JPH055901A - Active matrix liquid crystal display device - Google Patents

Active matrix liquid crystal display device

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JPH055901A
JPH055901A JP15663491A JP15663491A JPH055901A JP H055901 A JPH055901 A JP H055901A JP 15663491 A JP15663491 A JP 15663491A JP 15663491 A JP15663491 A JP 15663491A JP H055901 A JPH055901 A JP H055901A
Authority
JP
Japan
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active element
active
test
electrode
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP15663491A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunari Matsunami
一成 松並
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH055901A publication Critical patent/JPH055901A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To correctly discriminate the characteristic of active elements by leading out a lead wire for test from the active element corresponding to at least one of many picture element electrodes to the side edge part of a substrate. CONSTITUTION:A lead wire 18 for test is branched from the connection end of an active element 15 corresponding to at least one picture element electrode 14 out of many picture element electrodes 14. An end part 18a of this lead wire 18 is led out to the side edge part of a substrate 11. The active element 15 corresponding to this picture element electrode 14 is used as the test element for characteristic measurement to measure the characteristic of the active element 15 itself. That is, a gate signal is applied to a scanning line 12 connected to the gate electrode of the active element 15 used as the test element, and a test signal is applied to a signal line 13 connected to the drain electrode of the active element 15, and the output to the lead wire 18 for test led out to the side edge part of the substrate from the source electrode of the active element 15 is measured, thereby measuring the characteristic of the active element 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はアクティブマトリックス
液晶表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】アクティブマトリックス液晶表示装置
は、液晶層をはさんで対向する一対の透明基板の一方
に、多数本の信号ラインと、この各信号ラインに沿わせ
て配列された多数の画素電極と、この各画素電極にそれ
ぞれ対応させて設けられ前記信号ラインに印加されたデ
ータ信号を前記画素電極に供給する能動素子とを形成
し、他方の基板に対向電極を形成した構成となってい
る。このアクティブマトリックス液晶表示装置には、薄
膜トランジスタを能動素子とするものと、薄膜ダイオー
ドを能動素子とするものとがある。図5は従来のアクテ
ィブマトリックス液晶表示装置の回路図であり、ここで
は能動素子として薄膜トランジスタを用いたものを示し
ている。
2. Description of the Related Art In an active matrix liquid crystal display device, a large number of signal lines and a large number of pixel electrodes arranged along the respective signal lines are provided on one of a pair of transparent substrates facing each other with a liquid crystal layer in between. And an active element which is provided corresponding to each pixel electrode and supplies a data signal applied to the signal line to the pixel electrode, and a counter electrode is formed on the other substrate. .. This active matrix liquid crystal display device includes one using a thin film transistor as an active element and one using a thin film diode as an active element. FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional active matrix liquid crystal display device, in which a thin film transistor is used as an active element.

【0003】図5において、1は液晶層をはさんで対向
する一対の透明基板(ガラス基板)のうちの一方の基板
であり、この基板1面には、多数本の走査ライン2が互
いに平行に配線されるとともに、この走査ライン2と直
交する多数本の信号ライン3が互いに平行に配線されて
いる。なお、この各走査ライン2と各信号ライン3との
間は絶縁膜によって絶縁されている。
In FIG. 5, reference numeral 1 denotes one of a pair of transparent substrates (glass substrates) facing each other across a liquid crystal layer, and a large number of scanning lines 2 are parallel to each other on the surface of the substrate 1. And a number of signal lines 3 orthogonal to the scanning line 2 are wired in parallel with each other. The scanning lines 2 and the signal lines 3 are insulated from each other by an insulating film.

【0004】また、この基板1面には各走査ライン2お
よび各信号ライン3に沿わせて多数の画素電極(透明電
極)4が配列形成されるとともに、この各画素電極4に
それぞれ対応させて、前記信号ライン3に印加されたデ
ータ信号を画素電極4に供給する能動素子5が形成され
ている。
A large number of pixel electrodes (transparent electrodes) 4 are arrayed on the surface of the substrate 1 along the scanning lines 2 and the signal lines 3 and correspond to the respective pixel electrodes 4. An active element 5 for supplying the data signal applied to the signal line 3 to the pixel electrode 4 is formed.

【0005】この能動素子5は薄膜トランジスタであ
り、そのゲート電極は走査ライン2につながり、ドレイ
ン電極は信号ライン3につながっており、ソース電極は
画素電極4に接続されている。
The active element 5 is a thin film transistor, the gate electrode of which is connected to the scanning line 2, the drain electrode thereof is connected to the signal line 3, and the source electrode thereof is connected to the pixel electrode 4.

【0006】なお、図5では図示しないが、他方の基板
には上記各画素電極4に対向する透明な対向電極が形成
されており、この対向電極は表示領域全域にわたる1枚
電極とされている。
Although not shown in FIG. 5, a transparent counter electrode facing the pixel electrodes 4 is formed on the other substrate, and the counter electrode is a single electrode over the entire display area. ..

【0007】このアクティブマトリックス液晶表示装置
は、その各走査ライン2に順次走査信号(ゲート信号)
を印加し、これに同期させて各信号ライン3に画像デー
タ信号を印加することにより表示駆動されるもので、上
記能動素子(薄膜トランジスタ)5は、走査ライン2か
らゲート電極に印加される走査信号によってON状態と
なり、信号ライン3からドレイン電極に印加された画像
データ信号をソース電極から画素電極4に供給する。
In this active matrix liquid crystal display device, a sequential scanning signal (gate signal) is supplied to each scanning line 2.
Is applied and an image data signal is applied to each signal line 3 in synchronism therewith to drive the display. The active element (thin film transistor) 5 is a scanning signal applied to the gate electrode from the scanning line 2. Then, it is turned on, and the image data signal applied from the signal line 3 to the drain electrode is supplied from the source electrode to the pixel electrode 4.

【0008】ところで、このアクティブマトリックス液
晶表示装置においては、能動素子5である薄膜トランジ
スタの特性によって表示特性が左右されるため、良好な
表示品質の液晶表示装置を歩留よく製造するには、その
製造過程において、上記基板1面に形成した能動素子5
の特性の良否を判定する必要がある。
By the way, in this active matrix liquid crystal display device, the display characteristics are influenced by the characteristics of the thin film transistor which is the active element 5. Therefore, in order to manufacture a liquid crystal display device with good display quality at a high yield, the manufacture thereof is required. In the process, the active element 5 formed on the surface of the substrate 1
It is necessary to judge the quality of the characteristic.

【0009】このため、従来のアクティブマトリックス
液晶表示装置では、図5に示したように、画素電極4お
よびその能動素子5等を形成した基板1の表示領域外の
部分に、1個または数個(図では2個)のテスト用素子
(能動素子5である薄膜トランジスタと同じ構成の薄膜
トランジスタ)5aを形成しておき、このテスト用素子
5aの特性を測定して、能動素子5の特性を判定してい
る。
Therefore, in the conventional active matrix liquid crystal display device, as shown in FIG. 5, one or several pixels are formed in the portion of the substrate 1 on which the pixel electrode 4 and its active element 5 and the like are formed outside the display region. (Two in the figure) test elements (thin film transistors having the same configuration as the thin film transistor which is the active element 5) 5a are formed, and the characteristics of the test element 5a are measured to determine the characteristics of the active element 5. ing.

【0010】上記テスト用素子5aは、能動素子5の形
成時に一緒に形成されており、このテスト用素子5aの
特性の測定は、そのゲートおよびソース,ドレインの各
電極からそれぞれ基板側縁部に導出した各テスト端子6
G,6S,6Dのうち、ゲート端子6Gにゲート信号を
印加し、ドレイン端子6Dにテスト信号を印加して、ソ
ース端子6Sへの出力を測定する方法で行なわれてい
る。
The test element 5a is formed together when the active element 5 is formed, and the characteristics of the test element 5a are measured from the gate, source and drain electrodes to the side edges of the substrate. Derived test terminals 6
Of the G, 6S, and 6D, a gate signal is applied to the gate terminal 6G, a test signal is applied to the drain terminal 6D, and the output to the source terminal 6S is measured.

【0011】なお、図5には能動素子5として薄膜トラ
ンジスタを用いたものを示したが、能動素子として薄膜
ダイオードを用いるアクティブマトリックス液晶表示装
置でも、従来は、画素電極およびその能動素子である薄
膜ダイオード等を形成した基板の表示領域外の部分に、
テスト用として1個または数個の薄膜ダイオードを形成
しておき、このテスト用素子の特性を測定して、能動素
子である各薄膜ダイオードの特性を判定している。
Although a thin film transistor is used as the active element 5 in FIG. 5, even in an active matrix liquid crystal display device using a thin film diode as the active element, the pixel electrode and the thin film diode which is the active element have been conventionally used. Etc. on the part outside the display area of the substrate on which
One or several thin film diodes are formed for testing, and the characteristics of each test element are measured to determine the characteristics of each thin film diode that is an active element.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のアクティブマトリックス液晶表示装置は、能動素子
であるの特性を正しく判定することができないという問
題をもっていた。
However, the above-mentioned conventional active matrix liquid crystal display device has a problem that the characteristic of being an active element cannot be correctly determined.

【0013】これは、表示領域外の部分に形成したテス
ト用素子(薄膜トランジスタ5aまたは薄膜ダイオー
ド)と、能動素子(薄膜トランジスタ5または薄膜ダイ
オード)との特性に差があるためである。
This is because there is a difference in characteristics between the test element (thin film transistor 5a or thin film diode) formed outside the display area and the active element (thin film transistor 5 or thin film diode).

【0014】すなわち、上記テスト用素子は、能動素子
の形成時にこの能動素子と一緒に形成されているが、こ
のように能動素子とテスト用素子とを同じ工程で形成し
ても、能動素子およびテスト用素子を構成する半導体層
等の成膜時における堆積膜厚は、基板の中央部(表示領
域)と基板の外周部(表示領域外の部分)とで異なる
し、また、堆積膜をパターニングするエッチングにおい
ても、一定ピッチで配列形成される能動素子と、独立し
て形成されるテスト素子とではエッチング状況が異なる
ため、形成されたテスト用素子の特性が能動素子の特性
と異なってしまう。
That is, the test element is formed together with the active element when the active element is formed. However, even if the active element and the test element are formed in the same process, the active element and The deposited film thickness of the semiconductor layer that constitutes the test element during film formation differs between the central portion (display area) of the substrate and the outer peripheral portion (portion outside the display area) of the substrate, and the deposited film is patterned. In the case of etching, the characteristics of the test elements formed are different from the characteristics of the active elements because the etching conditions of the active elements arranged at a constant pitch are different from those of the test elements formed independently.

【0015】そして、従来のアクティブマトリックス液
晶表示装置では、能動素子の特性を正しく判定すること
ができないため、能動素子の特性が良好であるのにもか
かわらずこの基板を不良品と判定してしまったり、能動
素子の特性が良好でない基板を良品と判定してしまった
りすることがあった。本発明の目的は、能動素子の特性
を正しく判定することができるアクティブマトリックス
液晶表示装置を提供することにある。
In the conventional active matrix liquid crystal display device, since the characteristic of the active element cannot be correctly determined, this substrate is determined to be a defective product even though the characteristic of the active element is good. In some cases, a substrate with poor characteristics of active elements was judged as a good product. An object of the present invention is to provide an active matrix liquid crystal display device capable of correctly determining the characteristics of active elements.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リックス液晶表示装置は、多数の画素電極のうち少なく
とも1つの画素電極に対応する能動素子の画素電極接続
端からテスト用リード線を分岐し、このテスト用リード
線の端部を基板側縁部に導出したことを特徴とするもの
である。
In the active matrix liquid crystal display device of the present invention, a test lead wire is branched from a pixel electrode connecting end of an active element corresponding to at least one pixel electrode among a large number of pixel electrodes. It is characterized in that the end portion of the test lead wire is led out to the side edge portion of the substrate.

【0017】[0017]

【作用】すなわち、本発明は、多数の画素電極のうち少
なくとも1つの画素電極に対応する能動素子を、特性測
定のためのテスト用素子としても利用して、能動素子そ
のものの特性を測定するようにしたもので、この能動素
子の特性の測定は、この能動素子がつながる信号ライン
にテスト信号を印加し、基板側縁部に導出したテスト用
リード線への出力を測定することで行なうことができ
る。
That is, according to the present invention, the characteristic of the active element itself is measured by using the active element corresponding to at least one pixel electrode among a large number of pixel electrodes as a test element for characteristic measurement. The characteristics of this active element can be measured by applying a test signal to the signal line connected to this active element and measuring the output to the test lead wire led to the side edge of the board. it can.

【0018】[0018]

【実施例】【Example】

(第1の実施例)以下、本発明の第1の実施例を図1お
よび図2を参照して説明する。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0019】この実施例のアクティブマトリックス液晶
表示装置は、能動素子として薄膜トランジスタを用いた
ものであり、図1は液晶表示装置の回路図、図2はテス
ト用素子としても利用される能動素子部の平面図であ
る。
The active matrix liquid crystal display device of this embodiment uses thin film transistors as active elements. FIG. 1 is a circuit diagram of the liquid crystal display device, and FIG. 2 is an active element portion also used as a test element. It is a top view.

【0020】図1において、11は液晶層をはさんで対
向する一対の透明基板(ガラス基板)のうちの一方の基
板であり、この基板11面には、多数本の走査ライン1
2が互いに平行に配線されるとともに、この走査ライン
12と直交する多数本の信号ライン13が互いに平行に
配線されている。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes one of a pair of transparent substrates (glass substrates) facing each other across a liquid crystal layer, and a large number of scanning lines 1 are provided on the surface of the substrate 11.
2 are wired in parallel with each other, and a large number of signal lines 13 orthogonal to the scanning line 12 are wired in parallel with each other.

【0021】また、この基板11面には各走査ライン1
2および各信号ライン13に沿わせて多数の画素電極
(透明電極)14が配列形成されるとともに、この各画
素電極14にそれぞれ対応させて、前記信号ライン13
に印加されたデータ信号を画素電極14に供給する能動
素子15が形成されている。
Each scanning line 1 is formed on the surface of the substrate 11.
2 and each of the signal lines 13, a large number of pixel electrodes (transparent electrodes) 14 are arrayed and formed, and the signal lines 13 are respectively associated with the pixel electrodes 14.
An active element 15 that supplies the data signal applied to the pixel electrode 14 is formed.

【0022】この能動素子15は薄膜トランジスタであ
る。この薄膜トランジスタは、例えば逆スタガー構造の
もので、図2に示すように、基板11面に配線した上記
走査ライン12に形成されたゲート電極Gと、このゲー
ト電極Gおよび走査ライン12を覆って基板11の表示
領域全域に形成された透明なゲート絶縁膜16と、この
ゲート絶縁膜16の上に前記ゲート電極Gに対向させて
形成された半導体層17と、この半導体層17の上に形
成されたソース電極Sおよびドレイン電極Dとで構成さ
れている。
The active element 15 is a thin film transistor. The thin film transistor has, for example, an inverted stagger structure, and as shown in FIG. 2, the gate electrode G formed on the scanning line 12 wired on the surface of the substrate 11 and the substrate covering the gate electrode G and the scanning line 12 11, a transparent gate insulating film 16 formed over the entire display region, a semiconductor layer 17 formed on the gate insulating film 16 so as to face the gate electrode G, and formed on the semiconductor layer 17. And a source electrode S and a drain electrode D.

【0023】また、上記信号ライン13および画素電極
14は上記ゲート絶縁膜16の上に形成されており、上
記能動素子(薄膜トランジスタ)15のドレイン電極D
は信号ライン13につながり、ソース電極Sは画素電極
14に接続されている。
The signal line 13 and the pixel electrode 14 are formed on the gate insulating film 16, and the drain electrode D of the active element (thin film transistor) 15 is formed.
Is connected to the signal line 13, and the source electrode S is connected to the pixel electrode 14.

【0024】なお、図において、12aは走査ライン1
2の端子、13aは信号ライン13の端子であり、各走
査ライン12の端子12aは基板11の一端縁部に配列
され、各信号ライン13の端子13aは基板11の一側
縁部に配列されている。
In the figure, reference numeral 12a is a scan line 1.
Two terminals, 13a are terminals of the signal line 13, the terminals 12a of each scanning line 12 are arranged on one edge of the substrate 11, and the terminals 13a of each signal line 13 are arranged on one edge of the substrate 11. ing.

【0025】また、図示しないが、上記基板11と液晶
層をはさんで対向する他方の基板には、上記各画素電極
14に対向する透明な対向電極が形成されており、この
対向電極は表示領域全域にわたる1枚電極とされてい
る。
Although not shown, a transparent counter electrode facing each of the pixel electrodes 14 is formed on the other substrate which faces the substrate 11 with the liquid crystal layer in between. One electrode is formed over the entire area.

【0026】そして、上記多数の画素電極14のうち一
部の画素電極14に対応する能動素子15は、特性測定
のためのテスト用素子を兼ねるものとされており、この
実施例では、図1において最上行の各画素電極14のう
ち両端の2つの画素電極14に対応する2つの能動素子
15にそれぞれテスト用素子を兼ねさせている。
The active element 15 corresponding to a part of the pixel electrodes 14 of the large number of pixel electrodes 14 also serves as a test element for measuring the characteristic. In this embodiment, FIG. In the above, the two active elements 15 corresponding to the two pixel electrodes 14 at both ends of each pixel electrode 14 in the uppermost row also serve as test elements.

【0027】このテスト用素子を兼ねる能動素子15の
画素電極接続端からは、テスト用リード線18が分岐さ
れており、このテスト用リード線18の端部18aは、
基板11の一側縁部、つまり信号ライン端子13aの配
列縁部に導出されている。なお、このテスト用リード線
18は、図2に示すように、能動素子15のソース電極
Sと一体に形成されている。
A test lead wire 18 is branched from the pixel electrode connecting end of the active element 15 which also serves as the test element, and the end portion 18a of the test lead wire 18 is
It is led out to one side edge portion of the substrate 11, that is, the arrangement edge portion of the signal line terminals 13a. The test lead wire 18 is formed integrally with the source electrode S of the active element 15, as shown in FIG.

【0028】すなわち、この実施例のアクティブマトリ
ックス液晶表示装置は、多数の画素電極14のうち一部
の画素電極14に対応する能動素子15を、特性測定の
ためのテスト用素子としても利用して、能動素子15そ
のものの特性を測定するようにしたものである。
That is, in the active matrix liquid crystal display device of this embodiment, the active elements 15 corresponding to a part of the pixel electrodes 14 of the large number of pixel electrodes 14 are also used as test elements for measuring the characteristics. The characteristic of the active element 15 itself is measured.

【0029】上記能動素子15の特性の測定は、テスト
用素子を兼ねる能動素子15のゲート電極Gがつながっ
ている走査ライン12にゲート信号を印加し、この能動
素子15のドレイン電極Dがつながっている信号ライン
13にテスト信号を印加して、この能動素子15のソー
ス電極Sから基板側縁部に導出されているテスト用リー
ド線18への出力を測定することで行なうことができ
る。なお、この特性の測定は、テスト用素子を兼ねる2
つの能動素子15の両方について行なっても、いずれか
一方についてだけ行なってもよい。
To measure the characteristics of the active element 15, a gate signal is applied to the scanning line 12 to which the gate electrode G of the active element 15 which also functions as a test element is connected, and the drain electrode D of this active element 15 is connected. This can be performed by applying a test signal to the signal line 13 present and measuring the output from the source electrode S of the active element 15 to the test lead wire 18 led to the side edge of the substrate. In addition, the measurement of this characteristic also serves as a test element.
It may be performed for both of the one active elements 15 or for only one of them.

【0030】そして、この液晶表示装置においては、一
部の画素電極14に対応する能動素子15をテスト用素
子としても利用して、能動素子15そのものの特性を測
定するようにしているため、能動素子15である薄膜ト
ランジスタの特性を正しく判定することができる。
In this liquid crystal display device, the active element 15 corresponding to some of the pixel electrodes 14 is also used as a test element to measure the characteristics of the active element 15 itself. The characteristics of the thin film transistor, which is the element 15, can be correctly determined.

【0031】この場合、直接特性を測定できる能動素子
15は、テスト用素子を兼ねる2つの能動素子15の一
方または両方だけであるが、このテスト用素子を兼ねる
能動素子15と他の能動素子15はいずれも基板中央部
の表示領域に一定ピッチで配列形成されているため、こ
の各能動素子15を構成するゲート絶縁膜16や半導体
層17等の成膜時における堆積膜厚および半導体層17
等をパターニングする際のエッチング状況は、全ての薄
膜トランジスタ15においてほぼ均一であり、したがっ
て、直接特性を測定できない能動素子15の特性はテス
ト用素子を兼ねる能動素子15の特性と同じであるか
ら、上記テスト用素子を兼ねる能動素子15の特性を測
定すれば、全ての能動素子15の特性を判定することが
できる。
In this case, the active element 15 capable of directly measuring the characteristics is only one or both of the two active elements 15 which also serve as the test element, but the active element 15 which also serves as the test element and the other active element 15 All of them are arranged and arranged at a constant pitch in the display region in the central portion of the substrate. Therefore, the deposited film thickness and the semiconductor layer 17 at the time of forming the gate insulating film 16 and the semiconductor layer 17 which constitute each active element 15 are formed.
Since the etching conditions when patterning etc. are almost uniform in all thin film transistors 15, the characteristics of the active element 15 whose direct characteristics cannot be measured are the same as the characteristics of the active element 15 which also functions as a test element. By measuring the characteristics of the active element 15 that also serves as the test element, the characteristics of all the active elements 15 can be determined.

【0032】なお、上記実施例では、2つの画素電極1
4に対応する2つの能動素子15をテスト用素子として
利用しているが、テスト用素子として利用する能動素子
15の数は、少なくとも1つ以上であれば任意でよい。
In the above embodiment, the two pixel electrodes 1
Although the two active elements 15 corresponding to 4 are used as the test elements, the number of active elements 15 used as the test elements may be at least one.

【0033】また、上記実施例の液晶表示装置は、能動
素子として薄膜トランジスタを用いたものであるが、本
発明は、能動素子として薄膜ダイオードを用いたアクテ
ィブマトリックス液晶表示装置にも適用することができ
る。 (第2の実施例)図3および図4は本発明の第2の実施
例を示している。
Further, although the liquid crystal display device of the above embodiment uses the thin film transistor as the active element, the present invention can be applied to the active matrix liquid crystal display device using the thin film diode as the active element. .. (Second Embodiment) FIGS. 3 and 4 show a second embodiment of the present invention.

【0034】この実施例のアクティブマトリックス液晶
表示装置は、能動素子として薄膜ダイオードを用いたも
のであり、図3は液晶表示装置の一部分の回路図、図4
はテスト用素子としても利用される能動素子部の平面図
である。
The active matrix liquid crystal display device of this embodiment uses a thin film diode as an active element, and FIG. 3 is a partial circuit diagram of the liquid crystal display device.
[FIG. 3] is a plan view of an active element portion that is also used as a test element.

【0035】図3において、20,21は液晶層をはさ
んで対向する一対の透明基板(ガラス基板)であり、図
に鎖線で示した第1の基板20面には、ストライプ状の
対向電極(透明電極)22が微小間隔で多数本互いに平
行に形成されており、図に実線で示した第2の基板21
面には、上記対向電極22の長さ方向に対して直交する
多数本の信号ライン23が互いに平行に配線されてい
る。
In FIG. 3, reference numerals 20 and 21 denote a pair of transparent substrates (glass substrates) which face each other with a liquid crystal layer in between, and a striped counter electrode is provided on the surface of the first substrate 20 shown by a chain line in the figure. A large number of (transparent electrodes) 22 are formed in parallel with each other at a minute interval, and the second substrate 21 shown by a solid line in the figure.
On the surface, a large number of signal lines 23 orthogonal to the length direction of the counter electrode 22 are wired in parallel with each other.

【0036】また、上記第2の基板21面には、各信号
ライン3に沿わせて、上記第1の基板20面の各対向電
極22にそれぞれ対向する多数の画素電極(透明電極)
24が配列形成されるとともに、この各画素電極24に
それぞれ対応する能動素子25が形成されている。
On the surface of the second substrate 21, a large number of pixel electrodes (transparent electrodes) are arranged along the signal lines 3 and face the respective counter electrodes 22 on the surface of the first substrate 20.
24 are arranged in an array, and active elements 25 corresponding to the respective pixel electrodes 24 are formed.

【0037】この能動素子25は薄膜ダイオードからな
っており、この実施例では、上記能動素子25を、2個
の薄膜ダイオード25a,25bを互いに逆向きに直列
接続したバック・トゥ・バック(TBT)構造としてい
る。
The active element 25 is a thin film diode. In this embodiment, the active element 25 is a back-to-back (TBT) in which two thin film diodes 25a and 25b are connected in series in opposite directions. It has a structure.

【0038】このバック・トゥ・バック構造の能動素子
25を構成する2個の薄膜ダイオード25a,25b
は、それぞれ、基板21面に形成したベース電極26
と、このベース電極26の上に形成されたP−I−N接
合またはP−N接合構造の半導体層27と、この半導体
層27の上にそれぞれ形成された上部電極28とからな
っている。
Two thin film diodes 25a and 25b which constitute the active element 25 of this back-to-back structure.
Are the base electrodes 26 formed on the surface of the substrate 21, respectively.
And a semiconductor layer 27 having a P-I-N junction or P-N junction structure formed on the base electrode 26, and an upper electrode 28 formed on the semiconductor layer 27.

【0039】そして、この2個の薄膜ダイオード25
a,25bのベース電極26と上部電極28とのうち、
一方の電極(この実施例ではベース電極)26は、両薄
膜ダイオード25a,25bに共通する電極とされ、他
方の電極(この実施例では上部電極)28は各薄膜ダイ
オード25a,25bごとに分離されており、上記2個
の薄膜ダイオード25a,25bは、共通電極であるベ
ース電極26を介して、極性が互いに逆向きの状態に直
列接続されている。
Then, these two thin film diodes 25
Of the base electrode 26 and the upper electrode 28 of a and 25b,
One electrode (base electrode in this embodiment) 26 is an electrode common to both thin film diodes 25a and 25b, and the other electrode (upper electrode in this embodiment) 28 is separated for each thin film diode 25a, 25b. The two thin film diodes 25a and 25b are connected in series in a state where their polarities are opposite to each other via the base electrode 26 which is a common electrode.

【0040】また、この能動素子25の一端、つまり信
号ライン23側の薄膜ダイオード25aの上部電極28
は信号ライン23につながっており、能動素子25の他
端、つまり画素電極24側の薄膜ダイオード25bの上
部電極28は画素電極24に接続されている。
Further, one end of the active element 25, that is, the upper electrode 28 of the thin film diode 25a on the signal line 23 side.
Is connected to the signal line 23, and the other end of the active element 25, that is, the upper electrode 28 of the thin film diode 25b on the pixel electrode 24 side is connected to the pixel electrode 24.

【0041】このバック・トゥ・バック構造の能動素子
25は、第1の基板20面の各対向電極22に順次印加
される走査信号に同期させて各信号ライン23に印加さ
れる画像データ信号を画素電極24に供給するもので、
この能動素子25は、そのしきい値電圧(2個の薄膜ダ
イオード25a,25bのうち、電流の方向に対して逆
向きのダイオードが逆方向電流に対して導通状態となる
電圧)を越える電圧値のデータ信号が印加されたときに
ON状態となって、このデータ信号を画素電極24に供
給する。
The active element 25 having the back-to-back structure transmits the image data signal applied to each signal line 23 in synchronization with the scanning signal sequentially applied to each counter electrode 22 on the surface of the first substrate 20. Which is supplied to the pixel electrode 24,
This active element 25 has a voltage value exceeding its threshold voltage (a voltage at which one of the two thin film diodes 25a and 25b, which is opposite to the direction of current, becomes conductive to the opposite direction current). When this data signal is applied, it is turned on and this data signal is supplied to the pixel electrode 24.

【0042】なお、図において、22aは対向電極の端
子、23aは信号ライン23の端子であり、各対向電極
22の端子22aは第1の基板20の一端縁部に配列さ
れ、各信号ライン23の端子23aは第2の基板21の
一側縁部に配列されている。
In the figure, 22a is a terminal of the counter electrode, 23a is a terminal of the signal line 23, and the terminals 22a of the counter electrodes 22 are arranged at one edge of the first substrate 20 and the signal lines 23 are arranged. 23a are arranged on one side edge of the second substrate 21.

【0043】そして、上記多数の画素電極24のうち一
部の画素電極24に対応する能動回路25は、特性測定
のためのテスト用素子を兼ねるものとされており、この
テスト用素子を兼ねる能動回路25の画素電極接続端か
らは、テスト用リード線29が分岐されている。
The active circuit 25 corresponding to a part of the pixel electrodes 24 out of the large number of pixel electrodes 24 is also used as a test element for characteristic measurement, and the active circuit 25 also functions as a test element. A test lead wire 29 is branched from the pixel electrode connection end of the circuit 25.

【0044】このテスト用リード線29は、図4に示す
ように、画素電極24側の薄膜ダイオード25bの上部
電極28と一体に形成されており、このテスト用リード
線29の端部29aは、基板21の一側縁部、つまり信
号ライン端子23aの配列縁部に導出されている。
As shown in FIG. 4, the test lead wire 29 is formed integrally with the upper electrode 28 of the thin film diode 25b on the pixel electrode 24 side, and the end portion 29a of the test lead wire 29 is It is led out to one side edge portion of the substrate 21, that is, the arrangement edge portion of the signal line terminals 23a.

【0045】すなわち、この実施例のアクティブマトリ
ックス液晶表示装置も、多数の画素電極24のうち一部
の画素電極24に対応する能動素子25を、特性測定の
ためのテスト用素子としても利用して、能動素子25そ
のものの特性を測定するようにしたものである。
That is, also in the active matrix liquid crystal display device of this embodiment, the active elements 25 corresponding to some of the pixel electrodes 24 among the many pixel electrodes 24 are also used as test elements for measuring the characteristics. The characteristic of the active element 25 itself is measured.

【0046】なお、この能動素子25の特性の測定は、
テスト用素子を兼ねる能動素子25がつながっている信
号ライン23にテスト信号を印加し、この能動素子25
の画素電極接続端から基板側縁部に導出されているテス
ト用リード線29への出力を測定することで行なうこと
ができる。
The characteristic of the active element 25 is measured by
A test signal is applied to the signal line 23 connected to the active element 25 which also functions as a test element, and the active element 25
This can be done by measuring the output from the pixel electrode connecting end to the test lead wire 29 led to the side edge of the substrate.

【0047】そして、この液晶表示装置においても、一
部の画素電極24に対応する能動素子25をテスト用素
子としても利用して、能動素子25そのものの特性を測
定するようにしているため、能動素子25の特性を正し
く判定することができる。
Also in this liquid crystal display device, the active elements 25 corresponding to some of the pixel electrodes 24 are also used as test elements to measure the characteristics of the active elements 25 themselves. The characteristics of the element 25 can be correctly determined.

【0048】なお、上記実施例では、薄膜ダイオードで
構成する能動素子25をバック・トゥ・バック構造とし
たが、薄膜ダイオードを能動素子とするアクティブマト
リックス液晶表示装置には、1個あるいは同じ向きに直
列接続した複数個の薄膜ダイオードで能動回路を構成し
たものや、画素電極の2箇所を一対の能動素子を介して
信号ラインに接続するとともに一方の能動回路の薄膜ダ
イオードの向きと他方の能動回路の薄膜ダイオードの向
きとを互いに逆にしたダイオードリング構造のものもあ
り、本発明は、これらの液晶表示装置にも適用すること
ができる。
In the above embodiment, the active element 25 composed of the thin film diode has a back-to-back structure. However, in the active matrix liquid crystal display device having the thin film diode as the active element, one or the same direction is used. An active circuit composed of a plurality of thin film diodes connected in series, or two locations of a pixel electrode are connected to a signal line via a pair of active elements, and the direction of the thin film diode of one active circuit and the other active circuit There is also a diode ring structure in which the directions of the thin film diodes are reversed, and the present invention can be applied to these liquid crystal display devices.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明のアクティブマトリックス液晶表
示装置は、多数の画素電極のうち少なくとも1つの画素
電極に対応する能動素子からテスト用リード線を基板側
縁部に導出して、この能動素子を特性測定のためのテス
ト用素子としても利用して、能動素子そのものの特性を
測定するようにしたものであるから、能動素子の特性を
正しく判定することができる。
According to the active matrix liquid crystal display device of the present invention, a test lead wire is led out from the active element corresponding to at least one pixel electrode among a large number of pixel electrodes to the side edge of the substrate, and this active element is Since the characteristics of the active element itself are measured by using it as a test element for measuring characteristics, the characteristics of the active element can be correctly determined.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す液晶表示装置の回
路図。
FIG. 1 is a circuit diagram of a liquid crystal display device showing a first embodiment of the present invention.

【図2】同じくテスト用素子としても利用される能動素
子部の平面図。
FIG. 2 is a plan view of an active element portion that is also used as a test element.

【図3】本発明の第2の実施例を示す液晶表示装置の回
路図。
FIG. 3 is a circuit diagram of a liquid crystal display device showing a second embodiment of the present invention.

【図4】同じくテスト用素子としても利用される能動素
子部の平面図。
FIG. 4 is a plan view of an active element portion that is also used as a test element.

【図5】従来の液晶表示装置の回路図。FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…基板、12…走査ライン、13…信号ライン、1
4…画素電極、15…能動素子(薄膜トランジスタ)、
18…テスト用リード線、20,21…基板、22…対
向電極、23…信号ライン、24…画素電極、25…能
動素子、25a,25b…薄膜ダイオード、29…テス
ト用リード線。
11 ... Substrate, 12 ... Scan line, 13 ... Signal line, 1
4 ... Pixel electrode, 15 ... Active element (thin film transistor),
18 ... Test lead wire, 20, 21 ... Substrate, 22 ... Counter electrode, 23 ... Signal line, 24 ... Pixel electrode, 25 ... Active element, 25a, 25b ... Thin film diode, 29 ... Test lead wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 液晶層をはさんで対向する一対の透明基
板の一方に、多数本の信号ラインと、この各信号ライン
に沿わせて配列された多数の画素電極と、この各画素電
極にそれぞれ対応させて設けられ前記信号ラインに印加
されたデータ信号を前記画素電極に供給する能動素子と
を形成し、他方の基板に対向電極を形成したアクティブ
マトリックス液晶表示装置において、前記多数の画素電
極のうち少なくとも1つの画素電極に対応する能動素子
の画素電極接続端からテスト用リード線を分岐し、この
テスト用リード線の端部を基板側縁部に導出したことを
特徴とするアクティブマトリックス液晶表示装置。
1. A large number of signal lines and a large number of pixel electrodes arranged along each of the signal lines on one of a pair of transparent substrates facing each other with a liquid crystal layer in between. An active matrix liquid crystal display device in which an active element which is provided corresponding to each pixel electrode and which supplies a data signal applied to the signal line to the pixel electrode is formed, and an opposite electrode is formed on the other substrate. The test lead wire is branched from the pixel electrode connection end of the active element corresponding to at least one pixel electrode of the plurality of pixel electrodes, and the end portion of the test lead wire is led to the substrate side edge portion. Characteristic active matrix liquid crystal display device.
JP15663491A 1991-06-27 1991-06-27 Active matrix liquid crystal display device Pending JPH055901A (en)

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JP15663491A JPH055901A (en) 1991-06-27 1991-06-27 Active matrix liquid crystal display device

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JP (1) JPH055901A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5825439A (en) * 1994-12-22 1998-10-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Array substrate for display

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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