JPH0560465A

JPH0560465A - トンネル炉内へのガス導入方法およびトンネル炉

Info

Publication number: JPH0560465A
Application number: JP29859491A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Kitsunai; 稔幸橘内
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1991-08-30
Filing date: 1991-08-30
Publication date: 1993-03-09

Abstract

(57)【要約】【目的】所望の雰囲気を炉内に形成可能とする、トン
ネル炉のガス導入方法、およびトンネル炉を得る。【構成】トンネル炉の左右の壁内に部屋を設け、該壁
内の部屋と炉の内室とを該壁に設けた多数の小孔（１
６）によって連通せしめて、炉の内室に導入されるガス
を該壁内の部屋と多数の小孔とを介して供給するように
した、トンネル炉のガス導入方法、およびトンネル炉。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、トンネル炉に関し、特
にフェライト、セラミックなどの焼成に使用されるトン
ネル炉のガス導入方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述形式のトンネル炉においては、炉の
内室の温度および雰囲気ガスの組成を炉の長手方向の各
位置において適切に制御することが重要であって、長手
方向の所望のそれぞれの位置において所望のガス、例え
ば空気、保護ガスとしての窒素または水素などを導入
し、また、長手方向適宜の位置にガス遮断手段を設けて
異なる雰囲気ガス室を形成することなども行われてい
る。

【０００３】従来の技術の例として、トンネル炉１の概
略的な横断面図が図４に示される。トンネル炉１の左右
の壁３、４を貫通してガス導入孔５、６を設け、図示し
ないポンプ手段によりガス導入孔５、６を経て、ガスは
炉１の内室２に導入される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図４の場合、導入され
るガスの温度および圧力を導入される各位置における炉
の内室の温度および圧力に適合させることは、これらが
炉の長手方向で変化し、運転状態で変化するから、制御
装置が複雑となり、高価となる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、トンネ
ル炉の左右の壁内に部屋を設け、該壁内の部屋と炉の内
室とを多数の小孔によって連通せしめ、内室に導入され
るガス、例えば空気、保護ガスとしての窒素、水素など
を前記壁内の部屋を経て炉の内室に導入する、トンネル
炉内へのガス導入方法が提供される。

【０００６】さらに本発明によれば、左右の壁内にそれ
ぞれ少くとも１つの部屋を有し、該部屋は多数の小孔を
介して炉の内室と連通しており、且つ、該部屋内にガス
を導入する手段が設けられているトンネル炉が提供され
る。

【０００７】トンネル炉が外側壁と炉の内室を限定する
内側壁とを有するものとし、部屋が外側壁の内方で且つ
内側壁の外方に設けられ、該部屋と炉の内室との間の内
側壁に多数の小孔が設けられているようにしてもよい。

【０００８】部屋内にガスを導入するための導管を設
け、該導管を炉の内室に連通する多数の小孔に対比して
充分に大径として、所望の圧力差を該部屋と炉の内室と
の間に形成可能とすることが望ましい。

【０００９】

【作用】本発明によれば、ガスは左右の壁内の部屋に導
入されてから多数の小孔を介して炉の室に導入されるか
ら、該ガスの温度を導入される位置の炉の内室の温度に
近い温度とすることが著しく容易であり、安価である。
また多数の小孔を介して炉の内室に導入されるから、そ
の圧力を導入される位置の炉の内室の圧力より僅かに高
い圧力に維持することが容易であり、安価である。

【００１０】

【実施例】本発明の実施例を添付図面を参照して説明す
る。図１は本発明の実施例を示すためのトンネル炉の部
分断面図であり、トンネル炉１０は内室１１と、左右の
壁１２、１３と、壁１２、１３内の部屋１４、１５とを
有し、内室１１に導入されるガス、例えば空気、保護ガ
スとしての窒素、水素などは矢印に示すように一旦部屋
１４、１５に導入された後に、多数の小孔（図２、図３
の孔１６、１６）を経て内室１１に供給される。

【００１１】部屋１４、１５にガスを導入する手段は図
示しないが、各種のものが公知である。部屋１４、１５
は内室１１に隣接しているから内室１１の温度に近い温
度を有し、通常は特に部屋１４、１５内に加熱装置を設
けないでも、内室１１の温度とほぼ同一温度で供給され
るが、部屋１４、１５内に加熱装置を設けてもよい。部
屋１４、１５にガスを導入する導管は、小孔１６、１６
に対比して充分に大径として、部屋１４、１５と内室１
１との間に所望の圧力差を形成可能とする。

【００１２】トンネル炉１０の長手方向について、部屋
１４、１５は望ましくは別個に複数組を設け、長手方向
における炉内雰囲気の制御を容易とする。勿論、この場
合は各組の部屋１４、１５はそれぞれ別のガス供給手段
に連結され、長手方向において別の炉内雰囲気の形成を
可能とする。

【００１３】トンネル炉１０は壁１２、１３のみによっ
て外部と隔てられているように示したが、図面の簡略化
の目的であり、通常のトンネル炉と同様に外部壁と内部
壁とを有して内部壁の内部に内室１１が限定されるもの
であってよい。この場合には部屋１４、１５を内部壁に
隣接して外部壁から間隔をおいて設ける。

【００１４】本発明は、各種変形を施すことができる。
部屋１４、１５および小孔１６の大きさおよび配置は所
望の炉内雰囲気の形成のために適宜に定めることができ
る。

【００１５】

【発明の効果】トンネル炉の左右の壁内に部屋を設け
て、該壁内の部屋と炉の内室とを多数の小孔によって連
通せしめ、内室に導入されるガス、例えば空気、保護ガ
スとしての窒素、水素などを前記壁内の部屋を経て炉の
内室に導入するようにしたから、該ガスの温度を導入さ
れる位置の炉の内室の温度に近い温度とすることが著し
く容易であり、安価である。また多数の小孔を介して炉
の内室に導入されるから、その圧力を導入される位置の
炉の内室の圧力より僅かに高い圧力に維持することが容
易であり、安価である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の実施例によるトンネル炉の概略
断面図。

【図２】図２は図１のトンネル炉の側壁の部分斜視図。

【図３】図３は図２の側面図。

【図４】図４は従来のトンネル炉の概略断面図。

【符号の説明】

１０トンネル炉１１内室１２、１３左右の壁１４、１５壁内の部屋１６小孔

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トンネル炉の左右の壁内に部屋を設け、
該壁内の部屋と炉の内室を多数の小孔によって連通せし
め、炉の内室に導入されるガス、例えば空気または保護
ガスとしての窒素、水素などを前記壁内の部屋を経て炉
の内室に導入する、ことを特徴とするトンネル炉内への
ガス導入方法。
【請求項２】左右の壁内にそれぞれ少くとも１つの部
屋を有し、該部屋は多数の小孔を介して炉の内室と連通
しており、且つ、該部屋内にガスを導入するための手段
が設けられていることを特徴とするトンネル炉。
【請求項３】トンネル炉が外側壁と炉の内室を限定す
る内側壁とを有しており、前記部屋が外側壁の内方で且
つ内側壁の外方に設けられており、該部屋と炉の内室と
の間の内側壁に前記多数の小孔が設けられている、こと
を特徴とする請求項２に記載のトンネル炉。
【請求項４】前記部屋内にガスを導入するための導管
が設けられ、該導管は前記多数の小孔に対比して充分に
大径であって、所望の圧力差を該部屋と炉の内室との間
に形成可能であることを特徴とする請求項２に記載のト
ンネル炉。