JPH0553294A - Substrate negative plate formation device - Google Patents

Substrate negative plate formation device

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JPH0553294A
JPH0553294A JP21386891A JP21386891A JPH0553294A JP H0553294 A JPH0553294 A JP H0553294A JP 21386891 A JP21386891 A JP 21386891A JP 21386891 A JP21386891 A JP 21386891A JP H0553294 A JPH0553294 A JP H0553294A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
original image
substrate
positive
negative
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP21386891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Kawamura
河村一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP21386891A priority Critical patent/JPH0553294A/en
Publication of JPH0553294A publication Critical patent/JPH0553294A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a negative film for substrate internal layer data consisting principally of power source data. CONSTITUTION:This device includes an area setting means 11 which sets an area including an exposure object range on a substrate, a negative aperture track data generating means 12 which generates negative aperture track data for exposure on a part except a positive part to be exposed in the rectangular area, and a positive-negative inverting means 13 which forms the negative film with the aperture track data and performs the positive-negative inverting process of the film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、露光法によりプリント
基板または半導体集積回路基板の原画フィルムを作成す
る基板原画作成装置に利用する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used in a substrate original image producing apparatus for producing an original image film for a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit board by an exposure method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリント基板のフォトプロッタに
よる原画フィルムの作成は、フォトプロッタ側で用意さ
れたプリント基板の部品端子、スルーホールのランド形
状に対応した原画露光用のアパーチャの識別番号を使用
し、露光すべき箇所(部品端子、スルーホールのラン
ド、信号線パターン、および電源幅広パターンの内部)
を、ランドの場合は、識別番号とランド位置座標の組み
合せ、信号線パターンの場合は、信号線の幅に対応する
アパーチャの識別番号と信号線の始点、終点座標の組み
合せ、電源幅広パターンの場合は、その内部を完全に覆
うような適当なアパーチャの軌跡(線分の集合)を自動
発生し、それぞれのアパーチャの識別番号と線分の始
点、終点の組み合せとしてホトプロッタ用NCデータを
作成、ファイル(通常はマグネティックテープ)に出力
し、それをホトプロッタにかけることによって行われて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, when an original image film is produced by a photo plotter of a printed circuit board, the identification number of an aperture for original image exposure corresponding to a component terminal of the printed circuit board and a land shape of a through hole is prepared on the photo plotter side. Where to expose (inside component terminals, through-hole lands, signal line patterns, and wide power supply patterns)
In case of land, combination of identification number and land position coordinate, in case of signal line pattern, combination of aperture identification number corresponding to signal line width and start and end coordinates of signal line, wide power supply pattern Automatically generates an appropriate aperture locus (set of line segments) that completely covers the inside, and creates NC data for the photoplotter as a combination of the identification number of each aperture and the start and end points of the line. It is done by outputting to (usually magnetic tape) and applying it to a photoplotter.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の方式で
は、電源ベタパターンが大部分を占める層に関しては露
光部分が多くなりホトプロッタによる原画フィルムの作
成時間がかかりすぎる欠点がある。
The above-mentioned conventional method has a drawback in that a layer occupying most of the power source solid pattern has a large exposed portion, and it takes too much time to prepare an original image film by a photoplotter.

【0004】以下、具体例について詳細に説明する。い
ま、図4に示すプリント基板の原画を作成する場合を考
える。図4において、基板20上で黒く塗られている部
分がポジ部分であり実際には銅はく部分21であり、2
2は内層のコンタクトランドである。それ以外の部分が
ネガ部分であり、実際には非導通部分に対応する。図5
は、内層のコンタクトランド22の形状の説明図であ
る。図5で示すようにコンタクトランド22はその中に
ネガ部分とポジ部分が混在している。
Specific examples will be described in detail below. Now, consider the case of creating an original image of the printed circuit board shown in FIG. In FIG. 4, the portion painted black on the substrate 20 is the positive portion and actually the copper foil portion 21.
Reference numeral 2 is an inner layer contact land. The other portion is the negative portion and actually corresponds to the non-conductive portion. Figure 5
FIG. 4 is an explanatory diagram of a shape of an inner layer contact land 22. As shown in FIG. 5, the contact land 22 has a negative portion and a positive portion mixed therein.

【0005】図6は、従来の方式では図4のような原画
を作成するのが困難であることをあらわす説明図であ
る。従来の方式では、図6で示すように、銅はく部分2
1に対する露光と、コンタクトランド22に対する露光
がそれぞれ独立に行われるため、銅はく部分21の露光
がコンタクトランド22のネガ部分を露光してしまうた
め結果的に全面露光の原画が作成されてしまう。また、
銅はく部分21内のコンタクトランド22以外の部分の
みを露光させるデータを作成するのは、ランドの輪郭が
円形であるため困難である。このため、従来の方式で
は、それぞれの原画の露光が重ならないように、処理を
施す必要があり、結果として作成時間が長くなる。
FIG. 6 is an explanatory view showing that it is difficult to create an original image as shown in FIG. 4 by the conventional method. In the conventional method, as shown in FIG. 6, the copper foil portion 2
Since the exposure for 1 and the exposure for the contact land 22 are performed independently, the exposure of the copper foil portion 21 exposes the negative portion of the contact land 22, resulting in the creation of the original image of the overall exposure. .. Also,
It is difficult to create data for exposing only the portion other than the contact land 22 in the copper foil portion 21 because the contour of the land is circular. Therefore, in the conventional method, it is necessary to perform processing so that the exposures of the original images do not overlap each other, and as a result, the creation time becomes long.

【0006】本発明の目的は、前記の欠点を除去するこ
とにより、高速に原画フィルムを作成できる方式の基板
原画作成装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a substrate original image producing apparatus of a system capable of producing an original image film at high speed by eliminating the above-mentioned drawbacks.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、露光法により
基板の原画フィルムを作成する手段を備えた基板原画作
成装置において、基板上の露光対象範囲を含む領域を設
定する領域設定手段と、前記領域内において露光すべき
ポジ部分を除いた部分に対して露光用の原画アパーチャ
軌跡データを生成する原画アパーチャ軌跡データ生成手
段と、前記原画アパーチャ軌跡データにより原画フィル
ムを作成しポジネガ反転処理を施すポジネガ反転処理手
段とを含むことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a substrate original image producing apparatus having means for producing an original image film of a substrate by an exposure method, and area setting means for setting an area including an exposure target range on the substrate, Original image aperture locus data generation means for generating original image aperture locus data for exposure in a portion other than the positive portion to be exposed in the area, and an original image film is created from the original image aperture locus data, and positive / negative reversal processing is performed. Positive / negative reversal processing means.

【0008】また、本発明は、前記基板はプリント基板
であることが好ましい。
Further, in the invention, it is preferable that the substrate is a printed circuit board.

【0009】また、本発明は、前記基板は半導体集積回
路基板であることが好ましい。
Further, in the invention, it is preferable that the substrate is a semiconductor integrated circuit substrate.

【0010】[0010]

【作用】原画アパーチャ軌跡データ生成手段により、露
光すべきポジ部分を除いた部分に対して露光用の原画ア
パーチャ軌跡データを生成する。すなわち、この場合露
光すべきポジ部分に関してネガによる原画を同時に出力
させても結果は同じで、ポジネガ反転された原画フィル
ムが作成される。次に、このポジネガ反転された原画フ
ィルムに対して、ポジネガ反転処理手段により、ポジネ
ガ反転処理を施すことにより、目的とする原画フィルム
を作成することができる。
The original image aperture locus data generating means generates the original image aperture locus data for exposure with respect to the portion excluding the positive portion to be exposed. That is, in this case, even if a negative original image is simultaneously output for the positive portion to be exposed, the result is the same, and a positive negative inverted original image film is produced. Then, the positive-negative inverted original image film is subjected to positive-negative inversion processing by the positive-negative inversion processing means, whereby an intended original-image film can be produced.

【0011】従って、複雑な処理工程を経ることなく、
簡単な処理工程で目的とする原画フィルムを得ることが
でき、処理の高速化を図ることが可能となる。
Therefore, without going through complicated processing steps,
The target original film can be obtained by a simple processing step, and the processing speed can be increased.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は本発明の一実施例を示すブロック構
成図で、プリント基板原画作成装置を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, showing a printed circuit board original image producing apparatus.

【0014】本実施例は、露光法によりプリント基板の
原画フィルムを作成する手段を備えたプリント基板原画
作成装置10において、本発明の特徴とするところの、
プリント基板上の露光対象範囲を含む矩形集合領域を設
定する領域設定手段11と、前記矩形集合領域内におい
て露光すべきポジ部分を除いた部分に対して露光用の原
画アパーチャ軌跡データを生成する原画アパーチャ軌跡
データ生成手段12と、前記原画アパーチャ軌跡データ
により原画フィルムを作成しポジネガ反転処理を施すポ
ジネガ反転処理手段13とを含んでいる。
This embodiment is a feature of the present invention in a printed circuit board original image producing apparatus 10 equipped with means for producing an original image film of a printed circuit board by an exposure method.
Area setting means 11 for setting a rectangular set area including an exposure target range on a printed circuit board, and an original image for generating original image aperture locus data for exposure with respect to a portion of the rectangular set area excluding a positive portion to be exposed. It includes an aperture locus data generation means 12 and a positive / negative reversal processing means 13 for producing an original image film by the original image aperture locus data and performing a positive / negative reversal processing.

【0015】次に、本実施例の動作について、図2およ
び図3を参照して説明する。ここで、図2は領域設定手
段および原画アパーチャ軌跡データ生成手段の説明図、
および図3はポジネガ反転処理手段の説明図である。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 2 is an explanatory view of the area setting means and the original image aperture locus data generation means,
3 and 4 are explanatory views of the positive / negative reversal processing means.

【0016】まず、領域設定手段11により、図2に示
すように、露光すべき矩形集合領域23を設定する。
First, the area setting means 11 sets a rectangular set area 23 to be exposed as shown in FIG.

【0017】次に、原画アパーチャ軌跡データ作成手段
12により、図2に示すように、コンタクトランド22
のポジネガ反転のアパーチャとそれを使用して原画アパ
ーチャ軌跡データを作成する。これは最終の原画とポジ
ネガ部分が完全に反転している。従って、銅はく部分2
1に関してネガによる原画を出力させることを併せ行っ
ても結果は図2と一致する。
Next, as shown in FIG. 2, the contact land 22 is created by the original image aperture locus data creating means 12.
The positive / negative inversion aperture of and the original image aperture locus data are created using it. This is a complete reversal of the final negative and positive negatives. Therefore, copper foil part 2
Even if the negative original image is output for 1, the result is consistent with FIG.

【0018】次に、ポジネガ反転処理手段13により、
図2に示したポジネガ反転して作成された原画全体に対
して、ポジネガ反転処理を施すことにより、図3に示す
ように、目的とする原画フィルムが作成される。
Next, by the positive / negative reversal processing means 13,
By subjecting the entire original image created by the positive negative inversion shown in FIG. 2 to the positive negative inversion process, a desired original image film is created as shown in FIG.

【0019】なお、以上の説明は、プリント基板を対象
として行ったけれども、本発明は、半導体集積回路基板
に対しても同様に適用することができる。
Although the above description has been directed to the printed circuit board, the present invention can be applied to the semiconductor integrated circuit board in the same manner.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、一度、
ポジネガ反転された原画アパーチャ軌跡データを作成
し、それをポジネガ反転処理を施すことにより、原画フ
ィルムの作成を行うため、高速に電源内層の原画フィル
ムを作成することができる効果がある。
As described above, according to the present invention,
Since the original image film is created by creating the positive image inverted trajectory image data of the original image and performing the positive negative image inversion process, there is an effect that the original image film of the power supply inner layer can be produced at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すブロック構成図。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】その領域設定手段および原画アパーチャ軌跡デ
ータ生成手段の説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of an area setting unit and an original image aperture locus data generating unit.

【図3】そのポジネガ反転処理手段の説明図。FIG. 3 is an explanatory view of the positive / negative reversal processing means.

【図4】プリント基板の原画例を示す図。FIG. 4 is a diagram showing an example of an original image of a printed circuit board.

【図5】内層コンタクトランドの形状の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of a shape of an inner layer contact land.

【図6】従来方式の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 プリント基板原画作成装置 11 領域設定手段 12 原画アパーチャ軌跡データ生成手段 13 ポジネガ反転処理手段 20 基板 21 銅はく部分 22 コンタクトランド 23 矩形集合領域 10 Printed Circuit Board Original Image Generation Device 11 Area Setting Means 12 Original Image Aperture Trajectory Data Generation Means 13 Positive / Negative Inversion Processing Means 20 Substrate 21 Copper Foil Part 22 Contact Land 23 Rectangular Assembly Area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/00 E 6921−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H05K 3/00 E 6921-4E

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 露光法により基板の原画フィルムを作成
する手段を備えた基板原画作成装置において、 基板上の露光対象範囲を含む領域を設定する領域設定手
段と、 前記領域内において露光すべきポジ部分を除いた部分に
対して露光用の原画アパーチャ軌跡データを生成する原
画アパーチャ軌跡データ生成手段と、 前記原画アパーチャ軌跡データにより原画フィルムを作
成しポジネガ反転処理を施すポジネガ反転処理手段とを
含むことを特徴とする基板原画作成装置。
1. A substrate original image producing apparatus comprising means for producing an original image film of a substrate by an exposure method, an area setting means for setting an area including an exposure target area on the substrate, and a positive film to be exposed in the area. An original image aperture locus data generation unit that generates original image aperture locus data for exposure with respect to a portion excluding a portion, and a positive / negative reversal processing unit that forms an original image film from the original image aperture locus data and performs positive / negative reversal processing. Substrate original image creation device characterized by.
【請求項2】 前記基板はプリント基板である請求項1
に記載の基板原画作成装置。
2. The substrate is a printed circuit board.
Substrate original image creation device described in.
【請求項3】 前記基板は半導体集積回路基板である請
求項1に記載の基板原画作成装置。
3. The substrate original image creating apparatus according to claim 1, wherein the substrate is a semiconductor integrated circuit substrate.
JP21386891A 1991-08-26 1991-08-26 Substrate negative plate formation device Pending JPH0553294A (en)

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