JPH0560653A - 屈折率分布測定方法及び装置 - Google Patents
屈折率分布測定方法及び装置Info
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- JPH0560653A JPH0560653A JP22313291A JP22313291A JPH0560653A JP H0560653 A JPH0560653 A JP H0560653A JP 22313291 A JP22313291 A JP 22313291A JP 22313291 A JP22313291 A JP 22313291A JP H0560653 A JPH0560653 A JP H0560653A
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- JP
- Japan
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- dimensional sensor
- transmitted light
- refractive index
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 脈理を有する光ファイバ母材の屈折率分布を
高分解能で迅速に測定する。 【構成】 屈折率分布を測定する光ファイバ母材１３の
一横断面を含む面に沿って設けられた第１の一次元セン
サ１９の両側に第２の一次元センサ２０ａ，２０ｂを設
け、通常状態には第１の一次元センサ１９で検知された
透過光の位置情報より該透過光の屈折角を測定し、この
第１の一次元センサ１９に検知される透過光のピーク値
が基準値より低くなった場合には第２の一次元センサ２
０ａ，２０ｂで検知された位置情報により上記透過光の
屈折角を測定する。
高分解能で迅速に測定する。 【構成】 屈折率分布を測定する光ファイバ母材１３の
一横断面を含む面に沿って設けられた第１の一次元セン
サ１９の両側に第２の一次元センサ２０ａ，２０ｂを設
け、通常状態には第１の一次元センサ１９で検知された
透過光の位置情報より該透過光の屈折角を測定し、この
第１の一次元センサ１９に検知される透過光のピーク値
が基準値より低くなった場合には第２の一次元センサ２
０ａ，２０ｂで検知された位置情報により上記透過光の
屈折角を測定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、円柱状透明体の一横断
面の内部屈折率分布を求めるに際し、該円柱状透明体を
側面からのレーザ収束光により走査してその透明光の屈
折角を測定する屈折率分布測定装置に関する。
面の内部屈折率分布を求めるに際し、該円柱状透明体を
側面からのレーザ収束光により走査してその透明光の屈
折角を測定する屈折率分布測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】屈折率が変化している媒質中を光線が進
むとき、この光線は媒質中の各点でｎsin θ＝一定（ス
ネルの法則；ｎは媒質の屈折率、θは光線の進行方向を
示す角度）が成り立つように屈折される。したがって、
被検体に種々の光線を入射し、その各々の入射点（初期
条件）に対する屈折率を求め、これらを用いて積分計算
を行うことにより、上記被検体内部の屈折率分布を求め
ることができる。このような技術は主として光ファイバ
母材の屈折率分布を測定する手段として用いられてい
る。すなわち、光ファイバ母材を側面からレーザ収束光
により走査し、各入射点に対する透過光の屈折角を測定
することにより、該光ファイバ母材の内部屈折率分布を
求めている。
むとき、この光線は媒質中の各点でｎsin θ＝一定（ス
ネルの法則；ｎは媒質の屈折率、θは光線の進行方向を
示す角度）が成り立つように屈折される。したがって、
被検体に種々の光線を入射し、その各々の入射点（初期
条件）に対する屈折率を求め、これらを用いて積分計算
を行うことにより、上記被検体内部の屈折率分布を求め
ることができる。このような技術は主として光ファイバ
母材の屈折率分布を測定する手段として用いられてい
る。すなわち、光ファイバ母材を側面からレーザ収束光
により走査し、各入射点に対する透過光の屈折角を測定
することにより、該光ファイバ母材の内部屈折率分布を
求めている。
【０００３】ここで、屈折角を求める一例を図４を参照
しながら説明する。同図に示すように、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ１はそのレーザ光が集光レンズ２により集光されて被
検体である光ファイバ母材３を走査するように設けられ
ている。光ファイバ母材３は図４に示すようにクラッド
部３ａとコア部３ｂとから構成されているが、通常、屈
折角の測定精度を向上させる目的から屈折率がクラッド
部３ａとほぼ等しいマッチングオイル４を充填したマッ
チングセル５内に保持されている。このマッチングセル
５はステージ６上に載置されており、このステージ６を
コントローラ７を介して紙面に平行な方向へ移動するこ
とにより、ビームの走査が行われている。光ファイバ母
材３を通過した屈折光はレンズ８を介してラインセンサ
（一次元センサ）９に入射する。ここで、ラインセンサ
９はレンズ８から焦点距離ｆだけ離れて配置されてお
り、屈折光の屈折角φはラインセンサ９上の位置情報と
等価となる。このラインセンサ９からの位置情報はＣＰ
Ｕ１０にとりこまれるようになっており、このＣＰＵ１
０では、屈折光の位置情報とコントローラ７からのステ
ージ６の位置情報とにより屈折率分布を求めている。
しながら説明する。同図に示すように、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ１はそのレーザ光が集光レンズ２により集光されて被
検体である光ファイバ母材３を走査するように設けられ
ている。光ファイバ母材３は図４に示すようにクラッド
部３ａとコア部３ｂとから構成されているが、通常、屈
折角の測定精度を向上させる目的から屈折率がクラッド
部３ａとほぼ等しいマッチングオイル４を充填したマッ
チングセル５内に保持されている。このマッチングセル
５はステージ６上に載置されており、このステージ６を
コントローラ７を介して紙面に平行な方向へ移動するこ
とにより、ビームの走査が行われている。光ファイバ母
材３を通過した屈折光はレンズ８を介してラインセンサ
（一次元センサ）９に入射する。ここで、ラインセンサ
９はレンズ８から焦点距離ｆだけ離れて配置されてお
り、屈折光の屈折角φはラインセンサ９上の位置情報と
等価となる。このラインセンサ９からの位置情報はＣＰ
Ｕ１０にとりこまれるようになっており、このＣＰＵ１
０では、屈折光の位置情報とコントローラ７からのステ
ージ６の位置情報とにより屈折率分布を求めている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
ＶＡＤ法によって製作した光ファイバ母材には、ガラス
の成長に伴なって形成される屈折率のゆらぎ（脈理）が
あり、この脈理が原因で走査ビームが回折により光ファ
イバ母材３の軸方向に分散され、ラインセンサ９上に屈
折光が入射せずに屈折角が測定できないという問題があ
る。
ＶＡＤ法によって製作した光ファイバ母材には、ガラス
の成長に伴なって形成される屈折率のゆらぎ（脈理）が
あり、この脈理が原因で走査ビームが回折により光ファ
イバ母材３の軸方向に分散され、ラインセンサ９上に屈
折光が入射せずに屈折角が測定できないという問題があ
る。
【０００５】かかる問題を解決するものとして、脈理に
より分散した屈折光を二次元撮像素子で受光し、二次元
解析により真の位置情報を知る方法が提案されている。
しかし、二次元センサでは、水平画素数が最大でも１０
００画素以内と分解能が劣り、また、二次元的に処理す
るので処理時間が長いという問題がある。
より分散した屈折光を二次元撮像素子で受光し、二次元
解析により真の位置情報を知る方法が提案されている。
しかし、二次元センサでは、水平画素数が最大でも１０
００画素以内と分解能が劣り、また、二次元的に処理す
るので処理時間が長いという問題がある。
【０００６】本発明はこのような事情に鑑み、脈理を有
する光ファイバ母材の屈折率分布を高分解能で迅速に測
定できる屈折率分布測定方法及び装置を提供することを
目的とする。
する光ファイバ母材の屈折率分布を高分解能で迅速に測
定できる屈折率分布測定方法及び装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る屈折率分布測定方法は、円柱状透明体の一横断
面の内部屈折率分布を求めるに際して該円柱状透明体を
側面からレーザ収束光により走査してその透過光の屈折
角を測定する屈折率分布測定方法において、通常状態に
は上記一横断面を含む面に沿って設けられた一次元セン
サで検知された透過光の位置情報より該透過光の屈折角
を測定する一方、上記一次元センサに検知される透過光
のピーク値が基準値より低くなった場合には該一次元セ
ンサに直交する方向両側に設けられた他の一次元センサ
又は二次元センサで検知された位置情報により上記透過
光の屈折角を求めることを特徴とし、また、本発明に係
る屈折率分布測定装置は、円柱状透明体を側面からレー
ザ収束光により走査してその透過光の屈折角を測定する
ことにより該円柱状透明体の一横断面の内部屈折率分布
を求める屈折率分布測定装置において、上記透過光の受
光センサとして、上記一横断面を含む面に沿って設けら
れた一次元センサと、該一次元センサに直交する方向両
側に設けられた他の一次元センサ又は二次元センサとを
有し、上記一次元センサで検知する透過光のピーク値が
基準値より大きいときは該ピーク値に基づく位置情報よ
り透過光の屈折角を求める一方、該一次元センサで検知
する透過光のピーク値が基準値以下のときは上記他の一
次元センサ又は二次元センサからの位置情報より透過光
の屈折角を求める制御手段を具備することを特徴とす
る。
明に係る屈折率分布測定方法は、円柱状透明体の一横断
面の内部屈折率分布を求めるに際して該円柱状透明体を
側面からレーザ収束光により走査してその透過光の屈折
角を測定する屈折率分布測定方法において、通常状態に
は上記一横断面を含む面に沿って設けられた一次元セン
サで検知された透過光の位置情報より該透過光の屈折角
を測定する一方、上記一次元センサに検知される透過光
のピーク値が基準値より低くなった場合には該一次元セ
ンサに直交する方向両側に設けられた他の一次元センサ
又は二次元センサで検知された位置情報により上記透過
光の屈折角を求めることを特徴とし、また、本発明に係
る屈折率分布測定装置は、円柱状透明体を側面からレー
ザ収束光により走査してその透過光の屈折角を測定する
ことにより該円柱状透明体の一横断面の内部屈折率分布
を求める屈折率分布測定装置において、上記透過光の受
光センサとして、上記一横断面を含む面に沿って設けら
れた一次元センサと、該一次元センサに直交する方向両
側に設けられた他の一次元センサ又は二次元センサとを
有し、上記一次元センサで検知する透過光のピーク値が
基準値より大きいときは該ピーク値に基づく位置情報よ
り透過光の屈折角を求める一方、該一次元センサで検知
する透過光のピーク値が基準値以下のときは上記他の一
次元センサ又は二次元センサからの位置情報より透過光
の屈折角を求める制御手段を具備することを特徴とす
る。
【０００８】
【作用】通常状態においては、走査されたレーザ光の透
過光は一次元センサに入射し、そのピーク値の位置より
透過光の屈折角を求める。一方、円柱状透明体が脈理を
有する光ファイバ母材等でレーザ光の透過光が回折によ
り分散され、一次元センサに入射する透過光が減少して
ピーク値が認識できる最低値より低下した場合には、該
一次元センサの両側の他の一次元センサ又は二次元セン
サのピーク値の位置情報から透過光の屈折角を求める。
そして、これらの屈折角とレーザ光の走査位置情報より
屈折率分布を求める。
過光は一次元センサに入射し、そのピーク値の位置より
透過光の屈折角を求める。一方、円柱状透明体が脈理を
有する光ファイバ母材等でレーザ光の透過光が回折によ
り分散され、一次元センサに入射する透過光が減少して
ピーク値が認識できる最低値より低下した場合には、該
一次元センサの両側の他の一次元センサ又は二次元セン
サのピーク値の位置情報から透過光の屈折角を求める。
そして、これらの屈折角とレーザ光の走査位置情報より
屈折率分布を求める。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【００１０】図１には一実施例に係る屈折率分布測定装
置の概略構成を示す。同図に示すように、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザ１１は集光レンズ１２により集光されて被検体であ
る光ファイバ母材１３を走査するように設けられ、光フ
ァイバ母材１３はマッチングオイル１４を充填したマッ
チングセル１５内に保持されており、マッチングセル１
５はステージ１６上に載置されてコントローラ１７を介
して紙面に平行な方向へ移動することによりビームの走
査が行われるようになっている。光ファイバ母材１３の
集光レンズ１２とは反対側には透過光を集光するレンズ
１８が設けられており、このレンズ１８と焦点距離だけ
離れた位置には、上記ビームの走査方向に延びる第１の
一次元センサ１９が設けられている。また、この一次元
センサ１９の両側には複数本の第２の一次元センサ２０
ａ，２０ｂ（図示は２本とする）が設けられている。そ
して、これらの第１の一次元センサ１９及び第２の一次
元センサ２０ａ，２０ｂのデータは制御手段としてのＣ
ＰＵ２１に送られるようになっており、ＣＰＵ２１は第
１の一次元センサ１９又は第２の一次元センサ２０ａ，
２０ｂの位置情報とコントローラ１７の走査位置情報と
から屈折率分布を求める。
置の概略構成を示す。同図に示すように、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザ１１は集光レンズ１２により集光されて被検体であ
る光ファイバ母材１３を走査するように設けられ、光フ
ァイバ母材１３はマッチングオイル１４を充填したマッ
チングセル１５内に保持されており、マッチングセル１
５はステージ１６上に載置されてコントローラ１７を介
して紙面に平行な方向へ移動することによりビームの走
査が行われるようになっている。光ファイバ母材１３の
集光レンズ１２とは反対側には透過光を集光するレンズ
１８が設けられており、このレンズ１８と焦点距離だけ
離れた位置には、上記ビームの走査方向に延びる第１の
一次元センサ１９が設けられている。また、この一次元
センサ１９の両側には複数本の第２の一次元センサ２０
ａ，２０ｂ（図示は２本とする）が設けられている。そ
して、これらの第１の一次元センサ１９及び第２の一次
元センサ２０ａ，２０ｂのデータは制御手段としてのＣ
ＰＵ２１に送られるようになっており、ＣＰＵ２１は第
１の一次元センサ１９又は第２の一次元センサ２０ａ，
２０ｂの位置情報とコントローラ１７の走査位置情報と
から屈折率分布を求める。
【００１１】本実施例の装置を用いて屈折率分布を測定
するにはコントローラ１７によりステージ１６を移動し
てレーザ１１のビームを走査しながら、第１の一次元セ
ンサ１９及び第２の一次元センサ２０ａ，２０ｂの出力
をＣＰＵ２１により処理する。
するにはコントローラ１７によりステージ１６を移動し
てレーザ１１のビームを走査しながら、第１の一次元セ
ンサ１９及び第２の一次元センサ２０ａ，２０ｂの出力
をＣＰＵ２１により処理する。
【００１２】ここで、ＣＰＵ２１における制御をそのフ
ローチャートを示す図２を参照しながら説明する。同図
に示すように、Ｓ１のステップで第１の一次元センサ１
９よりデータを入力し、Ｓ２のステップで光強度のピー
ク位置及びピーク値を求める。次に、Ｓ３のステップで
ピーク値が基準値が大きいかどうかを判断する。ここ
で、基準値は屈折光の入射位置を測定するためのしきい
値とし、ピーク値が基準値より大きい場合にはＳ４のス
テップへいく。Ｓ４のステップでは、第１の一次元セン
サ１９上の光強度ピーク位置をメモリに登録する。その
後、Ｓ５のステップで次の測定点に移動する指令を出
し、Ｓ１のステップへ戻り、次の測定点での測定を行
う。一方、Ｓ３のステップでピーク値が基準値以下と判
断した場合には、Ｓ６のステップへいき、第２の一次元
センサ２０ａ，２０ｂよりデータを入力する。次に、第
２の一次元センサ２０ａ，２０ｂ上での光強度ピーク位
置を求め、これをＳ８のステップで解析して第１の一次
元センサ１９上での光強度ピーク位置を推定する。この
データはＳ４のステップで第１の一次元センサ１９上の
光強度ピーク位置をメモリに登録する。このようにして
求めた各測定点毎の光強度ピーク位置に基づいて光ファ
イバ母材１３の一横断面の屈折率分布を求める。
ローチャートを示す図２を参照しながら説明する。同図
に示すように、Ｓ１のステップで第１の一次元センサ１
９よりデータを入力し、Ｓ２のステップで光強度のピー
ク位置及びピーク値を求める。次に、Ｓ３のステップで
ピーク値が基準値が大きいかどうかを判断する。ここ
で、基準値は屈折光の入射位置を測定するためのしきい
値とし、ピーク値が基準値より大きい場合にはＳ４のス
テップへいく。Ｓ４のステップでは、第１の一次元セン
サ１９上の光強度ピーク位置をメモリに登録する。その
後、Ｓ５のステップで次の測定点に移動する指令を出
し、Ｓ１のステップへ戻り、次の測定点での測定を行
う。一方、Ｓ３のステップでピーク値が基準値以下と判
断した場合には、Ｓ６のステップへいき、第２の一次元
センサ２０ａ，２０ｂよりデータを入力する。次に、第
２の一次元センサ２０ａ，２０ｂ上での光強度ピーク位
置を求め、これをＳ８のステップで解析して第１の一次
元センサ１９上での光強度ピーク位置を推定する。この
データはＳ４のステップで第１の一次元センサ１９上の
光強度ピーク位置をメモリに登録する。このようにして
求めた各測定点毎の光強度ピーク位置に基づいて光ファ
イバ母材１３の一横断面の屈折率分布を求める。
【００１３】以上説明したように、第１の一次元センサ
１９に充分な光量が得られる場合には第１の一次元セン
サ１９の光強度ピーク位置を測定し、光ファイバ母材１
３の脈理などにより光が分散して第１の一次元センサ１
９で充分な光量が得られない場合には第２の一次元セン
サ２０ａ，２０ｂの光強度ピーク位置を測定すると共に
そのデータを解析することにより第１の一次元センサ１
９上のピーク位置を推定するようにするので、測定及び
処理に時間があまりかからず、高分解能で測定すること
ができる。
１９に充分な光量が得られる場合には第１の一次元セン
サ１９の光強度ピーク位置を測定し、光ファイバ母材１
３の脈理などにより光が分散して第１の一次元センサ１
９で充分な光量が得られない場合には第２の一次元セン
サ２０ａ，２０ｂの光強度ピーク位置を測定すると共に
そのデータを解析することにより第１の一次元センサ１
９上のピーク位置を推定するようにするので、測定及び
処理に時間があまりかからず、高分解能で測定すること
ができる。
【００１４】なお、第２の一次元センサ２０ａ，２０ｂ
としてはそれぞれ複数本ずつ設けてもよいし、第２の一
次元センサ２０ａ，２０ｂの代りに第１の一次元センサ
１９の両側に広がる二次元センサを設けてもよい。さら
に、図３に示すように、レンズ１８と一次元センサ１９
との間にビームスプリッタ２２を設けて該ビームスプリ
ッタ２２で分光した光を二次元センサ２３に導くように
してもよい。この場合、一次元センサ１９で検知する透
過光のピーク値が基準値以下のときは二次元センサ２３
からの情報を用いて一次元センサ１９上でのピーク位置
を推定し、屈折角を測定する。また、上記実施例では光
ファイバ母材１３をステージ１６により移動してビーム
を走査しているが、逆に光学系を移動するようにしても
よいことは言うまでもない。
としてはそれぞれ複数本ずつ設けてもよいし、第２の一
次元センサ２０ａ，２０ｂの代りに第１の一次元センサ
１９の両側に広がる二次元センサを設けてもよい。さら
に、図３に示すように、レンズ１８と一次元センサ１９
との間にビームスプリッタ２２を設けて該ビームスプリ
ッタ２２で分光した光を二次元センサ２３に導くように
してもよい。この場合、一次元センサ１９で検知する透
過光のピーク値が基準値以下のときは二次元センサ２３
からの情報を用いて一次元センサ１９上でのピーク位置
を推定し、屈折角を測定する。また、上記実施例では光
ファイバ母材１３をステージ１６により移動してビーム
を走査しているが、逆に光学系を移動するようにしても
よいことは言うまでもない。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
通常は第１の一次元センサを用い、光ファイバ母材の脈
理等で第１の一次元ラインセンサが充分な光量を得られ
ない場合のみ他の一次元センサ又は二次元センサを使用
するので、処理が迅速で且つ高分解能で測定することが
できる。
通常は第１の一次元センサを用い、光ファイバ母材の脈
理等で第１の一次元ラインセンサが充分な光量を得られ
ない場合のみ他の一次元センサ又は二次元センサを使用
するので、処理が迅速で且つ高分解能で測定することが
できる。
【図１】一実施例に係る屈折率分布測定装置を示す構成
図である。
図である。
【図２】図１の屈折率分布測定装置の制御の一例を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図３】他の実施例を示す構成図である。
【図４】従来技術に係る屈折率分布測定装置を示す構成
図である。
図である。
【符号の説明】 １１ Ｈｅ−Ｎｅレーザ １２ 集光レンズ １３ 光ファイバ母材 １４ マッチングオイル １５ マッチングセル １６ ステージ １７ コントローラ １８ レンズ １９ 第１の一次元センサ ２０ａ，２０ｂ 第２の一次元センサ ２１ ＣＰＵ
Claims (2)
- 【請求項１】 円柱状透明体の一横断面の内部屈折率分
布を求めるに際して該円柱状透明体を側面からレーザ収
束光により走査してその透過光の屈折角を測定する屈折
率分布測定方法において、通常状態には上記一横断面を
含む面に沿って設けられた一次元センサで検知された透
過光の位置情報より該透過光の屈折角を測定する一方、
上記一次元センサに検知される透過光のピーク値が基準
値より低くなった場合には該一次元センサに直交する方
向両側に設けられた他の一次元センサ又は二次元センサ
で検知された位置情報により上記透過光の屈折角を求め
ることを特徴とする屈折率分布測定方法。 - 【請求項２】 円柱状透明体を側面からレーザ収束光に
より走査してその透過光の屈折角を測定することにより
該円柱状透明体の一横断面の内部屈折率分布を求める屈
折率分布測定装置において、上記透過光の受光センサと
して、上記一横断面を含む面に沿って設けられた一次元
センサと、該一次元センサに直交する方向両側に設けら
れた他の一次元センサ又は二次元センサとを有し、上記
一次元センサで検知する透過光のピーク値が基準値より
大きいときは該ピーク値に基づく位置情報より透過光の
屈折角を求める一方、該一次元センサで検知する透過光
のピーク値が基準値以下のときは上記他の一次元センサ
又は二次元センサからの位置情報より透過光の屈折角を
求める制御手段を具備することを特徴とする屈折率分布
測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22313291A JPH0560653A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 屈折率分布測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22313291A JPH0560653A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 屈折率分布測定方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560653A true JPH0560653A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16793303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22313291A Withdrawn JPH0560653A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | 屈折率分布測定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0666471A2 (en) * | 1994-02-07 | 1995-08-09 | Corning Incorporated | Method and apparatus for analyzing optical waveguide cane |
-
1991
- 1991-09-03 JP JP22313291A patent/JPH0560653A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0666471A2 (en) * | 1994-02-07 | 1995-08-09 | Corning Incorporated | Method and apparatus for analyzing optical waveguide cane |
| EP0666471A3 (en) * | 1994-02-07 | 1996-05-08 | Corning Inc | Method and apparatus for analyzing the core of an optical waveguide. |
| AU674470B2 (en) * | 1994-02-07 | 1996-12-19 | Corning Incorporated | Method and apparatus for analyzing optical waveguide cane |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |