JPH0548870A - 枠消し方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 〔目的〕非長方形の原稿に対しても確実に枠消しを行い
得る枠消し方法を提供することを目的とする。 〔構成〕原稿の画像を２値化し、当該２値画像における
非図形領域の凸閉包を求め、これをマスクとして、前記
２値画像の領域抽出を行い、抽出された領域を出力対象
とすることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、複写機等において原
稿の周囲の領域が暗部として出力される現象を防止する
処理、すなわち枠消し処理に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、複写機における枠消し方法とし
て、原稿の非図形領域のフィレ図形をマスクとして領域
を抽出し、その領域の周囲を全て非図形領域、すなわち
白画素の領域として処理する方法が知られている。しか
しこの方法では、原稿に折れた部分が存在する場合な
ど、非図形領域の輪郭が非長方形であったときに、周囲
暗部が図形とみなされて出力対象に含まれてしまうこと
がある。例えば図５の折れ部Ｂを有する原稿Ｐにおいて
は、出力対象領域Ｒを長方形とすると、折れ部に対応す
る暗部Ｄが生じる。また図６に示すように、中綴の複数
頁の原稿Ｐを複写するときに中央の綴部Ｂに暗部Ｄが生
じる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】この発明はこのような
従来の問題点を解消すべく創案されたもので、非長方形
の原稿に対しても確実に枠消しを行い得る枠消し方法を
提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決する手段】この発明に係る枠消し方法は、
原稿の非図形領域の凸閉包を求め、この凸閉包をマスク
として原稿の領域抽出を行い、抽出された領域を出力の
対象とするものである。この発明に係る枠消し方法によ
れば、原稿周囲の暗部を確実に消去し得る。

【０００５】

【実施例】次にこの発明に係る枠消し方法の１実施例を
図面に基づいて説明する。図１は複写機における枠消し
方法を示すフローチャートであり、まず複写すべき原稿
をスキャナ等の入力手段から濃淡画像として読取り（ス
テップ１−１）、最終出力に適合した階調に変換する
（ステップ１−２）。少ない階調数で濃淡情報を表現す
る場合、種々のディザ化や誤差拡散法が使用されるが、
周期性が無く、かつ２値化誤差の少ない誤差拡散法をこ
こでは採用し、４値化する。４値化された画像はメモリ
（図２Ｉｎ１）に格納され、最終的なマスク処理の対象
となる。

【０００６】次に枠消しのためのマスクを生成する処理
を行う。ここで使用するマスクは原画像の枠（背景）を
選択的に除去するものであるため、ＯＮ／ＯＦＦの２値
のマスクとなる。そして、マスク生成を行う画像処理装
置の仕様に適合するように適宜サイズ調整を行う。

【０００７】まずステップ１−１で取込まれた濃淡画像
の濃度ヒストグラムを取り、画像の最適２値化のための
閾値を算出する（ステップ１−３）。この閾値算出に際
してはモード法等種々の手法を採用し得るが、ここでは
中央値法を用いて閾値を求める。そしてこの最適閾値に
よって２値化を実行する（ステップ１−３）。次に以後
の画像処理に適合するように画像サイズの調整を行う
（ステップ１−４）。例えば、スキャナの出力画像が４
０９６×４０９６画素であり、画像処理部の処理対象画
像が５１２×５１２であったとすれば、１／８の縮小が
必要である。

【０００８】この縮小の処理において、８×８コンボリ
ューションをその平均値を有する１画素に変換すれば、
画像全体の濃淡情報を最大限に保存できる。ここで原稿
（白領域）の周縁１画素の白画素を黒画素に変換してお
く（ステップ１−５）。これによって原稿領域のノイズ
による拡張を防止できる。

【０００９】原稿は白画素（非図形画素）の領域内に黒
画素（図形画素）の文字、図形等が存在するものであ
り、非図形領域を正確にとらえることができれば、その
周囲の枠を完全に消去し得る。原稿は一般に長方形の用
紙あるいはその一部が折れたものであるため、多くの場
合、非図形領域を凸多角形領域とみなすことができる。
そこで非図形領域の凸閉包を求め（ステップ１−８）、
これを出力対象とする。

【００１０】図３に示すように、凸閉包は図形（斜線）
を包囲する最小凸図形であり、凸閉包の算出法として
は、特開平１−１０９４８４号記載の方法がある。図４
は折れ部Ｂ１、Ｂ２を有する原稿Ｐとその凸閉包Ｃを示
す。図４から明らかなように、凸閉包Ｃは原稿Ｐの領域
と完全に一致している。

【００１１】マスク生成のためには、出力対象の領域
を、特定の濃度で塗り潰す必要があり、その高速化のた
めにはグラフィックプロセッサの使用が好ましい。そし
てグラフィックプロセッサの機能として、通常は閉領域
内の塗り潰し開始点を求める必要がある。そこで、凸閉
包の算出に先立って、非図形領域のフィレ座標を求め
（ステップ１−６）、これに基づいてフィレ中心を算出
し（ステップ１−７）、このフィレ中心を塗り潰し開始
点とする。このような塗り潰しによりマスク画像を生成
し（ステップ１−９）、マスク処理を行う（ステップ１
−１０）。

【００１２】図２はマスク処理を行うためのハードウエ
アを示すものであり、入力側の画像を保持するためのメ
モリＩｎ１、Ｉｎ２をマルチプレクサＭＵＸの入力側に
接続し、マルチプレクサの出力側には、出力側のメモリ
Ｏｕｔが接続されている。そしてマルチプレクサのコン
トロール端子には、マスクプレーンを保持するためのメ
モリＭＫが接続されている。マルチプレクサにおけるメ
モリＩｎ１、Ｉｎ２の選択のためのアドレスをそれぞれ
「０」、「１」とするとき、マスク画像はこのアドレス
に対応した濃度で構成される。

【００１３】ステップ１−２で生成された画像がメモリ
Ｉｎ１に格納されたとすると、前記マスク領域、すなわ
ち原稿から抽出すべき範囲を指定する領域は、メモリＩ
ｎ１のアドレス「０」で塗り潰される。またその他の領
域はメモリＩｎ２に対応する「１」で塗り潰される。メ
モリＩｎ２は白画素で塗り潰されており、マスク処理に
よって結果的に出力される画像は、正確に抽出された原
稿の周囲を白画素で塗り潰した画像となる（Ｏｕｔの画
像参照）。従って、原稿周囲の暗部を消去でき、枠消し
が実行されたことになる。以上のとおり、非図形領域の
凸閉包をマスクとして出力領域を抽出すれば、確実に枠
消しを行い得る。

【００１４】

【発明の効果】前述のとおり、この発明に係る枠消し方
法は、原稿の非図形領域の凸閉包を求め、この凸閉包を
マスクとして原稿の領域抽出を行い、抽出された領域を
出力の対象とするので、原稿周囲の暗部を確実に消去し
得るという優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る枠消し方法の１実施例を示すフ
ローチャートである。

【図２】同実施例に用いるハードウエアを示すブロック
図である。

【図３】凸閉包を示す概念図である。

【図４】折り部を有する原稿とその凸閉包の関係を示す
概念図である。

【図５】折り部を有する原稿に対する従来の処理を示す
概念図である。

【図６】中綴部を有する原稿に対する従来の処理を示す
概念図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原稿の画像を２値化し、当該２値画像に
   おける非図形領域の凸閉包を求め、これをマスクとし
   て、前記２値画像の領域抽出を行い、抽出された領域を
   出力対象とすることを特徴とする枠消し方法。
2. 【請求項２】 非図形領域のフィレ中心を求め、このフ
   ィレ中心を起点として、凸閉包の内側を、マスクを特定
   する濃度の画素で塗り潰し、これによってマスクを生成
   することを特徴とする請求項１記載の枠消し方法。