JPH0544032A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
- Publication number
- JPH0544032A JPH0544032A JP20281291A JP20281291A JPH0544032A JP H0544032 A JPH0544032 A JP H0544032A JP 20281291 A JP20281291 A JP 20281291A JP 20281291 A JP20281291 A JP 20281291A JP H0544032 A JPH0544032 A JP H0544032A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- film forming
- viewing window
- glass
- chamber
- Prior art date
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ＭＢＥ成長装置などのような成膜装置における
ガラス覗き窓のくもり防止装置に関し、ガラス覗き窓の
くもりを効率的に防止し、清掃の頻度を低減可能とする
ことを目的とする。 【構成】成膜室５の側壁にガラス覗き窓８を有している
成膜装置において、成膜室５と前記ガラス覗き窓８との
間のシャッター取付け筒７に、シャッター収納部18を有
しており、該シャッター収納部18中に、シャッター収納
部18の内径ｄよりも大きなシャッター12を１枚以上配設
することで、シャッター取付け筒７を閉止可能とし、成
膜室５の内部を覗くときに該シャッター12がシャッター
取付け筒７から退避するように駆動する駆動源13を外部
（大気中）に設け、前記シャッター12の駆動軸14と連結
した構成とする。
ガラス覗き窓のくもり防止装置に関し、ガラス覗き窓の
くもりを効率的に防止し、清掃の頻度を低減可能とする
ことを目的とする。 【構成】成膜室５の側壁にガラス覗き窓８を有している
成膜装置において、成膜室５と前記ガラス覗き窓８との
間のシャッター取付け筒７に、シャッター収納部18を有
しており、該シャッター収納部18中に、シャッター収納
部18の内径ｄよりも大きなシャッター12を１枚以上配設
することで、シャッター取付け筒７を閉止可能とし、成
膜室５の内部を覗くときに該シャッター12がシャッター
取付け筒７から退避するように駆動する駆動源13を外部
（大気中）に設け、前記シャッター12の駆動軸14と連結
した構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＭＢＥ(Molecular Bea
m Epitaxial)成長装置などのような成膜装置におけるガ
ラス覗き窓のくもり防止装置に関する。
m Epitaxial)成長装置などのような成膜装置におけるガ
ラス覗き窓のくもり防止装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＭＢＥ結晶成長技術は非常に進展
し、高品質なヘテロ構造や超格子構造が再現性よく得ら
れるようになった。そして、この成長法により開発され
た代表的な素子の一つであるＨＥＭＴも、すでに商品化
され量産されている。
し、高品質なヘテロ構造や超格子構造が再現性よく得ら
れるようになった。そして、この成長法により開発され
た代表的な素子の一つであるＨＥＭＴも、すでに商品化
され量産されている。
【０００３】図４は従来のＭＢＥ装置の断面図である。
真空ポンプＰに接続された真空容器１中において、ヒー
タ２で加熱される金属性ホルダー３にGaAsなどの基板４
が保持されている。また、成膜室５中には、分子線材料
を入れて加熱するるつぼや熱電対を有する分子線源6a、
6b、6c、6dが配設されている。各分子線源6a、6b、6c、
6dには、分子線材料としてそれぞれGa、As、Si、Alなど
が入れられており、付属のヒータで加熱蒸発し、基板４
に被着される。基板４は、基板搬送室のゲートバルブV
1、V2を開閉することで、搬入／搬出される。
真空ポンプＰに接続された真空容器１中において、ヒー
タ２で加熱される金属性ホルダー３にGaAsなどの基板４
が保持されている。また、成膜室５中には、分子線材料
を入れて加熱するるつぼや熱電対を有する分子線源6a、
6b、6c、6dが配設されている。各分子線源6a、6b、6c、
6dには、分子線材料としてそれぞれGa、As、Si、Alなど
が入れられており、付属のヒータで加熱蒸発し、基板４
に被着される。基板４は、基板搬送室のゲートバルブV
1、V2を開閉することで、搬入／搬出される。
【０００４】このような装置において、内部の様子を観
察したり放射温度計により外部から基板温度を計測する
ために、円筒パイプ７を介して、ガラス覗き窓８が設け
られている。しかしながら、分子線源から発生する分子
や原子が付着してガラス覗き窓８がくもり、光の透過率
が次第に減少するので、これを防ぐために、シャッター
板をガラス覗き窓８の前面に設けている。
察したり放射温度計により外部から基板温度を計測する
ために、円筒パイプ７を介して、ガラス覗き窓８が設け
られている。しかしながら、分子線源から発生する分子
や原子が付着してガラス覗き窓８がくもり、光の透過率
が次第に減少するので、これを防ぐために、シャッター
板をガラス覗き窓８の前面に設けている。
【０００５】図５は従来のガラス覗き窓であり、円筒パ
イプ７中に、ガラス覗き窓８のくもり防止のためのシャ
ッター板９が内蔵されている。シャッター板９は円形を
しており、通常はシャッター板９が円筒パイプ７と直角
になることで、分子線源から発生した分子線が遮られ
て、ガラス覗き窓８に到達不能となり、ガラス覗き窓８
が分子線でくもるのを防止している。
イプ７中に、ガラス覗き窓８のくもり防止のためのシャ
ッター板９が内蔵されている。シャッター板９は円形を
しており、通常はシャッター板９が円筒パイプ７と直角
になることで、分子線源から発生した分子線が遮られ
て、ガラス覗き窓８に到達不能となり、ガラス覗き窓８
が分子線でくもるのを防止している。
【０００６】成膜室内部を覗いたり、基板の温度測定な
どに際しては、外部の回転機構10でシャッター板９の駆
動軸11を回転し、シャッター板９を円筒パイプ７と平行
に向ける。
どに際しては、外部の回転機構10でシャッター板９の駆
動軸11を回転し、シャッター板９を円筒パイプ７と平行
に向ける。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、最近活発に研
究開発が行われだしたガス原料を用いるガスソースＭＢ
Ｅにおいては、従来のシャッター構造では、ガラス覗き
窓８が短時間にくもりだすという問題がある。すなわ
ち、原料ガスがシャッター板９と円筒パイプ７との間の
隙間から流れ込み、覗き窓ガラス面に到達し付着する。
究開発が行われだしたガス原料を用いるガスソースＭＢ
Ｅにおいては、従来のシャッター構造では、ガラス覗き
窓８が短時間にくもりだすという問題がある。すなわ
ち、原料ガスがシャッター板９と円筒パイプ７との間の
隙間から流れ込み、覗き窓ガラス面に到達し付着する。
【０００８】金属原料を用いた通常のＭＢＥでは、ガラ
ス覗き窓をくもらせる原因となる分子線は、一度装置の
壁（例えば、覗き窓を取りつけてあるパイプの内壁な
ど）に当たると、高い確率でその壁に付着した。これに
対し、例えばトリエチルガリウムなどのような有機金属
ガスを用いる場合は、原料ガスが壁に衝突したときの付
着確率が低いため、反射や熱による再蒸発を繰り返し、
シャッター板９をまわり込むように流れて、覗き窓ガラ
ス面に到達して付着し、ガラス覗き窓を急速にくもらせ
てしまう問題があった。
ス覗き窓をくもらせる原因となる分子線は、一度装置の
壁（例えば、覗き窓を取りつけてあるパイプの内壁な
ど）に当たると、高い確率でその壁に付着した。これに
対し、例えばトリエチルガリウムなどのような有機金属
ガスを用いる場合は、原料ガスが壁に衝突したときの付
着確率が低いため、反射や熱による再蒸発を繰り返し、
シャッター板９をまわり込むように流れて、覗き窓ガラ
ス面に到達して付着し、ガラス覗き窓を急速にくもらせ
てしまう問題があった。
【０００９】その結果、ガス原料を用いるＭＢＥ装置で
は、非常に早くガラス覗き窓がくもってしまい、ＭＢＥ
成長室内部の観察や基板温度計測に支障が出てきた。こ
れを防止するには、ガラス覗き窓を頻繁に清掃しなけれ
ばならないが、ガラス覗き窓を清掃するには、その都度
ＭＢＥ成長を中断するとともに、成膜室を大気に開放す
る必要がある。そして、清掃後は、成膜室内が所定の真
空度となるまで、排気しなければならず、ＭＢＥ成長が
再開可能となるまで２〜３週間も必要となり、装置の稼
動率が悪く、生産効率が低下する。
は、非常に早くガラス覗き窓がくもってしまい、ＭＢＥ
成長室内部の観察や基板温度計測に支障が出てきた。こ
れを防止するには、ガラス覗き窓を頻繁に清掃しなけれ
ばならないが、ガラス覗き窓を清掃するには、その都度
ＭＢＥ成長を中断するとともに、成膜室を大気に開放す
る必要がある。そして、清掃後は、成膜室内が所定の真
空度となるまで、排気しなければならず、ＭＢＥ成長が
再開可能となるまで２〜３週間も必要となり、装置の稼
動率が悪く、生産効率が低下する。
【００１０】本発明の技術的課題は、このような問題に
着目し、ＭＢＥ装置などのような成膜装置におけるガラ
ス覗き窓のくもりを効率的に防止し、清掃の頻度を低減
可能とすることにある。
着目し、ＭＢＥ装置などのような成膜装置におけるガラ
ス覗き窓のくもりを効率的に防止し、清掃の頻度を低減
可能とすることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】図１は本発明による成膜
室のガラス覗き窓のくもり防止装置の基本原理を説明す
る断面図である。成膜室５の側壁にガラス覗き窓８を有
している成膜装置において、成膜室５と前記ガラス覗き
窓８との間のシャッター取付け筒７に、シャッター収納
部18を設け、該シャッター収納部18の内径ｄよりも大き
なシャッター12が１枚以上配設されている。
室のガラス覗き窓のくもり防止装置の基本原理を説明す
る断面図である。成膜室５の側壁にガラス覗き窓８を有
している成膜装置において、成膜室５と前記ガラス覗き
窓８との間のシャッター取付け筒７に、シャッター収納
部18を設け、該シャッター収納部18の内径ｄよりも大き
なシャッター12が１枚以上配設されている。
【００１２】すなわち、シャッター12を閉じたときに、
シャッター12の外周部がシャッター収納部18に収納され
る。このシャッター12によって、通常はシャッター取付
け筒７が閉じられているが、成膜室５の内部を覗くとき
は、該シャッター12がシャッター収納部18から退避する
ように駆動される。この駆動源13は、外部（大気中）に
配設され、前記シャッター12の駆動軸14と連結されてい
る。
シャッター12の外周部がシャッター収納部18に収納され
る。このシャッター12によって、通常はシャッター取付
け筒７が閉じられているが、成膜室５の内部を覗くとき
は、該シャッター12がシャッター収納部18から退避する
ように駆動される。この駆動源13は、外部（大気中）に
配設され、前記シャッター12の駆動軸14と連結されてい
る。
【００１３】請求項２の発明は、前記のシャッター12を
閉じたときに、シャッター収納部18の両側壁16、17と、
シャッター12との間に、隙間Ｇが生じるように、両側壁
16、17間の寸法Ｗを設定するものである。
閉じたときに、シャッター収納部18の両側壁16、17と、
シャッター12との間に、隙間Ｇが生じるように、両側壁
16、17間の寸法Ｗを設定するものである。
【００１４】
【作用】シャッター取付け筒７は、通常はシャッター収
納部18中のシャッター12によって閉じられているが、成
膜室５の内部を覗いたり、温度測定などを行なう場合
は、駆動源13によって駆動軸14を矢印a1で示すように駆
動源13側に移動させると、シャッター12はシャッター収
納部18から退避室15中に退避する。
納部18中のシャッター12によって閉じられているが、成
膜室５の内部を覗いたり、温度測定などを行なう場合
は、駆動源13によって駆動軸14を矢印a1で示すように駆
動源13側に移動させると、シャッター12はシャッター収
納部18から退避室15中に退避する。
【００１５】図示のように、シャッター12がシャッター
収納部18に進出し、シャッター取付け筒７を閉じた状態
では、飛来して来たガス原料がガラス覗き窓８に到達す
るまでに、ガス原料の分子は、シャッター12とシャッタ
ー収納部18の片側の側壁16との間を外周方向（矢印a2方
向）に移動した後、シャッター12の外周を回り込んで、
シャッター12とシャッター収納部18の他方の側壁17との
間を、シャッター12の中心方向（矢印a3方向）に移動す
る。このように、ガス原料がシャッター12とシャッター
収納部18の側壁16、17間を矢印a2、a3方向に移動する間
に、ガス原料はシャッター12やシャッター収納部側壁1
6、17に多数回衝突する。
収納部18に進出し、シャッター取付け筒７を閉じた状態
では、飛来して来たガス原料がガラス覗き窓８に到達す
るまでに、ガス原料の分子は、シャッター12とシャッタ
ー収納部18の片側の側壁16との間を外周方向（矢印a2方
向）に移動した後、シャッター12の外周を回り込んで、
シャッター12とシャッター収納部18の他方の側壁17との
間を、シャッター12の中心方向（矢印a3方向）に移動す
る。このように、ガス原料がシャッター12とシャッター
収納部18の側壁16、17間を矢印a2、a3方向に移動する間
に、ガス原料はシャッター12やシャッター収納部側壁1
6、17に多数回衝突する。
【００１６】このようにガス原料がシャッター12やシャ
ッター収納部側壁16、17に多数回衝突するため、その間
に殆どのガス原料がシャッター12やシャッター収納部側
壁16、17に付着し、最終的にガラス覗き窓８に到達する
ガス原料は極めて少なく、ガラス覗き窓８のくもりを抑
制でき、ガラス覗き窓８がくもってゆく度合いが緩慢と
なる。
ッター収納部側壁16、17に多数回衝突するため、その間
に殆どのガス原料がシャッター12やシャッター収納部側
壁16、17に付着し、最終的にガラス覗き窓８に到達する
ガス原料は極めて少なく、ガラス覗き窓８のくもりを抑
制でき、ガラス覗き窓８がくもってゆく度合いが緩慢と
なる。
【００１７】請求項２に記載のように、前記のシャッタ
ー12を閉じたときに、シャッター収納部18の両側壁16、
17と、シャッター12との間に、隙間Ｇが生じるようにす
ることによって、シャッター12は何物とも接触すること
なしに開閉できるため、塵埃が発生することはない。ま
た、隙間Ｇを介して、シャッター退避室15およびガラス
覗き窓８の内側も、成膜室５を介して真空ポンプＰと接
続されているため、シャッター退避室15やガラス覗き窓
８の内側の壁部から発生するガスが確実に排気され、常
に清浄に維持される。
ー12を閉じたときに、シャッター収納部18の両側壁16、
17と、シャッター12との間に、隙間Ｇが生じるようにす
ることによって、シャッター12は何物とも接触すること
なしに開閉できるため、塵埃が発生することはない。ま
た、隙間Ｇを介して、シャッター退避室15およびガラス
覗き窓８の内側も、成膜室５を介して真空ポンプＰと接
続されているため、シャッター退避室15やガラス覗き窓
８の内側の壁部から発生するガスが確実に排気され、常
に清浄に維持される。
【００１８】
【実施例】次に本発明による成膜室のガラス覗き窓のく
もり防止装置が実際上どのように具体化されるかを実施
例で説明する。図２は本発明による成膜室のガラス覗き
窓のくもり防止装置の実施例を示す部分断面／斜視図で
ある。成膜室５の側壁に設けられたシャッター取付け筒
７には、そのフランジ部19を介して、直方体状のシャッ
ター収納箱18ａの片方の側壁16がネジ止めされ、該側壁
16の円形孔20がシャッター取付け筒７と連通している。
そして、このシャッター収納箱18ａの他方の側壁17に、
ガラス覗き窓８のフランジ部21がネジ止めされ、該側壁
17の円形孔22がガラス覗き窓８と連通する。
もり防止装置が実際上どのように具体化されるかを実施
例で説明する。図２は本発明による成膜室のガラス覗き
窓のくもり防止装置の実施例を示す部分断面／斜視図で
ある。成膜室５の側壁に設けられたシャッター取付け筒
７には、そのフランジ部19を介して、直方体状のシャッ
ター収納箱18ａの片方の側壁16がネジ止めされ、該側壁
16の円形孔20がシャッター取付け筒７と連通している。
そして、このシャッター収納箱18ａの他方の側壁17に、
ガラス覗き窓８のフランジ部21がネジ止めされ、該側壁
17の円形孔22がガラス覗き窓８と連通する。
【００１９】シャッター駆動軸14は、ベローズ23を介し
て、シャッター収納箱18ａと一体のシャッター退避箱15
ａの天井部に気密支持されている。駆動軸14に固定され
たコ字状の取付けアーム24の両端に、シャッター12ａ、
12ｂが取付けられている。そして、片方のシャッター12
ａと前記の片方の側壁16との間に隙間Ｇが生じ、また他
方のシャッター12ａと前記の他方の側壁17との間に隙間
Ｇが生じるように、両シャッター12ａ、12ｂの間隔ωお
よび両側壁16、17の間隔Ｗが設定されている。
て、シャッター収納箱18ａと一体のシャッター退避箱15
ａの天井部に気密支持されている。駆動軸14に固定され
たコ字状の取付けアーム24の両端に、シャッター12ａ、
12ｂが取付けられている。そして、片方のシャッター12
ａと前記の片方の側壁16との間に隙間Ｇが生じ、また他
方のシャッター12ａと前記の他方の側壁17との間に隙間
Ｇが生じるように、両シャッター12ａ、12ｂの間隔ωお
よび両側壁16、17の間隔Ｗが設定されている。
【００２０】シャッター退避室15の天井部には、支持フ
レーム25を介して、駆動源が取付けられている。この駆
動源は、例えば空気圧シリンダ26であり、そのピストン
ロッド27に、前記の駆動軸14が連結されている。
レーム25を介して、駆動源が取付けられている。この駆
動源は、例えば空気圧シリンダ26であり、そのピストン
ロッド27に、前記の駆動軸14が連結されている。
【００２１】この実施例装置において、空気圧シリンダ
26のピストンロッド27が進出すると、図示のように両シ
ャッター12ａ、12ｂが、シャッター収納部18の両側壁1
6、17の間に入り込んで収納され、シャッター12ａでシ
ャッター取付け筒７が閉鎖され、シャッター12ｂでガラ
ス覗き窓８の内側が閉鎖される。
26のピストンロッド27が進出すると、図示のように両シ
ャッター12ａ、12ｂが、シャッター収納部18の両側壁1
6、17の間に入り込んで収納され、シャッター12ａでシ
ャッター取付け筒７が閉鎖され、シャッター12ｂでガラ
ス覗き窓８の内側が閉鎖される。
【００２２】その結果、右側のシャッター12ａと右側の
側壁16間に隙間Ｇができ、左側のシャッター12ｂと左側
の側壁17との間に隙間Ｇができるため、ガス原料がガラ
ス覗き窓８に到達するまでには、二つの隙間Ｇ、Ｇにお
いて反射を繰り返しながら、通過しなければならず、多
数回反射を繰り返している間に、殆どのガス原料がシャ
ッター12ａ、12ｂや両側壁16、17に付着し、ガラス覗き
窓８まで到達するガス原料は極めて少ない。
側壁16間に隙間Ｇができ、左側のシャッター12ｂと左側
の側壁17との間に隙間Ｇができるため、ガス原料がガラ
ス覗き窓８に到達するまでには、二つの隙間Ｇ、Ｇにお
いて反射を繰り返しながら、通過しなければならず、多
数回反射を繰り返している間に、殆どのガス原料がシャ
ッター12ａ、12ｂや両側壁16、17に付着し、ガラス覗き
窓８まで到達するガス原料は極めて少ない。
【００２３】したがって、従来の回転式のシャッター板
９を用いる構造に比べると、ガラス覗き窓８のくもり方
が緩慢となり、成膜室５を大気開放してガラス覗き窓８
を清掃する頻度が大幅に減少するため、生産効率が格段
と向上する。
９を用いる構造に比べると、ガラス覗き窓８のくもり方
が緩慢となり、成膜室５を大気開放してガラス覗き窓８
を清掃する頻度が大幅に減少するため、生産効率が格段
と向上する。
【００２４】また、成膜室５と連通している室の内壁へ
の付着物などから発生するガスを確実に排気して、成膜
室５中のガス雰囲気を一定に維持する必要があるが、本
発明のように、シャッター12ａ、12ｂと両側壁16、17と
の間に、隙間Ｇが生じるように間隔をおいて配設した構
造としたことにより、シャッター退避室15やガラス覗き
窓８とシャッター12ｂ間など、すべての空間が、隙間
Ｇ、Ｇによって成膜室５を介して真空ポンプと連通して
いるので、内壁から発生するガスを確実に排気でき、成
膜室５内を常に一定条件のガス雰囲気に維持できる。
の付着物などから発生するガスを確実に排気して、成膜
室５中のガス雰囲気を一定に維持する必要があるが、本
発明のように、シャッター12ａ、12ｂと両側壁16、17と
の間に、隙間Ｇが生じるように間隔をおいて配設した構
造としたことにより、シャッター退避室15やガラス覗き
窓８とシャッター12ｂ間など、すべての空間が、隙間
Ｇ、Ｇによって成膜室５を介して真空ポンプと連通して
いるので、内壁から発生するガスを確実に排気でき、成
膜室５内を常に一定条件のガス雰囲気に維持できる。
【００２５】さらに、隙間Ｇ、Ｇがあるため、シャッタ
ー12ａ、12ｂを開閉する際に、シャッター12ａ、12ｂが
両側壁16、17などに接触して塵埃を発するような恐れも
ない。
ー12ａ、12ｂを開閉する際に、シャッター12ａ、12ｂが
両側壁16、17などに接触して塵埃を発するような恐れも
ない。
【００２６】図示状態において、空気圧シリンダ26のピ
ストンロッド27が引っ込むと、駆動軸14がベローズ23を
圧縮しながら上昇し、シャッター12ａ、12ｂを引き上げ
ることで、シャッター取付け筒７とガラス覗き窓８との
間が開かれる。これによって、成膜室５の内部をガラス
覗き窓８から覗いて内部を点検したり、温度測定でき
る。温度測定する場合は、図３に示すように、ガラス覗
き窓８の外側にパイロメータ28などを取付け、赤外線を
利用し、ガラス覗き窓８を通して基板の表面温度を測定
する。
ストンロッド27が引っ込むと、駆動軸14がベローズ23を
圧縮しながら上昇し、シャッター12ａ、12ｂを引き上げ
ることで、シャッター取付け筒７とガラス覗き窓８との
間が開かれる。これによって、成膜室５の内部をガラス
覗き窓８から覗いて内部を点検したり、温度測定でき
る。温度測定する場合は、図３に示すように、ガラス覗
き窓８の外側にパイロメータ28などを取付け、赤外線を
利用し、ガラス覗き窓８を通して基板の表面温度を測定
する。
【００２７】従来の装置では、シャッター板を回転させ
ることでガラス覗き窓８を開くため、シャッターを開い
た状態においても、円筒パイプ７の中央にシャッター板
９が存在することになり、内部観察や温度測定の邪魔に
なるが、本発明は、シャッター12ａ、12ｂを直線移動さ
せてシャッター取付け筒７から退避させるため、シャッ
ターを完全に開くことができ、内部観察や温度測定が簡
便となる。
ることでガラス覗き窓８を開くため、シャッターを開い
た状態においても、円筒パイプ７の中央にシャッター板
９が存在することになり、内部観察や温度測定の邪魔に
なるが、本発明は、シャッター12ａ、12ｂを直線移動さ
せてシャッター取付け筒７から退避させるため、シャッ
ターを完全に開くことができ、内部観察や温度測定が簡
便となる。
【００２８】図示のように２枚のシャッター12ａ、12ｂ
を用いた構造では、ガラス覗き窓がくもってゆく度合い
は、従来のものに比べて、数分の一から十分の一とな
り、成膜品の量産化に大きく貢献できる。なお、シャッ
ターは図１に示すように１枚だけでもよいが、図２にお
ける２枚のシャッター12ａ、12ｂの間に、さらに１〜数
枚のシャッターを平行に配設することで、ガス原料がガ
ラス覗き窓８に到達する量をより有効に低減できる。
を用いた構造では、ガラス覗き窓がくもってゆく度合い
は、従来のものに比べて、数分の一から十分の一とな
り、成膜品の量産化に大きく貢献できる。なお、シャッ
ターは図１に示すように１枚だけでもよいが、図２にお
ける２枚のシャッター12ａ、12ｂの間に、さらに１〜数
枚のシャッターを平行に配設することで、ガス原料がガ
ラス覗き窓８に到達する量をより有効に低減できる。
【００２９】なお、本発明装置は、ガス原料を用いる成
膜装置に限定されないことは言うまでもない。
膜装置に限定されないことは言うまでもない。
【００３０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、シャッタ
ー取付け筒７とガラス覗き窓８との間において、シャッ
ター収納部18を設けて、シャッター取付け筒７に対し直
角方向に開閉するシャッター12、12ａ、12ｂを収納し、
シャッターとシャッター収納部18の側壁16、17との間に
隙間Ｇができるような構成になっている。
ー取付け筒７とガラス覗き窓８との間において、シャッ
ター収納部18を設けて、シャッター取付け筒７に対し直
角方向に開閉するシャッター12、12ａ、12ｂを収納し、
シャッターとシャッター収納部18の側壁16、17との間に
隙間Ｇができるような構成になっている。
【００３１】そのため、ガス原料は、ガラス覗き窓８に
到達する間に、シャッター12、12ａ、12ｂと側壁16、17
との間の隙間で、シャッター12、12ａ、12ｂや側壁16、
17に多数回衝突して付着するため、ガス原料の付着によ
るガラス覗き窓８のくもりの進行が緩慢となり、ガラス
覗き窓８の清掃の頻度が低減され、成膜作業効率が格段
と向上し、しかもガスソースＭＢＥ成長などを長期間に
わたり安定して運転させることが可能になった。
到達する間に、シャッター12、12ａ、12ｂと側壁16、17
との間の隙間で、シャッター12、12ａ、12ｂや側壁16、
17に多数回衝突して付着するため、ガス原料の付着によ
るガラス覗き窓８のくもりの進行が緩慢となり、ガラス
覗き窓８の清掃の頻度が低減され、成膜作業効率が格段
と向上し、しかもガスソースＭＢＥ成長などを長期間に
わたり安定して運転させることが可能になった。
【００３２】さらに、隙間Ｇがあるため、シャッター退
避室15などもすべて確実に成膜室５を介して真空ポンプ
に接続され、内壁部からのガス抜きを確実に行なうこと
ができる。
避室15などもすべて確実に成膜室５を介して真空ポンプ
に接続され、内壁部からのガス抜きを確実に行なうこと
ができる。
【図１】本発明による成膜室のガラス覗き窓のくもり防
止装置の基本原理を説明する断面図である。
止装置の基本原理を説明する断面図である。
【図２】本発明による成膜室のガラス覗き窓のくもり防
止装置の実施例を示す部分断面／斜視図である。
止装置の実施例を示す部分断面／斜視図である。
【図３】本発明の実施例装置に、成膜室内部の温度測定
器を取付けた状態を示す要部側面図である。
器を取付けた状態を示す要部側面図である。
【図４】従来のＭＢＥ装置の断面図である。
【図５】従来の成膜室のガラス覗き窓のくもり防止装置
を示す断面図である。
を示す断面図である。
Ｐ 真空ポンプ １ 真空容器 ４ 基板 ５ 成膜室 6a,6b,6c,6d 分子線源 ７ 円筒パイプ（シャッター取付け筒） ８ ガラス覗き窓 ９ シャッター板 10 回転機構 11 駆動軸 12,12a,12b シャッター 13 駆動源 14 駆動軸 15 シャッター退避室 15a シャッター退避箱 16,17 側壁 18 シャッター収納部 18a シャッター収納箱 20,22 孔 23 ベローズ 26 空気圧シリンダ 27 ピストンロッド 28 パイロメータ
Claims (2)
- 【請求項１】 成膜室(5) の側壁にガラス覗き窓(8) を
有している成膜装置において、 成膜室(5) と前記ガラス覗き窓(8) との間のシャッター
取付け筒(7) に、シャッター収納部(18)を有しており、 該シャッター収納部(18)中に、シャッター収納部(18)の
内径(d) よりも大きなシャッター(12)を１枚以上配設す
ることで、シャッター取付け筒(7) を閉止可能とし、 成膜室(5) の内部を覗くときに該シャッター(12)がシャ
ッター取付け筒(7) から退避するように駆動する駆動源
(13)を外部（大気中）に設け、前記シャッター(12)の駆
動軸(14)と連結したことを特徴とする成膜装置。 - 【請求項２】 前記シャッター収納部(18)のシャッター
(12)と対向する両側壁(16,17) の間隔(W) が、 前記のシャッター(12)を閉じたときに、前記両側壁(16,
17) とシャッター(12)との間に、隙間(G) が生じるよう
な寸法となっていることを特徴とする請求項１記載の成
膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20281291A JPH0544032A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20281291A JPH0544032A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0544032A true JPH0544032A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16463613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20281291A Withdrawn JPH0544032A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0544032A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5413688A (en) * | 1994-02-08 | 1995-05-09 | Viratec Thin Films, Inc. | Shutter apparatus for a coating chamber viewport |
| US6413691B2 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic toner, process for producing the same, electrophotographic developer, and process for forming image |
| US7262262B2 (en) | 2001-04-11 | 2007-08-28 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Resin composition for toner and toner |
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| US7485401B2 (en) | 2002-07-30 | 2009-02-03 | Mitsui Chemicals, Inc. | Resin composition for toner, and toners |
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| DE102015105844A1 (de) * | 2015-04-16 | 2016-10-20 | Von Ardenne Gmbh | Verschlusseinrichtung, Pyrometer-Anordnung und Vakuum-Substratbehandlungsanlage |
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| KR20200142895A (ko) * | 2019-06-14 | 2020-12-23 | (주)대호테크 | 챔버벽 단열 구조를 가지는 성형 장치 |
-
1991
- 1991-08-13 JP JP20281291A patent/JPH0544032A/ja not_active Withdrawn
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| KR20200142895A (ko) * | 2019-06-14 | 2020-12-23 | (주)대호테크 | 챔버벽 단열 구조를 가지는 성형 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |