JPH0534896A - Hot melt transfer material for forming plate making mask, formation of plate making mask, plate making mask and method and device for recovering plate making mask - Google Patents

Hot melt transfer material for forming plate making mask, formation of plate making mask, plate making mask and method and device for recovering plate making mask

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JPH0534896A
JPH0534896A JP3209865A JP20986591A JPH0534896A JP H0534896 A JPH0534896 A JP H0534896A JP 3209865 A JP3209865 A JP 3209865A JP 20986591 A JP20986591 A JP 20986591A JP H0534896 A JPH0534896 A JP H0534896A
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JP
Japan
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plate
resin
making mask
light
shielding layer
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Application number
JP3209865A
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Japanese (ja)
Inventor
Masataka Takimoto
正高 瀧本
Shigeru Mano
茂 間野
Takahiro Ogawa
隆宏 小川
Sota Kawakami
壮太 川上
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form the plate making mask which has an excellent preservable property of the hot melt transfer material, is free from pinholes and has excel lent durability. CONSTITUTION:A light shielding layer 13 essentially consisting of an org. solvent dye and a resin incompatible with wax is formed bia a release layer 12 essentially consisting of the wax having >=100 deg.C m.p. on a base 11 and an adhesive layer 14 is formed at need onto the light shielding layer 13. The resin incompatible with the wax is at least one kind selected from a maleic acid resin, styrene resin, terpene resin, petroleum resin, chroman-indene resin, and isoprene resin. The hot melt transfer material 1 is superposed on a transparent film 2 coated 22 with the resin and the light shielding layer 13 of this hot melt transfer material 1 is thermally transferred onto the transparent film 2, by which the plate making mask is formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、熱転写により遮光層
を有する製版マスクを作成するための製版マスク作成用
熱溶融転写材料及び製版マスク作成方法に関し、詳しく
は熱溶融転写材料の保存性に優れ、かつピンホールがな
く耐久性に優れた製版マスクを作成するための製版マス
ク作成用熱溶融転写材料及び製版マスク作成方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hot-melt transfer material for making a plate-making mask and a method for making a plate-making mask for making a plate-making mask having a light-shielding layer by thermal transfer. The present invention also relates to a heat-melt transfer material for plate-making mask making and a plate-making mask making method for making a plate-making mask excellent in durability without pinholes.

【0002】また、この発明は、熱転写により形成され
た遮光層を保護する製版マスクに関する。
The present invention also relates to a plate-making mask which protects a light-shielding layer formed by thermal transfer.

【0003】また、この発明は、熱転写により遮光層が
形成された製版マスク及び製版マスク回収方法並びにそ
の回収装置に関するものである。
The present invention also relates to a plate-making mask having a light-shielding layer formed by thermal transfer, a plate-making mask collecting method, and a collecting device therefor.

【0004】[0004]

【従来の技術】製版マスクは、例えば遮光層を有する熱
転写シートと光透過性の受容体とを重ね合わせ、この熱
転写シートの背面より文字、図形等をサーマルヘッドに
より加熱して遮光層を受容体側に転写させ、その後この
熱転写シートを剥離して作成したり、また製版マスク原
版の遮光層が形成された光透過性の支持体から遮光層を
サーマルヘッドにより支持体上に熱転写させて剥離する
ことで製版マスクを作成している。
2. Description of the Related Art A plate-making mask is, for example, a thermal transfer sheet having a light-shielding layer and a light-transmissive receptor, which are superposed on each other. And then peeling off this thermal transfer sheet, or thermally transferring the light-shielding layer from the light-transmissive support on which the light-shielding layer of the plate-making mask plate is formed onto the support with a thermal head to remove it. I am making a prepress mask.

【0005】このような熱溶融転写を用いて製版マスク
を作成する技術として、例えば特開平3−121454
が挙げられる。このものは、印刷写真製版の遮光マスク
フィルムを作成するものにおいて、透明フィルム上に剥
離層、着色層、接着層を積層した熱溶融転写材料を重
ね、これらをサーマルヘッドの加熱圧により製版マスク
用フィルムに像様転写している。
As a technique for producing a plate-making mask by using such thermal fusion transfer, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-121454.
Is mentioned. This is a method for producing a light-shielding mask film for printing photoengraving. A heat-melt transfer material having a release layer, a coloring layer, and an adhesive layer laminated on a transparent film is overlaid, and these are used for a plate-making mask by heating pressure of a thermal head. Image-wise transferred to film.

【0006】また、このような熱転写システムを用いて
製版マスクを作成する場合には、熱転写の性質上、遮光
層の厚さが薄くしかも強度も不足するため、製版マスク
の取り扱いが難しかった。また、遮光層にしわや破損例
えば傷、やぶれ等が発生しやすい問題もあった。特に、
受容体等がプラスチックフィルムで形成される場合に
は、その表面が平滑で固く遮光層がしみこまないため強
度の不足が目立ち、このような製版マスクを固いものに
ぶつけたり、あるいは擦ったりすると容易に傷がついて
しまった。
Further, when a plate-making mask is produced by using such a thermal transfer system, it is difficult to handle the plate-making mask because the light-shielding layer is thin and its strength is insufficient due to the nature of thermal transfer. There is also a problem that the light-shielding layer is likely to be wrinkled or damaged, for example, scratched or shaken. In particular,
When the receptor is made of plastic film, its surface is smooth and hard, and the light-shielding layer does not soak into it, so the lack of strength is noticeable, and it is easy to hit such a plate-making mask against a hard object or rub it. It got scratched.

【0007】そこで、従来補強手段として、この遮光層
を保護するためにラミネート加工を施す製版マスクの作
成方法が提案され、従来は受容体に遮光層をサーマルヘ
ッドにより加熱して熱転写させ、その後これら全体を覆
う形でラミネート材を被覆し、その後必要な大きさに切
断して製版マスクを作成していた。
Therefore, as a conventional reinforcing means, a method of making a plate-making mask which is laminated to protect the light-shielding layer has been proposed. Conventionally, the light-shielding layer is heated on a receptor by a thermal head to thermally transfer the light-shielding layer. A plate-making mask was prepared by covering the whole with a laminate material and then cutting it to a required size.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな製版マスク用フィルムは、一般的にポリエステル等
のフィルムを用いており、熱溶融転写材料の保存により
転写不良を起こし易く、ピンホールの発生、熱溶融転写
材料の転写部の耐久性、特に物理的な力が劣っていた。
However, such a plate-making mask film generally uses a film of polyester or the like, and it tends to cause transfer failure due to storage of the hot-melt transfer material. The transfer part of the heat-melt transfer material was inferior in durability, especially in physical strength.

【0009】また、遮光層を保護するためにラミネート
加工を施して保護層を形成することが行なわれている
が、例えば剥離強さが弱い場合には保護層の効果が十分
でないし、また剥離強さが強い場合には保護層の剥離が
困難で、マスクの訂正ができない。
In order to protect the light-shielding layer, a laminating process is performed to form the protective layer. However, when the peeling strength is weak, the effect of the protective layer is not sufficient, and the peeling is also performed. When the strength is high, it is difficult to remove the protective layer and the mask cannot be corrected.

【0010】さらに、また熱転写により遮光層が形成さ
れた製版マスクは、一度使用されると不要であり、その
まま使い捨てていたが、この受容体や支持体は製版マス
クの作成コストに占める割合が大きく、遮光層が形成さ
れている受容体や支持体を再利用することができれば、
製版マスクの作成コストを大幅に削減することができ
る。
Further, the plate-making mask on which the light-shielding layer is formed by thermal transfer is unnecessary once it is used, and it is thrown away as it is. However, the receptor and the support occupy a large part of the cost of making the plate-making mask. , If the receptor or support on which the light shielding layer is formed can be reused,
It is possible to significantly reduce the cost of producing the plate-making mask.

【0011】このような点に鑑み、請求項1乃至請求項
4記載の発明は、熱溶融転写材料の保存性に優れ、かつ
ピンホールがなく耐久性に優れた製版マスクを作成する
ことができる製版マスク作成用熱溶融転写材料及び製版
マスク作成方法を提供することを目的としている。
In view of the above points, the inventions according to claims 1 to 4 can produce a plate-making mask which is excellent in the preservability of the heat-melt transfer material and has no pinholes and excellent durability. An object of the present invention is to provide a heat-melt transfer material for making a plate-making mask and a method for making a plate-making mask.

【0012】また、請求項5乃至請求項6記載の発明
は、遮光層の保護には十分な強さで、かつマスクに訂正
が必要な場合に熱転写により設けられた遮光層を除去可
能なように、剥離可能な強さの保護層を設けた製版マス
クを提供することを目的としている。
Further, the inventions according to claims 5 to 6 are strong enough to protect the light-shielding layer, and can remove the light-shielding layer provided by thermal transfer when the mask needs correction. Another object of the present invention is to provide a plate-making mask provided with a protective layer having a peelable strength.

【0013】さらに、また請求項7乃至請求項11記載
の発明は、製版マスクの受容体または支持体を再利用す
ることで、製版マスクの作成コストを大幅に削減するこ
とができるとともに環境保護の点からも有益な製版マス
ク及び製版マスク回収方法並びにその受容体回収装置を
提供することを目的としている。
Further, according to the invention described in claims 7 to 11, by reusing the receptor or the support of the plate-making mask, it is possible to significantly reduce the cost of producing the plate-making mask and to protect the environment. It is also an object of the present invention to provide a plate-making mask, a plate-making mask collecting method and a receptor collecting device for the same, which are useful from the viewpoint.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項1の製版マスク作成用熱溶融転写材料の発明
は、支持体上に融点が100℃以上のワックスを主成分
とする剥離層を介して、有機溶媒可溶性染料及びワック
スと非相溶な樹脂とを主成分とする遮光層を形成し、必
要に応じて遮光層上に接着層を形成したことを特徴とし
ている。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention of the hot-melt transfer material for making a plate-making mask according to claim 1 is a peeling method comprising a wax having a melting point of 100 ° C. or more as a main component on a support. It is characterized in that a light-shielding layer containing an organic solvent-soluble dye and a resin incompatible with wax as a main component is formed through the layers, and an adhesive layer is formed on the light-shielding layer as needed.

【0015】また、請求項2の製版マスク作成用熱溶融
転写材料の発明は、前記ワックスと非相溶な樹脂がマレ
イン酸系樹脂、スチレン系樹脂、テルペン系樹脂、石油
樹脂、クロマン−インデン樹脂、イソプレン系樹脂から
選ばれる少なくとも一種であることを特徴としている。
Further, in the invention of the hot melt transfer material for making a plate-making mask according to claim 2, the resin incompatible with the wax is a maleic acid resin, a styrene resin, a terpene resin, a petroleum resin, a chroman-indene resin. And is at least one selected from isoprene-based resins.

【0016】また、請求項3の製版マスク作成方法の発
明は、製版マスク作成用熱溶融転写材料を、樹脂コート
した透明フィルムに重ねて、その製版マスク作成用熱溶
融転写材料の遮光層を前記透明フィルムに熱転写して製
版マスクに作成することを特徴としている。
Further, in the invention of the plate-making mask making method of claim 3, the heat-melt transfer material for making a plate-making mask is laid on a resin-coated transparent film, and the light-shielding layer of the heat-melt transfer material for making a plate-making mask is provided. It is characterized in that it is heat-transferred to a transparent film to create a plate-making mask.

【0017】また、請求項4の製版マスク作成方法の発
明は、前記樹脂コートが、アクリル酸エステル系樹脂、
メタアクリル酸エステル系樹脂、カルボン酸ビニルエス
テル系樹脂、カルボン酸アクリルエステル系樹脂、ポリ
エステル系樹脂から選ばれた少なくとも一種以上の樹脂
であることを特徴としている。
Further, in the invention of the plate-making mask making method of claim 4, the resin coat is an acrylic ester resin,
It is characterized by being at least one resin selected from methacrylic acid ester-based resins, carboxylic acid vinyl ester-based resins, carboxylic acid acrylic ester-based resins, and polyester-based resins.

【0018】以下、この請求項1乃至請求項4記載の発
明について詳細に説明する。
The invention according to claims 1 to 4 will be described in detail below.

【0019】図1は請求項1及び請求項2記載の発明の
製版マスク作成用熱溶融転写材料の層構成図である。製
版マスク作成用熱溶融転写材料1は、支持体11上に融
点が100℃以上のワックスを主成分とする剥離層12
を介して、有機溶媒可溶性染料及びワックスと非相溶な
樹脂とを主成分とする遮光層13を形成し、必要に応じ
て遮光層上に接着層14を形成したものである。
FIG. 1 is a layer constitutional view of a hot-melt transfer material for making a plate-making mask according to the first and second aspects of the invention. A hot-melt transfer material 1 for making a plate-making mask comprises a support 11 and a release layer 12 containing a wax having a melting point of 100 ° C. or more as a main component.
A light-shielding layer 13 containing a resin insoluble in an organic solvent-soluble dye and a wax as a main component is formed via the above, and an adhesive layer 14 is formed on the light-shielding layer as needed.

【0020】また、遮光層13のワックスと非相溶な樹
脂がマレイン酸系樹脂、スチレン系樹脂、テルペン系樹
脂、石油樹脂、クロマン−インデン樹脂、イソプレン系
樹脂から選ばれる少なくとも一種である。なお、ワック
スとの非相溶については、剥離層12に使用するワック
スの微粒子と樹脂とを混合し、60℃24時間後に、顕
微鏡で観察し、その相溶状態を確認する。ワックスの微
粒子がそのまま観察されれば非相溶とする。
The resin incompatible with the wax of the light shielding layer 13 is at least one selected from maleic acid resins, styrene resins, terpene resins, petroleum resins, chroman-indene resins and isoprene resins. Regarding the incompatibility with the wax, the fine particles of the wax used in the release layer 12 and the resin are mixed, and after 24 hours at 60 ° C., the mixture is observed with a microscope to confirm the compatible state. If fine wax particles are observed as they are, they are incompatible.

【0021】この支持体11として、良好な耐熱強度を
有するとともに寸法安定性の高いことが望ましい。その
材料としては、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミネ
ート紙及びコート紙等の紙類;ポリエチレン、ポリプロ
ピレン及びポリイミド等の樹脂フィルム類;紙と樹脂フ
ィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シートなど
を挙げることができる。
It is desirable that the support 11 has good heat resistance and high dimensional stability. Examples of the material include papers such as plain paper, condenser paper, laminated paper and coated paper; resin films such as polyethylene, polypropylene and polyimide; composites of paper and resin film and metal sheets such as aluminum foil. Can be mentioned.

【0022】また、剥離層12としては、融点が100
℃以上のワックスを主成分とするものが用いられ、融点
が100℃以上のワックスとして、ポリエチレンワック
ス、酸化ポリエチレンワックス、ポリアミドワックス、
パラフィンワックス、エステルワックス、ポリプロピレ
ンワックスなどで融点が100℃以上のもの挙げられ
る。
The peeling layer 12 has a melting point of 100.
As a wax having a melting point of 100 ° C. or higher, polyethylene wax, polyethylene oxide wax, polyamide wax,
Paraffin wax, ester wax, polypropylene wax and the like having a melting point of 100 ° C. or higher can be mentioned.

【0023】また、遮光層13の有機溶媒可溶製染料と
しては、アゾ系、金属錯塩型アゾ系、アントラキノン
系、フタロシアニン系、トリアリルメタン系が挙げられ
る。金属錯塩型アゾ系が透過濃度、溶解性の点で好まし
い。金属錯塩型アゾ系染料はアゾ結合(−N=N−)を
有し、金属(例えば、クロム、ニッケル、銅、鉄、コバ
ルト、亜鉛等)で錯塩を形成しており、市販品としては
バリファストイエロー#1101、#1103、#41
20 オレンジ#3209、#3201 レッド#23
03、#3304、#3306、#3320(オリエン
ト化学工業)、ネオペン イエロー159、オレンジ2
52、レッド336、366(BASF)、スピロン
イエロー3RH、GRLH、GRH、 オレンジGR
H、2RH、レッドBEH(保土ケ谷化学)等が挙げら
れる。
Examples of the organic solvent-soluble dye for the light-shielding layer 13 include azo type, metal complex salt type azo type, anthraquinone type, phthalocyanine type and triallylmethane type. A metal complex salt type azo system is preferable in terms of transmission density and solubility. The metal complex salt type azo dye has an azo bond (-N = N-), and forms a complex salt with a metal (for example, chromium, nickel, copper, iron, cobalt, zinc, etc.). Fast Yellow # 1101, # 1103, # 41
20 Orange # 3209, # 3201 Red # 23
03, # 3304, # 3306, # 3320 (Orient Chemical Industries), Neopen Yellow 159, Orange 2
52, Red 336, 366 (BASF), Spiron
Yellow 3RH, GRLH, GRH, Orange GR
H, 2RH, Red BEH (Hodogaya Kagaku) and the like.

【0024】また、紫外線吸収剤も必要に応じて遮光層
13に添加してもよい。この紫外線吸収剤としては、特
開昭59−158287号、同63−74686号、同
63−145089号、同59−196292号、同6
2−229594号、同63−122596号、同61
−283595号、特開平1−204788号等に記載
の化合物及び写真その他の画像記録材料における画像耐
久姓を改善するものとして公知の化合物を挙げることが
できる。
Further, an ultraviolet absorber may be added to the light shielding layer 13 if necessary. Examples of the ultraviolet absorber include JP-A-59-158287, JP-A-63-74686, JP-A-63-145089, JP-A-59-196292, and JP-A-6-158692.
No. 2-229594, No. 63-122596, No. 61
The compounds described in JP-A-283595, JP-A-1-204788, etc., and compounds known to improve image durability in photographs and other image recording materials can be mentioned.

【0025】遮光層13の主成分であるワックスと非相
溶な樹脂であるマレイン酸系樹脂としては、マルキード
NO1、NO2、NO5、NO6、NO8、NO31、
NO32、NO33、NO34、32−30WS、33
02(荒川化学工業)、ハリマックR80、T80、M
453、145P(播磨化成工業)などが挙げられる。
また、スチレン系樹脂としては、ハイマーSB75、S
T95、ST120、ST130、ST150、SBM
100、SBM73F、TB1000、TB−900
0、SAM955(三洋化成工業)、スプラパールAP
20、AP30(BASF)、ビコラステック(ハーキ
ュレス)などが挙げられる。また、テルペン系樹脂とし
ては、YSレジンP#700、#800、#900、#
1000、#1150、YSポリスター#2100、#
2115、#2130(安原油脂)等が挙げられる。
The maleic acid-based resin which is incompatible with the wax which is the main component of the light-shielding layer 13 includes marquide NO1, NO2, NO5, NO6, NO8 and NO31.
NO32, NO33, NO34, 32-30WS, 33
02 (Arakawa Chemical Industry), Harimack R80, T80, M
453, 145P (Harima Kasei Kogyo) and the like.
Also, as the styrene resin, Heimer SB75, S
T95, ST120, ST130, ST150, SBM
100, SBM73F, TB1000, TB-900
0, SAM955 (Sanyo Kasei), Suprapearl AP
20, AP30 (BASF), Vicolas Tech (Hercules) and the like. Further, as the terpene resin, YS resin P # 700, # 800, # 900, #
1000, # 1150, YS Polyster # 2100, #
2115, # 2130 (Yasuhara Yushi) and the like.

【0026】石油樹脂としては、脂肪族系石油樹脂(例
えばエスコレッツ1102B、1103U、ハイタック
(東燃石油化学)、ハイレッツT100X、G100X
(三井石油化学)、クイントンA100、B170、C
100、D100、U185(日本ゼオン)、芳香族系
石油樹脂(例えばトーホーハイレジン#90、#120
(東邦石油樹脂)、日石ネオポリマー120(日本石油
化学)、ペトロジン#80、#120(三井石油化
学)、水添石油樹脂(例えばアルコンP、M(荒川化
学)、エスコレッツ5000(エッソ化学)、ジシクロ
ペンタジエン系石油樹脂(例えばクイントン1300、
1500、1700(日本ゼオン))が挙げられる。ク
ロマン−インデン樹脂としては、クマロン(大内新興化
学)、クマロンレジン(神戸油化)、ウベレジン(宇部
有機化学)、ビコNレジン(ハーキュレス)などが挙げ
られる。イソプレン系樹脂としては、エスコレツ500
0(東燃石油化学)、A、B、Cタイプ(三菱油化)等
が挙げられる。
As the petroleum resin, an aliphatic petroleum resin (for example, Escoletz 1102B, 1103U, Hi-Tac (Tonen Petrochemical), Hiletz T100X, G100X
(Mitsui Petrochemical), Quinton A100, B170, C
100, D100, U185 (Nippon Zeon), aromatic petroleum resin (eg Toho High Resin # 90, # 120)
(Toho Petrochemical), Nisseki Neopolymer 120 (Nippon Petrochemical), Petrosin # 80, # 120 (Mitsui Petrochemical), hydrogenated petroleum resin (for example, Alcon P, M (Arakawa Chemical), Escoletz 5000 (Esso Chemical). , Dicyclopentadiene-based petroleum resin (eg Quinton 1300,
1500, 1700 (Zeon Corporation)). Examples of chroman-indene resins include coumarone (Ouchi Shinko Kagaku), coumarone resin (Kobe Yuka), uberesin (Ube Organic Chemistry), Vico N resin (Hercules) and the like. As isoprene-based resin, Escoletz 500
0 (Tonen Petrochemical), A, B, C type (Mitsubishi Yuka) and the like.

【0027】また、遮光層13としては請求項2で挙げ
た樹脂以外に、ワックスと非相溶な樹脂、例えば、セル
ロース系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル
ピロリドン樹脂、ニトリルゴム、ポリシロキサン樹脂、
アイオノマー樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリビニルアニ
リン樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリブタジェン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリアク
リルニトリル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオキ
シメチレン樹脂、ポリイソブチレン樹脂、ユリア樹脂、
メラミン樹脂、エポキシ樹脂などを必要に応じて含有し
てもよい。
Further, as the light-shielding layer 13, in addition to the resin mentioned in claim 2, a resin incompatible with wax, for example, a cellulose resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin, nitrile rubber, polysiloxane resin,
Ionomer resin, polysulfone resin, polyvinylaniline resin, polyvinyl ether resin, polybutadiene resin, polypropylene resin, polyethylene resin, polyacrylonitrile resin, polyvinylidene chloride resin, polyoxymethylene resin, polyisobutylene resin, urea resin,
You may contain a melamine resin, an epoxy resin, etc. as needed.

【0028】接着層14の組成は、一般的な熱可塑性樹
脂を主成分とする。接着層としては、例えば鯨ロウ、ミ
ツロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャンデリラワ
ックス、モンタンワックスなどの天然ワックス、パラフ
ィンワックス、マイクロクリンワックス、酸化ワック
ス、エステルワックス、低分子量ポリエチレンなどの合
成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸などの高級
脂肪酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコールな
どの高級アルコール、ソルビタンの脂肪酸エステルなど
のエステル類、ステアリンアミド、オレインアミドなど
のアミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、
エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニー
ル系樹脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体
樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、天然ゴム、
スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレ
ンゴムなどのエラストマー類、ロジン及びその誘導体、
テルペン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイヤー充
填剤、可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合されたも
のが用いられる。
The composition of the adhesive layer 14 is mainly composed of a general thermoplastic resin. Examples of the adhesive layer include natural waxes such as spermaceti, beeswax, lanolin, arnava wax, candelilla wax, montan wax, paraffin wax, microclean wax, oxide wax, ester wax, synthetic wax such as low molecular weight polyethylene, and laurin. Acids, higher fatty acids such as myristic acid, palmitic acid, stearic acid, frommenic acid and behenic acid, higher alcohols such as stearyl accol and behenyl alcohol, esters such as fatty acid esters of sorbitan, amides such as stearamide and oleinamide, Polyamide resin, polyester resin,
Epoxy resin, polyurethane resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, cellulose resin, polyvinyl resin, petroleum resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, phenol resin, styrene resin, natural rubber,
Elastomers such as styrene-butadiene rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, rosin and its derivatives,
A tackifier filler such as a terpene resin and a hydrogenated petroleum resin, a plasticizer, an antioxidant and the like may be used alone or in combination.

【0029】図2は請求項3及び請求項4記載の製版マ
スク作成方法を示す構成図である。この製版マスク作成
方法は、請求項1または請求項2記載の製版マスク作成
用熱溶融転写材料1を、支持体21に樹脂コート22し
た透明フィルム2に重ね合せてサーマルヘッド等の印字
ヘッド3で熱転写して製版マスクを作成する。この支持
体21は、製版マスク作成用熱溶融転写材料1の支持体
11と同様に構成される。また、樹脂コート22は、ア
クリル酸エステル系樹脂、メタアクリル酸エステル系樹
脂、カルボン酸ビニルエステル系樹脂、カルボン酸アク
リルエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂から選ばれた
少なくとも一種以上の樹脂である。
FIG. 2 is a block diagram showing a method for producing a plate-making mask according to claims 3 and 4. In this plate-making mask making method, a hot-melt transfer material 1 for making a plate-making mask according to claim 1 or 2 is superposed on a transparent film 2 having a resin 21 coated on a support 21 and a print head 3 such as a thermal head. Heat transfer is performed to create a plate-making mask. The support 21 has the same structure as the support 11 of the hot-melt transfer material 1 for making a plate-making mask. The resin coat 22 is at least one resin selected from acrylic acid ester-based resins, methacrylic acid ester-based resins, carboxylic acid vinyl ester-based resins, carboxylic acid acrylic ester-based resins, and polyester-based resins.

【0030】アクリル酸エステル系樹脂としては、エチ
ルアクリレート、エチレン−エチルアクリレート、エチ
レン−イシブチルアクリレート、エチレン−アクリル酸
等を挙げることができる。メタアクリル酸エステル系樹
脂としては、メチルメタクリレート、エチレン−メチル
メタクリレート等を挙げることができる。カルボン酸ビ
ニルエステル系樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル等
を挙げることができる。カルボン酸アリルエステル系樹
脂としては、エチレン−メチン酢酸ビニル等を挙げるこ
とができる。
Examples of acrylic acid ester resins include ethyl acrylate, ethylene-ethyl acrylate, ethylene-ishibutyl acrylate, ethylene-acrylic acid and the like. Examples of the methacrylic acid ester-based resin include methyl methacrylate and ethylene-methyl methacrylate. Examples of the carboxylic acid vinyl ester resin include ethylene-vinyl acetate. Examples of the carboxylic acid allyl ester resin include ethylene-methine vinyl acetate.

【0031】以下、この請求項5及び請求項6記載の発
明について詳細に説明する。
The inventions according to claims 5 and 6 will be described in detail below.

【0032】この請求項5記載の発明は、熱転写により
遮光層が形成された製版マスクにおいて、前記熱転写に
より遮光層が形成された面および/または反対面をラミ
ネート加工して保護層を設け、この保護層の剥離強さ
が、遮光層の保護には十分な強さで、かつ熱転写により
設けられた遮光層を除去可能なように剥離可能な強さで
あることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in a plate-making mask having a light-shielding layer formed by thermal transfer, the surface on which the light-shielding layer is formed by thermal transfer and / or the opposite surface is laminated to provide a protective layer. The peel strength of the protective layer is strong enough to protect the light-shielding layer and peelable so that the light-shielding layer provided by thermal transfer can be removed.

【0033】また、請求項6記載の発明の製版マスク
は、ラミネート加工により設けられた保護層の180度
剥離強さが、10g/25mm〜1000g/25mm
であることを特徴としている。
In the plate-making mask according to the sixth aspect of the invention, the 180-degree peel strength of the protective layer provided by laminating is 10 g / 25 mm to 1000 g / 25 mm.
It is characterized by being.

【0034】この発明の製版マスクは熱転写により遮光
層が形成され、この作成方法には転写タイプと剥離タイ
プに区別することができる。
In the plate-making mask of the present invention, a light-shielding layer is formed by thermal transfer, and this forming method can be classified into a transfer type and a peeling type.

【0035】転写タイプの製版マスクは、図3に示すよ
うに、支持体41上に少なくとも遮光層42を有する熱
転写シート4と、光透過性の受容体5とを重ね合せ、熱
転写シート4の背面より印字ヘッド3で加熱印字した後
に、この熱転写シート4を剥離し遮光層42を受容体5
側に熱転写して、製版マスクMを作成する。
As shown in FIG. 3, the transfer type plate-making mask has a back surface of the thermal transfer sheet 4 in which a thermal transfer sheet 4 having at least a light shielding layer 42 on a support 41 and a light transmissive receptor 5 are superposed. After heat-printing with the print head 3, the thermal transfer sheet 4 is peeled off and the light-shielding layer 42 is applied to the receptor 5.
Heat transfer to the side to prepare the plate-making mask M.

【0036】剥離タイプの製版マスクは、図4に示すよ
うに、光透過性の支持体61上に少なくとも遮光層62
を有する製版マスク原版6の前記遮光層62側と、受容
体7とを重ね合せ、この受容体7の背面より印字ヘッド
3で加熱印字して遮光層62を受容体7に熱転写し、そ
の後受容体7を製版用マスク原版6から剥離して、製版
マスクMを作成する。
As shown in FIG. 4, the peeling type plate-making mask has at least a light shielding layer 62 on a light transmitting support 61.
The light-shielding layer 62 side of the plate-making mask original 6 having the above is superposed on the receptor 7, and the back surface of the receptor 7 is heat-printed by the print head 3 to thermally transfer the light-shielding layer 62 to the receptor 7, and then the receptor 7 The body 7 is peeled off from the plate-making mask original plate 6 to prepare a plate-making mask M.

【0037】この熱転写シート4及び製版マスク原版6
の層構成の基本は、図3及び図4における支持体及び遮
光層である熱転写層であるが、加熱によって効率的な熱
転写を行うために、支持体と熱転写層との間に剥離層を
設けてもよい。さらには、熱転写層の上に接着層を設け
てもよい。このような多層構造の例としては、支持体上
に下記の層を順に積層するものでもよい。但し、これに
限定されるものではない。 剥離層、熱転写層 剥離層、熱転写層、接着層 熱転写層、接着層 前記支持体としては、良好な耐熱強度を有するとともに
寸法安定性の高いことが望ましい。その材料としては、
例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミネート紙及びコー
ト紙等の紙類;ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリ
イミド等の樹脂フィルム類;紙と樹脂フィルムとの複合
体ならびにアルミ箔等の金属シートなどを挙げることが
できる。
The thermal transfer sheet 4 and the plate-making mask original plate 6
The basic layer structure is the thermal transfer layer which is the support and the light-shielding layer in FIGS. 3 and 4, but a release layer is provided between the support and the thermal transfer layer for efficient thermal transfer by heating. May be. Further, an adhesive layer may be provided on the thermal transfer layer. As an example of such a multilayer structure, the following layers may be sequentially laminated on a support. However, it is not limited to this. Release Layer, Thermal Transfer Layer Release Layer, Thermal Transfer Layer, Adhesive Layer Thermal Transfer Layer, Adhesive Layer The support preferably has good heat resistance and high dimensional stability. As the material,
Examples thereof include plain paper, condenser paper, laminated paper and coated paper; resin films such as polyethylene, polypropylene and polyimide; a composite of paper and resin film; and a metal sheet such as aluminum foil.

【0038】また、遮光層である熱転写層は、熱によっ
て溶融し受容体及び支持体に対する接着性を示すもので
あればよいが、一般には色材、ワックス類、熱可塑性樹
脂、添加剤を適宜組み合わせて構成する。
The heat transfer layer, which is a light-shielding layer, may be any one as long as it is melted by heat and exhibits adhesiveness to the receptor and the support, but in general, coloring materials, waxes, thermoplastic resins, and additives are appropriately added. It is configured by combining.

【0039】この色材としては公知の染料、顔料を挙げ
ることができ、例えばアルカリ土類金属の炭酸塩、二酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シ
リカ、カーボンブラック、ニグロシン染料、スーダンブ
ラックSM、ファースト・イエローG、ベンジジン・イ
エロー、ピグメント・イエロー、オイルイエローGG、
ザポンファーストイエローCGG、スミプラストイエロ
ーGG、インドファーストオレンジ、スミプラストオレ
ンジG、ピグメントオレンジR、ザポンファーストオレ
ンジGG、イルガジシン・レッド、パラニトロアニリン
・レッド、トルイジン・レッド、リソールレッド2G、
レーキレッドO、オイルスカーレット、ザポンファース
トスカーレットOG、アイゼンスピロンレッドBEH、
メチルバイオレットBレーキ、フタロシアニンブルー、
ピグメントブルー、ファーストゲンブルー5007、ビ
クトリアブルーF4R、スーダンブルー、オイルピーコ
ックブルー、ブリリアントグリーンB、フタロシアニン
グリーン等は全て用いることができる。
Examples of the coloring material include known dyes and pigments, for example, alkaline earth metal carbonates, titanium dioxide, magnesium oxide, zinc oxide, alumina, silica, carbon black, nigrosine dye, and Sudan black SM. , First Yellow G, Benzidine Yellow, Pigment Yellow, Oil Yellow GG,
Zapon First Yellow CGG, Sumiplast Yellow GG, India First Orange, Sumiplast Orange G, Pigment Orange R, Zapon First Orange GG, Irgadicine Red, Paranitroaniline Red, Toluidine Red, Resole Red 2G,
Rake Red O, Oil Scarlet, Zapon First Scarlet OG, Eisenspiron Red BEH,
Methyl violet B lake, phthalocyanine blue,
Pigment Blue, First Gen Blue 5007, Victoria Blue F4R, Sudan Blue, Oil Peacock Blue, Brilliant Green B, and Phthalocyanine Green can all be used.

【0040】また、ワックス類としては、カルナバワッ
クス、モンタンワックス、密ろう、ライスワックス、キ
ャンデリラワックス、ラノリンワックス、パラフィンワ
ックス、マイクロリスタリンワックス、ポリエチレンワ
ックス、サゾールワックス、酸化ワックス、アミドワッ
クス、シリコンワックス等が用いられる。
As waxes, carnauba wax, montan wax, beeswax, rice wax, candelilla wax, lanolin wax, paraffin wax, microlisterine wax, polyethylene wax, sazol wax, oxidative wax, amide wax, Silicon wax or the like is used.

【0041】また、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド
樹脂(ナイロン等)、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル系樹脂(ポリメチルメタクリート、
ポリエチルアクリレート等)、ポリウレタン樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル−酢酸ビ
ニル樹脂、ポリスチレン−アクリル樹脂、ポリエチレン
−酢酸ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリポロピレン
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂、フェノール樹脂、セルロース系樹脂(メチルセルロ
ース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ニトロセルロース、アセチルセルロース等)、ポリ
ビニルエーテル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリ
ビニルアニリン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、アイオノマー樹脂、ポリシロキサン樹脂、ア
セタール系樹脂(ポリビニルブチラール、ポリビニルア
セタール、ポリビニルホルマール等)、石油系樹脂、ロ
ジン系樹脂、クロマン−インデン樹脂、テルペン系樹
脂、スチレン−ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ニト
リルゴム等が用いられる。
Further, as the thermoplastic resin, polyamide resin (nylon, etc.), polyester resin, poly (meta)
Acrylic ester resin (polymethylmethacrylate,
Polyethyl acrylate, etc.), polyurethane resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl chloride-vinyl acetate resin, polystyrene-acrylic resin, polyethylene-vinyl acetate resin, polyethylene resin, polypropylene Resin, polybutadiene resin, polyvinyl alcohol resin, phenol resin, cellulosic resin (methyl cellulose, ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, nitrocellulose, acetyl cellulose, etc.), polyvinyl ether resin, polyvinyl pyrrolidone resin, polyvinyl aniline resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, ionomer Resin, polysiloxane resin, acetal resin (polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl Rumaru etc.), petroleum resins, rosin resin, chroman - indene resins, terpene resins, styrene - butadiene rubber, isoprene rubber, nitrile rubber or the like is used.

【0042】さらに、添加剤としては、各種界面活性
剤、高級脂肪酸類(ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸等)、
長鎖アルコール類(ステアリルアルコール、ベヘニルア
ルコール等)、長鎖脂肪酸の金属塩(ステアリン酸カル
シウム、バルミチン酸亜鉛等)、酸化防止剤、各種可塑
剤、シリコンオイル等が用いられる。
Further, various additives such as various surfactants, higher fatty acids (lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, flomenic acid, behenic acid, etc.),
Long-chain alcohols (stearyl alcohol, behenyl alcohol, etc.), metal salts of long-chain fatty acids (calcium stearate, zinc barmitate, etc.), antioxidants, various plasticizers, silicone oil, etc. are used.

【0043】これら色材、ワックス類、熱可塑性樹脂、
添加剤等各素材の好ましい組成比は、支持体上に積層す
る各層の層構成によっても全く異なる。
These color materials, waxes, thermoplastic resins,
The preferable composition ratio of each material such as an additive is completely different depending on the layer structure of each layer laminated on the support.

【0044】また、剥離層は、熱転写層で用いるワック
ス類、熱可塑性樹脂類、添加剤を組み合わせて作成され
る加熱時に溶融又は軟化することによってそれ自体が凝
集破壊できる層であってもよいし、または他の樹脂との
組み合せで比較的接着力を示しにくい樹脂、例えばシリ
コン系樹脂、弗素系樹脂(テフロン、弗素含有アクリル
樹脂等)、ポリシロキサン樹脂、アセタール系樹脂(ポ
リビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルホルマール等)を用いた層であってもよい。ただし、
後者の接着力を示しにくい樹脂による層構成の場合は、
これに隣接する層の組成によって剥離層の素材も大きく
変化するものであるため上記の例は単なる一例にすぎな
い。
Further, the peeling layer may be a layer formed by combining waxes, thermoplastic resins, and additives used in the thermal transfer layer, which itself can undergo cohesive failure by melting or softening during heating. , Or a resin that does not exhibit a relatively strong adhesive force in combination with other resins, for example, a silicone resin, a fluorine resin (Teflon, a fluorine-containing acrylic resin, etc.), a polysiloxane resin, an acetal resin (polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, It may be a layer using polyvinyl formal or the like). However,
In the case of the latter layer structure made of a resin that does not easily exhibit adhesive strength,
Since the material of the release layer greatly changes depending on the composition of the layer adjacent thereto, the above example is merely an example.

【0045】さらに、接着層としては、前記したものが
用いられる。なお、支持体の裏面側の構成については任
意であり、例えばAST層等のバックコート層を設けて
も良い。
Further, as the adhesive layer, those mentioned above are used. The structure of the back side of the support is arbitrary, and a back coat layer such as an AST layer may be provided.

【0046】受容体や支持体は、ポリエチレン等の公知
な材料で構成されるが、良好な耐熱強度を有するととも
に寸法安定性の高いこと材料であることが望ましい。導
電性付与、接着性向上等のために表面処理、コーティン
グ等がしてあるものでもよい。
The receptor and the support are made of a known material such as polyethylene, but it is desirable that the material has good heat resistance and high dimensional stability. It may be surface-treated or coated for the purpose of imparting conductivity or improving adhesiveness.

【0047】このように、熱転写により遮光層42,6
2が形成された製版マスクMに、図5に示すように、製
版マスクMの遮光層42,62を、少なくとも支持体8
1に接着層82が設けられたラミネート材料8で、ラミ
ネート加工することにより保護層Gを設ける。
As described above, the light shielding layers 42 and 6 are formed by thermal transfer.
2, the light-shielding layers 42 and 62 of the plate-making mask M are provided on at least the support 8 as shown in FIG.
The protective layer G is provided by laminating the laminated material 8 on which the adhesive layer 82 is provided.

【0048】図6は製版マスクにラミネート加工する構
成図であり、上下に対向して搬送されるラミネート材料
8にヒータロール90で熱を与え、このラミネート材料
8の間に製版マスクMを搬送してラミネートロール91
でラミネート加工する。
FIG. 6 is a constitutional view of laminating a plate-making mask. Heat is applied to the laminate material 8 which is conveyed vertically facing by a heater roll 90, and the plate-making mask M is conveyed between the laminate materials 8. Laminating roll 91
Laminate with.

【0049】この接着層は、熱軟化性樹脂または常温で
接着可能な粘着材を含有する。熱軟化性樹脂として、エ
チレン系共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニ
ル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、アイオノ
マー樹脂及び石油系樹脂等の樹脂類;天然ゴム、スチレ
ンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム
及びジエン系コポリマーなどのエラストマー類;エステ
ルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂
及び水添ロジン等のロジン誘導体;並びにフェノール樹
脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹脂及び芳香族
系炭化水素樹脂等の軟化点50〜200℃の高分子化合
物等を挙げることができる。なお、軟化点の測定はJI
S k2531に記載されているような環球法を採用するこ
とにより行なうことができる。
This adhesive layer contains a thermosoftening resin or an adhesive material that can be adhered at room temperature. As the heat-softening resin, ethylene copolymer, polyvinyl acetal resin, polyamide resin, polyester resin, polyurethane resin, polyolefin resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, cellulose resin, rosin resin, ionomer Resins and resins such as petroleum-based resins; elastomers such as natural rubber, styrene-butadiene rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber and diene-based copolymers; rosin derivatives such as ester gum, rosin maleic acid resin, rosin phenol resin and hydrogenated rosin And a polymer compound having a softening point of 50 to 200 ° C., such as a phenol resin, a terpene resin, a cyclopentadiene resin and an aromatic hydrocarbon resin. The softening point is measured by JI
It can be carried out by adopting the ring and ball method as described in S k2531.

【0050】熱転写により遮光層が形成された面および
/または反対面をラミネート加工して保護層を設け、こ
のようにラミネート加工はカール防止のため、両面に設
けてもよい。
The surface on which the light-shielding layer is formed and / or the opposite surface is laminated by thermal transfer to provide a protective layer. In this way, the laminate may be provided on both sides to prevent curling.

【0051】ラミネート加工により設けられた保護層の
剥離強さは、遮光層の保護には十分な強さで、かつマス
クに訂正が必要な場合に熱転写により設けられた遮光層
が除去可能なように、剥離可能な強さである。ラミネー
ト加工により設けられた保護層の180度剥離強さが、
10g/25mm〜1000g/25mmである。
The peel strength of the protective layer provided by laminating is sufficient to protect the light-shielding layer, and the light-shielding layer provided by thermal transfer can be removed when the mask needs correction. Moreover, it has a peelable strength. The 180 degree peel strength of the protective layer provided by laminating is
It is 10 g / 25 mm to 1000 g / 25 mm.

【0052】熱転写により形成された遮光層の乱れを少
なくするために低温ラミネートを行ってもよい。この場
合には、低温接着可能なラミネート材及びラミネーター
を用いる。熱転写により形成された遮光層の乱れを少な
くするために遮光層の溶融粘度を大きくしてもよい。
Low-temperature laminating may be performed in order to reduce the disturbance of the light-shielding layer formed by thermal transfer. In this case, a laminate material and a laminator capable of low temperature adhesion are used. The melt viscosity of the light shielding layer may be increased in order to reduce the disturbance of the light shielding layer formed by thermal transfer.

【0053】なお、180度剥離強さは、JIS K
6845(たわみ性材料と剛性材料の場合に準じて測定
する。この剥離強さが、10g/25mm以下だと接着
力が弱く保護層の効果が十分でない。また、1000g
/25mm以上だと接着力が強すぎて、製版マスクの訂
正を行うことが非常に手間になる。
The 180 ° peel strength is JIS K
6845 (Measurement according to the case of a flexible material and a rigid material. If the peel strength is 10 g / 25 mm or less, the adhesive force is weak and the effect of the protective layer is not sufficient.
If it is / 25 mm or more, the adhesive force is too strong, and it is very troublesome to correct the plate-making mask.

【0054】図7に製版マスクの訂正を示しており、製
版マスクMの訂正したい部分のラミネート加工により設
けられた保護層Gにカッタ等で切れ込みKを入れる。そ
して、この部分を製版マスクMの受容体または支持体か
ら接着層82、保護層81を剥離する。この剥離された
部分の遮光層42,62のバインダーを溶解する溶剤で
拭き取り、或いは遮光層42,62をけずり取る等の方
法で遮光層42,62を除去して訂正する。
FIG. 7 shows correction of the plate-making mask. A notch K is made by a cutter or the like in the protective layer G provided by laminating the portion of the plate-making mask M to be corrected. Then, at this portion, the adhesive layer 82 and the protective layer 81 are peeled off from the receptor or the support of the plate-making mask M. The light-shielding layers 42 and 62 are removed by a method such as wiping with a solvent that dissolves the binder of the light-shielding layers 42 and 62 in the peeled portion, or scraping off the light-shielding layers 42 and 62, and the correction is performed.

【0055】以下、この請求項7乃至請求項11記載の
発明について詳細に説明する。
The inventions according to claims 7 to 11 will be described in detail below.

【0056】この請求項7記載の発明は、受容体に熱転
写により遮光層が形成された製版マスクにおいて、前記
遮光層の少なくともバインダーを溶解または防潤させる
溶剤に、前記受容体が不溶であることを特徴としてい
る。
According to a seventh aspect of the invention, in the plate-making mask in which the light-shielding layer is formed on the receptor by thermal transfer, the receptor is insoluble in a solvent that dissolves or prevents at least the binder of the light-shielding layer. Is characterized by.

【0057】また、請求項8記載の発明は、前記請求項
7記載の溶剤を用いて、使用済みの前記請求項7記載の
製版マスクの熱転写により形成された遮光層を除去し、
前記製版マスクの受容体を再利用できるようにすること
を特徴としている。
The invention according to claim 8 uses the solvent according to claim 7 to remove the light-shielding layer formed by thermal transfer of the used plate-making mask according to claim 7,
It is characterized in that the receptor of the plate-making mask can be reused.

【0058】また、請求項9記載の発明は、使用済みの
前記請求項7記載の製版マスクに前記請求項7記載の溶
剤を供給する溶剤供給手段と、この溶剤が供給された製
版マスクに形成された遮光層を除去する遮光層除去手段
とを有することを特徴としている。
According to a ninth aspect of the present invention, solvent forming means for supplying the solvent according to the seventh aspect to the used plate making mask according to the seventh aspect and the plate making mask to which the solvent is supplied are formed. And a light-shielding layer removing means for removing the formed light-shielding layer.

【0059】また、請求項10記載の発明は、前記遮光
層除去手段は、使用済みの製版マスクに溶剤が付着した
状態でこする物理的手段で構成されることを特徴として
いる。
Further, the invention according to claim 10 is characterized in that the light-shielding layer removing means is constituted by a physical means for rubbing a used plate-making mask in a state where the solvent is attached thereto.

【0060】また、請求項11記載の発明は、前記遮光
層除去手段は、使用済みの製版マスクを、溶剤を付着ま
たは含有させてこする物理的手段で構成されることを特
徴としている。
The invention according to claim 11 is characterized in that the light-shielding layer removing means is constituted by a physical means for adhering or containing a solvent to the used plate-making mask.

【0061】この発明の製版マスクMには図8に示すよ
うに、受容体100に熱転写により遮光層102が形成
されており、この作成方法は前記したものと同様に構成
され転写タイプと剥離タイプがあり、これらは前記した
ものと同様に構成され、また製版用マスクの作成に用い
られる熱転写シート及び製版マスク原版も前記したもの
と同様に構成されるから説明を省略する。
As shown in FIG. 8, the plate-making mask M of the present invention has a light-shielding layer 102 formed on a receptor 100 by thermal transfer. The method of making the same is the same as that described above, and the transfer type and peeling type are used. However, these are configured in the same manner as described above, and the thermal transfer sheet and the plate-making mask original plate used for preparing the mask for plate-making are also configured in the same manner as described above, and therefore description thereof will be omitted.

【0062】この発明の製版マスクMの受容体100
は、透明で、熱転写により形成された遮光層102を溶
解または防潤させる溶剤に不溶である。すなわち、前記
溶剤を用いることにより、受容体100上に形成された
遮光層102のみ除去できるので、受容体100は再利
用できる。
Receptor 100 of plate-making mask M of the present invention
Is transparent and insoluble in a solvent that dissolves or prevents the light shielding layer 102 formed by thermal transfer. That is, by using the solvent, only the light shielding layer 102 formed on the receptor 100 can be removed, and the receptor 100 can be reused.

【0063】また、製版マスクの受容体は支持体上に受
容層を設けたものでも良いし、支持体が受容層を兼ねた
ものでも良い。受容体に用いる支持体は前記溶剤に不溶
で透明であれば、一般的なものを用いることができる。
例えば加工紙、プラスチックフィルムを用いることがで
きる。この加工紙としては、アート紙、コート紙、キャ
ストコート紙、バライタ紙、パラフィン紙がある。ま
た、プラスチックフィルムとしては、イ)低密度ポリエ
チレン、高密度ポリエチレン、リニアー低密度ポリエチ
レン、エチレン・酢ビ共重合体、エチレン・アクリル酸
共重合体、アイオノマーなどのエチレン共重合体、ロ)
ポリプロピレン、ハ)ポリスチレン、ニ)ポリ塩化ビニ
ル、ホ)ポリアミド、ヘ)ポリエステル、ト)ポリカー
ボネイト、チ)ポリビニリルアルコール、リ)エチレン
・酢酸ビニル共重合体けん化物等を用いることができ
る。
Further, the receptor of the plate-making mask may be one in which a receptor layer is provided on the support, or the support may also serve as the receptor layer. As the support used for the receptor, a general support can be used as long as it is insoluble in the solvent and transparent.
For example, processed paper and plastic film can be used. This processed paper includes art paper, coated paper, cast coated paper, baryta paper, and paraffin paper. As the plastic film, a) low-density polyethylene, high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene copolymer such as ionomer, b)
It is possible to use polypropylene, c) polystyrene, d) polyvinyl chloride, e) polyamide, f) polyester, g) polycarbonate, d) polyvinylyl alcohol, g) saponified ethylene / vinyl acetate copolymer and the like.

【0064】また、支持体上に受容層を設ける場合に
は、この受容層も同様に、前記溶剤に不溶で透明であれ
ば、一般的なものを用いることができる。この受容層
は、例えば、軟化点の低い樹脂、粘着付与剤、加熱によ
って粘着性を示す粘着剤等と熱溶融性物質および/また
は熱可塑性物質とを混合することにより形成することが
できる。また、前記熱溶融性物質および/または熱可塑
性物質からなる樹脂層の表面に粘着剤組成物を塗布する
ことにより受容層を形成することもできる。あるいは、
粘着性物質を公知の方法でマイクロカプセルに閉じ込め
た形のものを、前記熱溶融性物質および/または熱可塑
性物質からなる樹脂層に含有させることにより形成する
こともできる。
When the receiving layer is provided on the support, a general one can be used for the receiving layer as long as it is insoluble in the solvent and transparent. This receiving layer can be formed, for example, by mixing a resin having a low softening point, a tackifier, a pressure-sensitive adhesive that exhibits tackiness when heated, and a heat-meltable substance and / or a thermoplastic substance. The receiving layer can also be formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition to the surface of the resin layer made of the heat-meltable substance and / or the thermoplastic substance. Alternatively,
The adhesive substance may be formed by enclosing the adhesive substance in a microcapsule by a known method in the resin layer made of the heat-meltable substance and / or the thermoplastic substance.

【0065】受容層に用いられる軟化点の低い樹脂とし
ては、エチレン−酢酸ビニル、エチレン−エチルアクリ
レート等のエチレン系共重合体;ナイロン、ダイマー酸
等のポリアミド系樹脂;スチレン−ブタジエン、スチレ
ン−イソプレン、スチレン−エチレン−ブチレン等のポ
リスチレン系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリオレフィ
ン系樹脂;ポリビニルエーテル系樹脂;ポリメチルメタ
クリレート系樹脂、アイオノマー樹脂;セルロース系樹
脂;ポリウレタン系樹脂;アクリル系樹脂;エポキシ系
樹脂;メラミン系樹脂;塩化ビニル系樹脂等が挙げられ
る。
Examples of the resin having a low softening point used in the receiving layer include ethylene-based copolymers such as ethylene-vinyl acetate and ethylene-ethyl acrylate; polyamide-based resins such as nylon and dimer acid; styrene-butadiene and styrene-isoprene. Polystyrene resin such as styrene-ethylene-butylene; polyester resin; polyolefin resin; polyvinyl ether resin; polymethylmethacrylate resin, ionomer resin; cellulose resin; polyurethane resin; acrylic resin; epoxy resin; Melamine-based resins; vinyl chloride-based resins and the like.

【0066】また、前記粘着付与剤としては、例えばロ
ジン粘着付与剤、水添加ロジン系粘着付与剤、ロジンマ
レイン酸系粘着付与剤、重合ロジン系粘着付与剤及びロ
ジンフェノール系粘着付与剤等の未変性もしくは変性ロ
ジン系粘着付与剤、テルペン系粘着付与剤並びに石油樹
脂系粘着付与剤及びそれらの変性粘着付与剤等が挙げら
れる。
Examples of the tackifier include rosin tackifiers, water-added rosin tackifiers, rosin maleic acid tackifiers, polymerized rosin tackifiers and rosin phenol tackifiers. Examples thereof include modified or modified rosin-based tackifiers, terpene-based tackifiers, petroleum resin-based tackifiers and modified tackifiers thereof.

【0067】また、前記加熱によって粘着性を示す粘着
剤としては、例えば天然ゴム、クロロプレンゴム系、ブ
チルゴム系、ポリアクリル酸エステル系、ニトリルゴム
系、ポリサルファイド系、シリコンゴム系、再生ゴム
系、SBR系、ポリイソプレン系、ポリビニリルエーテ
ル系、ブナN系等がある。
Examples of the pressure-sensitive adhesive that exhibits tackiness upon heating include natural rubber, chloroprene rubber-based, butyl rubber-based, polyacrylic acid ester-based, nitrile rubber-based, polysulfide-based, silicone rubber-based, reclaimed rubber-based, SBR System, polyisoprene system, polyvinylyl ether system, beech N system and the like.

【0068】これらは、一種単独で用いることも二種類
以上を組み合わせて用いることもできる。前記受容層
は、例えば溶媒を用いた塗工法、ホットメルト塗工法等
を採用して形成することができる。このようにして形成
される受容層の厚みは、通常0.1〜30μmであり、
好ましくは0.3〜20μmである。
These may be used alone or in combination of two or more. The receiving layer can be formed, for example, by adopting a coating method using a solvent, a hot melt coating method, or the like. The thickness of the receiving layer thus formed is usually 0.1 to 30 μm,
It is preferably 0.3 to 20 μm.

【0069】次に、製版マスク回収方法並びにその回収
装置を図面に基づいて説明する。図9は製版マスク回収
装置の概略構成図であり、この製版マスク回収装置は、
その装置本体110内には搬送ローラ111〜113が
配置されている。さらに、この装置本体110内は隔壁
114によって遮光層除去部115と乾燥部116が区
画され、この遮光層除去部115には溶剤噴出ノズル1
17,118が設けられ、乾燥部116には熱風噴射ノ
ズル119が設けられている。
Next, the plate-making mask collecting method and its collecting device will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a schematic configuration diagram of the plate-making mask collecting device.
Conveying rollers 111 to 113 are arranged in the apparatus main body 110. Further, inside the apparatus main body 110, a light shielding layer removing portion 115 and a drying portion 116 are partitioned by a partition wall 114, and the solvent ejecting nozzle 1 is provided in the light shielding layer removing portion 115.
17, 118 are provided, and the drying unit 116 is provided with a hot air jet nozzle 119.

【0070】図10は製版マスク回収方法を示す図であ
り、使用済の製版マスクMが遮光層除去部115に挿入
され、この遮光層除去部115では溶剤噴出ノズル11
7,118より溶剤を使用済み製版マスクMの遮光層が
設けられた面に勢い良く噴射させて遮光層を除去する。
この溶剤噴出ノズルの数は必要に応じて増減しても良
い。
FIG. 10 is a diagram showing a method of collecting the plate-making mask, in which the used plate-making mask M is inserted into the light-shielding layer removing section 115, and in this light-shielding layer removing section 115, the solvent jet nozzle 11 is ejected.
The solvent is sprayed from 7, 118 to the surface of the used plate-making mask M on which the light shielding layer is provided, and the light shielding layer is removed.
The number of solvent ejection nozzles may be increased or decreased as necessary.

【0071】使用済み製版マスクMは遮光層除去部11
5から搬送ローラ112によって乾燥部116に搬送さ
れ、この乾燥部116では熱風噴射ノズル119から熱
風が噴射され、溶剤によって濡れた製版マスクMを乾燥
させて排出する。
The used plate-making mask M is the light-shielding layer removing portion 11
5 is transported to the drying unit 116 by the transport roller 112. In the drying unit 116, hot air is jetted from the hot air jet nozzle 119, and the platemaking mask M wet with the solvent is dried and discharged.

【0072】図11は他の製版マスク回収装置の概略構
成図であり、この製版マスク回収装置は、この装置本体
110内の遮光層除去部115に遮光層除去手段120
を配置し、この前後に溶剤噴出ノズル117,118を
設けている。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of another plate-making mask collecting apparatus. In this plate-making mask collecting apparatus, a light-shielding layer removing means 120 is provided in a light-shielding layer removing section 115 in the apparatus body 110.
And solvent ejection nozzles 117 and 118 are provided before and after this.

【0073】図12はさらに他の製版マスク回収装置の
概略構成図であり、この製版マスク回収装置は、この装
置本体110内の遮光層除去部115に遮光層除去手段
120を配置し、その上方に溶剤噴出ノズル117を配
置し、この溶剤噴出ノズル117から遮光層除去手段1
20に溶剤を供給し、この遮光層除去手段120からの
溶剤で遮光層を除去するようにしている。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram of still another plate-making mask collecting apparatus. In this plate-making mask collecting apparatus, the light-shielding layer removing means 120 is arranged in the light-shielding layer removing section 115 in the apparatus main body 110, and above it. A solvent ejection nozzle 117 is arranged in the solvent ejection nozzle 117.
A solvent is supplied to 20, and the light shielding layer is removed by the solvent from the light shielding layer removing means 120.

【0074】これらの遮光層除去手段120は、例えば
図13に示すようにブラシ130で構成し、このブラシ
130の回転で製版マスクMの遮光層をこすって除去す
るようにしてもよく、また図14に示すように不織布を
巻いたローラ140で構成し、このローラ140の回転
で製版マスクMの遮光層をこすって除去するようにする
こともできる。
The light shielding layer removing means 120 may be constituted by a brush 130 as shown in FIG. 13, and the light shielding layer of the plate-making mask M may be scraped and removed by rotation of the brush 130. As shown in FIG. 14, the roller 140 may be formed by winding a non-woven fabric, and the light shielding layer of the plate-making mask M may be rubbed and removed by the rotation of the roller 140.

【0075】このように、溶剤供給ノズルは遮光層除去
手段の前に配置して、使用済み製版マスクに溶剤をかけ
てもよいし、溶剤供給ノズルで遮光層除去手段に溶剤を
供給し、この溶剤で遮光層を除去しても良い。また、い
ずれの場合でも、遮光層除去手段の後で、除去された遮
光層を洗い流す溶剤供給ノズルを設けても良い。また、
必要に応じて溶剤供給ノズルは増減して良い。遮光層除
去後の乾燥の工程については、図9及び図10と同様に
構成されている。
As described above, the solvent supply nozzle may be disposed in front of the light-shielding layer removing means to apply the solvent to the used plate-making mask, or the solvent supply nozzle may supply the solvent to the light-shielding layer removing means. You may remove a light shielding layer with a solvent. Further, in any case, a solvent supply nozzle for washing out the removed light-shielding layer may be provided after the light-shielding layer removing means. Also,
The number of solvent supply nozzles may be increased or decreased as necessary. The drying process after the removal of the light-shielding layer is the same as that shown in FIGS. 9 and 10.

【0076】図15はさらに他の製版マスク回収装置の
概略構成図であり、この製版マスク回収装置は、装置本
体110内の遮光層除去部115に溶剤を付着或いは含
浸させた遮光層除去手段150を配置したものである。
この溶剤を付着或いは含浸させた遮光層除去手段10
は、例えば不織布151等を使用済み製版マスクMの搬
送に従って、少しずつ逆方向に搬送し、常にきれいな部
分で製版マスクMをこする。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram of still another plate-making mask collecting apparatus. In this plate-making mask collecting apparatus, a light-shielding layer removing means 150 in which a solvent is attached to or impregnated with a light-shielding layer removing section 115 in the apparatus main body 110 is shown. Is arranged.
Light-shielding layer removing means 10 adhered or impregnated with this solvent
For example, the non-woven fabric 151 or the like is conveyed little by little in the opposite direction in accordance with the conveyance of the used plate-making mask M, and the plate-making mask M is always rubbed at a clean portion.

【0077】この遮光層を除去した後の乾燥部116の
構成は図9及び図10のものと同様に構成することがで
きる。また、溶剤を付着或いは含浸させた遮光層除去手
段150では、この含浸させる溶剤の量を適当にするこ
とで、これにより乾燥工程を不要にすることもできる。
The structure of the drying unit 116 after removing the light shielding layer can be the same as that of FIGS. 9 and 10. Further, in the light shielding layer removing means 150 to which the solvent is adhered or impregnated, the drying step can be omitted by adjusting the amount of the impregnated solvent appropriately.

【0078】[0078]

【作用】この請求項1乃至請求項4記載の発明は、熱溶
融転写材料が、支持体上に融点が100℃以上のワック
スを主成分とする剥離層を介して、有機溶媒可溶性染料
及びワックスと非相溶な樹脂とを主成分とする遮光層が
形成されており、これにより熱溶融転写材料の保存性に
優れ、かつピンホールがなく耐久性に優れた製版マスク
を作成することができる。
According to the inventions of claims 1 to 4, the heat-melt transfer material comprises an organic solvent-soluble dye and a wax on a support through a release layer containing a wax having a melting point of 100 ° C. or more as a main component. A light-shielding layer containing as a main component an incompatible resin is formed, which makes it possible to create a plate-making mask that has excellent storability of the heat-melt transfer material and has no pinholes and excellent durability. .

【0079】また、請求項5乃至請求項6記載の発明
は、遮光層の保護には十分な強さで、かつマスクに訂正
が必要な場合に熱転写により設けられた遮光層を除去可
能なように、剥離可能な強さの保護層を設けており、製
版マスクの遮光層の保護が十分で、しかもマスクの訂正
も容易に行なうことができる。
Further, the invention according to claims 5 to 6 is strong enough to protect the light-shielding layer, and the light-shielding layer provided by thermal transfer can be removed when the mask needs correction. In addition, since a protective layer having a peelable strength is provided, the light-shielding layer of the plate-making mask is sufficiently protected and the mask can be easily corrected.

【0080】さらに、また請求項7乃至請求項11記載
の発明は、製版マスクの受容体または支持体を再利用す
ることができ、製版マスクの作成コストを大幅に削減す
ることができるとともに環境保護点からも有益である。
Furthermore, in the inventions according to claims 7 to 11, the receptor or the support of the plate-making mask can be reused, the production cost of the plate-making mask can be greatly reduced, and the environmental protection can be achieved. It is also beneficial from the point.

【0081】[0081]

【実施例】以下、請求項1乃至請求項4記載の発明の実
施例を説明する。
EXAMPLES Examples of the invention described in claims 1 to 4 will be described below.

【0082】熱溶融転写材料の作成 裏面に融着防止層(ニトロセルロース50重量%、ウレ
タンシリコン樹脂50重量%、0.2μm)を設けた4
μmのPETフィルムを用い、このPETフィルムの表
面に表1に示す構成で、剥離層、遮光層を積層した。
Preparation of Thermal Melt Transfer Material A fusion preventing layer (nitrocellulose 50% by weight, urethane silicone resin 50% by weight, 0.2 μm) was provided on the back surface.
A PET film having a thickness of μm was used, and a release layer and a light-shielding layer were laminated on the surface of this PET film in the configuration shown in Table 1.

【0083】[0083]

【表1】 剥離層は表2に、遮光層は表3に示す。[Table 1] The release layer is shown in Table 2 and the light shielding layer is shown in Table 3.

【0084】[0084]

【表2】 [Table 2]

【0085】[0085]

【表3】 なお、ハリエスターDS90(播磨化成工業)はロジン
樹脂でワックスと相溶性であり、タマノル526(荒川
化学工業)はフェノール樹脂でワックスと相溶性であ
る。その他の樹脂は前記したものを用いた。
[Table 3] Harrier Star DS90 (Harima Kasei) is a rosin resin and is compatible with wax, and Tamanor 526 (Arakawa Chemical Industry) is a phenol resin and is compatible with wax. The other resins used were those described above.

【0086】透明フィルムは100μmの透明PETフ
ィルムを用いた。
As the transparent film, a 100 μm transparent PET film was used.

【0087】プリンターはCH5514(セイコー電
子)を用い、透明フィルムにプリントを行なった。
CH5514 (Seiko Denshi) was used as a printer, and printing was performed on a transparent film.

【0088】この評価方法を下記に示す。This evaluation method is shown below.

【0089】熱溶融転写材料の保存前の印字性、印字物
のスクラッチ強度と、熱融着転写材料の保存(50℃3
日)後の印字性、印字物のスクラッチ強度について行な
った。
Printability before storage of the heat-melt transfer material, scratch strength of the print, and storage of the heat-melt transfer material (50 ° C. 3
Printability after 10 days, and scratch strength of the printed matter.

【0090】この印字物のスクラッチ強度は、直径0.
25mmのサファイア針による傷の突き始める荷重とし
た。
The scratch strength of this printed material was 0.
The load at which scratches started to strike with a 25 mm sapphire needle was used.

【0091】また、印字性レベルは次の通りである。The printability level is as follows.

【0092】○ 良好 △ カスレの発生 × 印字不可 評価結果を表4に示す。○ Good △ Scratching occurs × Cannot print The evaluation results are shown in Table 4.

【0093】[0093]

【表4】 この発明では、保存後の印字性、印字強度の劣化は改良
された。
[Table 4] In this invention, the deterioration of printability and print strength after storage was improved.

【0094】また、サンプルNO5に更に接着層(マル
キードノーNO31 50重量%スプラパールAP20
50重量% 0.5μm)を積層し、同様にこの発明の
効果を得た。
An adhesive layer (Marquid No. NO31 50% by weight Sprapearl AP20 was added to the sample No5.
50 wt% 0.5 μm) was laminated, and the effect of the present invention was similarly obtained.

【0095】また、透明フィルムをエチルアクリレート
樹脂0.1μmでコートした100μmPETとして、
サンプルNO5の熱溶融転写材料で同様にプリントを行
なった。その結果、樹脂コートしない透明フィルムの場
合ピンホールの発生数が10個/m2に対し、エチルア
クリレート樹脂0.1μmでコートした場合その発生数
は1個/m2と減少し効果があった。同様に、メチルメ
タクリレート樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、エチレン
メチル酢酸ビニル樹脂でコートした透明フィルムにおい
てもこの発明の効果は得られた。
Further, as a 100 μm PET obtained by coating a transparent film with 0.1 μm of ethyl acrylate resin,
Printing was similarly performed with the hot melt transfer material of sample NO5. As a result, the number of pinholes generated was 10 / m 2 in the case of a transparent film not coated with a resin, while the number of pinholes was 1 / m 2 in the case of coating with an ethyl acrylate resin of 0.1 μm, which was effective. . Similarly, the effect of the present invention was obtained also in a transparent film coated with a methyl methacrylate resin, an ethylene vinyl acetate resin, or an ethylene methyl vinyl acetate resin.

【0096】以下、請求項5乃至請求項6記載の発明の
実施例を説明する。
Hereinafter, embodiments of the invention described in claims 5 to 6 will be described.

【0097】実施例1 表面にアクリル系樹脂のオーバーコート層が設けられた
市販のOHPシート(100μm)に、熱転写ラインプ
リンタでコンピュータ上で作成したマスクパターンを出
力し製版マスク原版とした。
Example 1 A mask pattern prepared on a computer by a thermal transfer line printer was output to a commercially available OHP sheet (100 μm) having an acrylic resin overcoat layer on the surface thereof to prepare a plate-making mask original plate.

【0098】この時、前記熱転写ラインプリンタでは熱
転写シートを用いた。
At this time, a thermal transfer sheet was used in the thermal transfer line printer.

【0099】裏面に融着防止層(ニトロセルロース、5
0重量%、ウレタンシリコン樹脂、50重量%で膜厚
0.5μm)を設けた4μmのPETフィルムの表面に
剥離面、着色層を積層した。
A fusion preventing layer (nitrocellulose, 5
A peeling surface and a coloring layer were laminated on the surface of a PET film of 4 μm provided with 0% by weight, urethane silicone resin, and 50% by weight and a film thickness of 0.5 μm).

【0100】剥離層 ポリエチレンワックス(トルエン分散物)とエチレン酢
酸ビニル(トルエン溶解物)をそれぞれの固形分濃度が
下記になるように、混合撹拌した。
Peeling layer Polyethylene wax (toluene dispersion) and ethylene vinyl acetate (toluene solution) were mixed and stirred so that the respective solid content concentrations were as follows.

【0101】ポリエチレンワックス 95重量% エチレン酢酸ビニル 5重量% この塗布液を前記PETフィルムの表面に0.5μmの
厚さに塗布した。
Polyethylene wax 95% by weight Ethylene vinyl acetate 5% by weight This coating solution was coated on the surface of the PET film to a thickness of 0.5 μm.

【0102】着色層 下記色材、樹脂をそれぞれの固形分濃度が下記になるよ
うに、IPAに溶解した。
Coloring Layer The following coloring materials and resins were dissolved in IPA so that the respective solid content concentrations were as follows.

【0103】バリファストレッド#3306(オリエン
ト化学工業) 50重量% マルキードNO31(荒川化学工業) 50重量% この塗布液を剥離層を設けた前記PETフィルム上に
2.0μmの厚さに塗布した。
Varifast Red # 3306 (Orient Chemical Co., Ltd.) 50% by weight Marquid NO31 (Arakawa Chemical Co., Ltd.) 50% by weight This coating solution was applied to the PET film having a release layer in a thickness of 2.0 μm.

【0104】この原版を、支持体が12μm、接着層が
15μmのラミネート材料を用いて図6に示す構造のラ
ミネータでラミネート加工し保護層を設けた。
This original plate was laminated with a laminator having a structure shown in FIG. 6 using a laminating material having a support of 12 μm and an adhesive layer of 15 μm to provide a protective layer.

【0105】この時のラミネートロールの温度は60
℃、ヒーターロールの温度は100℃、ラミネート速度
は2m/分とした。また、ラミネート材料の支持体には
PET、接着層には軟化点41℃のEVA樹脂を用い
た。ここでいう軟化点とはASTM D1521に記載
されているビカット軟化点のことである。
At this time, the temperature of the laminating roll is 60
C., the temperature of the heater roll was 100.degree. C., and the laminating speed was 2 m / min. Further, PET was used for the support of the laminate material, and EVA resin having a softening point of 41 ° C. was used for the adhesive layer. The softening point here is the Vicat softening point described in ASTM D1521.

【0106】実施例2 ラミネート材料の接着層に軟化点52℃のEVA樹脂を
用いた以外は、実施例1と同じである。
Example 2 The same as Example 1 except that EVA resin having a softening point of 52 ° C. was used for the adhesive layer of the laminate material.

【0107】比較例1 ラミネート材料の接着層に軟化点90℃の低密度ポリエ
チレン樹脂を用いた以外は、実施例1と同じである。
Comparative Example 1 The same as Example 1 except that a low density polyethylene resin having a softening point of 90 ° C. was used for the adhesive layer of the laminate material.

【0108】比較例2 ラミネート材料の接着層に軟化点45℃のEEA樹脂を
用いた以外は、実施例1と同じである。
Comparative Example 2 The same as Example 1 except that an EEA resin having a softening point of 45 ° C. was used for the adhesive layer of the laminate material.

【0109】評価を以下について行なった。 剥離強さ JIS K 6845(たわみ性材料と剛性材料の場
合)に準じて180℃剥離強さを測定した。 接着力(屈曲テスト) 図16に示すように、ラミネート材料を半径r=1mm
で180°折り曲げ、続けて反対側に同様に180°折
りげ、これを10回繰り返す屈曲試験を行なった。屈曲
試験後、端部のラミネートのはがれ具合を評価した。 訂正の容易さ カッターで保護層のみ1cm×1cmの大きさに切り、
保護層を手で剥がれるかどうかを評価し、訂正の容易さ
を評価する手段とした。これらの評価を表5に示す。
The evaluation was performed on the following. Peel strength The peel strength at 180 ° C. was measured according to JIS K 6845 (for flexible materials and rigid materials). Adhesive strength (bending test) As shown in FIG.
Then, a bending test was repeated 10 times. After the bending test, the degree of peeling of the laminate at the ends was evaluated. Ease of correction Cut only the protective layer to a size of 1 cm x 1 cm with a cutter,
Whether or not the protective layer was peeled off by hand was evaluated, and the ease of correction was evaluated. These evaluations are shown in Table 5.

【0110】[0110]

【表5】 以下、請求項7乃至請求項11記載の発明の実施例を説
明する。
[Table 5] Hereinafter, examples of the invention described in claims 7 to 11 will be described.

【0111】熱転写シート 熱転写シートは下記のものを使用した。Thermal transfer sheet The following thermal transfer sheets were used.

【0112】裏面に融着防止層(ニトロセルロース 5
0重量%、ウレタンシリコン樹脂50重量%で膜厚0.
5μm)を設けた4μmのPETフィルムの表面に剥離
面、着色層を積層した。
A fusion preventing layer (nitrocellulose 5
0% by weight, 50% by weight of urethane silicone resin, film thickness of 0.
The peeling surface and the colored layer were laminated on the surface of a PET film having a thickness of 5 μm and having a thickness of 4 μm.

【0113】剥離層 ポリエチレンワックス(トルエン分散物)とエチレン酢
酸ビニル(トルエン溶解物)をそれぞれの固形分濃度が
下記になるように、混合撹拌した。
Peeling layer Polyethylene wax (toluene dispersion) and ethylene vinyl acetate (toluene solution) were mixed and stirred so that the respective solid content concentrations were as follows.

【0114】ポリエチレンワックス 95重量% エチレン酢酸ビニル 5重量% この塗布液を前記PETフィルムの表面に0.5μmの
厚さに塗布した。
Polyethylene wax 95% by weight Ethylene vinyl acetate 5% by weight This coating solution was coated on the surface of the PET film to a thickness of 0.5 μm.

【0115】着色層 下記色材、樹脂をそれぞれの固形分濃度が下記になるよ
うに、IPAに溶解した。
Coloring Layer The following coloring materials and resins were dissolved in IPA so that the solid concentration of each of them was as follows.

【0116】 ネオペンレッド336(BASF) 50重量% スプラーパールAP20(BASF) 25重量% マルキードNO31(荒川化学工業) 50重量% この塗布液を剥離層を設けた前記PETフィルム上に
2.0μmの厚さに塗布した。
Neopen Red 336 (BASF) 50% by weight Spurer Pearl AP20 (BASF) 25% by weight Marquid NO31 (Arakawa Chemical Industries) 50% by weight This coating solution has a thickness of 2.0 μm on the PET film provided with a release layer. Applied to

【0117】受容体 100μmのPTEにポリエステル樹脂(バイロン20
0、東洋紡製)の受容層を0.2μm設けたものを用い
た。
Polyester resin (Vylon 20
0, manufactured by Toyobo) having a receiving layer of 0.2 μm was used.

【0118】印字 熱転写ラインプリンタで、コンピュータ上で作成したマ
スクパターンを出力した。
A mask pattern created on a computer was output by a printing thermal transfer line printer.

【0119】遮光層除去方法 溶剤として、イソプロピルアルコールを用い、図11の
回収装置で、遮光層除去手段として、図13に示すブラ
シを用いて印字済みの受容体を処理した。
Method of Removing Light-Shielding Layer Isopropyl alcohol was used as the solvent, and the printed receptor was treated with the brush shown in FIG. 13 as the means for removing the light-shielding layer in the recovery device of FIG.

【0120】比較例1 熱転写シート 実施例1に同じものを用いた。Comparative Example 1 Thermal transfer sheet The same one was used in Example 1.

【0121】受容体 100μmのPTEにロジン変性樹脂(DS−90、播
磨化成)の受像層を0.2μm設けたものを用いた。
An image receiving layer of rosin-modified resin (DS-90, Harima Kasei Co., Ltd.) provided on PTE of 100 μm was 0.2 μm.

【0122】印字 実施例1に同じものを用いた。Printing The same one was used in Example 1.

【0123】遮光層除去方法 実施例1に同じ方法で行なった。Method for removing light-shielding layer The same procedure as in Example 1 was carried out.

【0124】実施例1の方法で処理した受容体は遮光層
が除去されているが、この遮光層の除去の際に受容層は
除去されておらず、再びこの受容体を除いて印字を行っ
ても、印字のカスレ等がなく、受容体を初めて使う場合
と同様の印字が得られた。
Although the light-shielding layer was removed from the receptor treated by the method of Example 1, the receptor layer was not removed when the light-shielding layer was removed, and the receptor was removed again to perform printing. However, there was no blurring of the printing, and the same printing as when the receptor was used for the first time was obtained.

【0125】これに対して、比較例1の方法で処理した
受容体は受容層が除去されており、再びこの受容体を用
いた印字を行うと、印字のカスレが発生し、受容体を初
めてつかう場合より劣った印字となった。
On the other hand, in the receptor treated by the method of Comparative Example 1, the receptor layer was removed, and when printing was carried out again using this receptor, blurring of the print occurred, and the receptor was removed for the first time. The print was inferior to that when using.

【0126】[0126]

【発明の効果】前記したように、請求項1乃至請求項4
記載の発明は、熱溶融転写材料が、支持体上に融点が1
00℃以上のワックスを主成分とする剥離層を介して、
有機溶媒可溶性染料及びワックスと非相溶な樹脂とを主
成分とする遮光層が形成されているから、熱溶融転写材
料の保存性に優れ、かつピンホールがなく耐久性に優れ
た製版マスクを作成することができる。
As described above, the first to fourth aspects are provided.
In the invention described above, the heat melting transfer material has a melting point of 1 on the support.
Through a release layer composed mainly of wax at 00 ° C or higher,
Since the light-shielding layer containing a resin that is incompatible with the organic solvent-soluble dye and wax as a main component is formed, a plate-making mask that has excellent storability of the heat-melt transfer material and excellent durability without pinholes is provided. Can be created.

【0127】また、請求項5乃至請求項6記載の発明
は、遮光層の保護には十分な強さで、かつマスクに訂正
が必要な場合に熱転写により設けられた遮光層を除去可
能なように、剥離可能な強さの保護層を設けたから、製
版マスクの遮光層の保護が十分で、しかもマスクの訂正
も容易に行なうことができる。
Further, the invention according to claims 5 to 6 is strong enough to protect the light-shielding layer, and the light-shielding layer provided by thermal transfer can be removed when the mask needs correction. Further, since the protective layer having a peelable strength is provided, the light-shielding layer of the plate-making mask is sufficiently protected, and the mask can be easily corrected.

【0128】さらに、また請求項7乃至請求項11記載
の発明は、製版マスクの受容体または支持体を再利用す
ることができ、これにより製版マスクの作成コストを大
幅に削減することができるとともに環境保護の点からも
有益である。
Further, in the inventions according to claims 7 to 11, the receptor or the support of the plate-making mask can be reused, whereby the production cost of the plate-making mask can be greatly reduced. It is also beneficial in terms of environmental protection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】製版マスク作成用熱溶融転写材料の層構成図で
ある。
FIG. 1 is a layer configuration diagram of a hot-melt transfer material for making a plate-making mask.

【図2】製版マスク作成方法を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a method of creating a plate-making mask.

【図3】転写タイプの製版マスクの作成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing the production of a transfer type plate-making mask.

【図4】剥離タイプの製版マスクの作成を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing the production of a peeling type plate-making mask.

【図5】製版マスクにラミネート加工する構成図であ
る。
FIG. 5 is a configuration diagram for laminating a plate-making mask.

【図6】ラミネータの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a laminator.

【図7】製版マスクの訂正を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing correction of a plate-making mask.

【図8】製版マスクの構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram of a plate-making mask.

【図9】製版マスク回収装置の概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a plate-making mask recovery device.

【図10】製版マスクの回収を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the recovery of the plate-making mask.

【図11】他の製版マスク回収装置の概略構成図であ
る。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of another plate-making mask recovery device.

【図12】他の製版マスク回収装置の概略構成図であ
る。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram of another plate-making mask recovery device.

【図13】遮光層除去手段をブラシで構成した図であ
る。
FIG. 13 is a diagram in which the light-shielding layer removing means is configured by a brush.

【図14】遮光層除去手段を不織布で構成した図であ
る。
FIG. 14 is a diagram in which the light-shielding layer removing means is made of a non-woven fabric.

【図15】他の製版マスク回収装置の概略構成図であ
る。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram of another plate-making mask recovery device.

【図16】屈曲試験の説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram of a bending test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 熱溶融転写材料 2 透明フィルム 11 支持体 12 剥離層 13 遮光層 14 接着層 22 樹脂コート 1 Thermal melting transfer material 2 transparent film 11 Support 12 Release layer 13 Light-shielding layer 14 Adhesive layer 22 Resin coat

フロントページの続き (72)発明者 川上 壮太 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内Continued front page    (72) Inventor Sota Kawakami             Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo             In the company

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に融点が100℃以上のワック
スを主成分とする剥離層を介して、有機溶媒可溶性染料
及びワックスと非相溶な樹脂とを主成分とする遮光層を
形成し、必要に応じて遮光層上に接着層を形成したこと
を特徴とする製版マスク作成用熱溶融転写材料。
1. A light-shielding layer containing an organic solvent-soluble dye and a resin incompatible with the wax as a main component is formed on a support through a release layer containing a wax having a melting point of 100 ° C. or more as a main component. A heat-melt transfer material for making a plate-making mask, wherein an adhesive layer is formed on the light-shielding layer as needed.
【請求項2】 前記ワックスと非相溶な樹脂がマレイン
酸系樹脂、スチレン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹
脂、クロマン−インデン樹脂、イソプレン系樹脂から選
ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1
記載の製版マスク作成用熱溶融転写材料。
2. The resin incompatible with the wax is at least one selected from maleic acid resins, styrene resins, terpene resins, petroleum resins, chroman-indene resins, and isoprene resins. Claim 1
A heat-melt transfer material for making a plate-making mask as described above.
【請求項3】 請求項1または請求項2記載の製版マス
ク作成用熱溶融転写材料を、樹脂コートした透明フィル
ムに重ねて、その製版マスク作成用熱溶融転写材料の遮
光層を前記透明フィルムに熱転写して製版マスクに作成
することを特徴とする製版マスク作成方法。
3. A heat-melt transfer material for making a plate-making mask according to claim 1 or 2 is laid on a resin-coated transparent film, and a light-shielding layer of the heat-melt transfer material for making a plate-making mask is formed on the transparent film. A method for making a plate-making mask, which comprises thermally transferring and making a plate-making mask.
【請求項4】 前記樹脂コートが、アクリル酸エステル
系樹脂、メタアクリル酸エステル系樹脂、カルボン酸ビ
ニルエステル系樹脂、カルボン酸アクリルエステル系樹
脂、ポリエステル系樹脂から選ばれた少なくとも一種以
上の樹脂であることを特徴とする請求項3記載の製版マ
スク作成方法。
4. The resin coat is made of at least one resin selected from acrylic acid ester-based resins, methacrylic acid ester-based resins, carboxylic acid vinyl ester-based resins, carboxylic acid acrylic ester-based resins, and polyester-based resins. The method for producing a plate-making mask according to claim 3, wherein
【請求項5】 熱転写により遮光層が形成された製版マ
スクにおいて、前記熱転写により遮光層が形成された面
および/または反対面をラミネート加工して保護層を設
け、この保護層の剥離強さが、遮光層の保護には十分な
強さで、かつ熱転写により設けられた遮光層を除去可能
なように剥離可能な強さであることを特徴とする製版マ
スク。
5. In a plate-making mask having a light-shielding layer formed by thermal transfer, a protective layer is provided by laminating the surface on which the light-shielding layer is formed by thermal transfer and / or the opposite surface, and the peel strength of the protective layer is increased. A plate-making mask having sufficient strength to protect the light-shielding layer and peelable so that the light-shielding layer provided by thermal transfer can be removed.
【請求項6】 前ラミネート加工により設けられた保護
層の180度剥離強さが、10g/25mm〜1000
g/25mmであることを特徴とする請求項5記載の製
版マスク。
6. The 180 degree peel strength of the protective layer provided by pre-lamination is 10 g / 25 mm to 1000.
The plate-making mask according to claim 5, wherein g / 25 mm.
【請求項7】 受容体に熱転写により遮光層が形成され
た製版マスクにおいて、前記遮光層の少なくともバイン
ダーを溶解または防潤させる溶剤に、前記受容体が不溶
であることを特徴とする製版マスク。
7. A plate-making mask in which a light-shielding layer is formed on a receptor by thermal transfer, wherein the receptor is insoluble in a solvent that dissolves or prevents at least a binder of the light-shielding layer.
【請求項8】 前記請求項7記載の溶剤を用いて、使用
済みの前記請求項7記載の製版マスクの熱転写により形
成された遮光層を除去し、前記製版マスクの受容体を再
利用できるようにすることを特徴とする製版マスク回収
方法。
8. The solvent according to claim 7 is used to remove the light-shielding layer formed by thermal transfer of the used plate-making mask according to claim 7, so that the receptor of the plate-making mask can be reused. A method for collecting a plate-making mask, comprising:
【請求項9】 使用済みの前記請求項7記載の製版マス
クに前記請求項7記載の溶剤を供給する溶剤供給手段
と、この溶剤が供給された製版マスクに形成された遮光
層を除去する遮光層除去手段とを有することを特徴とす
る製版マスク回収装置。
9. A solvent supply means for supplying the solvent according to claim 7 to a used plate-making mask according to claim 7, and a light shield for removing a light-shielding layer formed on the plate-making mask supplied with the solvent. A plate-making mask recovery device comprising a layer removing means.
【請求項10】 前記遮光層除去手段は、使用済みの製
版マスクに溶剤が付着した状態でこする物理的手段で構
成されることを特徴とする請求項9記載の製版マスク回
収装置。
10. The plate-making mask collecting device according to claim 9, wherein the light-shielding layer removing unit is constituted by a physical unit that scrapes a used plate-making mask in a state where the solvent is attached thereto.
【請求項11】 前記遮光層除去手段は、使用済みの製
版マスクを、溶剤を付着または含有させてこする物理的
手段で構成されることを特徴とする請求項9記載の製版
マスク回収装置。
11. The plate-making mask collecting device according to claim 9, wherein the light-shielding layer removing unit is constituted by a physical unit that scrapes a used plate-making mask by adhering or containing a solvent.
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