JPH056458B2 - - Google Patents
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- JPH056458B2 JPH056458B2 JP59015808A JP1580884A JPH056458B2 JP H056458 B2 JPH056458 B2 JP H056458B2 JP 59015808 A JP59015808 A JP 59015808A JP 1580884 A JP1580884 A JP 1580884A JP H056458 B2 JPH056458 B2 JP H056458B2
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- distance
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- ray tube
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 31
- 238000003325 tomography Methods 0.000 claims description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/38—Exposure time
- H05G1/42—Exposure time using arrangements for switching when a predetermined dose of radiation has been applied, e.g. in which the switching instant is determined by measuring the electrical energy supplied to the tube
- H05G1/44—Exposure time using arrangements for switching when a predetermined dose of radiation has been applied, e.g. in which the switching instant is determined by measuring the electrical energy supplied to the tube in which the switching instant is determined by measuring the amount of radiation directly
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/36—Temperature of anode; Brightness of image power
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
この発明は、放射線照射手段と２次元放射線検
出手段とを被写体を挟んで対向配置し、これら両
者を被写体中の断層面の上の中心点を中心として
対称的に移動させて断層面以外の部分の陰影をぼ
かすことによつて、透過放射線による任意断層面
の陰影画像を得る断層撮影装置の改良に関する。
出手段とを被写体を挟んで対向配置し、これら両
者を被写体中の断層面の上の中心点を中心として
対称的に移動させて断層面以外の部分の陰影をぼ
かすことによつて、透過放射線による任意断層面
の陰影画像を得る断層撮影装置の改良に関する。
(ロ) 従来技術
通常の平行平面式の断層撮影装置は、第１図に
示すように、Ｘ線管１とフイルム２とを、テーブ
ル３上の被検者４を間に挟んで対向配置し、被検
者４の体内の任意の位置に設定された断層面５に
平行な平面６，７上をＸ線管１とフイルム２とが
それぞれ移動できるようにしておいて、これら両
者を断層面５の中心点０を中心に対称的に移動さ
せるようにして構成されている。そして上記の面
６，７上での移動軌跡は直線、円、楕円、ハイポ
サイクロイダルおよびうず巻き軌道などの種々の
ものが採用されている。
示すように、Ｘ線管１とフイルム２とを、テーブ
ル３上の被検者４を間に挟んで対向配置し、被検
者４の体内の任意の位置に設定された断層面５に
平行な平面６，７上をＸ線管１とフイルム２とが
それぞれ移動できるようにしておいて、これら両
者を断層面５の中心点０を中心に対称的に移動さ
せるようにして構成されている。そして上記の面
６，７上での移動軌跡は直線、円、楕円、ハイポ
サイクロイダルおよびうず巻き軌道などの種々の
ものが採用されている。
ところで、このような平行平面式の断層撮影装
置においては、Ｘ線焦点の移動にともなつてＸ線
管１とフイルム２との距離が変化する。そして、
フイルム２の面に到達するＸ線の線量はこの距離
の逆２乗の割合で変化する関係にある。すなわ
ち、到達線量Ｉは Ｉ＝Ｋ／｛（ar）2＋L2｝ 但し，ａ＝Ｌ／L0 で表わすことができる。ここで、Ｋは定数であ
り、ｒは中心点０を通る法線からＸ線焦点までの
距離（つまり半径）、Ｌは面６，７間の距離、L0
は面５，６間の距離である。したがつて、Ｘ線条
件を一定にして撮影すると、Ｘ線管の移動による
フイルム面到達線量の変化からフイルム上に生じ
る陰影像に好ましくない影響があらわれる、とい
う不都合がある。
置においては、Ｘ線焦点の移動にともなつてＸ線
管１とフイルム２との距離が変化する。そして、
フイルム２の面に到達するＸ線の線量はこの距離
の逆２乗の割合で変化する関係にある。すなわ
ち、到達線量Ｉは Ｉ＝Ｋ／｛（ar）2＋L2｝ 但し，ａ＝Ｌ／L0 で表わすことができる。ここで、Ｋは定数であ
り、ｒは中心点０を通る法線からＸ線焦点までの
距離（つまり半径）、Ｌは面６，７間の距離、L0
は面５，６間の距離である。したがつて、Ｘ線条
件を一定にして撮影すると、Ｘ線管の移動による
フイルム面到達線量の変化からフイルム上に生じ
る陰影像に好ましくない影響があらわれる、とい
う不都合がある。
(ハ) 目的
この発明は、放射線照射手段の移動にともなう
距離の変化によるフイルム面到達線量の変化を補
正し、優れた画質の画像を得ることができるよう
に改良した断層撮影装置を提供することを目的と
する。
距離の変化によるフイルム面到達線量の変化を補
正し、優れた画質の画像を得ることができるよう
に改良した断層撮影装置を提供することを目的と
する。
(ニ) 構成
この発明の断層撮影装置では、放射線を多数の
パルス状に照射する放射線照射手段と２次元放射
線検出手段とを被写体を挟んで対向配置し、これ
ら両者を被写体中の断層面の上の中心点を中心と
して対称的に移動させる際に、放射線照射手段と
２次元放射線検出手段との間の高さを設定すると
ともに、放射線照射手段または２次元放射線検出
手段の移動方向位置を検出し、この位置および上
記の設定高さからこれら両者の間の距離を求め、
この距離に関連する信号でパルス状放射線のパル
ス数またはパルス幅を変えることにより単位時間
当りの放射線照射時間を制御するようにしてい
る。
パルス状に照射する放射線照射手段と２次元放射
線検出手段とを被写体を挟んで対向配置し、これ
ら両者を被写体中の断層面の上の中心点を中心と
して対称的に移動させる際に、放射線照射手段と
２次元放射線検出手段との間の高さを設定すると
ともに、放射線照射手段または２次元放射線検出
手段の移動方向位置を検出し、この位置および上
記の設定高さからこれら両者の間の距離を求め、
この距離に関連する信号でパルス状放射線のパル
ス数またはパルス幅を変えることにより単位時間
当りの放射線照射時間を制御するようにしてい
る。
(ホ) 実施例
以下に示す実施例は、この発明を種々の軌道を
とることができる多軌道断層撮影装置に適用した
ものである。種々の軌道をとることができるよう
にするためには回転運動と直線運動とを組合せな
ければならないので、模式的に表現すると、第２
図に示すようにＸ線管１は直線運動機構９とこの
直線運動機構９を回転させる回転運動機構８とに
よつて保持されていることになる。この第２図に
は示していないが、フイルム２は中心点０（第１
図参照）を支点として回動可能に支持された連結
レバーを介してＸ線管１と連結され、Ｘ線管１が
うず巻き軌道などの種々の軌道上を運動したとき
このＸ線管１の運動に対して点０を中心としてフ
イルム２が対称的に運動するようにされている。
このような相対運動を実現する機構は断層撮影装
置において従来より一般に用いられているので説
明は省略する。
とることができる多軌道断層撮影装置に適用した
ものである。種々の軌道をとることができるよう
にするためには回転運動と直線運動とを組合せな
ければならないので、模式的に表現すると、第２
図に示すようにＸ線管１は直線運動機構９とこの
直線運動機構９を回転させる回転運動機構８とに
よつて保持されていることになる。この第２図に
は示していないが、フイルム２は中心点０（第１
図参照）を支点として回動可能に支持された連結
レバーを介してＸ線管１と連結され、Ｘ線管１が
うず巻き軌道などの種々の軌道上を運動したとき
このＸ線管１の運動に対して点０を中心としてフ
イルム２が対称的に運動するようにされている。
このような相対運動を実現する機構は断層撮影装
置において従来より一般に用いられているので説
明は省略する。
このようにＸ線管１が運動するとき、第３図に
示すような制御回路でＸ線曝射が制御される。す
なわち、この第３図で、電源１０に接続されたＸ
線管電源装置１１はパルスＸ線曝射用のもので、
パルス状の高電圧を発生する。Ｘ線管はここでは
１２で表わされている。点線より左側の回路がこ
の発明によつて付加された回路である。Ｘ線管の
軌道半径ｒはポテンシヨメータなどの検出器１３
で検出され、半径ｒに比例する信号（ar）が得ら
れる。この信号（ar）は２乗回路１４で２乗さ
れ、（ar）2が得られる。他方、高さＬに対応する
L2の出力が生じるよう高さ設定回路１５の設定
があらかじめ行なわれており、（ar）2とL2とを加
算した｛（ar）2＋L2｝の信号がパルス数設定回路
１６に入力される。このパルス数設定回路１６は
Ａ／Ｄ変換回路を含み、入力信号に逆比例した数
値出力をパルス数設定出力として生じる。基準ク
ロツク発生回路１８からクロツク信号が第４図Ａ
（または第５図Ａ）のように出力されており、こ
のクロツク信号が曝射信号発生回路１７に含まれ
ているカウンタでカウントされ、パルス数設定回
路１６から与えられたパルス数設定出力の数値に
達する毎に一定幅の曝射信号が第４図Ｂ，Ｃのよ
うに生じる。したがつて、｛（ar）2＋L2｝つまりＸ
線管とフイルムとの間の距離の２乗に逆比例して
曝射間隔が変化し、この距離が小さければ間隔が
広くなり（第４図Ｂ）、大きければ狭くなる（第
４図Ｃ）。そのため距離が短いとき単位時間当り
のパスル数が少なくなつてＸ線曝射時間が短くな
り、距離が長いとき単位時間当りのパスル数が多
くなつてＸ線曝射時間が長くなる。
示すような制御回路でＸ線曝射が制御される。す
なわち、この第３図で、電源１０に接続されたＸ
線管電源装置１１はパルスＸ線曝射用のもので、
パルス状の高電圧を発生する。Ｘ線管はここでは
１２で表わされている。点線より左側の回路がこ
の発明によつて付加された回路である。Ｘ線管の
軌道半径ｒはポテンシヨメータなどの検出器１３
で検出され、半径ｒに比例する信号（ar）が得ら
れる。この信号（ar）は２乗回路１４で２乗さ
れ、（ar）2が得られる。他方、高さＬに対応する
L2の出力が生じるよう高さ設定回路１５の設定
があらかじめ行なわれており、（ar）2とL2とを加
算した｛（ar）2＋L2｝の信号がパルス数設定回路
１６に入力される。このパルス数設定回路１６は
Ａ／Ｄ変換回路を含み、入力信号に逆比例した数
値出力をパルス数設定出力として生じる。基準ク
ロツク発生回路１８からクロツク信号が第４図Ａ
（または第５図Ａ）のように出力されており、こ
のクロツク信号が曝射信号発生回路１７に含まれ
ているカウンタでカウントされ、パルス数設定回
路１６から与えられたパルス数設定出力の数値に
達する毎に一定幅の曝射信号が第４図Ｂ，Ｃのよ
うに生じる。したがつて、｛（ar）2＋L2｝つまりＸ
線管とフイルムとの間の距離の２乗に逆比例して
曝射間隔が変化し、この距離が小さければ間隔が
広くなり（第４図Ｂ）、大きければ狭くなる（第
４図Ｃ）。そのため距離が短いとき単位時間当り
のパスル数が少なくなつてＸ線曝射時間が短くな
り、距離が長いとき単位時間当りのパスル数が多
くなつてＸ線曝射時間が長くなる。
この例ではパルスＸ線のパルス幅を一定としパ
スル数を変えることで単位時間当りのＸ線曝射時
間を変えるようにしているが、パルス数は一定と
してパルス幅を変えるようにしてもよい。そのた
めには、パルス数設定回路１６の代りに、入力信
号｛（ar）2＋L2｝に比例する数値のパルス幅設定
出力を生じるパルス幅設定回路を用い、曝射信号
発生回路１７がクロツク信号をカウントしてパル
ス幅設定出力に応じたパルス幅の曝射信号（第５
図Ｂ，Ｃ）を生じるように構成する。｛（ar）2＋
L2｝つまりＸ線管とフイルムとの間の距離の２
乗に比例して曝射信号発生回路１７からの曝射信
号のパルス幅が変化し、クロツク信号が第５図Ａ
のようであるとすると、この距離が小さいとき第
５図Ｂに示すようにパルス幅が狭くなり、大きけ
れば第５図Ｃに示すように広くなる。
スル数を変えることで単位時間当りのＸ線曝射時
間を変えるようにしているが、パルス数は一定と
してパルス幅を変えるようにしてもよい。そのた
めには、パルス数設定回路１６の代りに、入力信
号｛（ar）2＋L2｝に比例する数値のパルス幅設定
出力を生じるパルス幅設定回路を用い、曝射信号
発生回路１７がクロツク信号をカウントしてパル
ス幅設定出力に応じたパルス幅の曝射信号（第５
図Ｂ，Ｃ）を生じるように構成する。｛（ar）2＋
L2｝つまりＸ線管とフイルムとの間の距離の２
乗に比例して曝射信号発生回路１７からの曝射信
号のパルス幅が変化し、クロツク信号が第５図Ａ
のようであるとすると、この距離が小さいとき第
５図Ｂに示すようにパルス幅が狭くなり、大きけ
れば第５図Ｃに示すように広くなる。
このようにパルスＸ線曝射を行ない、そのパル
ス数またはパルス幅を制御することによつて単位
時間当りのＸ線曝射時間を距離の２乗に比例して
変えるようにしているので、フイルム面へ到達す
る線量をＸ線管とフイルムとの距離の変化に無関
係に一定とすることができる。すなわち、上述し
た到達線量Ｉを表わす式は、K′を定数、mAをＸ
線管電流、ＳをＸ線曝射時間、KVをＸ線管電圧
とすると、つぎのように書き換えることができ
る。
ス数またはパルス幅を制御することによつて単位
時間当りのＸ線曝射時間を距離の２乗に比例して
変えるようにしているので、フイルム面へ到達す
る線量をＸ線管とフイルムとの距離の変化に無関
係に一定とすることができる。すなわち、上述し
た到達線量Ｉを表わす式は、K′を定数、mAをＸ
線管電流、ＳをＸ線曝射時間、KVをＸ線管電圧
とすると、つぎのように書き換えることができ
る。
Ｉ＝K′・mA・Ｓ・KVN／｛（ar）2＋L2｝
但し，ａ＝Ｌ／L0
そこでＸ線曝射時間Ｓをつぎの式に示すように
変数ｒの２乗に比例して制御するようにし、 Ｓ＝K″・｛（ar）2＋L2｝ 但し，K″；定数 このとき他のＸ線条件を一定とすればフイルム
面到達線量Ｉは、 Ｉ＝K′・K″・mA・KVN となつて半径ｒつまり距離の変化に無関係となる
からである。
変数ｒの２乗に比例して制御するようにし、 Ｓ＝K″・｛（ar）2＋L2｝ 但し，K″；定数 このとき他のＸ線条件を一定とすればフイルム
面到達線量Ｉは、 Ｉ＝K′・K″・mA・KVN となつて半径ｒつまり距離の変化に無関係となる
からである。
なお、上記ではＸ線パルス数を制御する例とＸ
線パルス幅を制御する例とを示したが、両者を併
用するようにしてもよい。
線パルス幅を制御する例とを示したが、両者を併
用するようにしてもよい。
また、上記の実施例では、フイルム面への到達
線量が常に一定になるよう単位時間当りのＸ線曝
射時間を制御しているが、臨床的にはその到達線
量を一定とせず多少加減した方がよい場合もあ
り、そのような場合に対応して制御を行なうよう
構成してもよい。
線量が常に一定になるよう単位時間当りのＸ線曝
射時間を制御しているが、臨床的にはその到達線
量を一定とせず多少加減した方がよい場合もあ
り、そのような場合に対応して制御を行なうよう
構成してもよい。
(ヘ) 効果
この発明によれば、放射線を多数のパルス状に
照射する放射線照射手段と２次元放射線検出手段
とを被写体を挟んで対向配置しこれら両者を被写
体中の中心点を中心として対称的に移動させて断
層撮影する断層撮影装置において、放射線照射手
段と２次元放射線検出手段との間の高さを設定す
るとともに、放射線照射手段または２次元放射線
検出手段の移動方向位置を検出し、この位置およ
び上記の設定高さからこれら両者の間の距離を求
め、この距離に関連する信号でパルス状放射線の
パルス数またはパルス幅を変えることにより単位
時間当りの放射線照射時間を制御するようにして
いるため、距離の変化にともなうフイルム面到達
線量の変動を補正することができ、その結果優れ
た画質の画像を得ることができるとともに、その
ための構成としてに若干の制御回路を付加するだ
けでよいので実用化が容易である。
照射する放射線照射手段と２次元放射線検出手段
とを被写体を挟んで対向配置しこれら両者を被写
体中の中心点を中心として対称的に移動させて断
層撮影する断層撮影装置において、放射線照射手
段と２次元放射線検出手段との間の高さを設定す
るとともに、放射線照射手段または２次元放射線
検出手段の移動方向位置を検出し、この位置およ
び上記の設定高さからこれら両者の間の距離を求
め、この距離に関連する信号でパルス状放射線の
パルス数またはパルス幅を変えることにより単位
時間当りの放射線照射時間を制御するようにして
いるため、距離の変化にともなうフイルム面到達
線量の変動を補正することができ、その結果優れ
た画質の画像を得ることができるとともに、その
ための構成としてに若干の制御回路を付加するだ
けでよいので実用化が容易である。
第１図は断層撮影装置の動作を説明するための
模式図、第２図はこの発明の一実施例にかかる断
層撮影装置の運動機構を模式的に示す斜視図、第
３図は同実施例の制御回路を示すブロツク図、第
４図Ａ，Ｂ，Ｃおよび第５図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞ
れ動作を説明するための波形図である。 １，１２……Ｘ線管、２……フイルム、３……
テーブル、４……被検者、５……断層面、８……
回転運動機構、９……直線運動機構、１０……電
源、１１……Ｘ線管電源装置、１３……半径検出
器、１４……２乗回路、１５……高さ設定回路、
１６……パルス数設定回路、１７……曝射信号発
生回路、１８……基準クロツク発生回路。
模式図、第２図はこの発明の一実施例にかかる断
層撮影装置の運動機構を模式的に示す斜視図、第
３図は同実施例の制御回路を示すブロツク図、第
４図Ａ，Ｂ，Ｃおよび第５図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞ
れ動作を説明するための波形図である。 １，１２……Ｘ線管、２……フイルム、３……
テーブル、４……被検者、５……断層面、８……
回転運動機構、９……直線運動機構、１０……電
源、１１……Ｘ線管電源装置、１３……半径検出
器、１４……２乗回路、１５……高さ設定回路、
１６……パルス数設定回路、１７……曝射信号発
生回路、１８……基準クロツク発生回路。
Claims (1)
- １ 被写体に対して放射線を多数のパルス状に照
射する放射線照射手段と、被写体を透過した放射
線が入射するよう被写体を挟んで上記放射線照射
手段に対して対向配置される２次元放射線検出手
段と、上記放射線照射手段と２次元放射線検出手
段とを被写体中に設定された断層面上の中心点を
中心として対称的に移動させる移動手段と、上記
放射線照射手段と２次元放射線検出手段との間の
高さを設定する手段と、上記放射線照射手段また
は２次元放射線検出手段の移動方向位置を検出す
る手段と、この検出された位置と上記の設定され
た高さとから上記放射線照射手段と２次元放射線
検出手段との間の距離を求める手段と、この求め
た距離に関連する信号で上記パルス状放射線のパ
ルス数またはパスル幅を変えることにより単位時
間当りの放射線照射時間を制御する制御手段とか
らなる断層撮影装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59015808A JPS60160599A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59015808A JPS60160599A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60160599A JPS60160599A (ja) | 1985-08-22 |
| JPH056458B2 true JPH056458B2 (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=11899143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59015808A Granted JPS60160599A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60160599A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2664934B2 (ja) * | 1988-06-10 | 1997-10-22 | 株式会社日立メディコ | パルスｘ線透視装置 |
| JPH034500U (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-17 | ||
| US6282364B1 (en) | 1996-02-05 | 2001-08-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Video signal recording apparatus and video signal regenerating apparatus |
| FR2790561B1 (fr) | 1999-03-04 | 2001-06-01 | Ge Medical Syst Sa | Methode de commande de l'exposition dans des systemes d'imagerie radiologique |
| JP3376961B2 (ja) | 1999-06-08 | 2003-02-17 | ウシオ電機株式会社 | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 |
| JP2010240063A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Shimadzu Corp | 放射線撮影装置 |
| JP5584037B2 (ja) * | 2010-07-27 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置およびその制御方法並びにプログラム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5820117A (ja) * | 1981-07-26 | 1983-02-05 | 有限会社津久井椎茸研究所 | 茸の人工ほだ木及びその製造方法 |
| JPS58147998A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Shimadzu Corp | 断層撮影装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56175999U (ja) * | 1980-05-30 | 1981-12-25 |
-
1984
- 1984-01-31 JP JP59015808A patent/JPS60160599A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5820117A (ja) * | 1981-07-26 | 1983-02-05 | 有限会社津久井椎茸研究所 | 茸の人工ほだ木及びその製造方法 |
| JPS58147998A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Shimadzu Corp | 断層撮影装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60160599A (ja) | 1985-08-22 |
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