JPH0553087A - 光アイソレータ - Google Patents
光アイソレータInfo
- Publication number
- JPH0553087A JPH0553087A JP23700191A JP23700191A JPH0553087A JP H0553087 A JPH0553087 A JP H0553087A JP 23700191 A JP23700191 A JP 23700191A JP 23700191 A JP23700191 A JP 23700191A JP H0553087 A JPH0553087 A JP H0553087A
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- JP
- Japan
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- single crystal
- face
- incident
- forming
- light
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 波長が０．６μｍないし０．８μｍのレーザ
光を用いた光デバイス用の光アイソレータに用いるＣｄ
1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）結晶で作られたファラ
デー回転子に於て光挿入損失を低減したファラデー回転
子とすることを目的とする。 【構成】 ブリッジマン法により育成したカドミウム・
マンガン・テルル〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．
７）〕単結晶を表面研磨することなく、へき開面に反射
防止膜を施し、へき開面に垂直にレーザ光が入射するよ
うにファラデー回転子を形成して光アイソレータを構成
する。
光を用いた光デバイス用の光アイソレータに用いるＣｄ
1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）結晶で作られたファラ
デー回転子に於て光挿入損失を低減したファラデー回転
子とすることを目的とする。 【構成】 ブリッジマン法により育成したカドミウム・
マンガン・テルル〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．
７）〕単結晶を表面研磨することなく、へき開面に反射
防止膜を施し、へき開面に垂直にレーザ光が入射するよ
うにファラデー回転子を形成して光アイソレータを構成
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は０．６μｍないし０．８
μｍの短波長帯の光アイソレータのファラデー回転子に
カドミウム・マンガン・テルルからなる磁気光学材料を
用いた光アイソレータに関する。
μｍの短波長帯の光アイソレータのファラデー回転子に
カドミウム・マンガン・テルルからなる磁気光学材料を
用いた光アイソレータに関する。
【０００２】
【従来の技術】波長が０．６μｍないし０．８μｍの短
波長半導体レーザ、又はガスレーザ等を光源として用い
る、光通信、光計測、光磁気記録等において、戻り光雑
音の除去のために光アイソレータの使用が提案されてい
る。光アイソレータは、ファラデー回転子を、偏向子及
び検光子で光軸方向に挟み込み磁界方向を光軸方向に印
加し構成されている。波長が０．６μｍないし０．８μ
ｍ帯におけるファラデー回転子材料として、カドミウム
（Ｃｄ）・マンガン（Ｍｎ）・テルル（Ｔｅ）からなる
半磁性半導体Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦１）の磁気光
学材の使用が検討されている。一般にＣｄ1-xＭｎxＴｅ
（０＜Ｘ≦０．７）結晶はブリッジマン法により液相か
ら凝固させて作製される。結晶は立方晶の閃亜鉛鉱構造
で光学的に等方なので、従来は任意面で切断し表面を研
磨加工してファラデー回転子としている。Ｃｄ1-xＭｎx
Ｔｅ結晶のモース硬度は２．８以下で、従来の磁気光学
材料より軟らかいため表面の研磨加工は容易ではなく、
光の波長レベル（０．１μｍオーダー）での細かい傷が
研磨面に発生し、研磨面の傷の除去は困難であった。研
磨面に生じた傷は透明領域での光散乱を生じせしめ、フ
ァラデー回転子の光挿入損失を増加させるという欠点が
あった。
波長半導体レーザ、又はガスレーザ等を光源として用い
る、光通信、光計測、光磁気記録等において、戻り光雑
音の除去のために光アイソレータの使用が提案されてい
る。光アイソレータは、ファラデー回転子を、偏向子及
び検光子で光軸方向に挟み込み磁界方向を光軸方向に印
加し構成されている。波長が０．６μｍないし０．８μ
ｍ帯におけるファラデー回転子材料として、カドミウム
（Ｃｄ）・マンガン（Ｍｎ）・テルル（Ｔｅ）からなる
半磁性半導体Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦１）の磁気光
学材の使用が検討されている。一般にＣｄ1-xＭｎxＴｅ
（０＜Ｘ≦０．７）結晶はブリッジマン法により液相か
ら凝固させて作製される。結晶は立方晶の閃亜鉛鉱構造
で光学的に等方なので、従来は任意面で切断し表面を研
磨加工してファラデー回転子としている。Ｃｄ1-xＭｎx
Ｔｅ結晶のモース硬度は２．８以下で、従来の磁気光学
材料より軟らかいため表面の研磨加工は容易ではなく、
光の波長レベル（０．１μｍオーダー）での細かい傷が
研磨面に発生し、研磨面の傷の除去は困難であった。研
磨面に生じた傷は透明領域での光散乱を生じせしめ、フ
ァラデー回転子の光挿入損失を増加させるという欠点が
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は波長が０．６
μｍないし０．８μｍの短波長帯で用いるブリッジマン
法により作製したＣｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）
結晶のファラデー回転子を用いた光アイソレータを形成
するのに、実用上充分に小さな光挿入損失を有する光ア
イソレータを提供することを目的とする。
μｍないし０．８μｍの短波長帯で用いるブリッジマン
法により作製したＣｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）
結晶のファラデー回転子を用いた光アイソレータを形成
するのに、実用上充分に小さな光挿入損失を有する光ア
イソレータを提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従来のファラデー回転子
を作る際の切断表面の研磨加工の工程では材料の硬度が
軟らかすぎるため、研磨面にきずを生じ、実用上充分な
光透過率が達成できていなかった。今回発明者は結晶を
へき開させ、そのへき開面である｛１１０｝面を研磨加
工することなく用いることにより、光透過率が従来の研
磨加工したものより際だって光挿入損失の特性を改善す
ることを実験的に見いだし本発明をなすに至った。本発
明はブリッジマン法で作製したＣｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜
Ｘ≦０．７）結晶をへき開させ、へき開面に反射防止膜
を形成し、そのへき開面に垂直にレーザ光を入射させた
ファラデー回転子を用いた光アイソレータとすることを
特徴とするにある。
を作る際の切断表面の研磨加工の工程では材料の硬度が
軟らかすぎるため、研磨面にきずを生じ、実用上充分な
光透過率が達成できていなかった。今回発明者は結晶を
へき開させ、そのへき開面である｛１１０｝面を研磨加
工することなく用いることにより、光透過率が従来の研
磨加工したものより際だって光挿入損失の特性を改善す
ることを実験的に見いだし本発明をなすに至った。本発
明はブリッジマン法で作製したＣｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜
Ｘ≦０．７）結晶をへき開させ、へき開面に反射防止膜
を形成し、そのへき開面に垂直にレーザ光を入射させた
ファラデー回転子を用いた光アイソレータとすることを
特徴とするにある。
【０００５】即ち本発明は、波長が０．６μｍないし
０．８μｍ帯のレーザ光で用いられ、ブリッジマン法で
作製されたカドミウム（Ｃｄ）・マンガン（Ｍｎ）・テ
ルル（Ｔｅ）〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）〕
単結晶を｛１１０｝面に平行にへき開したへき開面に反
射防止膜を形成し、レーザ光の入射光をへき開面に垂直
に入射させ構成したことを特徴とする光アイソレータで
ある。
０．８μｍ帯のレーザ光で用いられ、ブリッジマン法で
作製されたカドミウム（Ｃｄ）・マンガン（Ｍｎ）・テ
ルル（Ｔｅ）〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）〕
単結晶を｛１１０｝面に平行にへき開したへき開面に反
射防止膜を形成し、レーザ光の入射光をへき開面に垂直
に入射させ構成したことを特徴とする光アイソレータで
ある。
【０００６】
【作用】従来磁気光学材料は、表面を研磨加工により仕
上げていたが、カドミウム・マンガン・テルル単結晶は
硬度が軟らかいため光の波長レベルの傷が加工表面に発
生して除去出来ず、レーザ光を透過した時の光挿入損失
を増大する原因となっていた。本発明は従来のような光
入射面を研磨加工することなく、単結晶のへき開面に反
射防止膜を形成し直接入射光面とすることにより、光挿
入損失が格段に向上した光アイソレータとすることが出
来る。本発明の光アイソレータのファラデー回転子用材
料のカドミウム・マンガン・テルル〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ
（０＜Ｘ≦０．７）〕単結晶の組成範囲で示すＸの値
は、０．７以上になると結晶構造が変化し、本発明のブ
リッジマン法では単結晶を育成することは極めて困難で
あり、カドミウム・マンガン・テルル単結晶の組成範囲
に於けるＸの値は≦０．７とする。
上げていたが、カドミウム・マンガン・テルル単結晶は
硬度が軟らかいため光の波長レベルの傷が加工表面に発
生して除去出来ず、レーザ光を透過した時の光挿入損失
を増大する原因となっていた。本発明は従来のような光
入射面を研磨加工することなく、単結晶のへき開面に反
射防止膜を形成し直接入射光面とすることにより、光挿
入損失が格段に向上した光アイソレータとすることが出
来る。本発明の光アイソレータのファラデー回転子用材
料のカドミウム・マンガン・テルル〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ
（０＜Ｘ≦０．７）〕単結晶の組成範囲で示すＸの値
は、０．７以上になると結晶構造が変化し、本発明のブ
リッジマン法では単結晶を育成することは極めて困難で
あり、カドミウム・マンガン・テルル単結晶の組成範囲
に於けるＸの値は≦０．７とする。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の光アイソレータの実施例につ
き詳細に説明する。ブリッジマン法により、組成がカド
ミウム（Ｃｄ“糧犯■組■■■■■犯■販■■■■
き詳細に説明する。ブリッジマン法により、組成がカド
ミウム（Ｃｄ“糧犯■組■■■■■犯■販■■■■
Claims (1)
- 【請求項１】 波長が０．６μｍないし０．８μｍ帯の
レーザ光で用いられ、ブリッジマン法で作製されたカド
ミウム（Ｃｄ）・マンガン（Ｍｎ）・テルル（Ｔｅ）
〔Ｃｄ1-xＭｎxＴｅ（０＜Ｘ≦０．７）〕単結晶を｛１
１０｝面に平行にへき開したへき開面に反射防止膜を形
成し、レーザ光の入射光をへき開面に垂直に入射させ構
成したことを特徴とする光アイソレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237001A JP3040857B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 光アイソレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237001A JP3040857B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 光アイソレータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0553087A true JPH0553087A (ja) | 1993-03-05 |
| JP3040857B2 JP3040857B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=17008919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3237001A Expired - Fee Related JP3040857B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 光アイソレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3040857B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996017270A1 (fr) * | 1994-11-25 | 1996-06-06 | Tokin Corporation | Procede de production d'isolateur optique |
-
1991
- 1991-08-22 JP JP3237001A patent/JP3040857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996017270A1 (fr) * | 1994-11-25 | 1996-06-06 | Tokin Corporation | Procede de production d'isolateur optique |
| US5671881A (en) * | 1994-11-25 | 1997-09-30 | Tokin Corporation | Method of manufacturing an optical isolator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3040857B2 (ja) | 2000-05-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |