JPH0545016B2 - - Google Patents
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Description
(イ) 産業上の利用
この発明は、ジアゾ複写材料に関するものであ
る。より詳細には、この発明はカツプリング成分
として特定の化合物を用いることによつて、未現
像及び現像処理済みフイルムの熱・湿度及び光に
対する安定性に優れ、経時による画像劣化の少な
い2成分型ジアゾ複写材料に関するものである。 (ロ) 従来の技術 従来、黄色のジアゾ複写を得るためのカツプリ
ング成分として、フエノール誘導体、レゾルシン
誘導体、1−ナフトール、アセト酢酸アニリド等
が知られている。特にアセト酢酸アニリドは耐光
堅牢性に優れ、現像速度が速い為に広く用いられ
ているが、未現像フイルム経時安定性に問題があ
る。一方1−ナフトールを用いた場合、現像速度
は速いが、カツプリング成分自体が昇華性のた
め、未現像フイルムの安定性及び耐光堅牢性に問
題があり、その改良が望まれていた。 (ハ) 発明が解決しようとする問題点 この発明はこの様な欠点を改良するためになさ
れたもので、その目的はジアゾ化合物と特定のカ
ツプリング成分との組合せにより、経時の於ける
濃度の低下を防止し、高画像品質を与えるジアゾ
複写材料を提供することにある。 上記目的を達成する為に、ジアゾ複写材料に使
用される素材についても、詳細な検討を行なうこ
とでこの発明に至つた。 (ニ) 問題点を解決するための手段 この発明によれば、支持体上にジアゾ化合物並
びにカツプリング成分を、主成分として含む感光
層を有する2成分型ジアゾ複写材料において、カ
ツプリング成分が一般式(): (式中Rは炭素数4〜20のアルキル基) で表わされる化合物の少なくとも1種類を含むこ
とを特徴とする2成分型ジアゾ複写材料が提供さ
れる。 この発明で用いるカツプリング成分としては、
前記一般式()で示されるものが使用される。
この種類のカツプリング成分は、1種類または複
数でやや赤味の黄色発色性を示し、更に現像フイ
ルムの画像部の耐光堅牢性に優れ、未現像フイル
ムの熱及び温度に対する安定性にも優れている。 一般式()で示されるカツプリング成分の具
体例としては、n−ブチル−1−ヒドロキシ−2
−ナフチルアミド、tert−ブチル−1−ヒドロキ
シ−2−ナフチルアミド、ヘキシル−1−ヒドロ
キシ−2−ナフチルアミド、オクチル−1−ヒド
ロキシ−2−ナフチルアミド、ドデシル−1−ヒ
ドロキシ−2−ナフチルアミド、ヘキサデシル−
1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド、エイコサ
シル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド等が
挙げられる。 この発明で用いられるジアゾ化合物は、特に制
約されず、従来より2成分型ジアゾ複写材料に使
用されているものがそのまま使用できる。例えば
ジアゾ化合物としては、4−ジメチルアミノベン
ゼンジアゾニウム、4−ジエチルアミノベンゼン
ジアゾニウム、4−ジイソプロピルアミノベンゼ
ンジアゾニウム、4−ジベンジルアミノベンゼン
ジアゾニウム、4−メチルベンジルアミノジアゾ
ニウム、4−ジメチルアミノ−3−クロルベンゼ
ンジアゾニウム、4−モルホリノ−2,5−ジエ
トキシベンゼンジアゾニウム、4−モルホリノ−
2,5−ジイソプロポキシベンセンジアゾニウ
ム、4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼ
ンジアゾニウム、4−ピロリジノ−3−メトキシ
ベンゼンジアゾニウム、4−モルホリノベンゼン
ジアゾニウム、4−アニリノベンゼンジアゾニウ
ム、4−トルイルメルカプト−2,5−ジエトキ
シベンゼンジアゾニウムなどのジアゾ化合物の強
酸塩(例えば硫酸、4フツ化ホウ素、6フツ化リ
ン酸など)や、またはこれらのジアゾ化合物と金
属ハロゲン化物の複塩(例えば塩化亜鉛、塩化
錫、塩化カドミウムなど)が挙げられるが、勿論
これらに限定されるものではない。 この発明に用いられる支持体は、一般に用いら
れるもので、例えばポリエステルフイルム、ポリ
エチレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポ
リカ−ボネイトフイルム、アセテートフイルム及
び紙などが挙げられる。 この発明では、以上の素材の他に、通常のジア
ゾ複写材に添加される各種材料、例えばプレカツ
プリング防止剤としてスルホサリチル酸、パラト
ルエンスルホン酸、硫酸、塩酸、クエン酸などの
各種のプロトン酸や塩化亜鉛、硫酸カドミウム、
塩化カドミウム、3フツ化ホウ素などのルイス酸
が使用できる。また酸化防止剤として、チオ尿
素、尿素、アリ−ルチオ尿素などが使用できる。
さらに溶解剤として、カフエイン、テオフイリン
など、分散剤としてサポニンなどが使用できる。
バインダー樹脂として殿粉、ガゼイン、ポリ酢酸
ビニル、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸ソ
ーダ、セルロース誘導体などのポリマーが使用で
きる。また必要に応じ、スチレン系、塩化ビニリ
デン系などのアンダーコートを施すことができ
る。 この発明のジアゾ複写材料を作成するには、上
記成分を水またはメチルエチルケトンなどの適当
な溶剤に溶解もしくは分散し、しかる後にポリエ
ステル・酢酸セルロースフイルムや紙などの適当
な支持体上に、この液を塗布し乾燥する。この
際、カツプリング成分とジアゾ成分のモル比は、
1:0.1〜10望ましく、好ましくは1:0.5〜3で
ある。 このようにして作成されたフイルム上に、アゾ
染料画像を発色させるには、一般のジアゾ複写材
料と同様に、蛍光灯や紫外線水銀灯を用いて画像
を焼付け、その後アンモニアガスまたはアルカリ
現像液を用いてアゾ染料画像を形成させる。 (ホ) 作用 本発明の2成分型ジアゾ複写材料は前記構成で
あるため、経時安定性、耐光堅牢性が改善され
る。 (ヘ) 実施例 以下本発明を実施例により詳細に説明する。 実施例 1 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g tert−ブチル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルア
ミド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 実施例 2 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g ドデシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド
1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 実施例 3 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g エイコシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミ
ド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 比較例 1 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g 1−ナフトール 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 比較例 2 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g アセトアセトアニリド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 以上のように作成した試験フイルム実施例1〜
3及び比較例1、2について、下記の試験を行な
つた。試験方法並びにその結果を以下に示す。 1 耐熱・耐湿度試験 各試験片を60℃・相対湿度90%にて72時間加
熱放置し、その後水銀灯により画像を焼付け、
アンモニア現像機(ダイセル化学工業株式会社
アクロス自動現像機AP−26D)で完全に発色
させ、透過濃度を測定する(マクベス透過濃度
計TD−904、ブルーフイルター使用)。 濃度測定結果
る。より詳細には、この発明はカツプリング成分
として特定の化合物を用いることによつて、未現
像及び現像処理済みフイルムの熱・湿度及び光に
対する安定性に優れ、経時による画像劣化の少な
い2成分型ジアゾ複写材料に関するものである。 (ロ) 従来の技術 従来、黄色のジアゾ複写を得るためのカツプリ
ング成分として、フエノール誘導体、レゾルシン
誘導体、1−ナフトール、アセト酢酸アニリド等
が知られている。特にアセト酢酸アニリドは耐光
堅牢性に優れ、現像速度が速い為に広く用いられ
ているが、未現像フイルム経時安定性に問題があ
る。一方1−ナフトールを用いた場合、現像速度
は速いが、カツプリング成分自体が昇華性のた
め、未現像フイルムの安定性及び耐光堅牢性に問
題があり、その改良が望まれていた。 (ハ) 発明が解決しようとする問題点 この発明はこの様な欠点を改良するためになさ
れたもので、その目的はジアゾ化合物と特定のカ
ツプリング成分との組合せにより、経時の於ける
濃度の低下を防止し、高画像品質を与えるジアゾ
複写材料を提供することにある。 上記目的を達成する為に、ジアゾ複写材料に使
用される素材についても、詳細な検討を行なうこ
とでこの発明に至つた。 (ニ) 問題点を解決するための手段 この発明によれば、支持体上にジアゾ化合物並
びにカツプリング成分を、主成分として含む感光
層を有する2成分型ジアゾ複写材料において、カ
ツプリング成分が一般式(): (式中Rは炭素数4〜20のアルキル基) で表わされる化合物の少なくとも1種類を含むこ
とを特徴とする2成分型ジアゾ複写材料が提供さ
れる。 この発明で用いるカツプリング成分としては、
前記一般式()で示されるものが使用される。
この種類のカツプリング成分は、1種類または複
数でやや赤味の黄色発色性を示し、更に現像フイ
ルムの画像部の耐光堅牢性に優れ、未現像フイル
ムの熱及び温度に対する安定性にも優れている。 一般式()で示されるカツプリング成分の具
体例としては、n−ブチル−1−ヒドロキシ−2
−ナフチルアミド、tert−ブチル−1−ヒドロキ
シ−2−ナフチルアミド、ヘキシル−1−ヒドロ
キシ−2−ナフチルアミド、オクチル−1−ヒド
ロキシ−2−ナフチルアミド、ドデシル−1−ヒ
ドロキシ−2−ナフチルアミド、ヘキサデシル−
1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド、エイコサ
シル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド等が
挙げられる。 この発明で用いられるジアゾ化合物は、特に制
約されず、従来より2成分型ジアゾ複写材料に使
用されているものがそのまま使用できる。例えば
ジアゾ化合物としては、4−ジメチルアミノベン
ゼンジアゾニウム、4−ジエチルアミノベンゼン
ジアゾニウム、4−ジイソプロピルアミノベンゼ
ンジアゾニウム、4−ジベンジルアミノベンゼン
ジアゾニウム、4−メチルベンジルアミノジアゾ
ニウム、4−ジメチルアミノ−3−クロルベンゼ
ンジアゾニウム、4−モルホリノ−2,5−ジエ
トキシベンゼンジアゾニウム、4−モルホリノ−
2,5−ジイソプロポキシベンセンジアゾニウ
ム、4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼ
ンジアゾニウム、4−ピロリジノ−3−メトキシ
ベンゼンジアゾニウム、4−モルホリノベンゼン
ジアゾニウム、4−アニリノベンゼンジアゾニウ
ム、4−トルイルメルカプト−2,5−ジエトキ
シベンゼンジアゾニウムなどのジアゾ化合物の強
酸塩(例えば硫酸、4フツ化ホウ素、6フツ化リ
ン酸など)や、またはこれらのジアゾ化合物と金
属ハロゲン化物の複塩(例えば塩化亜鉛、塩化
錫、塩化カドミウムなど)が挙げられるが、勿論
これらに限定されるものではない。 この発明に用いられる支持体は、一般に用いら
れるもので、例えばポリエステルフイルム、ポリ
エチレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポ
リカ−ボネイトフイルム、アセテートフイルム及
び紙などが挙げられる。 この発明では、以上の素材の他に、通常のジア
ゾ複写材に添加される各種材料、例えばプレカツ
プリング防止剤としてスルホサリチル酸、パラト
ルエンスルホン酸、硫酸、塩酸、クエン酸などの
各種のプロトン酸や塩化亜鉛、硫酸カドミウム、
塩化カドミウム、3フツ化ホウ素などのルイス酸
が使用できる。また酸化防止剤として、チオ尿
素、尿素、アリ−ルチオ尿素などが使用できる。
さらに溶解剤として、カフエイン、テオフイリン
など、分散剤としてサポニンなどが使用できる。
バインダー樹脂として殿粉、ガゼイン、ポリ酢酸
ビニル、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸ソ
ーダ、セルロース誘導体などのポリマーが使用で
きる。また必要に応じ、スチレン系、塩化ビニリ
デン系などのアンダーコートを施すことができ
る。 この発明のジアゾ複写材料を作成するには、上
記成分を水またはメチルエチルケトンなどの適当
な溶剤に溶解もしくは分散し、しかる後にポリエ
ステル・酢酸セルロースフイルムや紙などの適当
な支持体上に、この液を塗布し乾燥する。この
際、カツプリング成分とジアゾ成分のモル比は、
1:0.1〜10望ましく、好ましくは1:0.5〜3で
ある。 このようにして作成されたフイルム上に、アゾ
染料画像を発色させるには、一般のジアゾ複写材
料と同様に、蛍光灯や紫外線水銀灯を用いて画像
を焼付け、その後アンモニアガスまたはアルカリ
現像液を用いてアゾ染料画像を形成させる。 (ホ) 作用 本発明の2成分型ジアゾ複写材料は前記構成で
あるため、経時安定性、耐光堅牢性が改善され
る。 (ヘ) 実施例 以下本発明を実施例により詳細に説明する。 実施例 1 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g tert−ブチル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルア
ミド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 実施例 2 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g ドデシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミド
1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 実施例 3 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g エイコシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミ
ド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 比較例 1 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g 1−ナフトール 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 比較例 2 下記組成にて感光液を調整する。 メチルエチルケトン 40.0g メチルセロソルブ 40.0g 酢酸セルロース 15.0g シリカ微粉末 1.0g スルホサリチル酸 1.5g 4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4 1.0g アセトアセトアニリド 1.5g 上記感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム(厚
味50μ)に塗布・乾燥し、厚味を5μとする。 以上のように作成した試験フイルム実施例1〜
3及び比較例1、2について、下記の試験を行な
つた。試験方法並びにその結果を以下に示す。 1 耐熱・耐湿度試験 各試験片を60℃・相対湿度90%にて72時間加
熱放置し、その後水銀灯により画像を焼付け、
アンモニア現像機(ダイセル化学工業株式会社
アクロス自動現像機AP−26D)で完全に発色
させ、透過濃度を測定する(マクベス透過濃度
計TD−904、ブルーフイルター使用)。 濃度測定結果
【表】
以上より明らかなように、比較例1ではカツ
プラーの昇華による退色が、また比較例2で
は、プレカツプリングによる非画像部の濃度上
昇が生じているのに対し、実施例ではほとんど
濃度の変化が無く、この発明の目的が達成され
ているのが分る。 2 退色試験 各試験片を水銀灯により画像を焼付け、アン
モニア現像機(ダイセル化学工業株式会社アク
ロス自動現像機AP−26D)で完全に発色させ、
透過濃度を測定する(マクベス透過濃度計TD
−904、ブルーフイルター使用)。その後快晴の
日を選び、7日間日光曝露試験を行なつた。 濃度測定結果
プラーの昇華による退色が、また比較例2で
は、プレカツプリングによる非画像部の濃度上
昇が生じているのに対し、実施例ではほとんど
濃度の変化が無く、この発明の目的が達成され
ているのが分る。 2 退色試験 各試験片を水銀灯により画像を焼付け、アン
モニア現像機(ダイセル化学工業株式会社アク
ロス自動現像機AP−26D)で完全に発色させ、
透過濃度を測定する(マクベス透過濃度計TD
−904、ブルーフイルター使用)。その後快晴の
日を選び、7日間日光曝露試験を行なつた。 濃度測定結果
【表】
以上より明らかなように、比較例1では形成
されるアゾ染料の分子量が小さい為、染料の昇
華による退色が生じている。 実施例1〜3は比較例2とほぼ同様に良好な
結果を示しており、この発明の目的である1−
ナフトールの欠点の改良が、達成されているの
が分る。
されるアゾ染料の分子量が小さい為、染料の昇
華による退色が生じている。 実施例1〜3は比較例2とほぼ同様に良好な
結果を示しており、この発明の目的である1−
ナフトールの欠点の改良が、達成されているの
が分る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体上にジアゾ化合物とカツプリング成分
を主成分として含む感光層からなる2成分型ジア
ゾ複写材料において、カツプリング成分が一般式
(): (式中Rは炭素数4〜20のアルキル基) で表わされる化合物の少なくとも1種類を含むこ
とを特徴とする2成分型ジアゾ複写材料。 2 カツプリング成分がt−ブチル−1−ヒドロ
キシ−2−ナフチルアミド、ドデシル−1−ヒド
ロキシ−2−ナフチルアミドまたはエイコシル−
1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミドである特許
請求の範囲第1項による複写材料。 3 カツプリング成分とジアゾ成分のモル比が
1:0.1〜10である特許請求の範囲第1項による
複写材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27572385A JPS62134643A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 2成分型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27572385A JPS62134643A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 2成分型ジアゾ複写材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62134643A JPS62134643A (ja) | 1987-06-17 |
JPH0545016B2 true JPH0545016B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=17559480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27572385A Granted JPS62134643A (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | 2成分型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62134643A (ja) |
-
1985
- 1985-12-06 JP JP27572385A patent/JPS62134643A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62134643A (ja) | 1987-06-17 |
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