JPH0548278B2

JPH0548278B2 -

Info

Publication number: JPH0548278B2
Application number: JP60124422A
Authority: JP
Inventors: Fuon Kurotsuku Bairon; Nyuuman Girumaa Uiriamu
Original assignee: Texaco Development Corp
Current assignee: Texaco Development Corp
Priority date: 1984-07-09
Filing date: 1985-06-10
Publication date: 1993-07-21
Also published as: CN85104027A; ZA852778B; EP0168128A2; BR8502574A; CN1004278B; EP0168128A3; JPS6121193A; AU4414185A; AU575661B2; DE3581969D1; US4581899A; EP0168128B1

Description

【発明の詳細な説明】〔利用分野〕本発明は、炭素質原料からの合成ガスの製造に
おいて、冷却液により冷却して溶融スラグがほぼ
除去されたガスをガス冷却室から取り出すため
の、ガス冷却室の出口部において灰微粒子の付着
を最小限にすることに関する。

〔発明の背景〕

当業者によく知られているように、合成ガス
は、液体又は固形の原材料を包含する灰含有炭素
質燃料から作られる。原料が、例えば低級石炭の
ような固形炭素質燃料又は残留液体炭化水素の場
合のように灰含有量が多いことを特徴とするの
で、それだけ厄介である。その灰は、製品である
合成ガスから分離しなければならない。そのシス
テムにたまる多量の灰もそのシステムから有効に
除去し、種々の導管や通路が詰まらないようにし
なければならない。

冷却室において冷却液で冷却することにより、
高温の溶融スラグがほぼ除去されて固形粒子含有
量が減少し、含まれる固形粒子が粘着性を失つて
いる程度に低温の合成ガスとなる。しかし、その
ような比較的低温の合成ガスを冷却室から排出管
を通して取り出しても、その低温のガスに残留し
ている、粘性を既に失つた灰微粒子が排出管の内
面に付着し、冷却室の排出管すなわち出口通路を
詰まらせ易い、という問題がなお存在する。

〔発明の概要〕

そこで、本発明の目的は、排出管にたまる灰の
量を許容範囲内に保持する条件のもとで合成ガス
を発生させる方法を提供することである。その他
の目的は、当業者にとつて明らかであろう。

本発明の或る面によれば、本発明は合成ガスか
ら固形物を除去することのできる条件のもとで、
固形物を含有する温熱合成ガスを、初期の高温か
らそれより低い最終的温度まで冷却する方法に関
し、次のステツプから成る。即ち、初期の高温の前記温熱合成ガスを第１接触区域
を通つて下降させ、冷却液を前記第１接触区域の壁に薄膜として、
しかも下降する合成ガスと接触状態で下降させ、
それによつて前記合成ガスを冷やし、冷却合成ガ
スを形成し、その冷却合成ガスを第２接触区域において冷却
水の中を通し、それによつて固形粒子の含有量が
減少した状態の更に冷却度を増した合成ガスを形
成し、固形粒子含有量が減少した前記更に冷却度を増
した合成ガスを回収し、固形粒子の含有量が減少しかつ冷却度を増した
合成ガスを、湿潤壁の排出管を介して前記排出管
における固形粒子の付着が減少するようにして通
過させ、固形粒子の含有量が減少している前記合成ガス
を、前記排出管から抜き出すステツプから成る。

本発明の方法で作られる合成ガスは、石炭のガ
ス化により準備され得る。石炭のガス化方法にお
いて、典型的なものでは、粒子の平均寸法が20〜
500ミクロン、好ましくは30〜300ミクロン、例え
ば200ミクロンに微細に砕かれた供給石炭を、水
性媒体、典型的なものでは水と混ぜて、40〜80重
量％、好ましくは50〜75重量％、例えば60重量％
の固形物を含むスラリーを形成する。その水性ス
ラリーをそれから燃焼室へ入れ、そこで酸素含有
ガス、典型的なものでは空気若しくは酸素又は酸
素に富んだ空気と接触させ、燃焼させる。このシ
ステムにおいて、酸素と炭素との原子比は、0.7
〜1.2対１、例えば0.9対１である。典型的なもの
では、982℃〜1538℃（1800〓〜2800〓）、例えば
1371℃（2500〓）の温度で、6.9〜103バール〔ゲ
ージ圧〕（100〜1500psig）の圧力、好ましくは
34.5〜82.7バール〔ゲージ圧〕（500〜1200psig）、
例えば62バール〔ゲージ圧〕（900psig）の圧力で
反応が行われる。

その合成ガスはまた、例えば残留燃料油アスフ
アルト等のような液状炭化水素の不完全燃焼によ
り、又は石油又はタールサンドビチユーメンから
のコークスや石炭の水素化プロセス等からの炭素
質残留物のような固形炭素質材料の不完全燃焼に
より準備することもできる。

本発明を実施するために使用される装置は、な
かでも次の米国特許、即ち第2818326号、第
2896927号、第3998609号、第4218423号に説明さ
れているようなガス発生器である。

原料をガス化して合成ガスを発生させる反応区
域からの流体は、温度が982℃〜1538℃（1800〓
〜2800〓）、例えば1371℃（2500〓）で、圧力が
6.9〜103バール〔ゲージ圧〕（100〜1500psig）、
好ましくは34.5〜82.7バール〔ゲージ圧〕（500〜
1200psig）例えば62バール〔ゲージ圧〕
（900psig）である。

これらの典型的な操作条件のもとで、合成ガス
は一般に（乾燥状態で）、35〜55体積％、例えば
44.7体積％の一酸化炭素と、30〜45体積％、例え
ば35.7体積％の水素と、10〜20体積％、例えば18
体積％の二酸化炭素と、0.3体積％〜２体積％、
例えば１体積％の硫化水素プラスCOSと、0.4〜
0.8体積％、例えば0.5体積％の窒素＋アルゴン
と、約0.1体積％以下のメタンとを含有する。

燃料が固形炭素質材料である場合には、未洗浄
の合成ガスは一般に、乾燥製品ガスの1.95kmol
（1000SCF）当り、0.45〜4.5Kg（１〜10ポンド）、
例えば1.8Kg（４ポンド）の固形物（灰、木炭、
スラツグ等を含む）を含有する。これらの固形物
は、１ミクロン〜3000ミクロンの粒子寸法を有す
る。原料石炭は、少なければ0.5重量％、多けれ
ば40重量％以上の灰を含有することがある。この
灰は製品である合成ガス中に見られる。本発明の
改良方法によれば、合成ガスが少量の灰を含有す
る時でもいくらかの効果があるが、その合成ガス
が３％以上の固形物を含有する時に特に有効であ
ることがわかつた。

982℃〜1538℃（1800〓〜2800〓）、例えば1371
℃（2500〓）の初期の温度の温熱合成ガスは第１
接触区域を通つて下降する。第１接触区域の上端
は、ガス発生器の反応室の下方出口部分により形
成される。この第１接触区域は、一般に、細い導
管を形成する直立垂直周壁により形成される。こ
の周壁により形成された区域の横断面は、好まし
い実施例では事実上円筒形である。円筒形壁の下
端部にある、細い導管即ち浸漬管の下端の出口
は、のこぎり形辺縁部となつている。

第１接触区域は、燃焼室に対して共軸をなして
垂直方向へ伸長する円筒形浸漬管の上方部分によ
り囲まれている。

その浸漬管内の第一接触区域の上端には冷却リ
ングが取付られていて、そこを通つて冷却液（普
通は水）が第１接触区域へ流入する。冷却リング
から、冷却後の第１流れが浸漬管の内面に沿つて
導かれてそこに冷却液の連続下降膜が形成され、
その液膜は下降する合成ガスと接触する。冷却液
の入口温度は38℃〜260℃（100〓〜500〓）、好ま
しくは149℃〜249℃（300〓〜480〓）、例えば216
℃（420〓）である。冷却液は降下膜の形で浸漬
管の壁に沿つて流入し、その量は、第１接触区域
へ流入するガスの1.95kmol（1000SCF）当り、９
〜54.4Kg（20〜120ポンド）、好ましくは13.6〜
45.4Kg（30〜100ポンド）、例えば38.5Kg（85ポン
ド）である。

接触区域へ流入する冷却液、特に冷却リングへ
流入する冷却液は、それらの固形含有量を減らす
ように処理した循環液を含むことができる。

冷却液の降下膜が下降する温熱合成ガスと接触
すると、その合成ガスは、第１接触区域の通過時
に降下膜と接触するために、その温度が、93℃〜
204℃（200〓〜400〓）、好ましくは149℃〜204℃
（300〓〜400〓）、例えば149℃（300〓）だけ降下
する。

そのガスは、1.8〜９ｍ／sec（６〜30フイー
ト／秒）、例えば６ｍ／sec（20フイート／秒）の
速度で、第１接触区域を0.1〜１秒、好ましくは
0.1〜0.5秒、例えば0.3秒かかつて通過する。この
第１区域を出るガスは、固形含有量が減少してお
り、その時の温度は760℃〜1260℃（1400〓〜
2300〓）、例えば1204℃（2200〓）である。

ガスは、第１接触区域の下端部を離れ、第２接
触区域へ流入し、そこで冷却液と接触する。この
第２接触区域において、ガスは浸漬管ののこぎり
歯形辺縁部の下を通過する。

浸漬管の下端部は、第２接触区域を形成するた
まつた冷却液によつて形成される液体プールにつ
かれている。その液面は、静止プールとして考え
れば、典型的なものでは、第２接触区域の10〜80
％、例えば50％が沈むような高さに保持される。
実際に遭遇する高温、高ガス速度では、勿論、こ
の撹拌液体の液面を確認できない場合もあること
は、当業者にとつて明らかであろう。

更に冷却度を増した合成ガスは、典型的なもの
では、316℃〜482℃（600〓〜900〓）、例えば427
℃（800〓）の温度で第２接触区域を離れる。そ
のガスは第２接触区域の冷却液を通り、浸漬管の
典型的なものでは下方ののこぎり歯形辺縁部の下
を通過する。固形物は、冷却液の中を落下し、そ
こに保持、かつ収集され、冷却後の下方部分から
引出される。

一般的に、第２接触区域を離れるガスから75％
以上の固形物が除去される。

316℃〜482℃（600〓〜900〓）、例えば427℃
（800〓）の温度をもち、第２接触区域を構成する
液体を離れた冷却度を増したガスは、冷却液と共
に、第３接触区域を通る環状通路を通り、冷却室
のガス出口へ向つて上昇する。１つの実施例にお
いて、環状通路は、第１冷却区域を形成する浸漬
管の外側面と、その浸漬管の半径より大きい半径
をもつていて浸漬管を包囲している容器の内側面
とによつて形成される。

もう１つの実施例において、環状通路は、第１
及び第２接触区域を形成する浸漬管の外側面と、
その浸漬管を包囲し、その浸漬管の半径より大き
い半径の包囲ドラフト管の内側面とによつて形成
される。

流入温度が316℃〜482℃（600〜900〓）例えば
427℃（800〓）の冷却度を増した合成ガスと、冷
却液との混合物が、環状第３冷却区域を通つて上
昇する時、その二相流が温熱ガスから冷却液へ有
効な熱移動を行わせる。この第３冷却区域におけ
る激しい撹拌によつて、接触表面の粒子付着は最
少限となる。典型的なものでは、冷却ガスは、
177〜316℃（350〜600〓）例えば260℃（500〓）
の温度で、この環状第３接触区域を出る。第３接
触区域を出るガスは、そのガスの1.95kmol
（1000SCF）につき、0.045〜1.1Kg（0.1〜2.5ポン
ド）、例えば0.18Kg（0.4ポンド）の固形物を含有
する。即ち約85〜95％の固形物がそのガスから除
去される。

接触区域において水と接触する間、合成ガスか
ら除去された灰粒子、即ち固形物（供給した未変
換燃料を含む）は、接触区域の下方部分にある沈
澱区域へ下降する。ここに粒子がたまる。時どき
それらの粒子は、弁の開放期間中に、第１弁通路
を通つて引出され、固形物をためているロツクホ
ツパーへ送られる。典型的なものでは、そのロツ
クホツパーへ送られた物質は、水100部当り、10
〜50部の固形分、例えば30部の固形物を含有す
る。ロツクホツパーの圧力は典型的なものでは、
6.9〜103バール〔ゲージ圧〕（100〜1500psig）、
例えば62バール〔ゲージ圧〕（900psig）であり、
温度は38〜104℃（100〜220〓）、例えば82℃
（180〓）である。固形物は、ロツクホツパーの底
部から第２弁通路を通つてそのシステムから除去
される。

第３接触区域を離れたガスは、冷却室から引出
される。そのガスは、はじめにガスの出口管の入
口部分を通り、それからガス出口管の残り部分を
通つて流れる。従来、燃焼による灰の微細粒子が
集塊となつて付着することにより、ガスの出口管
の入口部分は詰まることがよくあつた。

ガス冷却室から直径40cmの排出管を利用すると
いつた典型的な例の場合、これらの灰粒子は、入
口からその出口管まで直径の１〜５倍の長さ、例
えば２倍の長さを占めることがわかつた。つま
り、40〜200cm、例えば80cmの長さを占めること
がわかつた。この灰は塊状付着物となり易く、出
口管の全横断面積の大部分を占めることになる。

固形物を含むガスからの固形物の付着は、本願
の新規な冷却管組立体の排出管では減少する。こ
の新規な冷却管組立体は、内周面と外周面、及
び、上方入口端部と下方出口端部とを有する細い
直立浸漬管と、その出口端部に近い前記浸漬管の出口部分と、前記浸漬管の入口端で内周面に隣接し、液体カ
ーテンを前記浸漬管の内周面に沿つて、前記浸漬
管の出口端へ向けて方向づける冷却リングと、前記浸漬管の前記出口部分の出口端にあるのこ
ぎり歯形部分と、前記細い直立浸漬管の上方入口端部の近くにあ
り前記冷却室からのびる排出管と、前記排出管への入口部にある口部分と、液体を前記排出管へ流入させ、そこでその口部
分に隣接した湿潤壁を形成するスプレー装置とか
ら成り、それによつて、前記浸漬管の入口端へ流入する
供給ガスは、前記浸漬管の第１接触区域を通つて
下降する冷却液の膜と接触し、前記浸漬管の第２
接触区域の通過時に冷却液と接触し、それから冷
却液と接触しながら第３接触区域を通つて上昇
し、最後に、排出管への入口にある湿潤壁の口部
分を通つて横方向へ流れ、それによつて、前記排
出管内で前記供給ガスに含まれる固形粒子の付着
を減少させるようにしたことを特徴とするもので
ある。

本発明の方法を実施すれば、冷却ガス室から出
口管、即ち排出管を使用し、その少なくとも入口
位置が湿潤壁を有するようにすることによつて付
着を最少限にし、多くの場合、付着をなくすこと
ができる。湿潤壁という言葉は、この明細書で使
用する限り、冷却室からのびる排出管の内面が、
液体、好ましくは水のスプレー又は薄膜により事
実上完全に湿潤することを意味し、この好ましい
実施例では、排出管を通つて流れるガス（及びそ
こに含まれる固形物）が、その排出管の金属面乃
至耐火面とは接触せずに、その上のうすい液体膜
と接触するように、液体膜は末端まで事実上連続
する。

本発明のある面によれば、本発明の冷却室組立
体は、次のものを備える。即ち、内周面と外周面及び上方入口端と下方出口端と
を有する細い直立浸漬管と、前記出口端に隣接する前記浸漬管の出口部分
と、前記浸漬管の入口端の位置で、前記内周面に隣
接して位置し、液体カーテンを前記浸漬管の内周
面に沿つて、しかもその浸漬管の出口端へ向けて
導くようになつている冷却リングと、前記細い直立浸漬管の上方入口端の近くに位置
して前記冷却室からのびる排出管と、前記排出管への入口部にある口部分と、前記口部分の近くで前記排出管の内周へ液体を
流入させ、そこに湿潤壁を形成する装置とから成
り、それによつて、前記浸漬管の入口端へ流入する
供給ガスは、前記浸漬管の第１接触区域を通つて
下降する冷却液体膜と接触し、前記浸漬管の第２
接触区域の通過時に冷却液と接触し、第３接触区
域の通過時、更に冷却液と接触し、それから、前
記湿潤壁と接触しながら前記排出管への入口部に
ある口部分を通つて流れ、それによつて、前記排
出管において前記供給ガスに含まれる固形粒子の
付着を減少させることを特徴とする。

この湿潤壁は、出口管すなわち排出管への入口
部にあつて、典型的なものでは、その直径の１〜
５倍、好ましくは１〜３倍、例えば約２倍だけ排
出管内へ伸長する。

排出管の湿潤壁は、排出管の外側のまわりにあ
るカラーにより形成され、そのカラーは液体を、
150〜1500cm／秒、好ましくは300〜1000cm／秒、
例えば500cm／秒の軸方向の速度でもつて排出管
へ導く。また、湿潤壁を形成するには、ガスが出
口管に流入すれ位置の近くの位置で液体を、出口
管へスプレーすることによつても可能である。

この湿潤壁があると、排出管、特にそこへの入
口部に固形物が付着するのを最少限にするか、又
はなくすことがわかつた。その理由は確定的では
ないけれども、次の要素の１つ或いはいくつかが
関係しているように思われる。即ち、 (i) 湿潤壁の液体膜が、ガス中の固形物と金属面
との接触を物理的に防ぐ。

(ii) 液体膜の動きが、金属面に付着するいかなる
固形物をも洗浄し得る。

(iii) 液体の蒸化が、金属面に付着するいかなる固
形物をも除去し得る。

(iv) 流れがあるために、液体膜の近くに内部蒸気
膜が形成され、これがその湿潤壁へ導かれる粒
子に対してもう１つの障壁として作用する。

(v) ガス流に水が加わると、それがガス中の固形
物に対して溶解媒質として作用するか、或い
は、粒子のまわりの膜として作用し、そのため
に隣接粒子がお互いに接着せず、更に排出管の
壁にも接着しない。

(vi) 水流の放射方向へ向かう速度成分が、壁に固
形粒子が付着するのを防ぐようにして、壁のす
ぐ近くのガス速度形態を変化させる。

その湿潤壁を形成するために使用される液体は
どんな液体でもよい。その液体は、固形物含有度
が最少限であるような水が好ましい。排出管への
水のスプレーは、その内面を濡らすようにその入
口へ軸方向へ導入される時、排出管に固形物が付
着するのを十分に防止することがわかつた。

〔実施例〕

本発明を実施する現時点で最良の形態を表わす
第１図および第２図の実施例において、耐火性ラ
イニング１２と入口ノズル１３とを有する反応容
器１１が示されている。反応室１５は、開口１７
へ供給する狭いスロート部分１６を有する出口部
分１４を有する。開口１７は浸漬管２１の内側に
ある第１接触区域１８へ通じる。のこぎり歯形部
２３を有する浸漬管２１の下流は冷却液の浴２２
に浸漬している。冷却室１９は、その上方部分
に、ガス排出管２０を有する。

浸漬管２１の上端部には、冷却リング２４が取
付られている。この冷却リングは、容器１１のラ
イニング１２の下方部分に当接する上面２６を有
する。冷却リングの下面２７は、浸漬管２１の上
端に当接する。冷却リング内面２８は開口１７の
辺縁部に隣接する。

冷却リング２４は出口ノズル２５を有し、その
出口ノズル２５は冷却リング２４の周囲に配列の
一連の孔、即ちノズルの形をしていて、浸漬管２
１の内面に直接隣接して位置する。通路、即ちノ
ズル２５を通つて放出される液体は、浸漬管２１
の中心軸にほぼ平行な方向へ送られて、浸漬管２
１の内面にそつて降下する冷却液のうすい降下膜
を形成する。冷却液のこの降下膜は第１接触区域
の外側境界を形成する。

この第１接触区域１８の下端には第２接触区域
３０があつて、これはのこぎり歯状部２３へ向つ
て下方へ伸長し、また、浸漬管２１の下方部分の
壁へ向かう冷却液の下降膜部分により境界され
る。

灰や木炭の粒子や、浴２２内で水と接触するこ
とによつてガスから除去される変化していない燃
料を包含する固形物は、浴２２の下方部分にたま
る。操作周期において、弁３７が閉鎖すると、そ
れらの粒子は沈殿区域に保持される。弁開放期間
中、周期の残り部分で、弁３７が開放し、粒子は
その弁３７を通つて下降し、かつシステムから除
去される。

ガスは下降してのこぎり歯状部２３を通つて第
３接触区域へ流れ、そこで浸漬管２１の外周と冷
却室１９との間を上昇する。

更に冷却度を増した合成ガスは、固形粒子含有
量が少なくなつて排出管２０へ向つて上昇する。
そのガスは排出管２０へ入る。この実施例では、
第２図に詳しく示すように、排出管２０の入口部
分に、スプレー挿入部材が取付られている。

このスプレー挿入部材はスプレー水供給管４０
を有し、この供給管４０は導管４１の側部に取付
られ、出口、即ち排出管２０内に突入する。供給
管４０は、この実施例では、排出管２０の口部４
３に隣接したスプレーヘツド４２の位置で終わ
る。このスプレーヘツド４２はノズル４５を有
し、このノズルによつて液体の流れは排出管２０
の内面４４へ向けられ、表面４４は液体の濡れた
膜で覆われる。

第３図および第４図は、スプレー水供給管４０
の１つの実施例の詳細を示し、そこに開口４５が
示されている。

第５図には、排出管２０へ液体を導入するもう
１つの装置が示され、やはりその排出管の口部分
の近くにぬれた壁を形成する。

第５図のこの実施例はカラー４６を有し、この
カラー４６は、好ましい実施例では、排出管２０
との接合部近くの地点で冷却室１９の側に取付ら
れた円筒形構造を有する。配管４６ａを通して液
体が導かれるカラー４６は、スリツト、即ち開口
４７を有し、そこを冷却液が通過して排出管２０
の濡れた壁４４に膜を形成する。その冷却液は、
軸方向の実質的分力をもつて導入され、下流へと
伸長する導管壁に薄膜を形成する。

実施例第１図の装置の好ましい実施例を使つて本発明
のプロセスの操作において、供給石炭を単位時間
当り100部（全ての部数は特記しない限り重量比
である）と、水を60部とを含有するスラリーを、
入口ノズル１３から導入する。この供給石炭の成
分比は次表の通りである。即ち、表成分重量％（乾燥時）炭素 67.6 水素 5.2 窒素 3.3 硫黄 1.0 酸素 11.1 灰 11.8 更にまた、純度99.5体積％の酸素を90部加え
た。反応室１５内での燃焼により、62バール（ゲ
ージ圧）（900psig）で温度は1371℃（2500〓）に
上昇した。出口部分１４とスロート部分１６を通
過した合成ガスは、次表の如き気体成分を含有す
る。

表体積％成分湿潤時乾燥時 CO 35.7 44.7 H₂ 28.5 35.7 CO₂ 14.4 18 H₂O 20 − H₂S＋COS 0.9 1.1 N₂＋アルゴン 0.4 0.5 CH₄ 0.08 0.1 この合成ガスまた、1.95kmol（1000SCF）の乾
燥ガス当り約1.85Kg（約4.1ポンド）の固形物
（木炭と灰）を含有する。

スロート部分１６を離れたこの合成ガスは、冷
却リング２４の開口１７を通つて第１接触区域１
８へ流れる。216℃（420〓）の冷却水が入口３４
を通して冷却リング２４へ流し、そこから出口ノ
ズル２５を通して流出させ、浸漬管２１の内面に
垂下膜を作り、これが第１接触区域１８の外側境
界を形成する。約1371℃（2500〓）の温度で第１
接触区域に入る合成ガスは冷却液の降下膜と接触
しながら区域１８を下降するので、約1177℃〜
1204℃（約2150〓〜2200〓）に冷却される。

いわゆる合成ガスはそこから第２接触区域３０
へ流入する。このガスはのこぎり歯形辺縁部２３
の下を通つて液体と接触する。図面には「水面」
を線で描いているけれども、実際の操作時には、
この第２接触区域でのガスと液体は、そのガスが
液体を通つて下降し、それからのこぎり歯形辺縁
部２３を通つて浸漬管２１を離れ、液体を通つて
浸漬管２１の外側を上昇する時に、激しく乱流状
態となることは明らかである。

更に冷却された合成ガスは、冷却液と接触する
間にその固形含有量の少なくとも１部分を失う。
典型的なものでは、第２接触区域３０の液体部分
を離れ、灰粒子の含有量が減つている更に冷却さ
れた合成ガスは、1.95kmol（1000SCF）当り約
0.27Kg（約0.6ポンド）の固形物（灰と木炭を含
む）を含有する。

260℃（500〓）で流出するガスが排出管２０の
口部４３へ流入する。そのガスは、口部分４３を
通り、壁部分４４の近くを通つてこのシステムか
ら離れる。

本発明のプロセスを実施する際、スプレー水供
給管４０を通つて水が流入する。この液体は、ス
プレーヘツド４２のノズルを通つて噴霧され、内
内壁４４にぶつかり、そこに湿潤壁を形成する。
前記流出ガスは、排出管２０を通るが、湿潤壁の
ためにその壁４４に固形物がたまることは殆んど
ないか全くない。

流出ガスの固形含有物は排出管に付着すること
なく排出管２０を通過することがわかる。前述の
スプレー管４０とヘツド４２とを有しない導管へ
流出ガスが送られるようになつていた従来のシス
テムにおいては、構造物４３，４４で占められる
部分に、固形物が事実上付着し、その付着の程度
は、清掃のためにシステム全体を作動停止させる
必要があるほどに達する。

本発明は特定の実施例に関連して説明している
けれども、本発明の範囲内にある種々の変形をな
しうることは、当業者には明らかであろう。本発
明の好ましい実施の態様を以下に列挙する。

(1) 液体は、湿潤壁をもつ排出管の壁に噴霧され
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の方法。

(2) 液体は、湿潤壁をもつ排出管の少なくとも入
口部分に噴霧されることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の方法。

(3) 排出管の湿潤壁部分は、排出管の入口端部で
その直径の１〜５倍だけ排出管内へ伸長したと
ころまで湿潤状態に保持されていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。

(4) 排出管の湿潤壁部分は、排出管の入口端部で
その直径の１〜３倍だけ排出管内へ伸長したと
ころまで湿潤状態に保持されていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。

(5) 排出管の湿潤壁部分は、排出管の入口端部で
その直径の２倍だけ排出管内へ伸長したところ
まで湿潤状態に保持されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項に記載の方法。

(6) 液体は、事実上連続薄膜として排出管へ流入
することを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載の方法。

(7) 液体は、排出管への入口の口部の周囲で事実
上連続薄膜として排出管へ流入することを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。

(8) 液体は、毎秒150〜1500cmの幅方向の速度で、
排出管への入口の口部の周囲の内面へ事実上連
続膜として排出管へ流入することを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の方法。

(9) 液体を前記湿潤壁へ向けるように前記口部分
の近くの前記排出管２０内にスプレー４２を有
することを特徴とする特許請求の範囲第２項記
載の装置。

(10) 事実上連続する液体薄膜を前記湿潤壁へ向け
るように、前記排出管２０の口部分の外側のま
わりにカラー４６を有することを特徴とする特
許請求の範囲第２項記載の装置。

【図面の簡単な説明】

第１図は合成ガス発生装置とそれに付属する冷
却室及び出口管の概略垂直断面図、第２図は特に
第１図のガス排出管２０に関係する好ましい実施
例の詳細図、第３図は排出管への入口にある水ス
プレー装置のもう１つの実施例を示す図、第４図
は第３図の４−４線に沿う断面図、第５図は第１
図のガス排出管２０に関係する好ましい他の実施
例を示す図である。１１……反応容器、１５……反応室、１８……
第１接触区域、１９……冷却室、２０……排出
管、２１……浸漬管、２３……のこぎり歯形部、
２４……冷却リング、３０……第２接触区域、４
０……スプレー水供給管、４２……スプレーヘツ
ド、４８……カラー。

Claims

【特許請求の範囲】１固形物を含有する高温合成ガスを、その固形
物を除去できる状態で、初期の高温から最終的低
温へ冷却する合成ガスの冷却方法であつて：初期の高温の前記高温合成ガスを第１接触区域
を通して下方へ送り；冷却液を前記第１接触区域の壁に薄膜の形で、
かつ下降する前記合成ガスと接触する状態で下降
させ、それによつて、冷却された合成ガスを形成
し；この冷却された合成ガスを、第２の接触区域内
の冷却液の浴に通して、それによつて、固形粒子
の含有量が減少しかつ更に冷却された合成ガスを
形成し；上記した固形粒子の含有量が減少しかつ更に冷
却された合成ガスを回収し；上記した固形粒子の含有量が減少しかつ更に冷
却された合成ガスを排出管を通して送り、その
際、その排出管の内壁を濡らしておくことにより
その排出管への固形粒子の付着を減少せしめ；上記した固形粒子の含有量が減少しかつ更に冷
却された合成ガスを、排出管から取り出すことを特徴とする合成ガス冷却方法。２合成ガスの冷却装置であつて：直立した筒状の浸漬管にして、その上部入口端
部から合成ガスを受け、その下部出口端部が冷却
室の底部の冷却液の浴に浸漬されている浸漬管
と；前記浸漬管の前記上部入口端部の近くで前記前
記浸漬管の内周面に隣接して設けられ、前記内周
面に沿つて前記浸漬管の前記下部出口端部に向か
つて流れる、液体のうすい膜をつくる冷却リング
と；前記浸漬管の前記上部入口端部の近くで前記冷
却室からその外部へと延びる排出管と；前記排出管の入口をなす口部の近くに設けら
れ、前記排出管の内周面に、前記口部の近くで液
体を導入し、前記排出管の内周面を濡れた壁とな
す液体導入部とを備えたことを特徴とする合成ガスの冷却装置。