
率は43%であつた。 比較例 1 実施例1において、触媒にTiCl3型触媒(東邦
チタン社製)2g、トリイソブチルアルミニウム
7mlを用いた以外は実施例1と同様に実験を行つ
た。得られたポリマーは16gで、ポリマー収率は
16%であつた。 比較例 2 実施例2において、比較例1と同様の触媒を用
いた以外は実施例2と同様に実験を行つた。得ら
れポリマー45gで、ポリマー収率は41%であつ
た。 発明の効果 本発明によれば、新規なセラミツクス用プレポ
リマーとして有用であるシリル基類を含有する含
ケイ素ポリマーを製造することができる。 該ポリマーは、そのシリル基類の反応性により
架橋性、相溶性、接着性、塗装性等にすぐれた機
能性ポリマーとしての利用が期待できるものであ
り、産業上の有用性は高い。
グ剤、相溶化剤、架橋剤等機能性ポリマーへの応
用範囲は広い。 発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、上述のような有用性の高い含
ケイ素ポリマーの新規な製造方法を提供すること
にある。 課題を解決するための手段および作用 本発明者らは上述のような有用性の高い含ケイ
素ポリマーの製造方法の開発に鋭意努力し、特定
の触媒の存在下に反応を行うことによつて本発明
の目的が達成されることを見出し、本発明を完成
させるに至つた すなわち本発明は、 ハロゲン化マグネシウムを含む組成物にチタン
化合物を担持させたもの(A)、および一般式
RnAlX3-o(ただしRは炭素数1〜12のアルキル
基、Xはハロゲン原子、nは1、2または3を示
す)で表される有機アルミニウム化合物(B)から成
る触媒の存在下に、 一般式 (ただし、mは0または1乃至20の正の整数、n
は1、2または3、R1は水素、アルキル基、ア
リール基またはハロゲン、R2はアルキレン基ま
たはフエニレン基であつて、R1およびR2は
COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでい
ても良い。)で表されるケイ素を含むα−オレフ
インを重合させることを特徴とする含ケイ素ポリ
マーの製造方法であり、更には、 電子供与性化合物の共存下に行う前記含ケイ素
ポリマーの製造方法である。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明において重合用いられるケイ素化合物
は、一般式 で表されるものであつて、mは0または1乃至20
の正の整数、nは1、2または3である。R1は
水素、アルキル基、アリール基またはハロゲンで
あつて、例えば、H、CH3、C2H5、i−C3H7、
Ф(Фはフエニル基を示す。以下同じ。)、Ф
CH3、C2HФ、F、Cl、Brなどがあげられ、炭
素数の少ないもの程好ましく、水素が最も好まし
い。R2はアルキレン基またはフエニレン基であ
つて、例えば、CH2、Ф(Фはフエニレン基を示
す。以下同じ。)、CH2Фなどである。なお、上記
R1およびR2はCOOK、NH2、Cl、OHなどの官
能基を含んでいても良い。 本発明にかかるこれらシリル基類を含有するモ
ノマー、すなわち、ケイ素化合物は、種々の方法
で製造することができ、本発明において特に制限
するものではないが、例えば、下式に示すような
方法を採用できる。 HSiCl3+ClH2C−(CH2)o−CH=CH2−HCl ――――→ 600℃ ClH3Si(CH2)o+1−CH=CH2LiAlH4 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 HSiCl3+H3C(CH2)oCH=CH2BCl3、300℃ ――――――――→ −H2 ClH3Si(CH2)o+1CH=CH2LiAlH4 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 siH4+CH2=CH(CH2)oCH=CH2Pt、200℃ ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+2CH=CH2 SiH4+CH≡CHPt、200℃ ―――――――→ siH4+ClH2C−(CH2)o−CH=CH2−HCl ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 siH4+H3C(CH2)oCH=CH2−H2 ―――――――――――――――――→ H3Si(CH2)o+1CH=CH2 これらのうち、、、はSiH4を原料に
用いて、特に、は族金属を溶媒に用いるヒ
ドロシリル化反応であり、容易に目的とする
SiH3を基を含有するα−オレフインを得ること
ができる。蓋し、SiH4は近年、ボリコシリコン
やアモルフアスシリコン用としての需要が拡大
し、安価にかつ大量に製造されるようになつたも
ので、今後いつそうこの傾向が進むと予想される
新しいケイ素原料である(Si2H6やSi3H8の場合
も同様のことが言える)。 これらのケイ素化合物は、2種以上同時に用い
ることもできる。また、本発明者らが別に提案す
るように、本発明において使用するケイ素化合物
は、ラジカル重合することも可能である。 次に本発明における重合方法について説明す
る。 本発明の方法において、触媒にハロゲン化マグ
ネシウムを含む組成物にチタン化合物を担持させ
たもの(触媒(A)成分)を用いる。 ハロゲン化マグネシウムとしては、塩化マグネ
シウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ム、フツ化マグネシウムがあげられ、これらの中
では塩化マグネシウムがもつとも望ましい。これ
らのハロゲン化マグネシウムの製造方法に特に制
限はなく、例えばMg(OR3)(OR4)、Mg(OR3)k
X2-k(但しR3、R4はアルキル基、アリール基、ま
たはこれらの誘導基、Xはハロゲン原子であり、
kは0<k<2を示す数である)などのマグネシ
ウム化合物をハロゲン化する方法等も採用するこ
とができる。 一方、チタン化合物とは、3価または4価のチ
タン化合物であり、代表例としては三塩化チタ
ン、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタ
ン、メトキシチタントリクロライド、ジメトキシ
チタンジクロライド、トリエトキシチタンクロラ
イドなどがあげられる。中でも四塩化チタンなど
の含塩素チタン化合物が望ましい。 ハロゲン化マグネシウムにチタン化合物を担持
させる方法は、特に本発明において限定するもの
ではなく、例えば以下のような方法が好適なもの
として採用できる。 ハロゲン化マグネシウムとチタン化合物をボ
ールミルなどにより共粉砕する方法。 チタン化合物を含むベンゼン、トルエン、ヘ
プタン、ヘキサンなどの溶液中にハロゲン化マ
グネシウム粉末を注入し担持させる方法。 本発明において、ハロゲン化マグネシウムとチ
タン化合物は必須成分であるが、この他に下記の
ような電子供与性化合物や塩化炭素、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素などの第3成分を包
含させることがポリマー収率およびポリマー物性
上好ましい。前記した方法、においては、こ
れらの第3成分を系内に共存させることにより用
意に目的とする触媒が得られる。 電子供与性化合物は、O、N、P、S、Siを有
する電子供与性化合物で、例えばエステル、エー
テル、ケトン、アルデヒド、アミン、アミド、ニ
トリル、チオエステル、チオエーテルなどがあげ
られる。 エステルとしては、有機酸エステル、および炭
酸、硫酸、燐酸、亜燐酸および珪酸などの無機酸
エステルがあげられる。 有機酸エステルとしては、例えばギ酸メチル、
ギ酸−n−ブチル、酢酸アリル、アクリル酸メチ
ル、クロル酢酸メチルなどの飽和もしくは不飽和
脂肪族有機酸エステル、安息香酸n−またはi−
プロピル、安息香酸シクロヘキシル、p−オキシ
安息香酸メチル、p−オキシ安息香酸シクロヘキ
シル、アニス酸メチル、p−エトキシ安息香酸メ
チル、p−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エ
チル、p−トルイル酸フエニル、p−アミノ安息
香酸エチル、ジメチルテレフタレートなどの芳香
族カルボン酸エステル、シクロヘキサンカルボン
酸メチルなどの脂環族有機酸エステルがあげられ
る。また無機酸エステルの代表例としては、トリ
メチルホスフアイト、トリフエニルホスフアイ
ト、ジエチルベンジルホスホネート、硫酸ジプロ
ピル、亜硫酸イソアミル、またはケイ酸エチル、
ケイ酸メチルなどのアルコキシシランやアルキル
アルコキシシランなどがあげられる。 エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジフエニルエーテルなどが、ケトン
としてはメチルエチルケトンなどが、アルデヒド
としてはアセトアルデヒド、ベンズアルデヒドな
どが、アミンとしてはn−プロピルアミン、アニ
リンなどが、ニトリルとしてはペンタンジニトリ
ルなどが、アミドとしてはプロパンアミドなど
が、チオエーテルとしてはアリルベンジルサルフ
アイドなどがあげられる。 これらの電子供与性化合物は1種または2種以
上併用することができ、特に芳香族基またはその
誘導基を有する有機酸エステルやエーテルが好ま
しい。 以上の触媒成分において、ハロゲン化マグネシ
ウムの含有量は50wt%以上であり、特に70wt%
以上が好ましい。またTiの担持量10wt%以下で
あり、好ましく5wt%以下、更に好ましくは0.5〜
2wt%の範囲である。 次に本発明において重合時に用いられる有機ア
ルミニウム化合物(触媒(B)成分)について説明す
る。 (B)成分に使用される有機アルミニウム化合物、
一般式RnAlX3-o(ただしRは炭素数1〜20個の
アルキル基、Xはハロゲン原子、nは1、2また
は3を示す)で示されるものであり、例えばトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、
トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ−iso−
ブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミ
ニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド−
iso−ブチルアルミニウムモノクライド、エチル
アルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、ジエチルアルミニウムモノブ
ロマイド、ジエチルアルミニウムモノアイオダイ
ド、ジエチルアルミニウムモノフロライドなどを
1種または2種以上混合して使用する。 この他重合に際しては、上述の(A)、(B)両成分の
他に触媒(A)成分で用いたような電子供与性化合
物、特には安息香酸メチル、安息香酸エチル、p
−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エチル、ア
ニス酸メチル、アニス酸エチルなどの有機酸エス
テルを用いることもできる。 (A)、(B)および電子供与性化合物の使用割合は広
範囲に変えることができる。一般に(B)成分は、(A)
成分中のチタン原子1モルに対し1〜500モルの
範囲にあるのが好ましく、他方、電子供与性化合
物については(B)成分として用いられる有機アルミ
ニウム化合物1モル当たり5モル以下、好ましく
は0.01〜1.5モルである。 重合反応は従来の技術において通常行われてい
る方法および条件が採用できる。その際の重合温
度は20〜100℃、好ましくは40〜90℃の範囲であ
り、重合圧力は通常1〜100Kg/cm2abs.、好まし
くは1〜50Kg/cm2abs.の範囲である。重合反応は
一般に脂肪族、脂環族、芳香族の炭化水素類また
はそれらの混合物を溶媒として使用することがで
き、例えばプロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン等およ
びそれらの混合物が用いられる。また液状モノマ
ー自身を溶媒として用いる塊状重合法および溶媒
が実質的に存在しない条件、すなわちガス状モノ
マーと触媒とを接触させるいわゆる気相重合法で
行うこともできる。 本発明の方法において生成するポリマーの分子
量は反応様式、触媒系、重合条件によつて変化す
るが、必要に応じて例えば水素、ハロゲン化アル
キル、ジアルキル亜鉛などの添加によつて制御す
ることができる。 本発明は、一般式R6−CH=CH2(但しR6は炭
素数1〜10個のアルキル基を示す)で示されるα
−オレフイン、例えばプロピレン、ブテン−1、
ヘキセン−1、4−メチル−ペンテン−1などと
のブロツクまたはランダム共重合に応用できるこ
とはいうまでもない。 実施例 以下、本発明を実施例によつて説明する。 実施例 1 (1) 触媒の調製 直径12mmの鋼球80個の入つた内容積600mlの
粉砕用ポツトを装備した振動ミルを使用した。 このポツトに市販のMgCl2を20g、パラトル
イル酸メチルを2ml、CCl4を2ml、ケイ酸エ
チルを1ml加え、室温にて20時間粉砕した。次
に200mlのフラスコにこの粉砕物を10g、
TiCl4を50ml、n−ヘプタンを100ml加え、窒
素雰囲気下80℃にて2時間反応を行つた。さら
に室温にてn−ヘプタンを100ml用い、デカン
テーシヨンによる洗浄を8回繰り返すことによ
り触媒成分スラリー(本発明の(A)成分)を得
た。この一部をサンプリングし、n−ヘプタン
を蒸発させ分析したところ該触媒成分は1.5wt
%のTi、および20wt%のMgを含有していた。 (2) 重合 500mlのオートクレーブにビニルシランを102
g、nヘプタンを240ml、触媒として上述のス
ラリー触媒を固体成分として2.0g、トリイソ
ブチルアルミニウムを8ml加え、70℃にて3時
間反応を行つた。反応終了後、未反応のビニル
シランパージして内容物を取り出し、濾過して
白色粉末状ポリビニルシラン60gを得た。ポリ
マー収率は59%であつた。 得られたポリビニルシランのIRスペクトル、
XRD測定結果を各々第1図および第2図に示
す。 実施例 2 実施例1において重合用モノマーとして、ビニ
ルシランのかわりにアリルシラン109gを用いた
以外は実施例1と同様に実験を行い、ポリアリル
シラン96gを得た。ポリマー収率は88%であつ
た。 得られたポリアリルシランのIRスペクトルを
第3図に示す。 実施例 3 実施例1において、重合時にスラリー触媒およ
びトリイソブチルアルミニウムの他に安息香酸エ
チル2mlを加えた以外は実施例1と同様に実験を
行つた。得られたポリマーは44gで、ポリマー収
率は43%であつた。 比較例 1 実施例1において、触媒にTiCl3型触媒(東邦
チタン社製)2g、トリイソブチルアルミニウム
7mlを用いた以外は実施例1と同様に実験を行つ
た。得られたポリマーは16gで、ポリマー収率は
16%であつた。 比較例 2 実施例2において、比較例1と同様の触媒を用
いた以外は実施例2と同様に実験を行つた。得ら
れポリマー45gで、ポリマー収率は41%であつ
た。 発明の効果 本発明によれば、新規なセラミツクス用プレポ
リマーとして有用であるシリル基類を含有する含
ケイ素ポリマーを製造することができる。 該ポリマーは、そのシリル基類の反応性により
架橋性、相溶性、接着性、塗装性等にすぐれた機
能性ポリマーとしての利用が期待できるものであ
り、産業上の有用性は高い。
第1図はポリビニルシランのIRスペクトル、
第2図は同ポリビニルシランのXRD測定結果お
よび第3図はポリアリルシランのIRスペクトル
を表す。
第2図は同ポリビニルシランのXRD測定結果お
よび第3図はポリアリルシランのIRスペクトル
を表す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ハロゲン化マグネシウムを含む組成物にチタ
ン化合物を担持させたもの(A)、および一般式
RnAlX3-o(ただしRは炭素数1〜20のアルキル
基、Xはハロゲン原子、nは1、2または3を示
す)で表される有機アルミニウム化合物(B)から成
る触媒の存在下に、 一般式 (ただし、mは0または1乃至20の正の整数、n
は1、2または3、R1は水素、アルキル基、ア
リール基またはハロゲン、R2はアルキレン基ま
たはフエニレン基であつて、R1およびR2は
COOH、NH2、Cl、OHなどの官能基を含んでい
ても良い。)で表されるケイ素を含むα−オレフ
インを重合させることを特徴とする含ケイ素ポリ
マーの製造方法。 2 電子供与性化合物の共存下に行う請求項1に
記載の方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63042361A JPH01217018A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 含ケイ素α−オレフィンの重合方法 |
KR1019880016657A KR920005671B1 (ko) | 1987-12-16 | 1988-12-14 | 함규소 폴리머의 제조방법 |
CA000585998A CA1308513C (en) | 1987-12-16 | 1988-12-15 | Process for preparing a silicon containing polymer |
DE3853199T DE3853199T2 (de) | 1987-12-16 | 1988-12-16 | Verfahren zur Herstellung eines Silicium enthaltenden Polymers. |
EP93117122A EP0585967B1 (en) | 1987-12-16 | 1988-12-16 | A process for preparing a silicon containing polymer |
DE3855259T DE3855259T2 (de) | 1987-12-16 | 1988-12-16 | Verfahren zur Herstellung von Silizium enthaltenden Polymeren |
EP88311902A EP0321259B1 (en) | 1987-12-16 | 1988-12-16 | A process for preparing a silicon containing polymer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63042361A JPH01217018A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 含ケイ素α−オレフィンの重合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01217018A JPH01217018A (ja) | 1989-08-30 |
JPH0564961B2 true JPH0564961B2 (ja) | 1993-09-16 |
Family
ID=12633899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63042361A Granted JPH01217018A (ja) | 1987-12-16 | 1988-02-26 | 含ケイ素α−オレフィンの重合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01217018A (ja) |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63042361A patent/JPH01217018A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01217018A (ja) | 1989-08-30 |
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