JPH0547195A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0547195A
JPH0547195A JP3206700A JP20670091A JPH0547195A JP H0547195 A JPH0547195 A JP H0547195A JP 3206700 A JP3206700 A JP 3206700A JP 20670091 A JP20670091 A JP 20670091A JP H0547195 A JPH0547195 A JP H0547195A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
potential
circuit
memory cell
drive circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP3206700A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mikio Kishimoto
幹夫 岸本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0547195A publication Critical patent/JPH0547195A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor storage device with small current consumption by detecting this when the potential of the word line containing a defective memory cell is raised from the grounded potential at the time of a standby and interrupting the electric connection of a word line with a word line selection driving circuit and simultaneously to provide the semiconductor storage device with a malfunction preventing function by adding the constitution restoring the potential of the word line to the grounded potential by a reset signal input. CONSTITUTION:A detecting/interrupting circuit 11 is provided so as to lie between the word line selection driving circuit 9 and the word line 5. By this detecting/interrupting circuit 11, when the word line 5 rising from the grounded voltage 0V at the time of the standby by the presence of an electric leaking route 10 generated to the memory cell 1 is detected, the connection of the word line 5 with other power source line, etc., is interrupted so that no leakage current flows and the useless increase of the current consumption is prevented. Further, to the word line 5 whose potential floats by induction, etc., from the external, the potential of the word line 5 is withdrawn to the grounded potential by inputting the reset signal to the detecting/interrupting circuit 11 and the malfunction of the constitution is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本装置は半導体記憶装置、特にダ
イナミックMOSメモリーに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device, particularly to a dynamic MOS memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体記憶装置の高集積化にとも
ない、半導体記憶装置の構造が微細化され、絶縁膜が薄
膜化してきた。
2. Description of the Related Art In recent years, with the high integration of semiconductor memory devices, the structure of semiconductor memory devices has become finer and the insulating film has become thinner.

【0003】図5は従来の半導体記憶装置の回路構成図
である。1はメモリー・セル、2はストレージ・ノー
ド、3はセル・プレート、4は容量部、5はワード線、
6はトランスファー・ゲート、7はロウ・アドレス信
号、8はビット線、9はワード線選択駆動回路、そして
10は電気リーク経路である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device. 1 is a memory cell, 2 is a storage node, 3 is a cell plate, 4 is a capacitor, 5 is a word line,
6 is a transfer gate, 7 is a row address signal, 8 is a bit line, 9 is a word line selection drive circuit, and 10 is an electric leak path.

【0004】まず、この半導体記憶装置の構成と動作に
ついて図5を用いて説明する。半導体記憶装置の記憶素
子部分であるメモリー・セル1は、ストレージ・ノード
2とセル・プレート3とにより構成された容量部4と、
ワード線5がそのゲートであるNchMOSトランジスタ
で構成されたトランスファー・ゲート6とで構成されて
いる。
First, the structure and operation of this semiconductor memory device will be described with reference to FIG. A memory cell 1 which is a memory element portion of a semiconductor memory device includes a capacitor section 4 including a storage node 2 and a cell plate 3,
The word line 5 is composed of a transfer gate 6 composed of an NchMOS transistor which is its gate.

【0005】データの書き込み・読み出しは、ロウ・ア
ドレス信号7によりワード線5が選択駆動され、トラン
スファー・ゲート6をON状態とし、ビット線8との間
で電荷を出し入れすることで実行される。また、データ
の記憶はトランスファー・ゲート6をOFF状態とする
ことで、電荷を容量部4に維持することで実行される。
Writing / reading of data is performed by selectively driving the word line 5 by the row address signal 7, turning on the transfer gate 6 and taking charge / removal of electric charge with the bit line 8. Data storage is performed by keeping the transfer gate 6 in the OFF state and maintaining the charge in the capacitor section 4.

【0006】ワード線5の電位はデータの書き込み読み
出しを行わない待機時において、接地電位0Vである。
ワード線選択駆動回路9が、ロウアドレス信号7の入力
によりワード線5を駆動する時には、ワード線5の電位
は、電源電位5Vもしくはそれ以上の電位となる。ま
た、待機時のビット線8の電位は、電源電位の半分の
2.5Vである。
The potential of the word line 5 is the ground potential 0V in the standby state in which data is not written or read.
When the word line selection drive circuit 9 drives the word line 5 by the input of the row address signal 7, the potential of the word line 5 becomes the power supply potential of 5V or higher. In addition, the potential of the bit line 8 during standby is 2.5 V, which is half the power source potential.

【0007】次に、ワード線5とビット線8との間の絶
縁層に、導電性異物の混合によりワード線5とビット線
8との間に電気リーク経路10が発生した時、ワード線
5の電位は接地電位より上昇し、トランスファー・ゲー
ト6がON状態となり、容量部4での電荷の維持が不可
能となり、データの維持ができないため、そのメモリー
・セル1は欠陥メモリー・セルとなる。
Next, when an electric leak path 10 is generated between the word line 5 and the bit line 8 in the insulating layer between the word line 5 and the bit line 8 due to the mixture of conductive foreign matters, the word line 5 Potential rises above the ground potential, the transfer gate 6 is turned on, the charge in the capacitor 4 cannot be maintained, and data cannot be maintained. Therefore, the memory cell 1 becomes a defective memory cell. ..

【0008】この欠陥メモリー・セルを冗長メモリー・
セルに代替することで半導体記憶装置を救済することが
できる。つまり、冗長選択回路に欠陥メモリー・セルの
アドレスを登録することで、欠陥メモリー・セルを含む
ワード線を選択する代わりに、冗長メモリー・セルを選
択するのである。
This defective memory cell is replaced by a redundant memory
The semiconductor memory device can be repaired by substituting the cells. That is, by registering the address of the defective memory cell in the redundant selection circuit, the redundant memory cell is selected instead of selecting the word line including the defective memory cell.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記のよ
うな構成では、欠陥メモリー・セルを含むワード線が、
冗長ワード線へ置換された以降も、欠陥メモリー・セル
を含むワード線がワード線選択駆動回路と接続してい
る。そして、このワード線の電位が接地電圧となるよう
にワード線選択駆動回路が動作するため、電源電位の半
分の電位を持つビット線から、導電性異物などによる電
気リーク経路を介し、ワード線を通り、選択駆動回路の
接地電位部へ、電流が流れ、ひいては半導体記憶装置の
待機時の消費電流を増大させることになる。
However, in the above configuration, the word line including the defective memory cell is
Even after the replacement with the redundant word line, the word line including the defective memory cell is connected to the word line selection drive circuit. Then, since the word line selection drive circuit operates so that the potential of this word line becomes the ground voltage, the word line is driven from the bit line having a potential half the power supply potential through the electric leakage path due to the conductive foreign substance. As described above, the current flows to the ground potential portion of the selective drive circuit, which in turn increases the standby current consumption of the semiconductor memory device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、ワード線と、
前記ワード線を選択駆動する回路と、前記ワード線の電
位を検出する手段と、前記ワード線と前記ワード線を選
択駆動する回路との電気的接続を遮断する手段とを備え
る回路を有することを特徴とする半導体記憶装置であ
る。
The present invention comprises a word line and
A circuit that includes a circuit that selectively drives the word line, a unit that detects the potential of the word line, and a unit that disconnects electrical connection between the word line and the circuit that selectively drives the word line. A characteristic semiconductor memory device.

【0011】また、本発明は、上記半導体記憶装置に、
周期的に前記ワード線を接地電位とする手段を備える回
路を有するものである。
The present invention also provides the above semiconductor memory device,
It has a circuit provided with means for periodically setting the word line to the ground potential.

【0012】[0012]

【作用】本発明は、上記した構成により、待機時に、欠
陥メモリー・セルを含むワード線の電位が接地電位より
上昇した時、これを検出し、遮断回路がワード線選択駆
動回路とワード線との電気的接続を遮断するため、ビッ
ト線から欠陥メモリー・セル内の電気リーク経路、そし
てワード線を通じての電流の発生を妨げることができ、
待機時消費電流の増大を防止できる。
According to the present invention, when the potential of the word line including the defective memory cell rises above the ground potential during standby, the shutoff circuit detects the word line selection drive circuit and the word line. To break the electrical connection between the bit line and the electrical leakage path in the defective memory cell, and the generation of current through the word line,
It is possible to prevent an increase in standby current consumption.

【0013】さらに、周期的に、欠陥メモリー・セルを
含むワード線の電位を接地電位へ戻す構成を付加するこ
とで、欠陥メモリー・セルを含まないにもかかわらず、
外部からの誘導で、ワード線電位が接地電位より浮き上
がることにより、欠陥でないワード線をワード線選択駆
動回路から遮断するような誤動作を防止することができ
る。
Furthermore, by adding a configuration in which the potential of the word line including the defective memory cell is periodically returned to the ground potential, even though the defective memory cell is not included,
The word line potential rises above the ground potential by induction from the outside, so that it is possible to prevent an erroneous operation in which a word line that is not defective is cut off from the word line selection drive circuit.

【0014】[0014]

【実施例】図1は本発明の第1の実施例における半導体
記憶装置の回路構成図、図2は図1に構成された検出遮
断回路の回路図の一例である。
1 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an example of a circuit diagram of a detection cutoff circuit configured in FIG.

【0015】1はメモリー・セル、2はストレージ・ノ
ード、3はセル・プレート、4は容量、5はワード線、
6はトランスファー・ゲート、7はロウ・アドレス信
号、8はビット線、9はワード線選択駆動回路、10は
電気リーク経路、11は検出遮断回路、12はワード線
電位検出部、13は遮断部、14と22はNchMOSト
ランジスタ、15は抵抗、16は電源線、17はワード
線電位検出部12の出力、18は接地線、19と20は
インバータ、21はNANDである。
1 is a memory cell, 2 is a storage node, 3 is a cell plate, 4 is a capacitance, 5 is a word line,
6 is a transfer gate, 7 is a row address signal, 8 is a bit line, 9 is a word line selection drive circuit, 10 is an electric leakage path, 11 is a detection cutoff circuit, 12 is a word line potential detection section, and 13 is a cutoff section. , 14 and 22 are NchMOS transistors, 15 is a resistor, 16 is a power supply line, 17 is an output of the word line potential detecting unit 12, 18 is a ground line, 19 and 20 are inverters, and 21 is a NAND.

【0016】まず、この第1の実施例における半導体記
憶装置の構成と動作について図1および図2を用いて説
明する。
First, the structure and operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.

【0017】半導体記憶装置の記憶素子部分であるメモ
リー・セル1は、ストレージ・ノード2とセル・プレー
ト3とにより構成された容量部4と、ワード線5がその
ゲート電極となっているNchMOSトランジスタで構成
されたトランスファー・ゲート6とで構成されている。
A memory cell 1 which is a memory element portion of a semiconductor memory device includes a capacitor portion 4 composed of a storage node 2 and a cell plate 3, and an NchMOS transistor having a word line 5 as its gate electrode. And a transfer gate 6 composed of

【0018】ワード線選択駆動回路9とワード線5との
間に検出遮断回路11が構成されている。
A detection cutoff circuit 11 is formed between the word line selection drive circuit 9 and the word line 5.

【0019】図2に示すように検出遮断回路11は、ワ
ード線電位検出部12と遮断部13とにより構成され
る。
As shown in FIG. 2, the detection cutoff circuit 11 is composed of a word line potential detection section 12 and a cutoff section 13.

【0020】ワード線電位検出部12は、メモリー・セ
ル1内のトランスファー・ゲート6より、しきい値電圧
の低いNchMOSトランジスタ14と、NchMOSトラ
ンジスタ14のON抵抗より大きい抵抗値を有する抵抗
15とで構成される。NchMOSトランジスタ14のソ
ースは電源線16と接続し、ドレインは抵抗15を経て
接地線18と接続するとともに、ワード線電位検出部の
出力17となる。また、NchMOSトランジスタ14の
ゲートはワード線に接続している。
The word line potential detecting section 12 includes an NchMOS transistor 14 having a lower threshold voltage than the transfer gate 6 in the memory cell 1 and a resistor 15 having a resistance value larger than the ON resistance of the NchMOS transistor 14. Composed. The source of the NchMOS transistor 14 is connected to the power supply line 16, the drain is connected to the ground line 18 via the resistor 15, and serves as the output 17 of the word line potential detection unit. The gate of the NchMOS transistor 14 is connected to the word line.

【0021】ワード線5の電位が接地電圧0Vの時、N
chMOSトランジスタ14はOFF状態であるため、ワ
ード線電位検出部12の出力17の電位は、0Vであ
る。ワード線5の電位が、NchMOSトランジスタ14
のしきい値電圧を超えると、NchMOSトランジスタ1
4はON状態となり、ワード線電位検出部12の出力1
7の電位は、電源電位5Vとなる。
When the potential of the word line 5 is the ground voltage 0V, N
Since the chMOS transistor 14 is in the OFF state, the potential of the output 17 of the word line potential detector 12 is 0V. The potential of the word line 5 changes to the NchMOS transistor 14
When the threshold voltage is exceeded, NchMOS transistor 1
4 becomes the ON state, and the output 1 of the word line potential detection unit 12
The potential of 7 becomes the power source potential of 5V.

【0022】遮断部13は、インバータ19および20
と、NAND21、そしてNchMOSトランジスタ22
とにより構成される。インバータ19の入力はワード線
電位検出部の出力17であり、NAND21の入力はこ
のインバータ19の出力とワード線選択駆動回路9の出
力9aとである。そして、NAND21の出力はインバ
ータ20を経て、NchMOSトランジスタ22のゲート
に入力される。NchMOSトランジスタ22のソースは
ワード線選択駆動回路9の出力9a、ドレインはワード
線5である。
The cutoff unit 13 includes inverters 19 and 20.
, NAND21, and NchMOS transistor 22
Composed of and. The input of the inverter 19 is the output 17 of the word line potential detector, and the input of the NAND 21 is the output of this inverter 19 and the output 9a of the word line selection drive circuit 9. Then, the output of the NAND 21 is input to the gate of the NchMOS transistor 22 via the inverter 20. The source of the NchMOS transistor 22 is the output 9a of the word line selection drive circuit 9, and the drain is the word line 5.

【0023】データの書き込み読み出しを行わない待機
時において、ワード線選択駆動回路9の出力9aは接地
電位0Vである。この待機時において、ワード線の電位
が接地電位0Vより高いとき、即ちワード線電位検出部
12の出力17が5Vである時、NchMOSトランジス
タ22はOFF状態となり、ワード線5とワード線選択
駆動回路9とを遮断する。また、待機時において、ワー
ド線の電位が接地電位である時、即ちワード線電位検出
部12の出力17が0Vである時、NchMOSトランジ
スタ22はON状態となり、ワード線5とワード線選択
駆動回路9とを接続する。
The output 9a of the word line selection drive circuit 9 is at the ground potential 0V in the standby state in which data is not written or read. In this standby state, when the potential of the word line is higher than the ground potential 0V, that is, when the output 17 of the word line potential detector 12 is 5V, the NchMOS transistor 22 is turned off, and the word line 5 and the word line selection drive circuit. 9 is cut off. In the standby state, when the potential of the word line is the ground potential, that is, when the output 17 of the word line potential detection unit 12 is 0V, the NchMOS transistor 22 is in the ON state, and the word line 5 and the word line selection drive circuit. 9 is connected.

【0024】次に、データの書き込み読み出しを行う動
作時においては、ワード線選択駆動回路9の出力9aは
電源電位5V、もしくはそれ以上である。この動作時に
おいては、ワード線電位検出部12の出力17の電位に
関わらず、NAND21の出力は0Vであり、NchMO
Sトランジスタ22はON状態となり、ワード線5とワ
ード線選択駆動回路9とを接続する。
Next, during the data write / read operation, the output 9a of the word line selection drive circuit 9 is at the power supply potential of 5V or higher. In this operation, the output of the NAND 21 is 0V regardless of the potential of the output 17 of the word line potential detection unit 12, and NchMO
The S transistor 22 is turned on to connect the word line 5 and the word line selection drive circuit 9.

【0025】以上の検出遮断回路11の構成および動作
によって、正常なメモリーセルにおいては、待機時のワ
ード線5の電位は接地電位0Vであるため、常にワード
線選択駆動回路9とワード線5とは接続されている。そ
して、データの書き込み・読み出しは、ロウ・アドレス
信号7によりワード線選択駆動回路9からワード線5が
選択駆動され、トランスファー・ゲート6をON状態と
し、ビット線8との間で電荷を出し入れすることで実行
される。また、データの記憶はトランスファー・ゲート
6をOFF状態とすることで、電荷を容量部4に維持す
ることで実行されるのである。
With the configuration and operation of the detection / cutoff circuit 11 described above, in a normal memory cell, the potential of the word line 5 in the standby state is 0V, so that the word line selection drive circuit 9 and the word line 5 are always connected. Is connected. Then, for writing / reading of data, the word line 5 is selectively driven by the word line selection drive circuit 9 by the row address signal 7, the transfer gate 6 is turned on, and charge is taken in and out from the bit line 8. It will be executed. Data is stored by keeping the charge in the capacitor 4 by turning off the transfer gate 6.

【0026】次に、ワード線5とビット線8との間の絶
縁層に、導電性異物の混合によりワード線5とビット線
8との間に電気リーク経路10が発生した時、ビット線
8の電位は電源電位5Vの半分の2.5Vであるため、
ワード線5の電位はビット線8電位に引っ張られて、接
地電位より上昇し、検出遮断回路11において、ワード
線選択駆動回路9とワード線5との接続が、待機時では
遮断されるため、ビット線8から電気リーク経路10を
通じてのリーク電流は発生しない。
Next, when an electric leak path 10 is generated between the word line 5 and the bit line 8 in the insulating layer between the word line 5 and the bit line 8 due to the mixture of conductive foreign substances, the bit line 8 Since the potential of is 2.5V, which is half the power supply potential of 5V,
The potential of the word line 5 is pulled to the potential of the bit line 8 and rises above the ground potential, and in the detection cutoff circuit 11, the connection between the word line selection drive circuit 9 and the word line 5 is cut off during standby, No leak current is generated from the bit line 8 through the electric leak path 10.

【0027】以上のように、この第1の実施例によれ
ば、ビット線とワード線との間に電気リーク経路が発生
した時、待機時のワード線電位がビット線の電位に引っ
張られて、上昇することを検出し、このワード線をワー
ド線駆動回路より遮断することにより、無駄な電流の発
生を防止することができる。
As described above, according to the first embodiment, when the electric leak path is generated between the bit line and the word line, the word line potential in the standby state is pulled to the potential of the bit line. By detecting the rise and cutting off this word line from the word line drive circuit, it is possible to prevent the generation of useless current.

【0028】図3は本発明の第2の実施例における半導
体記憶装置の回路構成図、図4は図3に構成された検出
遮断回路の回路図の一例である。
FIG. 3 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an example of a circuit diagram of the detection cutoff circuit configured in FIG.

【0029】23はリセット部、24は周期的なリセッ
ト信号、25はNchMOSトランジスタである。
Reference numeral 23 is a reset unit, 24 is a periodic reset signal, and 25 is an NchMOS transistor.

【0030】まず、この第2の実施例における半導体記
憶装置の構成と動作について図3および図4を用いて説
明する。
First, the structure and operation of the semiconductor memory device according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

【0031】半導体記憶装置の記憶素子部分であるメモ
リー・セル1は、ストレージ・ノード2とセル・プレー
ト3とにより構成された容量部4と、ワード線5がその
ゲート電極となっているNchMOSトランジスタで構成
されたトランスファー・ゲート6とで構成されている。
A memory cell 1 which is a memory element portion of a semiconductor memory device includes a capacitor portion 4 composed of a storage node 2 and a cell plate 3, and an NchMOS transistor having a word line 5 as its gate electrode. And a transfer gate 6 composed of

【0032】ワード線選択駆動回路9とワード線5との
間に検出遮断回路11が構成されている。
A detection interruption circuit 11 is formed between the word line selection drive circuit 9 and the word line 5.

【0033】図4に示すように検出遮断回路11は、ワ
ード線電位検出部12と遮断部13とにより構成される。
As shown in FIG. 4, the detection cutoff circuit 11 is composed of a word line potential detection section 12 and a cutoff section 13.

【0034】ワード線電位検出部12は、メモリー・セル
1内のトランスファー・ゲート6より、しきい値電圧の
低いNchMOSトランジスタ14と、NchMOSトラン
ジスタ14のON抵抗より大きい抵抗値を有する抵抗1
5とで構成される。NchMOSトランジスタ14のソー
スは電源線16と接続し、ドレインは抵抗15を経て接
地線18と接続するとともに、ワード線電位検出部の出
力17となる。また、NchMOSトランジスタ14のゲ
ートはワード線に接続している。
The word line potential detector 12 includes an NchMOS transistor 14 having a lower threshold voltage than the transfer gate 6 in the memory cell 1 and a resistor 1 having a resistance value larger than the ON resistance of the NchMOS transistor 14.
5 and. The source of the NchMOS transistor 14 is connected to the power supply line 16, the drain is connected to the ground line 18 via the resistor 15, and serves as the output 17 of the word line potential detection unit. The gate of the NchMOS transistor 14 is connected to the word line.

【0035】ワード線5の電位が接地電圧0Vの時、N
chMOSトランジスタ14はOFF状態であるため、ワ
ード線電位検出部12の出力17の電位は、0Vであ
る。ワード線5の電位が、NchMOSトランジスタ14
のしきい値電圧を超えると、NchMOSトランジスタ1
4はON状態となり、ワード線電位検出部12の出力1
7の電位は、電源電位5Vとなる。
When the potential of the word line 5 is the ground voltage 0V, N
Since the chMOS transistor 14 is in the OFF state, the potential of the output 17 of the word line potential detector 12 is 0V. The potential of the word line 5 changes to the NchMOS transistor 14
When the threshold voltage is exceeded, NchMOS transistor 1
4 becomes the ON state, and the output 1 of the word line potential detection unit 12
The potential of 7 becomes the power source potential of 5V.

【0036】遮断部13は、インバータ19および20
と、NAND21、そしてNchMOSトランジスタ22
とにより構成される。インバータ19の入力はワード線
電位検出部の出力17であり、NAND21の入力はこ
のインバータ19の出力とワード線選択駆動回路9の出
力9aとである。そして、NAND21の出力はインバ
ータ20を経て、NchMOSトランジスタ22のゲート
に入力される。NchMOSトランジスタ22のソースは
ワード線選択駆動回路9の出力9a、ドレインはワード
線5である。
The cutoff unit 13 includes inverters 19 and 20.
, NAND21, and NchMOS transistor 22
Composed of and. The input of the inverter 19 is the output 17 of the word line potential detector, and the input of the NAND 21 is the output of this inverter 19 and the output 9a of the word line selection drive circuit 9. Then, the output of the NAND 21 is input to the gate of the NchMOS transistor 22 via the inverter 20. The source of the NchMOS transistor 22 is the output 9a of the word line selection drive circuit 9, and the drain is the word line 5.

【0037】データの書き込み読み出しを行わない待機
時において、ワード線選択駆動回路9の出力9aは接地
電位0Vである。この待機時において、ワード線の電位
が接地電位0より高いとき、即ちワード線電位検出部1
2の出力17が5Vである時、NchMOSトランジスタ
22はOFF状態となり、ワード線5とワード線選択駆
動回路9とを遮断する。また、待機時において、ワード
線の電位が接地電位である時、即ちワード線電位検出部
12の出力17が0Vである時、NchMOSトランジス
タ22はON状態となり、ワード線5とワード線選択駆
動回路9とを接続する。
The output 9a of the word line selection drive circuit 9 is at the ground potential 0V in the standby state in which data is not written or read. In this standby state, when the potential of the word line is higher than the ground potential 0, that is, the word line potential detection unit 1
When the output 17 of 2 is 5V, the NchMOS transistor 22 is turned off, and the word line 5 and the word line selection drive circuit 9 are cut off. In the standby state, when the potential of the word line is the ground potential, that is, when the output 17 of the word line potential detection unit 12 is 0V, the NchMOS transistor 22 is in the ON state, and the word line 5 and the word line selection drive circuit. 9 is connected.

【0038】次に、データの書き込み読み出しを行う動
作時においては、ワード線選択駆動回路9の出力9aは
電源電位5V、もしくはそれ以上である。この動作時に
おいては、ワード線電位検出部12の出力17の電位に
関わらず、NAND21の出力は0Vであり、NchMO
Sトランジスタ22はON状態となり、ワード線5とワ
ード線選択駆動回路9とを接続する。
Next, during the data write / read operation, the output 9a of the word line selection drive circuit 9 is at the power supply potential of 5 V or higher. In this operation, the output of the NAND 21 is 0V regardless of the potential of the output 17 of the word line potential detection unit 12, and NchMO
The S transistor 22 is turned on to connect the word line 5 and the word line selection drive circuit 9.

【0039】また、リセット部23は、ソースを接地線
18に、ドレインをワード線5に接続するNchMOSト
ランジスタ25により構成される。このNchMOSトラ
ンジスタ24のゲートにリセット信号24を入力するこ
とにより、ワード線5の電位は接地電位となる。
The reset section 23 is composed of an NchMOS transistor 25 having a source connected to the ground line 18 and a drain connected to the word line 5. By inputting the reset signal 24 to the gate of the NchMOS transistor 24, the potential of the word line 5 becomes the ground potential.

【0040】以上の検出遮断回路11の構成および動作
によって、正常なメモリーセルにおいては、待機時のワ
ード線5の電位は接地電位0Vであるため、常にワード
線選択駆動回路9とワード線とは接続されている。そし
て、データの書き込み・読み出しは、ロウ・アドレス信
号7によりワード線選択駆動回路9からワード線5が選
択駆動され、トランスファー・ゲート6をON状態と
し、ビット線8との間で電荷を出し入れすることで実行
される。また、データの記憶はトランスファー・ゲート
6をOFF状態とすることで、電荷を容量部4に維持す
ることで実行されるのである。
With the configuration and operation of the detection cutoff circuit 11 described above, in a normal memory cell, the potential of the word line 5 in the standby state is the ground potential 0 V, so that the word line selection drive circuit 9 and the word line are always connected. It is connected. Then, for writing / reading of data, the word line 5 is selectively driven by the word line selection drive circuit 9 by the row address signal 7, the transfer gate 6 is turned on, and charge is taken in and out from the bit line 8. It will be executed. Data is stored by keeping the charge in the capacitor 4 by turning off the transfer gate 6.

【0041】また、正常なメモリー・セルを含むワード
線5であるにも関わらず、電気誘導等により接地電位よ
り浮き上がったワード線5については、リセット信号2
4をリセット部23に入力することでワード線5の電位
を接地電位へ引き抜くことができる。
Further, although the word line 5 includes a normal memory cell, the reset signal 2 is applied to the word line 5 which is floated from the ground potential due to electric induction or the like.
By inputting 4 to the reset unit 23, the potential of the word line 5 can be pulled out to the ground potential.

【0042】次に、ワード線5とビット線8との間の絶
縁層に、導電性異物の混合によりワード線5とビット線
8との間に電気リーク経路10が発生した時、ビット線
8の電位は電源電位5Vの半分の2.5Vであるため、
ワード線5の電位はビット線8電位に引っ張られて、接
地電位より上昇し、検出遮断回路11において、ワード
線選択駆動回路9とワード線5との接続が、待機時では
遮断されるため、ビット線8から電気リーク経路10を
通じてのリーク電流は発生しない。
Next, when an electric leakage path 10 is generated between the word line 5 and the bit line 8 in the insulating layer between the word line 5 and the bit line 8 due to the mixing of the conductive foreign substance, the bit line 8 is generated. Since the potential of is 2.5V, which is half the power supply potential of 5V,
The potential of the word line 5 is pulled to the potential of the bit line 8 and rises above the ground potential, and in the detection cutoff circuit 11, the connection between the word line selection drive circuit 9 and the word line 5 is cut off during standby, No leak current is generated from the bit line 8 through the electric leak path 10.

【0043】以上のように、この第2の実施例によれ
ば、ビット線とワード線との間に電気リーク経路が発生
した時、待機時のワード線電位がビット線の電位に引っ
張られて、上昇することを検出し、このワード線をワー
ド線駆動回路より遮断することにより、無駄な電流の発
生を防止することができる。
As described above, according to the second embodiment, when the electric leakage path is generated between the bit line and the word line, the word line potential in the standby state is pulled to the potential of the bit line. By detecting the rise and cutting off this word line from the word line drive circuit, it is possible to prevent the generation of useless current.

【0044】さらに、リセット信号の入力により、ワー
ド線を接地電位とすることで、誘導等によるワード線電
位の浮き上がりによる検出遮断回路の誤動作を防止する
ことができる。
Further, by inputting the reset signal to set the word line to the ground potential, it is possible to prevent malfunction of the detection cutoff circuit due to floating of the word line potential due to induction or the like.

【0045】なお、本実施例では、ワード線選択駆動回
路とワード線との間に介する検出遮断回路を、NchMO
Sトランジスタ、NAND、インバータ、そして、抵抗
にて回路を構成したが、同様の動作を示す他の機能素子
を用いた構成であってもよい。また、電源電位を5Vと
としたが、他電位であってもよいことは言うまでもな
い。
In the present embodiment, the detection cutoff circuit provided between the word line selection drive circuit and the word line is NchMO.
Although the circuit is configured by the S transistor, the NAND, the inverter, and the resistor, it may be configured by using another functional element having the same operation. Further, although the power supply potential is set to 5 V, it goes without saying that it may be another potential.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によればビ
ット線との間に電気リーク経路を有するような欠陥メモ
リー・セルを含むワード線を、ワード線選択駆動回路よ
り遮断する手段を設けることで、待機時の消費電流の増
大をふせぐことができる。さらに、リセット信号の入力
によりワード線の電位を接地電位とすることで、偶発的
に誘導等で電位が浮き上がった正常なワード線を欠陥メ
モリー・セルを含むワード線と誤認識することを防ぐこ
とができ、安定な半導体記憶装置を実現することができ
る。
As described above, according to the present invention, there is provided means for cutting off the word line including the defective memory cell having the electric leakage path between the word line and the bit line from the word line selection drive circuit. This can prevent an increase in current consumption during standby. Further, by inputting the reset signal to set the potential of the word line to the ground potential, it is possible to prevent the normal word line in which the potential is accidentally raised due to induction or the like from being erroneously recognized as the word line including the defective memory cell. Therefore, a stable semiconductor memory device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における半導体記憶装置
の回路構成図
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に構成された検出遮断回路の回路図FIG. 2 is a circuit diagram of the detection cutoff circuit configured in FIG.

【図3】本発明の第2の実施例における半導体記憶装置
の回路構成図
FIG. 3 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3に構成された検出遮断回路の回路図FIG. 4 is a circuit diagram of a detection cutoff circuit configured in FIG.

【図5】従来の半導体記憶装置の回路構成図FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリー・セル 2 ストレージ・ノード 3 セル・プレート 4 容量 5 ワード線 6 トランスファー・ゲート 7 ロウ・アドレス信号 8 ビット線 9 ワード線選択駆動回路 10 電気リーク経路 11 検出遮断回路 12 ワード線電位検出部 13 遮断部 14,21,25 NchMOSトランジスタ 15 抵抗 16 電源線 17 ワード線電位検出部12の出力 18 接地線 19、20 インバータ 22 NAND 23 リセット部 24 リセット信号 1 Memory Cell 2 Storage Node 3 Cell Plate 4 Capacitance 5 Word Line 6 Transfer Gate 7 Row Address Signal 8 Bit Line 9 Word Line Selection Drive Circuit 10 Electrical Leakage Path 11 Detection and Cutoff Circuit 12 Word Line Potential Detection Section 13 Breaking unit 14, 21, 25 NchMOS transistor 15 Resistance 16 Power supply line 17 Output of word line potential detection unit 12 18 Ground line 19, 20 Inverter 22 NAND 23 Reset unit 24 Reset signal

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワード線と、前記ワード線を選択駆動する
回路と、前記ワード線の電位を検出する手段と、前記ワ
ード線と前記ワード線を選択駆動する回路との電気的接
続を遮断する手段とを備える回路を有することを特徴と
する半導体記憶装置。
1. A word line, a circuit for selectively driving the word line, a means for detecting a potential of the word line, and an electrical connection between the word line and a circuit for selectively driving the word line are cut off. A semiconductor memory device having a circuit including:
【請求項2】周期的に前記ワード線を接地電位とする手
段とを備える回路を有する請求項1記載の半導体記憶装
置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a circuit including a unit that periodically sets the word line to a ground potential.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104656486A (en) * 2013-11-18 2015-05-27 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Energy-saving voltage detection circuit
CN112002357A (en) * 2020-08-13 2020-11-27 长江存储科技有限责任公司 Method for operating a semiconductor device and semiconductor device

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