JPH0563323A - Board for circuit use - Google Patents
Board for circuit useInfo
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- JPH0563323A JPH0563323A JP1794392A JP1794392A JPH0563323A JP H0563323 A JPH0563323 A JP H0563323A JP 1794392 A JP1794392 A JP 1794392A JP 1794392 A JP1794392 A JP 1794392A JP H0563323 A JPH0563323 A JP H0563323A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、プリント配線板等に
使われる回路用基板に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit board used for a printed wiring board or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】高度情報化時代を迎え、情報伝送はより
高速化・高周波化の傾向にある。自動車電話やパーソナ
ル無線等の移動無線、衛星放送、衛星通信やCATV等
のニューメディアでは、機器のコンパクト化が推し進め
られており、これに伴い誘電体共振器等のマイクロ波用
回路素子に対しても小型化が強く望まれている。2. Description of the Related Art In the advanced information age, information transmission tends to be faster and higher in frequency. In mobile radio such as car phones and personal radios, satellite broadcasting, satellite communications, and new media such as CATV, downsizing of devices is being promoted, and accordingly, microwave circuit elements such as dielectric resonators are being used. However, miniaturization is strongly desired.
【0003】マイクロ波用回路素子の大きさは、使用電
磁波の波長が基準となる。比誘電率εr の誘電体中を伝
播する電磁波の波長λは、真空中の伝播波長をλ0 とす
るとλ=λ0 /(εr )0.5 となる。したがって、素子
は、使用されるプリント回路用基板の誘電率が大きい
程、小型になる。また、基板の誘電率が大きいと、電磁
エネルギーが基板内に集中するため、電磁波の漏れが少
なく好都合でもある。The size of the microwave circuit element is based on the wavelength of the electromagnetic wave used. The wavelength λ of the electromagnetic wave propagating through the dielectric having the relative permittivity ε r is λ = λ 0 / (ε r ) 0.5 when the propagation wavelength in vacuum is λ 0 . Therefore, the device becomes smaller as the dielectric constant of the printed circuit board used increases. Further, when the dielectric constant of the substrate is large, electromagnetic energy is concentrated in the substrate, which is convenient because there is little leakage of electromagnetic waves.
【0004】上記の回路用基板として、樹脂(高周波特
性に優れるPPO樹脂等)をガラス繊維製補強材で強化
してなる基板がある。この回路用基板は、アルミナ等の
セラミック系基板に比べ、大面積化対応性や後加工(切
断、孔開、接着等)性に優れる等、樹脂の利点が活かさ
れるため、注目されている。As the above-mentioned circuit board, there is a board obtained by reinforcing a resin (such as PPO resin having excellent high frequency characteristics) with a glass fiber reinforcing material. This circuit board is attracting attention because it can take advantage of the resin, such as the large area compatibility and excellent post-processing (cutting, punching, bonding, etc.), as compared with a ceramic substrate such as alumina.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ただ、上記回路用基板
は、肝心の誘電率の点では十分と言えないため、実用性
が今ひとつである。樹脂として、ポリフッ化ビニリデン
(εr =13)やシアノ樹脂(εr =16〜20)など
誘電率の高い樹脂を用いる方法もあるが、この場合、誘
電損失が大きく、高周波域では誘電特性の安定性にも問
題があり、高周波(特に100MHz以上)適性に欠ける
ため、余り適切な対策とは言いがたい。However, the above-mentioned circuit board is not practical in terms of the essential dielectric constant. As the resin, there is a method of using a resin having a high dielectric constant such as polyvinylidene fluoride (ε r = 13) or cyano resin (ε r = 16 to 20), but in this case, the dielectric loss is large and the dielectric characteristics in the high frequency range are high. There is also a problem with stability and lack of suitability for high frequencies (especially 100 MHz or higher), so it cannot be said that it is a very appropriate measure.
【0006】そのため、無機誘電体粒子(例えば、Ti
O2 粒子、BaTiO3 粒子など)を樹脂中に分散させ
誘電率を高めるようにするのであるが、適当量の無機誘
電体粒子では所望の誘電率(εr が10以上)をもたせ
ることが中々できない。これは、ガラス製補強材(例え
ば、ガラスクロス)の方の誘電率が高くないからであ
る。無機誘電体粒子の添加量を増せば誘電率は高くなる
が、余り添加量が多いとコスト高や界面トラブルが起こ
り易くなる等の不都合が起こるため、無機誘電体粒子の
添加量を増やすことは適切な方策ではない。Therefore, the inorganic dielectric particles (for example, Ti
O 2 particles, BaTiO 3 particles, etc.) are dispersed in the resin to increase the dielectric constant, but it is often the case that an appropriate amount of inorganic dielectric particles has a desired dielectric constant (ε r of 10 or more). Can not. This is because the glass reinforcing material (for example, glass cloth) does not have a higher dielectric constant. Although increasing the amount of addition of the inorganic dielectric particles increases the dielectric constant, if the amount of addition is too large, disadvantages such as high cost and easy interface trouble occur, so increasing the addition amount of the inorganic dielectric particles is not recommended. Not a proper policy.
【0007】また、ガラス製補強材の誘電率が低い場
合、構造上からくる誘電率変動の問題があり利用し難
い。ひとつは、低誘電率のガラス製補強材域と無機誘電
体粒子を含む高誘電率樹脂域が入り組み、内部に微視的
な誘電率変動を生じることである。もうひとつは、低誘
電率のガラス製補強材域と無機誘電体粒子を含む高誘電
率樹脂域が混在する場合は高誘電率樹脂域の量の変化に
伴う誘電率変動があることである。Further, when the dielectric constant of the glass reinforcing material is low, there is a problem of dielectric constant fluctuation due to the structure, and it is difficult to use. One is that a low dielectric constant glass reinforcing material region and a high dielectric constant resin region containing inorganic dielectric particles are intermingled with each other to cause microscopic dielectric constant variation. The other is that when a low dielectric constant glass reinforcing material region and a high dielectric constant resin region containing inorganic dielectric particles are mixed, there is a change in the dielectric constant due to a change in the amount of the high dielectric constant resin region.
【0008】通常の補強材用のガラスクロスは、Eガラ
スと呼ばれるSiO2 −Al2 O3 −CaO系ガラス組
成物の繊維からなる。このEガラスは、より具体的に
は、SiO2 :50〜60重量%、Al2 O3 :13〜
16重量%、B2 O3 :5〜9重量%、MgO:0〜6
重量%、CaO:15〜25重量%、Na2 O+K
2 O:0〜1重量%、F:0〜1重量%という組成を有
しており、比誘電率は6〜7程度であって、比誘電率は
それほど高くないのである。A usual glass cloth for reinforcing material is composed of fibers of a SiO 2 —Al 2 O 3 —CaO glass composition called E glass. The E glass, more specifically, SiO 2: 50-60 wt%, Al 2 O 3: 13~
16 wt%, B 2 O 3: 5~9 wt%, MgO: 0~6
% By weight, CaO: 15 to 25% by weight, Na 2 O + K
It has a composition of 2 O: 0 to 1% by weight and F: 0 to 1% by weight, has a relative dielectric constant of about 6 to 7, and is not so high.
【0009】PbOを多量に含有する鉛系ガラス組成物
は高比誘電率である。例えば、PbO:72重量%、S
iO2 :26重量%、B2 O3 :1.5重量%、K
2 O:0.5重量%の組成の鉛系ガラス組成物は、1
3.0の比誘電率を有する。しかし、鉛系ガラス組成物
の場合、繊維化(直径7〜9μm)が難しいという問題
がある。ガラス溶融時にPbOの蒸発が激しくて不均質
になって紡糸工程で糸切れが多発するのである。また、
鉛系ガラス組成物の場合、適切なガラスクロス化が困難
であるという問題がある。ガラスクロスの製造の場合に
は、一次バインダーを除去するための熱処理工程がある
が、鉛系ガラス組成物は歪み点が低く劣化し易いため十
分な処理を施すことが難しい。一次バインダーの除去処
理が十分でないガラスクロスは基板の長期信頼性低下の
原因となる。それに、鉛系ガラス組成物の場合、鉛が有
毒であるため取扱が容易でないという問題もあるし、1
00MHz以上の高周波域での誘電損失(tanδ)が大
きいという問題もある。A lead glass composition containing a large amount of PbO has a high relative dielectric constant. For example, PbO: 72 wt%, S
iO 2 : 26% by weight, B 2 O 3 : 1.5% by weight, K
2 O: 0.5% by weight of the lead-based glass composition is 1
It has a relative dielectric constant of 3.0. However, in the case of a lead-based glass composition, there is a problem that it is difficult to form fibers (7 to 9 μm in diameter). Evaporation of PbO is intense during glass melting, resulting in inhomogeneity and frequent yarn breakage in the spinning process. Also,
In the case of a lead-based glass composition, there is a problem that it is difficult to form an appropriate glass cloth. In the case of manufacturing glass cloth, there is a heat treatment step for removing the primary binder, but the lead-based glass composition has a low strain point and is easily deteriorated, so that it is difficult to perform sufficient treatment. The glass cloth, which is not sufficiently treated to remove the primary binder, causes deterioration in long-term reliability of the substrate. In addition, the lead-based glass composition has a problem that it is not easy to handle because lead is toxic.
There is also a problem that the dielectric loss (tan δ) in a high frequency region of 00 MHz or higher is large.
【0010】また、プリント回路用基板の補強材として
用いるガラスは、化学的耐久性も必要である。というの
は、プリント回路用基板に回路を形成する際に様々な化
学処理を経るが、この処理で補強材が損傷を受けないこ
とが必要だからである。一方、高周波用の回路用基板の
場合、誘電特性の上ではPPO系樹脂が好適なのである
が、耐熱性や熱膨張性(寸法安定性)、物理的強度(剛
性)等の物性が今ひとつ十分でない。これらの諸物性が
向上すれば有用性はさらに増す。Further, the glass used as a reinforcing material for the printed circuit board is required to have chemical durability. This is because various chemical treatments are performed when forming a circuit on a printed circuit board, and it is necessary that the reinforcing material is not damaged by this treatment. On the other hand, in the case of a circuit board for high frequency, PPO resin is preferable in terms of dielectric properties, but physical properties such as heat resistance, thermal expansion (dimensional stability), and physical strength (rigidity) are not sufficient. .. If these physical properties are improved, the usefulness is further increased.
【0011】また、無機誘電体粒子の誘電率向上作用が
強く、しかも、製造段階で無機誘電体粒子を樹脂ワニス
中に分散させたときに沈降分離し難くいと製造が容易と
なり、やはり有用性が増す。この発明は、上記事情に鑑
み、繊維化容易で誘電率も高く、しかも、化学的耐久性
が良好な組成のガラス繊維で強化され優れた誘電特性の
回路用基板を提供することを第1の課題とする。Further, the inorganic dielectric particles have a strong effect of improving the dielectric constant, and when the inorganic dielectric particles are dispersed in the resin varnish at the manufacturing stage, it is difficult for the particles to settle and separate. Increase. In view of the above circumstances, the present invention provides a circuit board having excellent dielectric properties, which is reinforced with glass fiber having a composition that is easily fiberized, has a high dielectric constant, and has good chemical durability. It is an issue.
【0012】そして、第1の課題に加えて、諸物性の向
上したPPO系樹脂が用いられ高い高周波適性を有する
回路用基板を提供することを第2の課題とし、樹脂中に
分散している無機誘電体粒子が樹脂ワニス中で沈降分離
し難く、かつ、誘電率向上作用の強い粒子である回路基
板を提供することを第3の課題とする。In addition to the first problem, the second problem is to provide a circuit board having a high high frequency suitability in which a PPO-based resin having improved physical properties is used, and the circuit board is dispersed in the resin. A third object is to provide a circuit board which is a particle in which the inorganic dielectric particles are hard to settle and separate in the resin varnish and has a strong dielectric constant improving action.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】前記第1の課題を解決す
るため、発明者らは、SiO2 −BaO−TiO2 −Z
rO2 系ガラス組成物に着目した。このガラス組成物は
非鉛系であって誘電特性が良好であるし、化学的耐久性
(耐酸性、耐アルカリ性、耐水性)に富むからである。
しかしながら、失透温度が高くて繊維化が難しいという
問題がある。ガラス繊維を得る場合、200〜800個
の小穴を底にあけたブッシングと呼ばれる白金製ポット
の前記小穴から融液を引き出し繊維を得るのであるが、
失透温度が高いとブッシングの底に失透による結晶が生
じて融液流出が妨げられ糸切れが起こる。普通、ブッシ
ング底部の温度と繊維の巻き取り速度の制御により、失
透を抑えながらガラス繊維を得るのであるが、失透温度
が融液粘度が102.5 ポアズ(316ポアズ)となる温
度を越えると制御し切れないのである。つまり、従来の
高比誘電率(εr が9以上)のSiO2 −BaO−Ti
O2 −ZrO2 系ガラス組成物の失透温度は融液粘度が
102.5 ポアズ(316ポアズ)となる温度を越えてお
り、繊維化適性に欠けていたのである。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the first problem, the inventors have made SiO 2 --BaO--TiO 2 --Z.
Attention was paid to the rO 2 type glass composition. This is because this glass composition is lead-free, has good dielectric properties, and has excellent chemical durability (acid resistance, alkali resistance, water resistance).
However, there is a problem that the devitrification temperature is high and it is difficult to form fibers. When obtaining glass fibers, the melt is drawn out from the small holes of a platinum pot called a bushing having 200 to 800 small holes at the bottom to obtain the fibers.
If the devitrification temperature is high, crystals due to devitrification occur at the bottom of the bushing, which prevents the melt from flowing out and causes yarn breakage. Normally, glass fibers are obtained while suppressing devitrification by controlling the temperature of the bottom of the bushing and the winding speed of the fiber, but when the devitrification temperature exceeds the temperature at which the melt viscosity becomes 10 2.5 poise (316 poise). You cannot control it. That is, conventional high relative permittivity (ε r is 9 or more) SiO 2 —BaO—Ti
The devitrification temperature of the O 2 -ZrO 2 glass composition exceeded the temperature at which the melt viscosity was 10 2.5 poise (316 poise), and it was lacking in fiberization suitability.
【0014】そこで、発明者らは、必要な誘電特性や化
学的耐久性を確保しつつ繊維化適性をもたせる方途を求
めて鋭意検討を続け、適当量のNbO5/2の添加が課題
解決に有効であるという第1の知見を得ることができ
た。それだけでなく、適当量のNbO5/2 の添加に加え
て適当量のAlO3/2 の同時添加が、失透温度と102.
5 ポアズ温度の間に顕著な差が出やすいことから課題解
決に非常に有効であるという第2の知見も得ることがで
きたのである。Therefore, the present inventors have continued to make intensive studies in search of a method for imparting the fiberization suitability while ensuring the required dielectric properties and chemical durability, and the addition of an appropriate amount of NbO 5/2 solves the problem. We were able to obtain the first finding that it was effective. Not only that, but the simultaneous addition of an appropriate amount of NbO 5/2 and an appropriate amount of AlO 3/2 will also increase the devitrification temperature and 10 2.
It was also possible to obtain the second finding that it is very effective in solving problems because a remarkable difference is likely to occur between the 5 Poise temperatures.
【0015】SiO2 −BaO−TiO2 −ZrO2系
ガラス組成物は、必要な誘電特性を確保できる組成範囲
においては失透によってSiO2 系のクリストバライト
結晶とBaO−TiO2 −ZrO2 系の結晶が主に析出
する。適当量のNbO5/2の添加は、後者のBaO−T
iO2 −ZrO2 系結晶の析出を抑制するために失透温
度の低下が起こるのであるが、前者のSiO2 系クリス
トバライト結晶の析出は抑制し切れず、失透温度の低下
の程度に限界があったのである。それが、適当量のAl
O3/2 の添加でSiO2 系クリストバライト結晶の析出
も十分に抑制されるようになるため、更に失透温度を低
下させられ、また、融液粘度が上昇するため、失透温度
と102.5 ポアズ温度との差がより大きくなるというこ
とを見いだしたのである。[0015] SiO 2 -BaO-TiO 2 -ZrO 2 based glass composition of cristobalite crystals and BaO-TiO 2 -ZrO 2 system SiO 2 system by devitrification in the composition range that can ensure the necessary dielectric properties crystals Is mainly deposited. The addition of an appropriate amount of NbO 5/2 is equivalent to the latter BaO-T
The devitrification temperature lowers in order to suppress the precipitation of the iO 2 -ZrO 2 -based crystal, but the former precipitation of the SiO 2 -based cristobalite crystal cannot be suppressed and there is a limit to the degree of the devitrification temperature decrease. There was. That is a proper amount of Al
The addition of O 3/2 also sufficiently suppresses the precipitation of SiO 2 -based cristobalite crystals, so that the devitrification temperature can be further lowered, and the melt viscosity increases, so that the devitrification temperature and 10 2.5 They found that the difference from the Poise temperature became larger.
【0016】したがって、第1の知見に基づいて完成し
た第1の課題を解決する請求項1記載の発明(第1発
明)にかかる回路用基板は、樹脂中に無機誘電体粒子が
分散されているとともに、SiO2 を40〜65モル
%、MgO,CaO,SrOおよびBaOの少なくとも
ひとつを20〜45モル%、TiO2 およびZrO2 の
少なくともひとつを5〜25モル%、NbO5/2 を0.
5〜15モル%それぞれ含み、これらの酸化物の合計量
が85モル%以上であり、比誘電率(1MHz,25℃)
9以上の繊維化適性を有するガラス組成物からなる高誘
電率ガラス繊維で強化した構成をとるようにしており、
第1発明の場合、ガラス組成物は、請求項2のように、
加えて、SiO2 の含有量が46〜60モル%、Mg
O,CaO,SrOおよびBaOの少なくともひとつの
含有量が25〜40モル%、TiO2 およびZrO2 の
少なくともひとつの含有量が7〜24モル%、NbO
5/2 の含有量が1〜10モル%であることが好ましい。Therefore, the circuit board according to the invention (first invention) according to claim 1 which solves the first problem completed based on the first knowledge has inorganic dielectric particles dispersed in a resin. 40 to 65 mol% of SiO 2 , 20 to 45 mol% of at least one of MgO, CaO, SrO, and BaO, 5 to 25 mol% of at least one of TiO 2 and ZrO 2 , and 0 of NbO 5/2 . .
5 to 15 mol% each, the total amount of these oxides is 85 mol% or more, and the relative dielectric constant (1 MHz, 25 ° C.)
A high dielectric constant glass fiber made of a glass composition having a fiber-forming aptitude of 9 or more is used to strengthen the structure.
In the case of the first invention, the glass composition is
In addition, the content of SiO 2 is 46 to 60 mol%, Mg
The content of at least one of O, CaO, SrO and BaO is 25 to 40 mol%, the content of at least one of TiO 2 and ZrO 2 is 7 to 24 mol%, NbO
The content of 5/2 is preferably 1 to 10 mol%.
【0017】また、第2の知見に基づいて完成した第1
の課題を解決する請求項3記載の発明(第2発明)にか
かる回路用基板は、樹脂中に無機誘電体粒子が分散され
ているとともに、SiO2 を40〜65モル%、Ca
O,SrOおよびBaOの少なくともひとつを20〜4
5モル%、TiO2 およびZrO2 の少なくともひとつ
を5〜25モル%、NbO5/2 を0.5〜15モル%、
AlO3/2 を0.5〜15モル%それぞれ含み、これら
の酸化物の合計量が85モル%以上であり、比誘電率
(1MHz,25℃)9以上の繊維化適性を有するガラス
組成物からなる高誘電率ガラス繊維で強化した構成をと
るようにしており、第2発明の場合、ガラス組成物は、
請求項4のように、加えて、SiO2 の含有量が46〜
60モル%、CaO,SrOおよびBaOの少なくとも
ひとつの含有量が25〜40モル%、TiO2 およびZ
rO2 の少なくともひとつの含有量が7〜24モル%、
NbO 5/2 の含有量が1〜10モル%、AlO3/2 の含
有量が1〜10モル%であることが好ましい。Further, the first completed based on the second knowledge
The invention (second invention) according to claim 3 for solving the above problem
Such circuit boards have inorganic dielectric particles dispersed in resin.
Along with SiO240-65 mol%, Ca
20 to 4 of at least one of O, SrO and BaO
5 mol%, TiO2And ZrO2At least one of
5 to 25 mol%, NbO5/20.5 to 15 mol%,
AlO3/20.5 to 15 mol% respectively,
The total amount of oxides of 85 mol% or more, the relative dielectric constant
(1 MHz, 25 ° C) Glass with fiber suitability of 9 or higher
A structure reinforced with a high dielectric constant glass fiber composed of a composition
In the case of the second invention, the glass composition is
As in claim 4, in addition, SiO2Content of 46-
60 mol%, at least CaO, SrO and BaO
One content is 25-40 mol%, TiO2And Z
rO2The content of at least one of 7 to 24 mol%,
NbO 5/2Content of 1 to 10 mol%, AlO3/2Including
The content is preferably 1 to 10 mol%.
【0018】この発明では強化用の高誘電率ガラス繊維
用のガラスが、上記組成構成をとるため、以下のように
9以上の比誘電率(1MHz,25℃)や良好な繊維化適
性を始めとして優れた特性が確保できるようになる。
比誘電率(1MHz、25℃)9以上の高誘電率であ
る。 誘電損失(1MHz、25℃)即ちtanδ0.
6%以下の低損失である。In the present invention, since the glass for reinforcing high-dielectric-constant glass fiber has the above-mentioned compositional constitution, the relative dielectric constant of 9 or more (1 MHz, 25 ° C.) and good fiberization suitability are as follows. As a result, excellent characteristics can be secured.
It has a high dielectric constant of 9 or more in the relative dielectric constant (1 MHz, 25 ° C.). Dielectric loss (1 MHz, 25 ° C.) or tan δ0.
Low loss of 6% or less.
【0019】 100MHz以上の高周波域でも、上記
比誘電率および誘電損失の変化が僅かで、優れた高周波
誘電特性である。 化学的耐久性(耐酸性、耐アルカ
リ性、耐水性)に富む。 失透温度が融液粘度が10
2.5 ポアズとなる温度以下である。失透温度と102.5
ポアズ温度の差が大きいほど繊維化適性は良くなる。N
bO5/2 とAlO3/2 を併用する第2発明の場合は、失
透温度と102.5ポアズ温度の差は約90℃にも達する
ようにすることも容易である。Even in a high frequency range of 100 MHz or higher, the changes in the relative permittivity and the dielectric loss are small and the high frequency dielectric characteristics are excellent. Has excellent chemical durability (acid resistance, alkali resistance, water resistance). The devitrification temperature is 10 and the melt viscosity is 10.
It is below the temperature of 2.5 poise. Devitrification temperature and 10 2.5
The larger the difference in Poise temperature, the better the fibering suitability. N
In the case of the second invention in which bO 5/2 and AlO 3/2 are used together, it is easy to make the difference between the devitrification temperature and the 10 2.5 Poise temperature reach about 90 ° C.
【0020】 歪み点が約600℃と高い。この発明
のガラス組成物の組成範囲を上記のように限定した理由
は、以下の通りである。 SiO2 :40〜65モル%(より好ましくは46〜6
0モル%) SiO2 は、ガラスの骨格を形成する成分であり、40
モル%未満だと失透温度の上昇と融液粘度の低下を招来
し必要な繊維化適性の確保が難しくなるとともに、化学
的耐久性も十分でなくなる。65モル%を上回ると9以
上の比誘電率の確保が難しいとともに、ガラス粘度が高
く融液化困難で繊維化し難くなる。The strain point is as high as about 600 ° C. The reason for limiting the composition range of the glass composition of the present invention as described above is as follows. SiO 2 : 40 to 65 mol% (more preferably 46 to 6)
SiO 2 is a component that forms the skeleton of glass, and
If it is less than mol%, the devitrification temperature will rise and the melt viscosity will decrease, making it difficult to secure the required fiberization aptitude, and the chemical durability will also become insufficient. If it exceeds 65 mol%, it is difficult to secure a relative permittivity of 9 or more, and the glass viscosity is high, and it is difficult to melt it, and it becomes difficult to form fibers.
【0021】MgO,CaO,SrOおよびBaOの少
なくともひとつ:20〜45モル%(より好ましくは2
5〜40モル%)・・・第1発明の場合 MgO,CaO,SrOおよびBaOは、ガラス構造の
修飾イオンとして作用し、融液化を容易とする。また、
併用使用は失透温度の低下をもたらす。CaO,SrO
およびBaOは比誘電率を上昇させる働きをする。20
モル%未満だと、融液が得にくく繊維化適性が低下する
とともに9以上の比誘電率の確保が難しい。45モル%
を越えると失透温度の上昇と融液粘度の低下を招来し必
要な繊維化適性の確保が難しくなる。At least one of MgO, CaO, SrO and BaO: 20 to 45 mol% (more preferably 2
5 to 40 mol%) ... In the case of the first invention MgO, CaO, SrO and BaO act as modifying ions of the glass structure, and facilitate melt-making. Also,
When used in combination, the devitrification temperature is lowered. CaO, SrO
And BaO serve to increase the relative dielectric constant. 20
If it is less than mol%, it is difficult to obtain a melt, the suitability for fiber formation is deteriorated, and it is difficult to secure a relative dielectric constant of 9 or more. 45 mol%
If it exceeds, the devitrification temperature will rise and the viscosity of the melt will decrease, making it difficult to secure the required fiberization suitability.
【0022】CaO,SrOおよびBaOの少なくとも
ひとつ:20〜45モル%(より好ましくは25〜40
モル%)・・・第2発明の場合 CaO,SrOおよびBaOは、ガラス構造の修飾イオ
ンとして作用し、融液化を容易とする。また、併用使用
は失透温度の低下をもたらす。CaO,SrOおよびB
aOは比誘電率を上昇させる働きをする。20モル%未
満だと、融液が得にくく繊維化適性が低下するとともに
9以上の比誘電率の確保が難しい。45モル%を越える
と失透温度の上昇と融液粘度の低下を招来し必要な繊維
化適性の確保が難しくなる。At least one of CaO, SrO and BaO: 20 to 45 mol% (more preferably 25 to 40)
Mol%) ... In the case of the second invention CaO, SrO, and BaO act as modifying ions of the glass structure, and facilitate melt-making. Further, the combined use brings about a decrease in devitrification temperature. CaO, SrO and B
aO functions to increase the relative dielectric constant. If it is less than 20 mol%, it is difficult to obtain a melt, the suitability for fiber formation is reduced, and it is difficult to secure a relative dielectric constant of 9 or more. If it exceeds 45 mol%, the devitrification temperature will rise and the viscosity of the melt will decrease, making it difficult to secure the required fiber-forming aptitude.
【0023】TiO2 およびZrO2 の少なくともひと
つ:5〜25モル%(より好ましくは7〜24モル%) TiO2 、ZrO2 は比誘電率を上昇させる働きと化学
的耐久性を高める働きがある。TiO2 とZrO2 の併
用が望ましく、TiO2 をZrO2 よりも多くすること
が多い。5モル%未満だと9以上の比誘電率や必要な化
学的耐久性の確保が難しい。25モル%を越えると失透
温度が上昇し繊維化適性が失われる。At least one of TiO 2 and ZrO 2 : 5 to 25 mol% (more preferably 7 to 24 mol%) TiO 2 and ZrO 2 have a function of increasing the relative dielectric constant and a function of increasing chemical durability. .. The combined use of TiO 2 and ZrO 2 is desirable, and TiO 2 is often made larger than ZrO 2 . If it is less than 5 mol%, it is difficult to secure a relative dielectric constant of 9 or more and necessary chemical durability. When it exceeds 25 mol%, the devitrification temperature rises and the suitability for fiber formation is lost.
【0024】NbO5/2 :0.5〜15モル%(より好
ましくは1〜10モル%) NbO5/2 は比誘電率の低下を伴わずに失透温度を大き
く低下させる働きがある。0.5モル%未満では必要な
添加効果があらわれず、15モル%を越えると逆に失透
温度の上昇をもたらす。 AlO3/2 :0.5〜15モル%(より好ましくは1〜
10モル%) AlO3/2 はガラスの骨格を形成する成分であり、失透
温度の低下と、融液粘度の上昇をもたらす。0.5モル
%未満では必要な添加効果があらわれず、15モル%を
越えると比誘電率が低下するとともに、過度のガラス粘
度上昇を招来し融液化が困難で繊維化し難くなる。NbO 5/2 : 0.5 to 15 mol% (more preferably 1 to 10 mol%) NbO 5/2 has a function of significantly lowering the devitrification temperature without lowering the relative dielectric constant. If it is less than 0.5 mol%, the necessary addition effect does not appear, and if it exceeds 15 mol%, the devitrification temperature rises. AlO 3/2 : 0.5-15 mol% (more preferably 1-
10 mol%) AlO 3/2 is a component that forms the skeleton of glass, and causes a decrease in devitrification temperature and an increase in melt viscosity. If it is less than 0.5 mol%, the necessary addition effect is not exhibited, and if it exceeds 15 mol%, the relative dielectric constant is lowered and the glass viscosity is excessively increased, which makes it difficult to melt and become fibrous.
【0025】MgO,CaO,SrOおよびBaO(又
は、CaO,SrOおよびBaO)の少なくともひとつ
の含有量が28〜35モル%、NbO5/2の含有量が2
〜9モル%であった場合には、失透温度と融液粘度が1
02.5 ポアズとなる温度との差が顕著となる傾向がある
ようである。また、上記酸化物の合計量が85モル%未
満だと、9以上の比誘電率の確保が難しかったり、必要
な繊維化適性(繊維成形性)の確保が難しくなる。The content of at least one of MgO, CaO, SrO and BaO (or CaO, SrO and BaO) is 28 to 35 mol%, and the content of NbO 5/2 is 2.
When it is up to 9 mol%, the devitrification temperature and the melt viscosity are 1
It seems that the difference from the temperature of 0 2.5 poise tends to be remarkable. Further, if the total amount of the above oxides is less than 85 mol%, it is difficult to secure a relative permittivity of 9 or more, and it becomes difficult to secure the required fiberization suitability (fiber moldability).
【0026】なお、第1、2発明のガラス組成物は、必
須成分の他に、15モル%以下の範囲で、Li2 O,N
a2 O,K2 O,ZnO,MnO2 ,TaO5/2 , BO
3/2 , LaO3/2 ,CeO2 等の酸化物を少なくともひ
とつ含んでいてもよい。上記ガラス組成物を作るための
原料としては、酸化物(複合酸化物を含む)、炭酸塩、
硫酸塩、塩化物、フッ化物など様々な化合物が使用で
き、要は上記組成が得られさえすればよい。The glass compositions of the first and second inventions contain Li 2 O, N within the range of 15 mol% or less in addition to the essential components.
a 2 O, K 2 O, ZnO, MnO 2 , TaO 5/2, BO
It may contain at least one oxide such as 3/2 , LaO 3/2 , and CeO 2 . As a raw material for making the above glass composition, oxides (including complex oxides), carbonates,
Various compounds such as sulfates, chlorides and fluorides can be used, as long as the above composition is obtained.
【0027】この発明の回路用基板における高誘電率ガ
ラス繊維は、基板の機械的強度や寸法安定性を向上させ
るものであり、通常はクロス状の形であるが、他にマッ
ト状や単なるフィラメント(ファイバー)状の形でも使
用される。クロスやマットの場合、通常、繊維径0.5
〜20μm、厚み15μm〜1.5mm程度のものが用
いられる。The high-dielectric-constant glass fiber in the circuit board of the present invention improves the mechanical strength and dimensional stability of the board and is usually in the shape of a cloth, but in addition, it is in the shape of a mat or a simple filament. Also used in (fiber) form. In the case of cloth or mat, the fiber diameter is usually 0.5
The thickness is about 20 μm and the thickness is about 15 μm to 1.5 mm.
【0028】フィラメントの場合、通常、繊維径2〜5
0μm、長さ20〜300μm程度のものが用いられ
る。ガラス繊維と複合化される樹脂は、特に限定されな
いが、高周波域の用途では、高周波損失の少ない(低t
anδ)樹脂が好ましく、例えば、PPO(ポリフェニ
レンオキサイド)樹脂、フッ素樹脂(例えば、テフロ
ン:デュポン社の商品名のようなポリフッ化エチレン系
樹脂)、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン等が
挙げられる。より比誘電率の大きな樹脂(例えば、エポ
キシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリフッ化ビニリデン、
フェノール樹脂等)の場合、比誘電率の点では好ましい
が、誘電損失が大きく、特に高周波用には適さなくな
る。In the case of filaments, the fiber diameter is usually 2 to 5
Those having a length of 0 μm and a length of about 20 to 300 μm are used. The resin to be composited with the glass fiber is not particularly limited, but in the application in the high frequency range, there is little high frequency loss (low t.
an δ) resin is preferable, and examples thereof include PPO (polyphenylene oxide) resin, fluororesin (for example, Teflon: polyfluorinated ethylene-based resin such as the product name of DuPont), polycarbonate, polyethylene, polyethylene terephthalate, polypropylene, polystyrene and the like. Be done. Resins with higher relative permittivity (for example, epoxy resin, polyester resin, polyvinylidene fluoride,
In the case of a phenolic resin or the like), it is preferable in terms of relative permittivity, but it has a large dielectric loss and is not suitable for high frequencies.
【0029】そして、樹脂として、請求項5のように、
PPOと架橋性ポリマおよび/または架橋性モノマを含
むPPO系組成物が用いられていると非常に有用なもの
となる。この発明に用いられる樹脂としてのPPOは、
たとえば、つぎの一般式(1)As the resin, as in claim 5,
It would be very useful if a PPO-based composition containing PPO and a crosslinkable polymer and / or a crosslinkable monomer is used. PPO as a resin used in this invention is
For example, the following general formula (1)
【0030】[0030]
【化1】 [Chemical 1]
【0031】〔ここに、Rは、水素または炭素数1〜3
の炭化水素基を表し、各Rは、同じであってもよく、異
なっていてもよい。〕で表されるものであり、その一例
としては、ポリ(2・6−ジメチル−1・4−フェニレ
ンオキサイド)が挙げられる。このようなPPOは、た
とえば、USP4059568号明細書に開示されてい
る方法で合成することができる。特に限定するものでは
ないが、たとえば、重量平均分子量(Mw)が50,0
00、分子量分布Mw/Mn=4.2(Mnは数平均分
子量)のポリマが好ましく使用される。[Wherein R represents hydrogen or a carbon number of 1 to 3]
Represents a hydrocarbon group, and each R may be the same or different. ], And one example thereof is poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide). Such PPO can be synthesized, for example, by the method disclosed in USP 4059568. Although not particularly limited, for example, the weight average molecular weight (Mw) is 50,0.
00, a polymer having a molecular weight distribution Mw / Mn = 4.2 (Mn is a number average molecular weight) is preferably used.
【0032】架橋性ポリマとしては、特にこれらに限定
される訳ではないが、たとえば、1・2−ポリブタジエ
ン、1・4−ポリブタジエン、スチレンブタジエンコポ
リマ、変性1・2−ポリブタジエン(マレイン変性,ア
クリル変性,エポキシ変性)、ゴム類などが挙げられ、
それぞれ、単独でまたは2つ以上併せて用いられる。ポ
リマ状態は、エラストマーでもラバーでもよい。The crosslinkable polymer is not particularly limited to these, but for example, 1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, modified 1.2-polybutadiene (malein modified, acrylic modified , Epoxy modified), rubbers, etc.
Each is used alone or in combination of two or more. The polymer state may be elastomer or rubber.
【0033】また、この発明の目的達成を妨げない範囲
で、PPO系樹脂組成物にポリスチレンを加えるように
してもよい。架橋性モノマとしては、たとえば、エス
テルアクリレート類,エポキシアクリレート類,ウレタ
ンアクリレート類,エーテルアクリレート類,メラミン
アクリレート類,アルキドアクリレート類,シリコンア
クリレート類等のアクリル酸類、トリアリルシアヌレ
ート,トリアリルイソシアヌレート,エチレングリコー
ルジメタクリレート,ジビニルベンゼン,ジアリルフタ
レート等の多官能モノマ、ビニルトルエン,エチルビ
ニルベンゼン,スチレン,パラメチルスチレン等の単官
能モノマ、多官能エポキシ類などが挙げられ、それぞ
れ、単独であるいは2つ以上併せて用いられるが、特に
これらに限定される訳ではない。Further, polystyrene may be added to the PPO resin composition within a range not hindering achievement of the object of the present invention. Examples of the crosslinkable monomers include ester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, ether acrylates, melamine acrylates, alkyd acrylates, silicon acrylates and other acrylic acids, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, Examples include polyfunctional monomers such as ethylene glycol dimethacrylate, divinylbenzene and diallyl phthalate, monofunctional monomers such as vinyltoluene, ethylvinylbenzene, styrene and paramethylstyrene, and polyfunctional epoxies, either alone or in combination with two. The above is used together, but is not limited to these.
【0034】架橋性モノマとしては、トリアリルシアヌ
レートおよび/またはトリアリルイソシアヌレートを用
いるのが、PPOとの相溶性が良く、架橋性,耐熱性お
よび誘電特性の面で好ましいのでよい。このほか、PP
O系樹脂組成物には、普通、開始剤が添加される。開始
剤としては、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルク
ミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイ
ド、2・5−ジメチル−2・5−ジ−(tert−ブチルパ
ーオキシ)ヘキシン−3、2・5−ジメチル−2・5−
ジ−(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、α・α′−
ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベ
ンゼン〔1・4(または1・3)−ビス(tert−ブチル
パーオキシイソプロピル)ベンゼンともいう〕等の過酸
化物、日本油脂(株)のビスクミルなどがあげられ、そ
れぞれ、単独でまたは2つ以上併せて用いられるが、こ
れらに限定されない。As the crosslinkable monomer, it is preferable to use triallyl cyanurate and / or triallyl isocyanurate because it has good compatibility with PPO and is preferable in terms of crosslinkability, heat resistance and dielectric properties. Besides this, PP
An initiator is usually added to the O-based resin composition. As the initiator, dicumyl peroxide, tert-butyl cumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di- (tert-butylperoxy) hexyne-3,2. 5-Dimethyl-2,5-
Di- (tert-butylperoxy) hexane, α ・ α'-
Peroxides such as bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene [also referred to as 1.4 (or 1.3) -bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene], Biscumyl of NOF Corporation And the like, and each is used alone or in combination of two or more, but is not limited thereto.
【0035】以上の原材料の配合割合は、特に限定され
ないが、PPOと架橋性ポリマおよび/または架橋性モ
ノマ、ならびに必要に応じて加えられる開始剤の合計量
に対して、PPOが7重量%以上、架橋性ポリマおよび
/または架橋性モノマが93重量%未満、開始剤が0.
1〜5重量%とする。より好ましくは、前記合計量に対
して、PPOが7重量%以上、架橋性ポリマが93重量
%未満、架橋性モノマが70重量%以下、開始剤が0.
1〜5重量%以下であり、さらにより好ましくは、PP
Oが10重量%以上、架橋性ポリマが20重量%以下、
架橋性モノマが60重量%以下、開始剤が0.5〜3重
量%の範囲である。The blending ratio of the above raw materials is not particularly limited, but PPO is 7% by weight or more with respect to the total amount of PPO, the crosslinkable polymer and / or the crosslinkable monomer, and the initiator added as necessary. , Less than 93% by weight of crosslinkable polymer and / or crosslinkable monomer, and 0.
1 to 5% by weight. More preferably, PPO is 7% by weight or more, the crosslinkable polymer is less than 93% by weight, the crosslinkable monomer is 70% by weight or less, and the initiator is 0.1% by weight with respect to the total amount.
1 to 5% by weight or less, and even more preferably PP
O is 10% by weight or more, the crosslinkable polymer is 20% by weight or less,
The crosslinkable monomer content is 60% by weight or less, and the initiator content is 0.5 to 3% by weight.
【0036】上記配合による原料は、通常、溶剤(溶
媒)に溶かして混合(溶液混合)される。このとき、通
常の方法に従い、カップリング剤を用いてもよい。これ
は、無機誘電体粒子とこれ以外の樹脂成分(モノマも含
めて)との密着性を良好なものとし、最終製品の物性を
良好なものとするためである。溶剤に溶かす場合、PP
O系樹脂組成物の樹脂固形分量が、溶剤に対して10〜
30重量%の範囲にあるのが好ましい。混合後、溶剤を
除去することにより、PPO系樹脂組成物が得られる。
前記溶剤としては、トリクロロエチレン,トリクロロエ
タン,クロロホルム,塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素、クロロベンゼン,ベンゼン,トルエン,キシレン
等の芳香族炭化水素、アセトン、四塩化炭素などがあ
り、特にトリクロロエチレンが好ましく、これらをそれ
ぞれ単独でまたは2つ以上混合して用いることができる
が、これらに限定されない。なお、混合は他の方法によ
ってもよい。The raw materials having the above composition are usually dissolved in a solvent (solvent) and mixed (solution mixture). At this time, a coupling agent may be used according to a usual method. This is to improve the adhesion between the inorganic dielectric particles and the other resin components (including monomers) and to improve the physical properties of the final product. When dissolving in a solvent, PP
The resin solid content of the O-based resin composition is 10 to the solvent.
It is preferably in the range of 30% by weight. After mixing, the solvent is removed to obtain a PPO resin composition.
Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene, trichloroethane, chloroform and methylene chloride, aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, benzene, toluene and xylene, acetone and carbon tetrachloride, and trichloroethylene is particularly preferable. Each may be used alone or in combination of two or more, but is not limited thereto. Note that the mixing may be performed by another method.
【0037】この発明に用いられる無機誘電体粒子は、
普通、無機誘電体粒子が緻密で非多孔性粒子であるが、
分散適性を考慮して余り小さ過ぎないように、また、凝
集、沈降を避けることを考慮して余り大き過ぎないよう
にする。このような観点から、非多孔性無機誘電体粒子
の場合は、平均粒径0.3〜5μmであって平均比表面
積0.2〜7.0 m2 /g(好ましくは平均粒径1〜5
μmであって平均比表面積0.2〜3.0 m2 /g)の
範囲のものを用いることが適当である。しかしながら、
発明者らの検討の結果、図2にみるように、表面に向け
て開口する孔や割れ目などからなる空隙が多数個あっ
て、この空隙内に樹脂の一部が入り込むことができるよ
うな多孔質粒子が、回路用基板の比誘電率を効果的に高
める為に好ましいことを見いだした。この多孔性無機誘
電体粒子の場合は、平均粒径5〜100μm、平均比表
面積0.3〜7.0 m2 /gのものが好ましい。これら
の非多孔質粒子と多孔質粒子は併用してもよい。The inorganic dielectric particles used in the present invention are
Normally, the inorganic dielectric particles are dense and non-porous particles,
It should not be too small considering dispersion suitability, and should not be too large considering avoiding aggregation and sedimentation. From such a viewpoint, in the case of the non-porous inorganic dielectric particles, the average particle size is 0.3 to 5 μm and the average specific surface area is 0.2 to 7.0 m 2 / g (preferably the average particle size 1 to 5
It is suitable to use those having an average specific surface area of 0.2 to 3.0 m 2 / g). However,
As a result of the study by the inventors, as shown in FIG. 2, there are a large number of voids including holes and cracks that open toward the surface, and a porous material that allows a part of the resin to enter the voids. It has been found that fine particles are preferable for effectively increasing the relative dielectric constant of the circuit board. In the case of the porous inorganic dielectric particles, those having an average particle diameter of 5 to 100 μm and an average specific surface area of 0.3 to 7.0 m 2 / g are preferable. These non-porous particles and porous particles may be used in combination.
【0038】粒径が100μmを超えると、回路用基板
の表面に粒子による凹凸が現れて平滑性が悪くなった
り、耐湿性(耐水性)が劣るようになったり、誘電損失
特性が悪くなったりするほか、製造時等に粒子が割れ易
くて誘電特性がばらついたりするという傾向がみられ
る。粒径が5μmを下回ると、誘電率向上効果が十分で
なくなる傾向がみられる。When the particle size exceeds 100 μm, unevenness due to particles appears on the surface of the circuit board, resulting in poor smoothness, poor moisture resistance (water resistance), and poor dielectric loss characteristics. In addition, there is a tendency that the particles are easily broken during manufacturing and the dielectric properties vary. If the particle size is less than 5 μm, the effect of improving the dielectric constant tends to be insufficient.
【0039】比表面積が7.0 m2 /gを超えると、耐
湿性(耐水性)が劣るようになり、誘電損失特性が悪く
なる傾向がみられる。比表面積が0.3 m2 /gを下回
ると、誘電率向上効果が十分でなくなる傾向がみられ
る。多孔質無機誘電体粒子は、一次粒子が集合してでき
る二次粒子であってもよい。この二次粒子では、一次粒
子間に空隙があって多孔質になっている。この場合、多
孔質粒子を構成する一次粒子は、焼結により互いに物理
的・化学的に結合していることが好ましい。If the specific surface area exceeds 7.0 m 2 / g, the moisture resistance (water resistance) tends to be poor and the dielectric loss characteristics tend to deteriorate. When the specific surface area is less than 0.3 m 2 / g, the effect of improving the dielectric constant tends to be insufficient. The porous inorganic dielectric particles may be secondary particles formed by assembling primary particles. The secondary particles are porous with voids between the primary particles. In this case, it is preferable that the primary particles constituting the porous particles are physically and chemically bonded to each other by sintering.
【0040】この多孔質無機誘電体粒子は、ペロブスカ
イト型結晶構造を有する高誘電率組成の化合物からなる
ことが好ましい。多孔質無機誘電体粒子としては、例え
ば、BaTiO3 系、SrTiO3 系、PbTi1/2 Z
r1/2 O3 系、Pb(Mg2/3Nb1/3 )O3 系、Ba
(SnX MgY TaZ )O3 系、Ba(ZrX ZnY T
aZ )O3 系などのペロブスカイト型結晶構造(あるい
は複合ペロブスカイト型結晶構造)を有するもの、その
他、TiO2 、ZrO2 、SnO2 の単独およびその複
合酸化物などの無機化合物等が具体的に挙げられる。多
孔質無機誘電体粒子は、球状、あるいは、様々な形のブ
ロック片的形状であってよく、その形状については特に
限定しない。The porous inorganic dielectric particles are preferably composed of a compound having a high dielectric constant composition having a perovskite type crystal structure. Examples of the porous inorganic dielectric particles include BaTiO 3 series, SrTiO 3 series, PbTi 1/2 Z
r 1/2 O 3 system, Pb (Mg 2/3 Nb 1/3 ) O 3 system, Ba
(Sn X Mg Y Ta Z ) O 3 system, Ba (Zr X Zn Y T
Specific examples include those having a perovskite type crystal structure (or complex perovskite type crystal structure) such as a z ) O 3 system, and other inorganic compounds such as TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 alone and their complex oxides. Can be mentioned. The porous inorganic dielectric particles may have a spherical or various block-like shape, and the shape thereof is not particularly limited.
【0041】この多孔質無機誘電体粒子は、例えば、
焼結密度が低く多孔質となるようにして得た無機誘電体
ブロックを粉砕したり、あるいは、無機粒子をバイン
ダー(例えば、PVA=ポリビニルアルコール水溶液)
中に分散し、乾燥雰囲気(例えば、130℃程度の温度
雰囲気)中にスプレーすることにより粒状物を得て、こ
れを1100℃程度の温度で焼成するようにしたりし
て、得ることができる。後者の場合、無機粒子として
は種々のものを選ぶことができるが、焼成は、スプレー
により得られた粒状物において、個々の粒状物内の粒子
同士は焼結により物理的・化学的な結合が起こり、特に
出発原料が微粒子の場合は粒成長が起こるが、粒状物同
士は簡単に離れる程度に行う。焼結粒子は、表面に開口
した孔や割れ目などがあって内部に空隙が生じており、
多孔質となっている。The porous inorganic dielectric particles are, for example,
The inorganic dielectric block obtained by making the sintered density low and porous is crushed, or the inorganic particles are bound with a binder (for example, PVA = polyvinyl alcohol aqueous solution).
It can be obtained by dispersing it in a medium and spraying it in a dry atmosphere (for example, a temperature atmosphere of about 130 ° C.) to obtain a granular material, which is then fired at a temperature of about 1100 ° C. In the latter case, various types of inorganic particles can be selected, but in the case of firing, in the particles obtained by spraying, the particles in the individual particles are physically and chemically bonded by sintering. This occurs, especially when the starting material is fine particles, but grain growth occurs. The sintered particles have pores and cracks opened on the surface and voids inside,
It is porous.
【0042】この焼結に際しては、必要に応じて焼結助
剤を用いても良い。焼結助剤としては、このような粒子
を焼結する際に通常使用される助剤であれば、何であっ
ても良いのであるが、強いて定義すれば、誘電体組成を
破壊せず、特性を損なわず、充分に補強効果を与えるも
のが好ましい。焼結助剤の使用量は、目的に応じて、ま
た、焼結助剤の種類に応じて適宜選択すれば良いが、通
常は、無機誘電体粒子に対して0.1〜5重量%が好ま
しい。焼結助剤の粒子径は、0.01〜100μmの範
囲であれば、いずれも使用できるが、均一に分散させる
ために、0.1〜50μm程度が好ましい。焼結助剤の
添加時期は、無機誘電体化合物の調製段階および焼成段
階の任意の時期でよい。例えば、無機粒子をバインダー
中に分散する際に同時に焼結助剤を分散させるようにす
るのである。In this sintering, a sintering aid may be used if necessary. As the sintering aid, any auxiliary may be used as long as it is usually used for sintering such particles, but if it is forcibly defined, it will not destroy the dielectric composition and It is preferable to provide a sufficient reinforcing effect without impairing the above. The amount of the sintering aid to be used may be appropriately selected depending on the purpose and the type of the sintering aid, but usually 0.1 to 5% by weight based on the inorganic dielectric particles. preferable. The particle size of the sintering aid can be any as long as it is in the range of 0.01 to 100 μm, but it is preferably about 0.1 to 50 μm for uniform dispersion. The sintering aid may be added at any time during the stage of preparing the inorganic dielectric compound and the stage of firing. For example, when the inorganic particles are dispersed in the binder, the sintering aid is dispersed at the same time.
【0043】焼結助剤を用いた場合には、不使用の場合
に較べて、焼結が容易になるという効果のみでなく、多
孔質粒子の強度が向上するために回路用基板の作製時に
おける多孔質誘電体粒子の崩れが防止できるという付随
的効果や、比較的低温で焼結できるようになるため、よ
り空隙率の大きな多孔質粒子の形成を可能とし、回路用
基板の誘電率を向上させうる等の付随的効果が表れる場
合がある。When the sintering aid is used, not only the effect of facilitating the sintering but also the strength of the porous particles is improved as compared with the case where the sintering aid is not used. The additional effect of being able to prevent the collapse of the porous dielectric particles in the above, and because it becomes possible to sinter at a relatively low temperature, it is possible to form porous particles with a larger porosity and to improve the dielectric constant of the circuit board. In some cases, an additional effect such as improvement can be exhibited.
【0044】焼結助剤の具体例としては以下のものがあ
る。すなわち、BaO−SiO2 −B2 O3 、CaO
−SiO2 −B2 O3 、Li2 O−SiO2 −B
2 O3 、Li2 O−Al2 O3 −SiO2 、Na2 O−
Al2 O3 −SiO2 、Li2 O−GeO2 、CdO−
PbO−SiO2 、Li2 O−SiO2、B2 O3 −B
i2 O3 、PbO−SiO2 −BaO、Na2 O−Pb
O−SiO2、PbO−GeO2 等のホウ酸系ガラス,
鉛系ガラス,ビスマス系ガラス,カドミウム系ガラス,
リチウム系ガラスなど、CuO、Bi2 O3 、B2 O
3 、CdO、Li2 O、PbO、WO3 、Pb5 Ge3
O11、Li2 SiO3 等の酸化物、および、LiF、
CuF2 、ZnF2 、CaF2 等の弗化物である。The following are specific examples of the sintering aid. That, BaO-SiO 2 -B 2 O 3, CaO
-SiO 2 -B 2 O 3, Li 2 O-SiO 2 -B
2 O 3, Li 2 O- Al 2 O 3 -SiO 2, Na 2 O-
Al 2 O 3 -SiO 2, Li 2 O-GeO 2, CdO-
PbO-SiO 2, Li 2 O -SiO 2, B 2 O 3 -B
i 2 O 3, PbO-SiO 2 -BaO, Na 2 O-Pb
Boric acid-based glass such as O—SiO 2 , PbO—GeO 2 ,
Lead glass, bismuth glass, cadmium glass,
CuO, Bi 2 O 3 , B 2 O such as lithium-based glass
3 , CdO, Li 2 O, PbO, WO 3 , Pb 5 Ge 3
O 11 , oxides such as Li 2 SiO 3 and LiF,
It is a fluoride such as CuF 2 , ZnF 2 and CaF 2 .
【0045】無機誘電体化合物粒子を焼結する際には、
一般に、添加物の作用によって粒子成長や焼結体の電気
特性を制御することが行われているが、この発明におい
ても、従来知られている種々の添加物を同様の目的で使
用することができる。多孔質無機誘電体粒子としては、
前述のように、平均粒径5〜100μm、平均比表面積
0.3〜7.0 m2 /gのものが好ましいのであるが、
一次粒子を集合させて二次粒子にする場合には、一次粒
子としては、例えば、0.1〜5μm程度になる。これ
は、粒子を球とした場合、d(一次粒子の粒径)、ρ
(一次粒子の真比重)、Sw(二次粒子の比表面積)の
間に、d=6/(ρ×Sw)の関係があるからである。
したがって、例えば、チタン酸バリウムの場合、一次粒
子の粒径は0.14〜3.3μm程度となる。When sintering the inorganic dielectric compound particles,
Generally, it is performed to control the particle growth and the electrical characteristics of the sintered body by the action of the additive, but in the present invention, it is possible to use various conventionally known additives for the same purpose. it can. As the porous inorganic dielectric particles,
As described above, it is preferable that the average particle size is 5 to 100 μm and the average specific surface area is 0.3 to 7.0 m 2 / g.
When the primary particles are aggregated to form secondary particles, the primary particles have a size of, for example, about 0.1 to 5 μm. When the particles are spheres, this is d (particle diameter of primary particles), ρ
This is because there is a relationship of d = 6 / (ρ × Sw) between (true specific gravity of primary particles) and Sw (specific surface area of secondary particles).
Therefore, for example, in the case of barium titanate, the particle size of primary particles is about 0.14 to 3.3 μm.
【0046】この発明において、マトリックス用樹脂と
無機誘電体粒子および補強材たるガラス繊維の配合割合
は、通常、樹脂:25〜95 vol%(体積%)、無機誘
電体粒子:5〜75 vol%であり、強化用の高誘電率ガ
ラス繊維は5〜70 vol%の範囲にある。この発明の回
路用基板は、例えば、下記のようにして製造する。In the present invention, the compounding ratio of the matrix resin, the inorganic dielectric particles and the glass fiber as the reinforcing material is usually resin: 25 to 95 vol% (volume%), inorganic dielectric particles: 5 to 75 vol%. And the high dielectric constant glass fiber for reinforcement is in the range of 5 to 70 vol%. The circuit board of the present invention is manufactured, for example, as follows.
【0047】上記のような原料を溶剤に溶かして混合す
ることによりPPO系樹脂組成物を得、これに無機誘電
体粒子を添加分散させてから、ガラスクロスに含浸させ
る。含浸後、風乾および/または熱風による乾燥などで
溶剤を除去しプリプレグを得る。このようにして作製し
たプリプレグを所定の設計厚みとなるように所定枚組み
合わせ、必要に応じて両面または片面に金属箔も組み合
わせて積層し、加熱圧締する等して樹脂を溶融させて、
プリプレグ同士やプリプレグと金属箔を互いに接着させ
て積層体を得る。この融着により強固な接着が得られる
が、このときの加熱でラジカル開始剤による架橋反応が
行われれば、いっそう強固な接着が得られるようにな
る。架橋反応は紫外線照射などにより行われてもよい。
熱架橋,光架橋が行われないときには、放射線照射によ
る架橋を行えばよい。また、熱架橋,光架橋が行われた
あとに放射線照射による架橋を行ってもよい。PPO系
樹脂組成物の硬化物では、硬化前に若干樹脂が流れるの
で、金属に対して良好な融着性を示す。ただし、接着剤
を併用しても構わない。The PPO resin composition is obtained by dissolving and mixing the above raw materials in a solvent, and the inorganic dielectric particles are added and dispersed therein, and then impregnated into the glass cloth. After impregnation, the solvent is removed by air drying and / or drying with hot air to obtain a prepreg. A predetermined number of prepregs produced in this manner are combined so as to have a predetermined design thickness, if necessary, a metal foil is also combined and laminated on both sides or one side, and the resin is melted by heating and pressing, etc.,
The prepregs are adhered to each other or the prepreg and the metal foil are adhered to each other to obtain a laminate. By this fusion, strong adhesion can be obtained, but if the crosslinking reaction by the radical initiator is carried out by heating at this time, even stronger adhesion can be obtained. The cross-linking reaction may be performed by irradiation with ultraviolet rays.
When thermal crosslinking or photocrosslinking is not performed, radiation crosslinking may be performed. Further, the crosslinking by irradiation of radiation may be performed after the thermal crosslinking or the photocrosslinking. In the cured product of the PPO-based resin composition, the resin slightly flows before curing, and thus exhibits a good fusion property with respect to the metal. However, an adhesive may be used together.
【0048】金属箔としては、銅箔,アルミニウム箔等
が用いられる。圧締は、プリプレグ同士や金属箔とプリ
プレグの接合、積層板の厚み調整のために行うので、圧
締条件は必要に応じて選択される。同時に、無機誘電体
粒子を圧壊しないような条件を設定する。加熱により架
橋を行う場合、架橋反応は、使用する開始剤の反応温度
等に依存するので、開始剤の種類に応じて加熱温度を選
ぶとよい。加熱時間も開始剤等の種類に応じて選ぶとよ
い。たとえば、温度150〜300℃,圧力20〜40
kg/cm2 ,時間10〜60分間程度である。あらかじ
め、シートおよび/またはプリプレグを所定枚加熱積層
成形しておき、これの片面あるいは両面に金属箔を重ね
合わせて、再び加熱圧締するようであっても良い。この
ようにして、図1にみるように、例えば、樹脂2中に無
機誘電体粒子4が分散され高誘電率ガラス繊維1で強化
され両面に金属箔3が接着された両面プリント回路用基
板が得られるのである。回路用基板の厚みは、通常、
0.1〜2mm程度である。As the metal foil, copper foil, aluminum foil or the like is used. Since the pressing is performed for joining the prepregs, for joining the metal foil and the prepreg, and for adjusting the thickness of the laminated plate, the pressing conditions are selected as necessary. At the same time, conditions are set so that the inorganic dielectric particles are not crushed. When the crosslinking is carried out by heating, the crosslinking reaction depends on the reaction temperature of the initiator used and the like, so the heating temperature may be selected according to the type of the initiator. The heating time may also be selected according to the type of initiator and the like. For example, a temperature of 150 to 300 ° C., a pressure of 20 to 40
kg / cm 2 , time is about 10 to 60 minutes. It is also possible that a predetermined number of sheets and / or prepregs are heat-laminated in advance, metal foils are superposed on one or both sides of the sheets, and the sheets are heat-pressed again. In this way, as shown in FIG. 1, for example, a double-sided printed circuit board in which the inorganic dielectric particles 4 are dispersed in the resin 2, reinforced with the high dielectric constant glass fiber 1, and the metal foil 3 is adhered on both sides is obtained. You can get it. The thickness of the circuit board is usually
It is about 0.1 to 2 mm.
【0049】この発明の範囲は、上記例示の化合物や数
値範囲あるいは処理方法に限られるものではない。The scope of the present invention is not limited to the above-exemplified compounds, numerical ranges or processing methods.
【0050】[0050]
【作用】この発明の回路用基板における強化用の高誘電
率ガラス繊維は、第1発明の場合、SiO2 を40〜6
5モル%、MgO,CaO,SrOおよびBaOの少な
くともひとつを20〜45モル%、TiO2 およびZr
O2 の少なくともひとつを5〜25モル%、NbO5/2
を0.5〜15モル%それぞれ含み、これらの酸化物の
合計量を85モル%以上とするガラス組成物からなり、
第2発明の場合、SiO2 を40〜65モル%、Ca
O,SrOおよびBaOの少なくともひとつを20〜4
5モル%、TiO2 およびZrO2 の少なくともひとつ
を5〜25モル%、NbO5/2 を0.5〜15モル%、
AlO3/2を0.5〜15モル%それぞれ含み、これら
の酸化物の合計量を85モル%以上とするガラス組成物
からなるため、比誘電率(1MHz、25℃)9以上と高
比誘電率であり、誘電損失(1MHz、25℃)即ちta
nδ0.6%以下の低損失であって、しかも、100M
Hzの高周波域でも、上記比誘電率および誘電損失の変化
が僅かで優れた高周波誘電特性をも有する。In the case of the first invention, the high-dielectric-constant glass fiber for reinforcement in the circuit board of the present invention contains SiO 2 in an amount of 40-6.
5 mol%, 20 to 45 mol% of at least one of MgO, CaO, SrO and BaO, TiO 2 and Zr
5 to 25 mol% of at least one of O 2 and NbO 5/2
A glass composition containing 0.5 to 15 mol% of each, and the total amount of these oxides being 85 mol% or more,
In the case of the second invention, SiO 2 is 40 to 65 mol%, Ca
20 to 4 of at least one of O, SrO and BaO
5 mol%, at least one of TiO 2 and ZrO 2 is 5 to 25 mol%, NbO 5/2 is 0.5 to 15 mol%,
Since the glass composition contains AlO 3/2 in an amount of 0.5 to 15 mol% and the total amount of these oxides is 85 mol% or more, it has a high relative dielectric constant (1 MHz, 25 ° C.) of 9 or more. Permittivity, dielectric loss (1MHz, 25 ℃) or ta
n δ 0.6% or less low loss and 100M
Even in the high frequency range of Hz, the change in the relative permittivity and the dielectric loss is slight and the high frequency dielectric property is also excellent.
【0051】そのため、無機誘電体粒子による誘電率向
上作用が阻害されず、微視的な内部の誘電率変動や樹脂
・無機誘電体粒子量の変化に伴う誘電率変動も抑制され
る。また、上記組成の場合、高誘電率ガラス繊維が化学
的耐久性(耐酸性、耐アルカリ性、耐水性)に富む(E
ガラスより遙に優れる)ため、加工時の化学処理での損
傷の問題がなく、PbOを多量に含む鉛系ガラスの場合
の毒性等の問題もないし、失透温度が融液粘度が10
2.5 ポアズとなる温度以下であるため、繊維化適性があ
って補強材用高誘電率ガラス繊維とすることができる
し、また、歪み点が約600℃と高く、クロス化の際の
一次バインダー除去処理も適切に行えるため、補強材と
して適切なガラスクロスとすることができる。Therefore, the action of improving the dielectric constant by the inorganic dielectric particles is not hindered, and the microscopic variation of the internal dielectric constant and the variation of the dielectric constant due to the change of the amount of the resin / inorganic dielectric particles are also suppressed. Further, in the case of the above composition, the high dielectric constant glass fiber is rich in chemical durability (acid resistance, alkali resistance, water resistance) (E
Since it is far superior to glass), there is no problem of damage due to chemical treatment during processing, there is no problem of toxicity in the case of lead-based glass containing a large amount of PbO, and the devitrification temperature has a melt viscosity of 10
Since the temperature is 2.5 poises or less, it can be made into a high dielectric constant glass fiber for reinforcing material because it is suitable for fiberization. Moreover, the strain point is as high as about 600 ° C, and the primary binder is removed at the time of crossing. Since the treatment can be performed appropriately, a glass cloth suitable as a reinforcing material can be obtained.
【0052】樹脂として、ポリフェニレンオキサイドと
架橋性ポリマおよび/または架橋性モノマを含むポリフ
ェニレンオキサイド系組成物が用いられている場合は、
得られた回路用基板で架橋を容易に生じさせることがで
きて、耐熱性、引張強さ、衝撃強さ、破壊強さなど物理
的強度や寸法安定性が十分に確保されるようになる。無
機誘電体粒子が多孔質粒子である場合、誘電率向上作用
が強い。誘電率向上作用が強いのは、同じ重量の多孔質
粒子同士で比較した場合、多孔質粒子も非多孔質粒子も
真に占める体積割合は同じであるが、前者の多孔質無機
誘電体粒子は空隙により膨らんでいる分だけ見かけ上の
占有体積が大きく、そして、この多孔質無機誘電体粒子
が空隙部分も含めた広い領域が高誘電率域として機能す
るからである、と推察される。それに、多孔質粒子は、
非多孔質粒子に比べて内部に空隙があるため樹脂ワニス
中で沈降分離し難くて製造が容易である。それに、回路
用基板の加工(切断、孔開等)の際にも、同じ粒径の非
多孔質無機誘電体に比べて容易に破壊するので、加工表
面が良好で、加工消耗品の劣化も少ないという利点もあ
る。When a polyphenylene oxide-based composition containing polyphenylene oxide and a crosslinkable polymer and / or a crosslinkable monomer is used as the resin,
Crosslinking can be easily generated in the obtained circuit board, and physical strength such as heat resistance, tensile strength, impact strength, and breaking strength and dimensional stability can be sufficiently ensured. When the inorganic dielectric particles are porous particles, the effect of improving the dielectric constant is strong. The effect of improving the dielectric constant is that when the porous particles of the same weight are compared with each other, the volume ratio of the porous particles and the non-porous particles is the same, but the former porous inorganic dielectric particles are It is presumed that this is because the apparent occupied volume is large due to the swelling due to the voids, and the wide region including the void portions of the porous inorganic dielectric particles functions as a high dielectric constant region. Besides, the porous particles are
Since it has voids inside compared to non-porous particles, it is difficult to settle and separate in the resin varnish, and the production is easy. In addition, even when processing (cutting, punching, etc.) circuit boards, it breaks more easily than non-porous inorganic dielectrics of the same particle size, so the processed surface is good and processing consumables are not deteriorated. There is also the advantage of being small.
【0053】[0053]
【実施例】以下、実施例および比較例の説明を行う。ま
ず、実施例用と比較用のガラス組成物を、以下のように
して作成した。表1〜8に示す組成となるように、ガラ
ス組成物原料を調合し、白金ルツボに入れて加熱(4時
間、1500℃)し溶融した。なお、原料としては、S
iO2 にはSiO2 を、MgO,CaO,SrOおよび
BaOには炭酸塩を、TiO2 にはアナターゼ型TiO
2 を、ZrO2 にはZrO2 を、NbO5/2 にはNbO
5/2 の1級試薬をそれぞれ用いた。EXAMPLES Examples and comparative examples will be described below. Well
First, the glass compositions for Examples and Comparative Examples were prepared as follows.
I created it. The composition should be as shown in Tables 1-8.
The raw materials for the composition are mixed, put in a platinum crucible and heated (at 4:00
(1500 ° C.) and melted. As a raw material, S
iO2Is SiO2To MgO, CaO, SrO and
BaO is carbonate, TiO2Anatase type TiO
2To ZrO2ZrO2To NbO5/2NbO
5/2Each of the first grade reagents was used.
【0054】ついで、融液をカーボン板上に流し出し板
状に成形しアニール処理し板状ガラスを得た。各実施例
用と比較例用の板状ガラスについて下記のデータを得
た。 −比誘電率および誘電損失− まず、得られた板状ガラスを一部切断し研磨して誘電特
性評価用試料を作製した。ついで、この試料の両面に金
電極を蒸着形成し、インピーダンスアナライザーで比誘
電率および誘電損失(誘電正接)を測定した。測定周波
数は1MHz、1GHz、温度は25℃である。Next, the melt was cast onto a carbon plate, shaped into a plate, and annealed to obtain a plate glass. The following data were obtained for the glass plates for each example and comparative example. —Relative Dielectric Constant and Dielectric Loss— First, the obtained plate-shaped glass was partially cut and polished to prepare a sample for dielectric property evaluation. Then, gold electrodes were formed by vapor deposition on both surfaces of this sample, and the relative permittivity and the dielectric loss (dielectric loss tangent) were measured by an impedance analyzer. The measurement frequency is 1 MHz and 1 GHz, and the temperature is 25 ° C.
【0055】−102.5 ポアズ温度− 板状ガラスの一部を溶かし融液の粘度を白金球引き上げ
法により測定し102. 5 ポアズ温度を測定した。 −失透温度− 板状ガラスの一部を297〜500μmの粒子としてか
ら白金ボートに入れ温度勾配を有する電気炉に16時間
保持したのち空気中で放冷し顕微鏡下で失透出現位置を
求めることで測定した。[0055] -10 2.5 poise temperature - were measured measured 10 2.5 poise temperature the viscosity of the melt is dissolved a portion of sheet glass by a platinum ball pulling method. -Devitrification temperature-Part of the plate-like glass was made into particles of 297 to 500 µm, put in a platinum boat and kept in an electric furnace having a temperature gradient for 16 hours, then allowed to cool in air and the devitrification appearance position was obtained under a microscope. It was measured by that.
【0056】−繊維化適性− 板状ガラスの残部を粉砕し白金ブッシングに入れ、白金
ブッシングに直接通電しガラスを溶かし、ブッシング温
度を102.5 ポアズ温度に設定しておいて、ブッシング
底部の小穴(ノズル)から引き出し巻き取ってガラス繊
維を得るようにした。-Agility for fiberizing-The rest of the plate glass is crushed and put into a platinum bushing, and the platinum bushing is directly energized to melt the glass, and the bushing temperature is set to 10 2.5 poise temperature. It was drawn out from the nozzle) and wound up to obtain glass fiber.
【0057】上記データを表1〜8に併記する。なお、
上の場合、板状ガラスにしてから再溶融してガラス繊維
を得たが、最初の融液から直接ガラス繊維を得るように
してもよい。同様にガラス繊維を得ることができる。大
量生産の場合は、最初の融液から直接ガラス繊維を得る
ようにするのが適当である。The above data are also shown in Tables 1-8. In addition,
In the above case, the glass fiber was obtained by making it into a plate glass and then remelting it, but the glass fiber may be obtained directly from the first melt. Glass fibers can likewise be obtained. For mass production, it is suitable to obtain the glass fibers directly from the initial melt.
【0058】[0058]
【表1】 [Table 1]
【0059】[0059]
【表2】 [Table 2]
【0060】[0060]
【表3】 [Table 3]
【0061】[0061]
【表4】 [Table 4]
【0062】[0062]
【表5】 [Table 5]
【0063】[0063]
【表6】 [Table 6]
【0064】[0064]
【表7】 [Table 7]
【0065】[0065]
【表8】 [Table 8]
【0066】組成1〜32の実施例用ガラスの場合はい
ずれも繊維化できたが、組成Xの比較用ガラスの場合は
TiO2 およびZrO 2の含有量が多すぎると同時にN
bO 5/2 を含まず、組成Yの比較用ガラスの場合はNb
O5/2 を含まないため、繊維化できなかった。また、組
成Zの比較用ガラスの場合もAlO3/2 は含むがNbO
5/2 を含まないため失透温度が102.5 ポアズ温度を越
えており、繊維化できなかった。AlO3/2 単独では必
要な繊維化適性が確保できないのである。10 2.5 ポア
ズ温度および失透温度のデータは繊維化適性の有無をよ
く裏付けている。なお、実施例用のガラスの場合は誘電
特性は高周波も含めて非常に良好である。Yes for the example glasses of compositions 1-32
Although the deviation could be made into fiber, in the case of the comparative glass of composition X,
TiO2And ZrO2Too much content and N
bO 5/2Nb in the case of the comparative glass having the composition Y
O5/2Since it did not contain, it could not be formed into fibers. Also, the group
AlO is also used in the case of the comparative glass made of Z3/2Including but NbO
5/2The devitrification temperature is 10 because it does not contain2.5Exceeds Poise temperature
It could not be made into fiber. AlO3/2Must be alone
It is not possible to secure the required fiber suitability. 10 2.5Pore
The temperature and devitrification temperature data should be checked for fiber suitability.
I support it. In the case of the glass for the examples, the dielectric
The characteristics are very good, including high frequencies.
【0067】−実施例1− 平均粒径0.1μmのBaTi0.7 Zr0.3 O3粒子5
00gとホウケイ酸系ガラス(岩城硝子製)2.5gと
5wt%ポリビニルアルコール溶液50mlをイオン交
換水1リットル中でよく湿式混合した後、噴霧造粒し
た。次に、これを1050℃で2時間熱処理して、複数
の一次粒子からなる平均粒径20μm、平均比表面積1
.0 m2 /gの粒子を、多孔質無機誘電体粒子として
得た。Example 1 BaTi 0.7 Zr 0.3 O 3 particles 5 having an average particle size of 0.1 μm
00 g, 2.5 g of borosilicate glass (manufactured by Iwaki Glass) and 50 ml of a 5 wt% polyvinyl alcohol solution were well wet-mixed in 1 liter of ion-exchanged water, and then spray granulated. Next, this is heat-treated at 1050 ° C. for 2 hours to obtain an average particle size of 20 μm and an average specific surface area of 1
. Particles of 0 m 2 / g were obtained as porous inorganic dielectric particles.
【0068】次に、この多孔質BaTi0.7 Zr0.3 O
3 粒子が180重量部(30 vol%)、PPO樹脂が7
4重量部(70 vol%)となるように秤量するととも
に、これにトリクレン(東亜合成化学工業(株)トリク
ロロエチレン)300重量部を添加・かく拌し、2リッ
トルの脱泡装置付反応器を用いてPPO樹脂を完全に溶
解させつつ脱泡させてワニスを得た。Next, this porous BaTi 0.7 Zr 0.3 O
180 parts by weight of 3 particles (30 vol%), PPO resin 7
4 parts by weight (70 vol%) was weighed, 300 parts by weight of trichlene (Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. trichloroethylene) was added and stirred, and a 2 liter reactor equipped with a defoaming device was used. Then, the PPO resin was completely dissolved and defoamed to obtain a varnish.
【0069】一方、前記の組成3のガラスからなる繊維
を用いてガラスクロスを常法により得た。このガラスク
ロスは、平織ガラスクロスであって、厚み:100μ
m、繊維径:7μm、織密度:25mm当たり、縦60
本,横58本である。ワニスをよくかく拌してから、平
織ガラスクロスに含浸させ、50℃で乾燥させた。得ら
れたワニス含浸ガラスクロスにおけるPPO樹脂とBa
Ti0.7 Zr 0.3 O3 粒子の混合物とガラスクロスとの
割合は、樹脂と粒子の混合物:62wt%(約70 vol
%)、ガラスクロス:38wt%(約30 vol%)であ
った。このようにして得られたワニス含浸クロス5枚を
重ねて、上下に銅箔(厚み17μm)を配して、温度2
50℃、圧力33 kg/cm2 、10分間の成形条件で加圧
成形し、両面銅箔張りプリント回路用基板を得た。On the other hand, a fiber made of glass having the above composition 3
Was used to obtain a glass cloth by a conventional method. This glass
Loss is plain weave glass cloth, thickness: 100μ
m, fiber diameter: 7 μm, weave density: per 25 mm, length 60
There are 58 horizontal books. Stir the varnish well and then flatten
Woven glass cloth was impregnated and dried at 50 ° C. Got
Resin and Ba in varnish impregnated glass cloth
Ti0.7Zr 0.3O3Of a mixture of particles and glass cloth
The ratio is a mixture of resin and particles: 62 wt% (about 70 vol.
%), Glass cloth: 38 wt% (about 30 vol%)
It was. 5 pieces of varnish-impregnated cloth obtained in this way
Overlap and place copper foil (thickness 17 μm) on the top and bottom,
50 ° C, pressure 33 kg / cm2Pressurize under molding condition for 10 minutes
Molded to obtain a double-sided copper foil-clad printed circuit board.
【0070】−比較例1− ガラスクロスを下記組成の鉛系ガラス用いて作成した他
は、実施例1と同様にして両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。 「鉛ガラス」組成 PbO:41.2モル%、Si
O2 :55.3モル%、B2 O3 :2.8モル%、K2
O:0.7モル% 比誘電率 1MHz:13.0、1GHz:12.9 tanδ(%) 1MHz:0.09%、1GHz:0.54% −比較例2− ガラスクロスを下記組成のEガラス用いて作成した他
は、実施例1と同様にして両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。-Comparative Example 1-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass cloth was made of lead-based glass having the following composition. "Lead glass" composition PbO: 41.2 mol%, Si
O 2: 55.3 mol%, B 2 O 3: 2.8 mol%, K 2
O: 0.7 mol% relative permittivity 1 MHz: 13.0, 1 GHz: 12.9 tan δ (%) 1 MHz: 0.09%, 1 GHz: 0.54% -Comparative example 2-Glass cloth of the following composition E A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was prepared using glass.
【0071】「Eガラス」組成 SiO2 :57.9モ
ル%、Al2 O3 :8.7モル%、B2 O3 :7.3モ
ル%、CaO:24.2モル%、MgO:1.6モル
%、K2 O:0.3モル% 比誘電率 1MHz:6.5、1GHz:6.5 tanδ(%) 1MHz:0.15%、1GHz:0.28% −実施例2〜7− 表9に示すPPO系樹脂組成物からなる樹脂ワニスを用
いるとともに、成形温度200℃、成形時間30分とし
た他は、実施例1と同様にして回路用基板を得た。[0071] "E glass" composition SiO 2: 57.9 mol%, Al 2 O 3: 8.7 mol%, B 2 O 3: 7.3 mol%, CaO: 24.2 mol%, MgO: 1 0.6 mol%, K 2 O: 0.3 mol% Relative permittivity 1 MHz: 6.5, 1 GHz: 6.5 tan δ (%) 1 MHz: 0.15%, 1 GHz: 0.28% -Example 2 7-A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin varnish made of the PPO resin composition shown in Table 9 was used, and the molding temperature was 200 ° C and the molding time was 30 minutes.
【0072】[0072]
【表9】 [Table 9]
【0073】表9において、SBSはスチレンブタジエ
ンコポリマを、TAICはトリアリルイソシアヌレート
を、p−TAICはTAICのポリマを、そしてAは2
・5−ジメチル−2・5−ジ−(tert−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3をそれぞれあらわす。この2・5−ジ
メチル−2・5−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)ヘキ
シン−3は日本油脂(株)のパーヘキシン25Bを用い
た。In Table 9, SBS is styrene butadiene copolymer, TAIC is triallyl isocyanurate, p-TAIC is TAIC polymer, and A is 2
Represents 5-dimethyl-2,5-di- (tert-butylperoxy) hexyne-3. As the 2,5-dimethyl-2,5-di- (tert-butylperoxy) hexyne-3, Perhexin 25B manufactured by NOF CORPORATION was used.
【0074】−実施例8− 非多孔質無機誘電体粒子として、平均粒径20μmの、
平均比表面積0.2 m 2 /gのBaTi0.7 Zr0.3O
3 粒子をそのまま用いた他は、実施例1と同様にして両
面銅箔張りプリント回路用基板を得た。 −実施例9− 非多孔質無機誘電体粒子として、平均粒径1.6μm
の、平均比表面積1.5m2 /gのBaTi0.7 Zr
0.3 O3 粒子をそのまま用いた他は、実施例1と同様に
して両面銅箔張りプリント回路用基板を得た。Example 8 As non-porous inorganic dielectric particles, an average particle size of 20 μm,
Average specific surface area 0.2 m 2/ G BaTi0.7Zr0.3O
3Both were carried out in the same manner as in Example 1 except that the particles were used as they were.
A copper foil-clad printed circuit board was obtained. -Example 9-The non-porous inorganic dielectric particles have an average particle size of 1.6 m.
, Average specific surface area of 1.5m2/ G BaTi0.7Zr
0.3O3As in Example 1 except that the particles were used as they were.
Then, a double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained.
【0075】−実施例10− 非多孔質無機誘電体粒子として、平均粒径3.4μm
の、平均比表面積1.7m2 /gのTiO2 (ルチル)
粒子347gをそのまま用いた他は、実施例1と同様に
して両面銅箔張りプリント回路用基板を得た。 −実施例11− 平均粒径0.1μmのBa0.7 Sr0.3 TiO3粒子5
00gとCuO1.7gと5wt%ポリビニルアルコー
ル溶液50mlをイオン交換水1リットル中でよく湿式
混合した後、噴霧造粒した。次に、これを1000℃で
2時間熱処理して、複数の一次粒子からなる平均粒径2
1μm、平均比表面積1 .3 m2 /gの粒子を、多孔質
無機誘電体粒子として得た。この他は、実施例1と同様
にして両面銅箔張りプリント回路用基板を得た。Example 10 As the non-porous inorganic dielectric particles, the average particle size is 3.4 μm.
Of TiO 2 (rutile) with an average specific surface area of 1.7 m 2 / g
A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that 347 g of the particles were used as they were. —Example 11— Ba 0.7 Sr 0.3 TiO 3 particles 5 having an average particle size of 0.1 μm
After thoroughly wet-mixing 00 g, 1.7 g of CuO, and 50 ml of a 5 wt% polyvinyl alcohol solution in 1 liter of ion-exchanged water, spray granulation was performed. Next, this is heat-treated at 1000 ° C. for 2 hours to obtain an average particle size of 2 including a plurality of primary particles.
1 μm, average specific surface area 1. Particles of 3 m 2 / g were obtained as porous inorganic dielectric particles. Aside from this, a double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1.
【0076】−実施例12− 平均粒径0.1μmのBaTi0.7 Zr0.3 O3粒子5
00gと5wt%ポリビニルアルコール溶液50mlを
イオン交換水1リットル中でよく湿式混合した後、噴霧
造粒した。次に、これを1100℃で2時間熱処理し
て、複数の一次粒子からなる平均粒径80μm、平均比
表面積5.6 m2 /gの粒子を、多孔質無機誘電体粒子
として得た。この他は、実施例1と同様にして両面銅箔
張りプリント回路用基板を得た。Example 12-BaTi 0.7 Zr 0.3 O 3 particles 5 having an average particle size of 0.1 μm
After thoroughly wet-mixing 00 g and 50 ml of a 5 wt% polyvinyl alcohol solution in 1 liter of ion-exchanged water, spray granulation was performed. Next, this was heat-treated at 1100 ° C. for 2 hours to obtain particles composed of a plurality of primary particles having an average particle size of 80 μm and an average specific surface area of 5.6 m 2 / g as porous inorganic dielectric particles. Aside from this, a double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1.
【0077】−実施例13− 平均粒径0.1μmのBaTi0.7 Zr0.3 O3粒子1
00gとCuO1.7gと5wt%ポリビニルアルコー
ル溶液10mlをイオン交換水1リットル中でよく湿式
混合した後、噴霧造粒した。次に、これを1100℃で
2時間熱処理して、複数の一次粒子からなる平均粒径6
μm、平均比表面積5.3 m2 /gの粒子を、多孔質無
機誘電体粒子として得た。この他は、実施例1と同様に
して両面銅箔張りプリント回路用基板を得た。Example 13 BaTi 0.7 Zr 0.3 O 3 particles 1 having an average particle size of 0.1 μm
After thoroughly wet-mixing 00 g, 1.7 g of CuO, and 10 ml of a 5 wt% polyvinyl alcohol solution in 1 liter of ion-exchanged water, spray granulation was performed. Next, this is heat-treated at 1100 ° C. for 2 hours to obtain an average particle size of 6 including a plurality of primary particles.
Particles having a micrometer and an average specific surface area of 5.3 m 2 / g were obtained as porous inorganic dielectric particles. Aside from this, a double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1.
【0078】−実施例14− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例1と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。 −実施例15− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例2と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。Example 14 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. -Example 15-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0079】−実施例16− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例3と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。 −実施例17− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例4と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。Example 16 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 3 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. -Example 17-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 4 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0080】−実施例18− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例5と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。 −実施例19− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例6と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。Example 18 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 5 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. Example 19 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 6 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0081】−実施例20− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例7と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。 −実施例21− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例8と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。Example 20 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 7 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. -Example 21-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 8 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0082】−実施例22− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例9と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用基
板を得た。 −実施例23− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例10と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。Example 22 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 9 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. -Example 23-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 10 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0083】−実施例24− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例11と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。 −実施例25− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例12と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。Example 24 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 11 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. -Example 25-A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 12 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26.
【0084】−実施例26− ガラスクロスを組成26のガラス組成物で作製した他は
実施例13と同様にして、両面銅箔張りプリント回路用
基板を得た。なお、実施例2〜26および比較例1、2
では、無機誘電体粒子とPPO樹脂組成物との体積比率
は30:70、および、無機誘電体粒子とPPO樹脂組
成物脂の混合物とガラスクロスとの体積比率は70:3
0、と実施例1と同じであった。Example 26 A double-sided copper foil-clad printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 13 except that the glass cloth was made of the glass composition of Composition 26. In addition, Examples 2 to 26 and Comparative Examples 1 and 2
Then, the volume ratio of the inorganic dielectric particles and the PPO resin composition is 30:70, and the volume ratio of the mixture of the inorganic dielectric particles and the PPO resin composition fat and the glass cloth is 70: 3.
0, which was the same as in Example 1.
【0085】得られた各回路用基板について、比誘電率
(εr ) 、誘電正接( tanδ) 、引きはがし強度、およ
び、はんだ耐熱性をそれぞれ調べた。表10、11は比
誘電率(εr ) と誘電正接(tanδ) の測定結果を示
し、表12、13は引きはがし強度とはんだ耐熱性の測
定結果を示す。With respect to each of the obtained circuit boards, the relative permittivity (ε r ), the dielectric loss tangent (tan δ), the peeling strength, and the solder heat resistance were examined. Tables 10 and 11 show measurement results of relative permittivity (ε r ) and dielectric loss tangent (tan δ), and Tables 12 and 13 show measurement results of peeling strength and solder heat resistance.
【0086】[0086]
【表10】 [Table 10]
【0087】[0087]
【表11】 [Table 11]
【0088】[0088]
【表12】 [Table 12]
【0089】[0089]
【表13】 [Table 13]
【0090】表にみるように、実施例1のプリント回路
用基板は、鉛ガラスを用いた比較例1のものに比べて1
GHzでの誘電損失が少なく、Eガラスを用いた比較例2
の基板に比べて比誘電率が高く、高周波域の基板として
適性を有することがよく分かる。実施例2〜7および実
施例15〜20とそれ以外の実施例を比較すれば、架橋
の容易なPPO樹脂組成物を用いることが、耐熱性を向
上させるものであることも良く分かる。As can be seen from the table, the printed circuit board of Example 1 is 1% less than that of Comparative Example 1 using lead glass.
Comparative Example 2 using E glass with low dielectric loss at GHz
It can be seen that it has a higher relative dielectric constant than the substrate No. 1 and is suitable as a substrate in the high frequency range. Comparing Examples 2 to 7 and Examples 15 to 20 with other examples, it is well understood that the use of the PPO resin composition which is easily crosslinked improves the heat resistance.
【0091】実施例1〜7、11〜13と実施例8〜1
0、あるいは、実施例14〜20、24〜26と実施例
21〜23を比較すれば、多孔質無機誘電体粒子が誘電
率向上作用の強いものであることがよく分かる。実施例
1〜7、11、13〜20、24、26で使用した多孔
質無機誘電体粒子(焼結剤有り)と実施例12、25で
使用した多孔質無機誘電体粒子(焼結剤無し)を、PC
T(粒強度)試験機(島津製作所製)を用いて粒子強度
を調べた。前者は、7.0〜8.5kg/mm2 の範囲
にあり、後者は、3.5〜3.8kg/mm2 の範囲に
あり、焼結剤を使用することが粒強度を高めることを確
認した。Examples 1-7, 11-13 and Examples 8-1
0, or comparing Examples 14 to 20 and 24 to 26 with Examples 21 to 23, it is clear that the porous inorganic dielectric particles have a strong effect of improving the dielectric constant. Porous inorganic dielectric particles used in Examples 1 to 7, 11, 13 to 20, 24 and 26 (with a sintering agent) and porous inorganic dielectric particles used in Examples 12 and 25 (without a sintering agent). ) To the PC
The particle strength was examined using a T (grain strength) tester (manufactured by Shimadzu Corporation). The former is in the range of 7.0 to 8.5 kg / mm 2 , the latter is in the range of 3.5 to 3.8 kg / mm 2 , and the use of a sintering agent indicates that the grain strength is increased. confirmed.
【0092】[0092]
【発明の効果】以上に述べたように、第1、第2発明に
かかる回路用基板は、繊維化容易で誘電率も高く、しか
も、化学的耐久性が良好な組成のガラス繊維で強化され
ており、優れた誘電特性であって製造も容易であるた
め、有用である。請求項5〜8の回路用基板は、加え
て、樹脂分として架橋可能なPPO系樹脂組成物を用い
ているため、架橋が容易に起きて、耐熱性を始め、引張
強さ、衝撃強さ、破裂強さなど大いに高まり、非常に有
用な基板である。As described above, the circuit board according to the first and second inventions is reinforced with glass fiber having a composition which is easy to be formed into a fiber, has a high dielectric constant, and has a good chemical durability. It is useful because it has excellent dielectric properties and is easy to manufacture. The circuit board according to any one of claims 5 to 8 additionally uses a crosslinkable PPO-based resin composition as a resin component, so that crosslink easily occurs, and heat resistance starts, tensile strength, and impact strength. It is a very useful substrate because the burst strength is greatly increased.
【0093】請求項9の回路用基板では、非多孔質無機
誘電体粒子の平均粒径が0.3〜5μm、平均比表面積
0.2〜7.0m2/grのものであるため、粒子の凝集
・沈降が避けられるとともに分散性が良好になり、回路
用基板の製造は容易であり、誘電率の不均一性も抑えら
れる。請求項10〜14の回路用基板は、加えて、樹脂
中に分散している無機誘電体粒子が、沈降分離し難く誘
電率向上効果の高い粒子であって、より製造し易く、誘
電特性に優れるため、非常に有用な基板である。請求項
10の回路用基板では、加えて、多孔質無機誘電体粒子
の平均粒径が5〜100μm、平均比表面積0.3〜
7.0 m2/grのものであるため、誘電率向上効果がよ
り顕著に発揮される。In the circuit board of claim 9, the non-porous inorganic dielectric particles have an average particle size of 0.3 to 5 μm and an average specific surface area of 0.2 to 7.0 m 2 / gr. Agglomeration / sedimentation can be avoided and the dispersibility can be improved, the circuit board can be easily manufactured, and the non-uniformity of the dielectric constant can be suppressed. In addition to the circuit board according to any one of claims 10 to 14, the inorganic dielectric particles dispersed in the resin are particles that are difficult to settle and separate and have a high effect of improving the dielectric constant. Since it is excellent, it is a very useful substrate. In the circuit board according to claim 10, in addition, the average particle diameter of the porous inorganic dielectric particles is 5 to 100 µm, and the average specific surface area is 0.3 to.
Since it is 7.0 m 2 / gr, the effect of improving the dielectric constant is more remarkably exhibited.
【0094】請求項12の回路用基板では、加えて、多
孔質無機誘電体粒子が一次粒子が集合してなる二次粒子
であって、この多孔質粒子の作製が容易であるため、結
果として回路用基板が製造し易いものとなっている。請
求項13の回路用基板では、加えて、多孔質無機誘電体
粒子における一次粒子が焼結により互いに結合している
ため、誘電率向上効果がより顕著に発揮されるようにな
る。In the circuit board according to the twelfth aspect, in addition, the porous inorganic dielectric particles are secondary particles formed by aggregating the primary particles, and as a result, the porous particles are easy to produce. Circuit boards are easy to manufacture. In the circuit board according to the thirteenth aspect, in addition, since the primary particles in the porous inorganic dielectric particles are bonded to each other by sintering, the effect of improving the dielectric constant is more remarkably exhibited.
【0095】請求項14の回路用基板では、多孔質無機
誘電体粒子の強度が向上しているため、複合化工程で粒
子破壊が発生せず、安定した性能が期待でき、粒子の製
造が容易となる。In the circuit board of claim 14, since the strength of the porous inorganic dielectric particles is improved, particle destruction does not occur in the compounding step, stable performance can be expected, and particle production is easy. Becomes
【0096】請求項15の回路用基板では、多孔質無機
誘電体粒子がペロブスカイト型結晶構造を有する化合物
からなるため、誘電率向上効果がより顕著である。In the circuit board according to the fifteenth aspect, since the porous inorganic dielectric particles are composed of the compound having the perovskite type crystal structure, the effect of improving the dielectric constant is more remarkable.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】この発明の回路用基板の構成例をあらわす概略
断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a circuit board according to the present invention.
【図2】この発明の回路用基板に使われる多孔質無機誘
電体粒子の一例をあらわす断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of porous inorganic dielectric particles used in the circuit board of the present invention.
1 ガラスクロス(高誘電率ガラス繊維) 2 樹脂 3 金属箔 4 多孔質無機誘電体粒子 1 glass cloth (high dielectric constant glass fiber) 2 resin 3 metal foil 4 porous inorganic dielectric particles
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成4年4月4日[Submission date] April 4, 1992
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0037[Name of item to be corrected] 0037
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0037】この発明に用いられる無機誘電体粒子は、
普通、緻密な非多孔性粒子であるが、凝集を起こさない
分散適性のあるものであることを考慮して余り小さ過ぎ
ないように、また、沈降を避けることを考慮して余り大
き過ぎないようにする。このような観点から、非多孔性
無機誘電体粒子の場合は、平均粒径0.3〜5μmであ
って平均比表面積0.2〜7.0m2/g(好ましくは
平均粒径1〜5μmであって平均比表面積0.2〜3.
0m2/g)の範囲のものを用いることが適当である。
しかしながら、発明者らの検討の結果、図2にみるよう
に、表面に向けて開口する孔や割れ目などからなる空隙
が多数個あって、この空隙内に樹脂の一部が入り込むこ
とができるような多孔質粒子が、回路用基板の比誘電率
を効果的に高める為に好ましいことを見いだした。この
多孔性無機誘電体粒子の場合は、平均粒径5〜100μ
m、平均比表面積0.3〜7.0m2/gのものが好ま
しい。これらの非多孔質粒子と多孔質粒子は併用しても
よい。The inorganic dielectric particles used in the present invention are
Usually a dense, non-porous particle, but does not agglomerate
So as not too small too much taking into account that this is some of the dispersion suitability, also, to avoid too large too much in consideration of the fact that avoid sedimentation. From such a viewpoint, in the case of the non-porous inorganic dielectric particles, the average particle size is 0.3 to 5 μm and the average specific surface area is 0.2 to 7.0 m 2 / g (preferably the average particle size is 1 to 5 μm). And the average specific surface area is 0.2 to 3.
It is suitable to use one having a range of 0 m 2 / g).
However, as a result of the study by the inventors, as shown in FIG. 2, there are a large number of voids such as holes and cracks that open toward the surface, and some of the resin can enter into these voids. It has been found that such porous particles are preferable for effectively increasing the relative dielectric constant of the circuit board. In the case of these porous inorganic dielectric particles, the average particle size is 5 to 100 μm.
m, and an average specific surface area of 0.3 to 7.0 m 2 / g are preferable. These non-porous particles and porous particles may be used in combination.
Claims (15)
電率ガラス繊維で強化されてなる回路用基板であって、
前記高誘電率ガラス繊維が、SiO2 を40〜65モル
%、MgO,CaO,SrOおよびBaOの少なくとも
ひとつを20〜45モル%、TiO2 およびZrO2 の
少なくともひとつを5〜25モル%、NbO5/2 を0.
5〜15モル%それぞれ含み、これらの酸化物の合計量
が85モル%以上であり、比誘電率(1MHz,25℃)
9以上の繊維化適性を有するガラス組成物からなること
を特徴とする回路用基板。1. A circuit board comprising inorganic dielectric particles dispersed in a resin and reinforced with a high dielectric constant glass fiber, comprising:
The high dielectric constant glass fiber contains 40 to 65 mol% of SiO 2 , 20 to 45 mol% of at least one of MgO, CaO, SrO and BaO, 5 to 25 mol% of at least one of TiO 2 and ZrO 2 , and NbO. 5/2 to 0.
5 to 15 mol% each, the total amount of these oxides is 85 mol% or more, and the relative dielectric constant (1 MHz, 25 ° C.)
A circuit board comprising a glass composition having a fiberizing aptitude of 9 or more.
MgO,CaO,SrOおよびBaOの少なくともひと
つの含有量が25〜40モル%、TiO2 およびZrO
2 の少なくともひとつの含有量が7〜24モル%、Nb
O5/2 の含有量が1〜10モル%である請求項1記載の
回路用基板。 2. The content of SiO 2 is 46 to 60 mol%,
The content of at least one of MgO, CaO, SrO and BaO is 25 to 40 mol%, TiO 2 and ZrO.
The content of at least one of 2 is 7 to 24 mol%, Nb
The circuit board according to claim 1, wherein the content of O 5/2 is 1 to 10 mol%.
電率ガラス繊維で強化されてなる回路用基板であって、
前記高誘電率ガラス繊維が、SiO2 を40〜65モル
%、CaO,SrOおよびBaOの少なくともひとつを
20〜45モル%、TiO2 およびZrO2 の少なくと
もひとつを5〜25モル%、NbO5/ 2 を0.5〜15
モル%、AlO3/2 を0.5〜15モル%それぞれ含
み、これらの酸化物の合計量が85モル%以上であり、
比誘電率(1MHz,25℃)9以上の繊維化適性を有す
るガラス組成物からなることを特徴とする回路用基板。3. A circuit board comprising inorganic dielectric particles dispersed in a resin and reinforced with a high dielectric constant glass fiber,
The high dielectric constant glass fiber contains 40 to 65 mol% of SiO 2 , 20 to 45 mol% of at least one of CaO, SrO and BaO, 5 to 25 mol% of at least one of TiO 2 and ZrO 2 , and NbO 5 / 2 to 0.5 to 15
Mol%, AlO 3/2 0.5 to 15 mol% respectively, the total amount of these oxides is 85 mol% or more,
A circuit board comprising a glass composition having a fiber formability of 9 or more in a relative dielectric constant (1 MHz, 25 ° C.).
CaO,SrOおよびBaOの少なくともひとつの含有
量が25〜40モル%、TiO2およびZrO2 の少な
くともひとつの含有量が7〜24モル%、NbO5/2 の
含有量が1〜10モル%、AlO3/2 の含有量が1〜1
0モル%である請求項3記載の回路用基板。4. The content of SiO 2 is 46 to 60 mol%,
The content of at least one of CaO, SrO and BaO is 25 to 40 mol%, the content of at least one of TiO 2 and ZrO 2 is 7 to 24 mol%, and the content of NbO 5/2 is 1 to 10 mol%, The content of AlO 3/2 is 1 to 1
The circuit board according to claim 3, wherein the content is 0 mol%.
と架橋性ポリマおよび/または架橋性モノマを含むポリ
フェニレンオキサイド系組成物が用いられている請求項
1から4までのいずれかに記載の回路用基板。5. The circuit board according to claim 1, wherein a polyphenylene oxide-based composition containing polyphenylene oxide and a crosslinkable polymer and / or a crosslinkable monomer is used as the resin.
マおよび/または架橋性モノマの合計量に対して、ポリ
フェニレンオキサイド7重量%以上、架橋性ポリマおよ
び/または架橋性モノマ93重量%未満である請求項5
記載の回路用基板。6. The amount of polyphenylene oxide is 7% by weight or more and less than 93% by weight of the crosslinkable polymer and / or the crosslinkable monomer based on the total amount of the polyphenylene oxide and the crosslinkable polymer and / or the crosslinkable monomer.
The described circuit board.
ン、1・4ポリブタジエン、スチレンブタジエンコポリ
マ、変性1・2ポリブタジエン、ゴム類からなる群の中
から選ばれた少なくとも1種である請求項5または6記
載の回路用基板。7. The crosslinkable polymer is at least one selected from the group consisting of 1,2 polybutadiene, 1,4 polybutadiene, styrene butadiene copolymer, modified 1,2 polybutadiene, and rubbers. 6. The circuit board according to item 6.
類、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート
類、エーテルアクリレート類、メラミンアクリレート
類、アルキドアクリレート類、シリコンアクリレート
類、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、ジビニル
ベンゼン、ジアリルフタレート、ビニルトルエン、エチ
ルビニルベンゼン、スチレン、パラメチルスチレンおよ
び多官能エポキシ類からなる群の中から選ばれた少なく
とも1種である請求項5から7までのいずれかに記載の
回路用基板。8. The crosslinkable monomer includes ester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, ether acrylates, melamine acrylates, alkyd acrylates, silicon acrylates, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, ethylene glycol. 8. At least one selected from the group consisting of dimethacrylate, divinylbenzene, diallylphthalate, vinyltoluene, ethylvinylbenzene, styrene, paramethylstyrene and polyfunctional epoxies. The described circuit board.
て、平均粒径0.3〜5μm、平均比表面積0.2〜
7.0 m2 /gのものである請求項1から8までのいず
れかに記載の回路用基板。9. The inorganic dielectric particles are non-porous particles, having an average particle diameter of 0.3 to 5 μm and an average specific surface area of 0.2 to
The circuit board according to any one of claims 1 to 8, which is of 7.0 m 2 / g.
項1から8までのいずれかに記載の回路用基板。10. The circuit board according to claim 1, wherein the inorganic dielectric particles are porous particles.
100μm、平均比表面積0.3〜7.0 m2 /gのも
のである請求項10記載の回路用基板。11. The porous inorganic dielectric particles have an average particle size of 5 to 5.
The circuit board according to claim 10, which has a mean surface area of 100 μm and an average specific surface area of 0.3 to 7.0 m 2 / g.
合してなる二次粒子である請求項10まはた11記載の
回路用基板。12. The circuit board according to claim 10 or 11, wherein the porous inorganic dielectric particles are secondary particles formed by assembling primary particles.
結合してなるものである請求項12記載の回路用基板。13. The circuit board according to claim 12, wherein the secondary particles are primary particles bonded to each other by sintering.
請求項13記載の回路用基板。14. The circuit board according to claim 13, wherein the sintering is performed by adding a sintering aid.
晶構造を有する化合物からなる請求項1から14までの
いずれかに記載の回路用基板。15. The circuit board according to claim 1, wherein the inorganic dielectric particles are made of a compound having a perovskite type crystal structure.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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