JPH0563269A - Pulse semiconductor laser-pumped solid-state laser device - Google Patents

Pulse semiconductor laser-pumped solid-state laser device

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JPH0563269A
JPH0563269A JP22012791A JP22012791A JPH0563269A JP H0563269 A JPH0563269 A JP H0563269A JP 22012791 A JP22012791 A JP 22012791A JP 22012791 A JP22012791 A JP 22012791A JP H0563269 A JPH0563269 A JP H0563269A
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JP
Japan
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semiconductor laser
pulse
laser
pulsed
laser device
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JP22012791A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Amano
壮 天野
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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Publication date
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Publication of JPH0563269A publication Critical patent/JPH0563269A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a pulse semiconductor laser pumped solid-state laser device by increasing the number of repeated pulses to increase the mean output power with a relatively simplified structure. CONSTITUTION:A pulse semiconductor laser pumped solid-state laser device includes a plurality of pumping pulse semiconductor laser apparatuses are oscillated, shifted in their oscillation timing to each other. Output pulsed laser beam L1 is yielded for each oscillation of these pumping pulse semiconductor laser devices 2, 3. Hereby, although there are employed as the pumping pulse semiconductor laser apparatuses 2, 3 ones where energy and a pulse repetition number both per one pulse area identical to those of prior art, a pulse number of pumping pulsed laser beam L0 applied to a solid laser medium 1 is made substantially plural times. Thus, the repetition pulse number of the resulting output pulsed laser L1 light is made plural times, and hence the mean output power is made plural times.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、パルス半導体レーザ
装置から射出されたパルスレーザ光を励起光として用い
てパルス性の出力レーザ光を得るパルス半導体レーザ励
起固体レーザ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device for obtaining pulsed output laser light by using pulsed laser light emitted from a pulsed semiconductor laser device as pumping light.

【0002】[0002]

【従来の技術】パルス半導体レーザ装置から射出された
パルスレーザ光を励起光として用いてパルス性の出力レ
ーザ光を得るパルス半導体レーザ励起固体レーザ装置と
しては、例えば、文献[M.K.Reed et al.,Opt.Lett.,vo
l.13,pp204-206 1988 ]に開示された例が知られてい
る。
2. Description of the Related Art A pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device that obtains pulsed output laser light by using pulsed laser light emitted from a pulsed semiconductor laser device as pumping light is described in, for example, the literature [MKReed et al., Opt. .Lett., Vo
l.13, pp204-206 1988] are known.

【0003】上記文献に開示された装置は、長さ31m
m、幅6mm、厚さ4.6mmの板状をなし、両端面が
ブリュースターカットされたNd:YAGスラブレーザ
媒体をレーザ共振器内に配置し、これを、発光面積4×
10mmで平均パワー3.8W(パルス幅200μs、
パルスエネルギー76μJ、パルス繰り返し数50H
z)の2次元パルス半導体レーザアレイで励起し、平均
パワー0.59W(パルス幅150μs、パルスエネル
ギー11.8μJ、パルス繰り返し数50Hz)の出力
パルスレーザ光を得ている。この場合、励起用レーザ光
の波長が807nm、出力レーザ光の波長が1.06μ
mである。
The device disclosed in the above document has a length of 31 m.
An Nd: YAG slab laser medium having a plate shape of m, a width of 6 mm, and a thickness of 4.6 mm, and having Brewster cut at both end surfaces was arranged in a laser resonator, and the light emitting area was 4 ×.
Average power 3.8 W at 10 mm (pulse width 200 μs,
Pulse energy 76μJ, pulse repetition number 50H
The pulsed laser light of average power 0.59 W (pulse width 150 μs, pulse energy 11.8 μJ, pulse repetition rate 50 Hz) is obtained by pumping with the two-dimensional pulsed semiconductor laser array of z). In this case, the wavelength of the pump laser light is 807 nm and the wavelength of the output laser light is 1.06 μ.
m.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、パルス半導
体レーザ励起固体レーザ装置は、レーザ加工装置に用い
られる場合が多いが、加工用途によっては出力レーザ光
の平均出力パワーのより大きな装置が望まれる場合も少
なくない。平均出力パワーを上げるには、その1パルス
あたりのエネルギーを大きくするか、または、パルス繰
り返し数を増大させる必要がある。このためには、励起
用パルス半導体レーザ装置の平均パワー、すなわち、1
パルスあたりのエネルギーまたはパルス繰り返し数を増
大させる必要があるが、これには限界がある。例えば、
上述の従来例のように、励起用パルス半導体レーザ装置
として、2次元パルス半導体レーザアレイを用いた場合
には、上述の値がほぼ限界に近いものであった。
By the way, the pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device is often used in a laser processing device, but when a device having a larger average output power of output laser light is desired depending on the processing application. Not a few. To increase the average output power, it is necessary to increase the energy per pulse or increase the number of pulse repetitions. To this end, the average power of the pumping pulse semiconductor laser device, that is, 1
There is a need to increase the energy per pulse or the pulse repetition rate, but this has limitations. For example,
When the two-dimensional pulse semiconductor laser array is used as the excitation pulse semiconductor laser device as in the above-mentioned conventional example, the above-mentioned value is almost close to the limit.

【0005】この発明は、上述の背景のもとでなされた
ものであり、比較的簡単な構成により、パルス繰り返し
数を増大させて平均出力パワーを増大させることが可能
なパルス半導体レーザ励起固体レーザ装置を提供するこ
とを目的としたものである。
The present invention has been made under the background described above, and a pulse semiconductor laser pumped solid-state laser capable of increasing the number of pulse repetitions and increasing the average output power with a relatively simple structure. It is intended to provide a device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、(1) 励起用パルス半導体レーザ装置
から射出された励起用のパルスレーザ光を、レーザ共振
器内に配置された固体レーザ媒体に照射し、該固体レー
ザ媒体を励起して出力パルスレーザ光を得るようにした
パルス半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前記
励起用パルス半導体レーザ装置を複数設け、これら複数
の励起用パルス半導体レーザ装置の発振タイミングを互
いにずらして発振させ、これら複数の励起用パルス半導
体レーザ装置の各発振毎に出力パルスレーザ光を得るよ
うにしたことを特徴とする構成とし、また、構成1の態
様として、(2) 構成1のパルス半導体レーザ励起固
体レーザ装置において、前記励起用パルス半導体レーザ
装置は、2次元パルス半導体レーザアレイであることを
特徴とした構成としたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides (1) a pulsed laser light for excitation emitted from a pulsed semiconductor laser device for excitation is arranged in a laser resonator. A pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device which irradiates a solid-state laser medium and excites the solid-state laser medium to obtain an output pulsed laser beam, wherein a plurality of pumping pulse semiconductor laser devices are provided, and the plurality of pumping pulses are provided. The semiconductor laser device is oscillated at mutually different oscillation timings, and output pulse laser light is obtained for each oscillation of the plurality of excitation pulse semiconductor laser devices. (2) In the pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device having the configuration 1, the pumping pulsed semiconductor laser device is a two-dimensional pulse laser device. It is obtained by a configuration in which characterized in that a semiconductor laser array.

【0007】[0007]

【作用】上述の構成1によれば、励起用パルス半導体レ
ーザ装置を複数設け、これら複数の励起用パルス半導体
レーザ装置の発振タイミングを互いにずらして発振さ
せ、これら複数の励起用パルス半導体レーザ装置の各発
振毎に出力パルスレーザ光を得るようにしたことによ
り、励起用パルス半導体レーザ装置として、1パルスあ
たりのエネルギー及びパルス繰り返し数が従来と同じも
のを用いても、固体レーザ媒体に加える励起用パルスレ
ーザ光のパルス数を実質的に複数倍にすることができ
る。したがって、得られる出力パルスレーザ光の繰り返
しパルス数も複数倍にでき、結局、平均出力パワーを複
数倍にすることができる。
According to the above-described structure 1, a plurality of pumping pulse semiconductor laser devices are provided, and the plurality of pumping pulse semiconductor laser devices are oscillated at mutually different oscillation timings. Since the output pulsed laser light is obtained for each oscillation, even if the pulsed semiconductor laser device for excitation has the same energy per pulse and the same number of pulse repetitions as the conventional one, it can be used for excitation to the solid laser medium. The number of pulses of pulsed laser light can be substantially multiplied. Therefore, the number of repetitive pulses of the output pulsed laser light that is obtained can be increased multiple times, and eventually the average output power can be increased multiple times.

【0008】また、構成2によれば、前記励起用パルス
半導体レーザ装置として、2次元パルス半導体レーザア
レイを用いることにより、より強力な出力パルスレーザ
光を得ることが可能となる。
According to the configuration 2, by using a two-dimensional pulse semiconductor laser array as the excitation pulse semiconductor laser device, it is possible to obtain a stronger output pulse laser light.

【0009】[0009]

【実施例】図1はこの発明の一実施例にかかるパルス半
導体レーザ励起固体レーザ装置の構成を示す図、図2は
励起用パルス半導体レーザ装置及び出力パルスレーザ光
の発振タイミングの説明図である。以下、これらの図を
参照にしながらこの発明の一実施例を詳細に説明する。
なお、この実施例は、励起用パルス半導体レーザ装置と
して、2次元パルス半導体レーザアレイを用いた例であ
る。
1 is a diagram showing the configuration of a pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of the oscillation timing of a pumped pulsed semiconductor laser device and output pulsed laser light. .. An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to these drawings.
In this embodiment, a two-dimensional pulse semiconductor laser array is used as the excitation pulse semiconductor laser device.

【0010】図1において、符号1は固体レーザ媒体、
符号2は第1励起用パルス半導体レーザ装置、符号3は
第2励起用パルス半導体レーザ装置、符号4は制御装
置、符号5は全反射ミラー、符号6は出力ミラーであ
る。なお、全反射ミラー5と出力ミラー6とでレーザ共
振器を構成する。
In FIG. 1, reference numeral 1 is a solid-state laser medium,
Reference numeral 2 is a first excitation pulse semiconductor laser device, reference numeral 3 is a second excitation pulse semiconductor laser device, reference numeral 4 is a control device, reference numeral 5 is a total reflection mirror, and reference numeral 6 is an output mirror. The total reflection mirror 5 and the output mirror 6 form a laser resonator.

【0011】固体レーザ媒体1は、波長1.06μmで
レーザ発振するNd:YAGスラブレーザ媒体であっ
て、長さ31mm、幅6mm、厚さ4.6mmの板状を
なし、両端面が光軸に対して所定の角度なすようにブリ
ュースターカットされたものである。この固体レーザ媒
体1の面積の大きい表裏の面(以下、主表面という)1
a,1bは全反射面となっており、共振レーザ光はこれ
らの面で交互に反射を繰り返して固体レーザ媒体1内を
ジグザグ状の光路を辿って進行し、両端面1c,1dか
ら入・出射してレーザ共振器を構成する全反射ミラー5
と出力ミラー6との間を往復する。また、主表面1a,
1bは励起用レーザ光の入射面ともなっており、これら
の面に対向する位置に、第1励起用パルス半導体レーザ
装置2及び第2励起用パルス半導体レーザ装置3がそれ
ぞれ配置されている。
The solid-state laser medium 1 is an Nd: YAG slab laser medium that oscillates at a wavelength of 1.06 μm, and has a plate shape with a length of 31 mm, a width of 6 mm, and a thickness of 4.6 mm, and both end surfaces are optical axes. Brewster cut to form a predetermined angle with respect to. Front and back surfaces (hereinafter referred to as main surfaces) 1 having a large area of this solid-state laser medium 1
Reference numerals a and 1b are total reflection surfaces, and the resonant laser light is repeatedly reflected by these surfaces alternately and travels along the zigzag optical path in the solid-state laser medium 1 to enter from both end surfaces 1c and 1d. Total reflection mirror 5 that emits to form a laser resonator
And the output mirror 6 are reciprocated. In addition, the main surface 1a,
Reference numeral 1b also serves as an incident surface of the excitation laser light, and the first excitation pulse semiconductor laser device 2 and the second excitation pulse semiconductor laser device 3 are arranged at positions facing these surfaces, respectively.

【0012】第1励起用パルス半導体レーザ装置2及び
第2励起用パルス半導体レーザ装置3は、共に、発光面
積4×10mmで平均出力パワー3.8W(パルス幅2
00μs、パルスエネルギー76μJ、パルス繰り返し
数50Hz)で発振可能なAlGaAs2次元パルス半
導体レーザアレイである。これら第1励起用パルス半導
体レーザ装置2及び第2励起用パルス半導体レーザ装置
3は、制御装置4によって発振制御がなされる。
Both the first excitation pulse semiconductor laser device 2 and the second excitation pulse semiconductor laser device 3 have an emission area of 4 × 10 mm and an average output power of 3.8 W (pulse width 2
This is an AlGaAs two-dimensional pulse semiconductor laser array capable of oscillating at 00 μs, pulse energy of 76 μJ, and pulse repetition rate of 50 Hz). Oscillation control of the first excitation pulse semiconductor laser device 2 and the second excitation pulse semiconductor laser device 3 is performed by the control device 4.

【0013】制御装置4は、第1励起用パルス半導体レ
ーザ装置2及び第2励起用パルス半導体レーザ装置3
に、パルス発振に必要なパルス駆動電流を交互に供給
し、両者の発振タイミング制御しつつ両者を発振駆動す
るものである。
The control device 4 includes a first excitation pulse semiconductor laser device 2 and a second excitation pulse semiconductor laser device 3.
In addition, the pulse drive current required for pulse oscillation is alternately supplied, and both are oscillated and driven while controlling the oscillation timing of both.

【0014】なお、レーザ共振器の一方を構成する全反
射ミラー5は、波長1.06μmのレーザ光を全反射す
る平面ミラーであり、また、レーザ共振器の他方を構成
する出力ミラー6は、凹面がレーザ媒体2側に向くよう
に配置された凹レンズ状をなしたガラス体の凹面の表面
に誘電体多層膜からなる反射膜を形成し、出力レーザ光
1 に対する反射率が90%になるようにしたもので、
凹面の曲率半径を3mに設定することにより、全反射ミ
ラー5とで共振器長が150mmのレーザ共振器を構成
している。
The total reflection mirror 5 which constitutes one of the laser resonators is a plane mirror which totally reflects the laser light having a wavelength of 1.06 μm, and the output mirror 6 which constitutes the other of the laser resonators is A reflective film made of a dielectric multilayer film is formed on the surface of the concave surface of a glass body having a concave lens shape arranged so that the concave surface faces the laser medium 2, and the reflectance with respect to the output laser light L 1 becomes 90%. Like this,
By setting the radius of curvature of the concave surface to 3 m, the total reflection mirror 5 constitutes a laser resonator having a resonator length of 150 mm.

【0015】上述の構成において、制御装置4により第
1励起用パルス半導体レーザ装置2及び第2励起用パル
ス半導体レーザ装置3を駆動して、共に、パルス幅20
0μs、パルスエネルギー76μJ、パルス繰り返し数
50Hz、平均出力パワー3.8Wで交互に発振させて
固体レーザ媒体1を励起した。この場合、互いの発振パ
ルスの間隔が各発振間で等間隔になるようにした。各々
の発振パルスの間隔tは20msであるから、両者によ
るパルスの間隔はt/2=10msとなる。これによ
り、出力パルスレーザ光L1 として、パルス幅150μ
s、パルスエネルギー11.8μJ、パルス繰り返し数
100Hz、平均パワー1.18Wのパルスレーザ光が
得られた。これは、上述の従来のパルス半導体レーザ励
起固体レーザ装置の平均出力パワーのちょうど2倍であ
る。なお、図2は、以上の発振タイミングを図で示した
ものである。
In the above structure, the controller 4 drives the first pumping pulse semiconductor laser device 2 and the second pumping pulse semiconductor laser device 3 so that both the pulse width 20
The solid-state laser medium 1 was excited by alternately oscillating at 0 μs, pulse energy of 76 μJ, pulse repetition rate of 50 Hz, and average output power of 3.8 W. In this case, the mutual oscillation pulses are arranged at equal intervals between the oscillations. Since the interval t of each oscillating pulse is 20 ms, the interval of pulses by both is t / 2 = 10 ms. As a result, the output pulsed laser light L 1 has a pulse width of 150 μm.
s, pulse energy 11.8 μJ, pulse repetition rate 100 Hz, and average power 1.18 W were obtained. This is exactly twice the average output power of the above-mentioned conventional pulse semiconductor laser pumped solid-state laser device. It should be noted that FIG. 2 is a diagram showing the above oscillation timing.

【0016】なお、上述の一実施例では、固体レーザ媒
体としてNd:YAGロッドを用いた例を掲げたが、こ
の固体レーザ媒体としては、Nd:YLF、Nd:gl
ass、Nd:YVO4 、Nd:GGG、Nd:YSG
G、NYAB、NAB、Er:YAG、Er:YLF、
Er:glass等を用いてもよい。その場合には、各
レーザ媒体に応じてレーザ共振器等の条件を選定すべき
は勿論である。
In the above-mentioned one embodiment, the Nd: YAG rod is used as the solid-state laser medium, but the solid-state laser medium includes Nd: YLF and Nd: gl.
ass, Nd: YVO 4 , Nd: GGG, Nd: YSG
G, NYAB, NAB, Er: YAG, Er: YLF,
Er: glass or the like may be used. In that case, it is needless to say that conditions such as a laser resonator should be selected according to each laser medium.

【0017】また、励起用パルス半導体レーザ装置も、
AlGaAs2次元パルス半導体レーザアレイ以外の、
例えば、AlGaAs系、InGaAs系、AlGaI
nP系のシングル半導体レーザ、一次元半導体レーザア
レイ、2次元半導体レーザアレイもしくは面発光型半導
体レーザ等を用いてもよい。
The pulsed semiconductor laser device for pumping is also
Other than AlGaAs two-dimensional pulse semiconductor laser array,
For example, AlGaAs type, InGaAs type, AlGaI
An nP single semiconductor laser, a one-dimensional semiconductor laser array, a two-dimensional semiconductor laser array, a surface emitting semiconductor laser, or the like may be used.

【0018】さらに、励起用パルス半導体レーザ装置を
2個用いた例を掲げたが、これは3個以上用いることに
より、さらに強力な平均出力パワーを有する出力パルス
レーザ光を得ることができることは勿論である。
Furthermore, although an example using two pumping pulse semiconductor laser devices is given, it is needless to say that by using three or more pumping semiconductor laser devices, an output pulsed laser beam having a stronger average output power can be obtained. Is.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかる半
導体レーザ励起固体レーザ装置は、励起用パルス半導体
レーザ装置を複数設け、これら複数の励起用パルス半導
体レーザ装置の発振タイミングを互いにずらして発振さ
せ、これら複数の励起用パルス半導体レーザ装置の各発
振毎に出力パルスレーザ光を得るようにしたことによ
り、励起用パルス半導体レーザ装置として、1パルスあ
たりのエネルギー及びパルス繰り返し数が従来と同じも
のを用いても、固体レーザ媒体に加える励起用パルスレ
ーザ光のパルス数を実質的に複数倍にすることを可能に
し、これにより、得られる出力パルスレーザ光の繰り返
しパルス数を複数倍にして、平均出力パワーを複数倍に
することを可能にしたものである。
As described in detail above, in the semiconductor laser pumped solid-state laser device according to the present invention, a plurality of pumping pulse semiconductor laser devices are provided, and the oscillation timings of the plurality of pumping pulse semiconductor laser devices are shifted from each other. By oscillating and obtaining an output pulsed laser beam for each oscillation of the plurality of pump semiconductor laser devices for excitation, the pulse semiconductor laser device for excitation has the same energy per pulse and the same number of pulse repetitions as the conventional one. It is possible to multiply the number of pulses of the pulsed laser light for excitation to be added to the solid-state laser medium substantially even by using one, and thereby, the number of repetitive pulses of the obtained output pulsed laser light is multiplied. , It is possible to multiply the average output power by multiple times.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例にかかるパルス半導体レー
ザ励起固体レーザ装置の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device according to an embodiment of the present invention.

【図2】一実施例の発振タイミングの説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of oscillation timing according to an embodiment.

【符号の説明】 1…固体レーザ媒体、2…第1励起用パルス半導体レー
ザ装置、3…第2励起用パルス半導体レーザ装置、4…
制御装置、5…全反射ミラー、6…出力ミラー。
[Explanation of Codes] 1 ... Solid-state laser medium, 2 ... First excitation pulse semiconductor laser device, 3 ... Second excitation pulse semiconductor laser device, 4 ...
Control device, 5 ... total reflection mirror, 6 ... output mirror.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 励起用パルス半導体レーザ装置から射出
された励起用のパルスレーザ光を、レーザ共振器内に配
置された固体レーザ媒体に照射し、該固体レーザ媒体を
励起して出力パルスレーザ光を得るようにしたパルス半
導体レーザ励起固体レーザ装置において、 前記励起用パルス半導体レーザ装置を複数設け、これら
複数の励起用パルス半導体レーザ装置の発振タイミング
を互いにずらして発振させ、これら複数の励起用パルス
半導体レーザ装置の各発振毎に出力パルスレーザ光を得
るようにしたことを特徴とするパルス半導体レーザ励起
固体レーザ装置。
1. A pulsed laser light for excitation emitted from a pulsed semiconductor laser device for excitation is irradiated onto a solid-state laser medium arranged in a laser resonator, and the solid-state laser medium is excited to output pulsed laser light. In the pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device, a plurality of the pumped pulsed semiconductor laser devices are provided, and the plurality of pumped pulsed semiconductor laser devices are oscillated by oscillating the oscillation timings of the pumped pulsed semiconductor laser devices. A pulsed semiconductor laser pumped solid-state laser device, wherein an output pulsed laser beam is obtained for each oscillation of the semiconductor laser device.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体レーザ励起固体
レーザ装置において、 前記励起用パルス半導体レーザ装置は、2次元パルス半
導体レーザアレイであることを特徴としたパルス半導体
レーザ励起固体レーザ装置。
2. The semiconductor laser pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the pumping pulse semiconductor laser device is a two-dimensional pulsed semiconductor laser array.
JP22012791A 1991-08-30 1991-08-30 Pulse semiconductor laser-pumped solid-state laser device Pending JPH0563269A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09199774A (en) * 1996-01-22 1997-07-31 Nec Corp Laser-diode-excited solid-state laser device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09199774A (en) * 1996-01-22 1997-07-31 Nec Corp Laser-diode-excited solid-state laser device
US5859868A (en) * 1996-01-22 1999-01-12 Nec Corporation Solid-state laser device which is pumped by light output from laser diode

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