JPH05341530A - Method for forming black matrix - Google Patents
Method for forming black matrixInfo
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- JPH05341530A JPH05341530A JP4153382A JP15338292A JPH05341530A JP H05341530 A JPH05341530 A JP H05341530A JP 4153382 A JP4153382 A JP 4153382A JP 15338292 A JP15338292 A JP 15338292A JP H05341530 A JPH05341530 A JP H05341530A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はブラックマトリックス、
特にカラーブラウン管用ブラックマトリックスの形成方
法に関する。The present invention relates to a black matrix,
In particular, it relates to a method for forming a black matrix for a color cathode ray tube.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラーブラウン管用ブラックマトリック
スの形成方法に関しては、従来次のようにして形成され
ている。すなわち、まず、受像管のフェースパネル内面
全体にネガ型の感光液を塗布して感光性樹脂層を形成
し、ついで、所定のパターンを有するシャドーマスクを
介して該感光性樹脂層を露光し照射部を硬化させた後、
温水スプレーなどにより現像し未照射部を溶出させる。
現像後、露出したパネル面及び硬化した樹脂層の全面に
黒色物質含有の樹脂液を塗布する。その後、前記硬化樹
脂層を剥離剤で剥膜することにより、その上に積層する
黒色物質層も除去して、ブラックマトリックスが形成さ
れる。以上の製造方法において、ネガ型感光液として
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼ
ラチンなどの水溶性高分子化合物と感光剤として重クロ
ム酸塩、水溶性ビスアジド化合物や水溶性ジアゾ化合物
から成るものが用いられている。2. Description of the Related Art A conventional method for forming a black matrix for a color cathode ray tube is as follows. That is, first, a negative type photosensitive liquid is applied to the entire inner surface of the face panel of the picture tube to form a photosensitive resin layer, and then the photosensitive resin layer is exposed and irradiated through a shadow mask having a predetermined pattern. After curing the part,
Develop with a hot water spray to elute unirradiated areas.
After the development, a resin liquid containing a black substance is applied to the exposed panel surface and the entire surface of the cured resin layer. Thereafter, the cured resin layer is peeled off with a peeling agent to remove the black substance layer laminated thereon, thereby forming a black matrix. In the above-mentioned production method, as the negative photosensitive liquid, those composed of a water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone and gelatin and a dichromate as a photosensitizer, a water-soluble bisazide compound or a water-soluble diazo compound are used. Has been.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ブラッ
クマトリックスの形成方法は工程が長く、煩雑であるの
で、これを解決する方法として、例えば特開平３−７８
７５０号には、カーボンブラックを含有したポジ型感光
性組成物を用いてパターン露光と基板の反対側から全面
露光することによる形成方法が開示されている。しか
し、実施例で示されている感光剤としてナフトキノンジ
アジド化合物を用いる場合感度が遅く、また、反対側か
ら全面露光する工程が必要であると共にこの全面露光に
よりパターン欠陥を生じやすいなどの問題がある。By the way, since the method of forming the black matrix described above has a long process and is complicated, as a method for solving this, for example, JP-A-3-78.
No. 750 discloses a method of forming a pattern by using a positive-type photosensitive composition containing carbon black and exposing the entire surface from the opposite side of the substrate. However, when a naphthoquinonediazide compound is used as the photosensitizer shown in the examples, the sensitivity is slow, and there is a problem that a step of exposing the entire surface from the opposite side is required and that a pattern defect is likely to occur due to this entire surface exposure. ..
【０００４】また、上記従来技術は、例えば、カラーブ
ラウン管の大型化又は高精細化に対して十分な配慮がな
されていなかったので、カラーブラウン管が大型化する
と、露光面から光源が離れるため露光面における照度が
下がり、露光に長時間を要するという問題がある。さら
に、カラーブラウン管を高精細化するためには、フリン
ジのない高精細なブラックマトリックスの形成が必要と
なるが、従来の技術では困難である。Further, in the above-mentioned prior art, for example, sufficient consideration has not been given to the enlargement or high definition of the color cathode ray tube. Therefore, when the color cathode ray tube becomes large, the light source is separated from the exposure surface, and thus the exposure surface is exposed. There is a problem in that the illuminance at the point of time decreases and exposure takes a long time. Further, in order to make a color cathode ray tube high definition, it is necessary to form a high definition black matrix without fringes, which is difficult with the conventional technique.
【０００５】本発明は、黒色顔料を含む高感度及び高解
像度なポジ型黒色樹脂組成物を用いる、高精細なブラッ
クマトリックスを簡単な工程で形成する方法を提供する
ことを目的とする。An object of the present invention is to provide a method for forming a high-definition black matrix in a simple process using a high-sensitivity and high-resolution positive black resin composition containing a black pigment.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明のブラックマトリックスの形成方法は、ブラックマト
リックスの形成方法において、 実質的に透明な基板上に、 (イ) 一般式下記「化２」で表わされる構造単位を有する
高分子化合物と、A method for forming a black matrix of the present invention which achieves the above-mentioned object is a method for forming a black matrix, comprising the steps of: (a) a compound represented by the following general formula: A polymer compound having a structural unit represented by
【化２】 (ロ) 光の照射により酸を発生する系と、 (ハ) 黒色顔料とを含有してなる感光性の黒色樹脂組成物
を塗布、乾燥し、黒色樹脂層を形成する工程と、 該黒色樹脂層をパターン露光する工程と、 該露光済みの黒色樹脂層の露光部を除去する現像工程
とを、含むことを特徴とする。[Chemical 2] (B) a step of applying a photosensitive black resin composition containing a system that generates an acid upon irradiation with light and (c) a black pigment and drying the composition to form a black resin layer, and the black resin The method is characterized by including a step of pattern-exposing the layer and a developing step of removing the exposed portion of the exposed black resin layer.
【０００７】以下本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.
【０００８】本発明の（イ）に於ける高分子化合物は、
高分子化合物の側鎖に一般式（Ｉ）で表わされる構造単
位を有することが特徴で、側鎖に一般式（Ｉ）で表わさ
れる構造単位としては例えば、The polymer compound according to (a) of the present invention is
The polymer compound is characterized by having a structural unit represented by the general formula (I) in the side chain, and examples of the structural unit represented by the general formula (I) in the side chain include:
【化３】 あるいは一般式[Chemical 3] Or general formula
【化４】 を挙げることができ、該構造単位のみの繰返し構造を有
する単独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系構
造単位１種以上とを組合せた共重合体が挙げられる。[Chemical 4] Examples thereof include a homopolymer having a repeating structure of only the structural unit, or a copolymer obtained by combining the structural unit with one or more kinds of other vinyl structural units.
【０００９】前記一般式（II）中、Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，
Ｒ5 及びＲ6 はそれぞれ水素、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの低
級アルキル基、置換及び非置換アリール基、ベンジル基
などのアラルキル基を表わすか、又は、Ｒ3 及びＲ4 は
一緒になってエチレン基、プロピレン基などの置換及び
非置換アルキレン基を表わす。In the general formula (II), R 2 , R 3 , R 4 ,
R 5 and R 6 each represent hydrogen, a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group or a hexyl group, a substituted or unsubstituted aryl group or an aralkyl group such as a benzyl group, or , R 3 and R 4 together represent a substituted or unsubstituted alkylene group such as an ethylene group or a propylene group.
【００１０】本発明の（ロ）に於ける光の照射により酸
を発生する系としては、多くの公知化合物系及びそれら
の混合物を用いれば良く、例えばジアゾニウム，ホスホ
ニウム，スルホニウムおよびヨードニウム塩類；ハロゲ
ン化合物類；ｏ‐キノンジアジドスルホニルクロライド
類；１，２‐ナフトキノンジアジド‐４‐スルホニルエ
ステル類；ベンゾインおよび強酸例えばトルエンスルホ
ン酸のニトロベンジルエステル類などが含まれる。As the system for generating an acid upon irradiation with light in (b) of the present invention, many known compound systems and mixtures thereof may be used. For example, diazonium, phosphonium, sulfonium and iodonium salts; halogen compounds And o-quinone diazide sulfonyl chlorides; 1,2-naphthoquinone diazide-4-sulfonyl esters; benzoin and strong acids such as nitrobenzyl esters of toluenesulfonic acid.
【００１１】上記光の照射により酸を発生する化合物系
には、必要に応じて酸発生効率を高め、感光波長域をの
ばす増感剤と組み合わせて用いることができる。The compound system which generates an acid upon irradiation with light may be used in combination with a sensitizer which enhances the acid generation efficiency and extends the photosensitive wavelength range, if necessary.
【００１２】本発明の（ハ）に於ける黒色顔料として
は、公知の材料が使用できるが、例えばカーボンブラッ
ク、二酸化マンガンなどを挙げることができる。As the black pigment in (c) of the present invention, known materials can be used, and examples thereof include carbon black and manganese dioxide.
【００１３】本発明の感光性黒色樹脂組成物は、上記
（イ）の高分子化合物と、（ロ）の光の照射により酸を
発生する系とを、溶解する溶媒に溶かし、該顔料を分散
させた溶液として用いられる。In the photosensitive black resin composition of the present invention, the polymer compound (a) and the system (b) for generating an acid upon irradiation with light are dissolved in a solvent to dissolve the pigment. Used as a solution.
【００１４】このような溶剤の例としては、ジオキサ
ン、ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペン
タノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、酢酸プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチル
エーテル、ジメチルオギザレート、乳酸メチル、乳酸エ
チルなどのエステル類、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアセトアミドなどのアミド類、Ｎ
‐メチルピロリドンなどのピロリドン類、γ‐ブチロラ
クトンなどのラクトン類、ジメチルスルホキシドなどの
スルホキシド類などを挙げることができる。これらの溶
剤はそれぞれ単独で用いてもよいし、２種類以上組み合
わせて用いても良い。Examples of such a solvent include ethers such as dioxane, diethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dimethyl oxalate, methyl lactate , Esters such as ethyl lactate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetate Amides such as Toamido, N
Examples thereof include pyrrolidones such as -methylpyrrolidone, lactones such as γ-butyrolactone, and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more kinds.
【００１５】本発明の感光性黒色樹脂組成物には更に必
要に応じて、組成物の粘度の調整，顔料の分散安定性改
善、塗布性の改善、塗膜の基板に対する密着性改善、塗
膜の平坦化性改善、現像特性の改善などの目的に、その
他の添加物を配合することができる。In the photosensitive black resin composition of the present invention, the viscosity of the composition may be further adjusted, the dispersion stability of the pigment may be improved, the coatability may be improved, the adhesion of the coating film to the substrate may be improved, Other additives can be added for the purpose of improving the flatness of the toner, improving the developing characteristics, and the like.
【００１６】上述の感光性黒色樹脂組成物をブラウン管
パネルの内面にスピンコート等で塗布，乾燥し、黒色樹
脂層を形成する。次に、シャドーマスクを介して露光
し、好ましくは続いて約５０〜２００℃、更に好ましく
は７０〜１５０℃の範囲で加熱し、次いで現像液で現像
してブラックマトリックスパターンを形成する。The above-mentioned photosensitive black resin composition is applied to the inner surface of the cathode ray tube panel by spin coating or the like and dried to form a black resin layer. Next, it is exposed through a shadow mask, preferably followed by heating in the range of about 50 to 200 ° C., more preferably 70 to 150 ° C., and then developed with a developing solution to form a black matrix pattern.
【００１７】この現像液としては、アルカル性水溶液、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケ
イ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナト
リウム、アンモニア等の無機アルカリ、エチルアミン、
ｎ‐プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ‐ｎ‐プロピ
ルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等
のアルキルアミン類、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアン
モニウムヒドロキサイド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキサイド、トリメチル（２‐ヒドロキシエチル）ア
ンモニウムヒドロキサイド等の第四級アンモニウム塩、
またはピロール、ピペリジン等の環状アミン類などの水
溶液を挙げることができる。また現像液中に必要に応じ
て他の添加剤、例えば界面活性剤、湿潤剤、安定剤、少
量の有機溶剤等の添加剤を添加することができる。As the developing solution, an alcal aqueous solution,
For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, sodium phosphate dibasic, sodium phosphate tribasic, inorganic alkali such as ammonia, ethylamine,
Alkylamines such as n-propylamine, diethylamine, di-n-propylamine, triethylamine and methyldiethylamine, alcoholamines such as diethanolamine and triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, trimethyl (2- Quaternary ammonium salts such as hydroxyethyl) ammonium hydroxide,
Alternatively, an aqueous solution of a cyclic amine such as pyrrole or piperidine can be used. If necessary, other additives such as a surfactant, a wetting agent, a stabilizer, and a small amount of an organic solvent may be added to the developer.
【００１８】[0018]
【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples.
【００１９】実施例１ 下記処方の感光性組成物を調整した。 ｏ メチルメタクリレート‐テトラヒドロピラニルメタクリレート 6.50ｇ ４：６（mol 比）共重合物 （ポリスチレン換算 重量平均分子量 13800） ｏ ９，10‐ジエトキシアンスラセン‐２‐スルホン酸 ｐニトロベンジル エステル 0.5 ｇ ｏ カーボンブラック（三菱化成 MA-100) 2.17ｇ ｏ ジグライム 27.5 ｇ （なおカーボンブラックの分散はステンレス製ボールミ
ル、３mmと５mmのステンレンボールを使用し、微分散後
５μｍのフィルターで濾過を行なった。） Example 1 A photosensitive composition having the following formulation was prepared. o Methyl methacrylate-tetrahydropyranyl methacrylate 6.50 g 4: 6 (mol ratio) copolymer (polystyrene equivalent weight average molecular weight 13800) o 9,10-diethoxyanthracene-2-sulfonic acid p nitrobenzyl ester 0.5 g o carbon Black (Mitsubishi Kasei MA-100) 2.17 g o Jiglyme 27.5 g (Carbon black was dispersed using a stainless steel ball mill, 3 mm and 5 mm stainless steel balls, and after fine dispersion, filtration was performed with a 5 μm filter.)
【００２０】この感光性組成物を１０cm×１０cmガラス
板上にスピンコートして膜厚１．４μ、光学濃度１．９
８の塗布膜を得た。次にマスク（直径０．３５mmの円を
ピッチ０．６mmで２次元に配列したもの）を密着して、
２５０Ｗ超高圧水銀灯（ｉ線部照度５．５mW／cm2 ）に
より３０秒間露光し、続いて１０５℃で１０分間オーブ
ン中でベーク（ＰＥＢ）を行なった後、ベンジルアルコ
ール３ｇ、ペレックスＮＢベースト３ｇを０．２６Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液１００ｇに溶かした現像液にて４
０℃で６０秒間スプレー現像を行なった。This photosensitive composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm glass plate to give a film thickness of 1.4 μ and an optical density of 1.9.
A coating film of No. 8 was obtained. Next, a mask (circles with a diameter of 0.35 mm arranged two-dimensionally with a pitch of 0.6 mm) is adhered,
After exposure with a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (irradiance of i-line part: 5.5 mW / cm 2 ) for 30 seconds, followed by baking at 105 ° C. for 10 minutes in an oven (PEB), 3 g of benzyl alcohol and 3 g of Perex NB base 4 with a developer dissolved in 100 g of 0.26N sodium hydroxide aqueous solution
Spray development was carried out at 0 ° C. for 60 seconds.
【００２１】このように製造されたブラックマトリック
スは従来のネガ型感光性組成物によるパターニング、カ
ーボンブラック塗布、リフトオフ（エッチング）の工程
によるものに比べて、フリンジの少ない、切れの良いも
のであった。The black matrix thus produced has less fringes and is sharper than those obtained by the conventional steps of patterning with a negative photosensitive composition, carbon black coating, and lift-off (etching). ..
【００２２】実施例２ 実施例１の９，１０‐ジエトキシアンスラセン‐２‐ス
ルホン酸 ｐニトロベンジルエステルのかわりにトリフ
ェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン酸０．
４０ｇ＋ペリレン０．０７ｇを使用した以外は実施例１
と同様な感光性組成物を調整した。実施例１と同様なテ
ストを行ない、露光２５秒し、１０５℃×１０分間オー
ブン中でベークしたものは、実施例１のブラックマトリ
ックスと同様なものが得られた。 Example 2 9,10-Diethoxyanthracene-2-sulfonic acid of Example 1 was replaced by triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonic acid 0.10 instead of p-nitrobenzyl ester.
Example 1 except 40 g + 0.07 g perylene was used
A photosensitive composition similar to the above was prepared. The same test as in Example 1 was carried out, and after exposure for 25 seconds and baking in an oven at 105 ° C. for 10 minutes, the same black matrix as in Example 1 was obtained.
【００２３】（比較例）下記処法のナフトキノンジアジ
ド系の感光性組成物を調整した。 ｏ ｍ‐クレゾール／ｐ‐クレゾール＝６／４で平均分子量8200 のクレゾールノボラック樹脂 13.3 ｇ ｏ ２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノンに１，２‐ ナフトキノンジアジド‐５‐スルホニルクロリドを1.５ モル縮合させた感光剤 3.23ｇ ｏ エチルセロソルブアセテート 83.5 ｇ ｏ カーボンブラック（三菱化成 MA-100) 5.12ｇ この感光性組成物を実施例１と同様に分散ろ過し、１０
cm×１０cmガラス板上にスピンコートして膜厚１．４
μ、光学濃度１．９８の塗布膜を得た。次にマスク（直
径０．３５mmの円をピッチ０．６mmで２次元に配列した
もの）を密着して、２５０Ｗ超高圧水銀灯（ｉ線部照度
５．５mW／cm2 ）により３０秒間露光した後、０．１Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液にて現像したが、全く現像はさ
れなかった。露光時間が約３００秒で現像は可能となる
が、実施例１のブラックストライプに比べて、足切れの
悪いものであった。Comparative Example A naphthoquinonediazide-based photosensitive composition prepared by the following method was prepared. cresol novolak resin with m-cresol / p-cresol = 6/4 and an average molecular weight of 8200 13.3 g o 1,2 naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride 1.5 mol condensation with 2,3,4-trihydroxybenzophenone Photosensitizer 3.23 g o Ethyl cellosolve acetate 83.5 g o carbon black (Mitsubishi Kasei MA-100) 5.12 g This photosensitive composition was dispersed and filtered in the same manner as in Example 1 to obtain 10
cm × 10cm spin coating on glass plate, film thickness 1.4
A coated film having a μ and an optical density of 1.98 was obtained. Next, a mask (circles having a diameter of 0.35 mm arranged two-dimensionally with a pitch of 0.6 mm) was adhered, and exposed for 30 seconds by a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (i-line part illuminance 5.5 mW / cm 2 ). , 0.1N
It was developed with an aqueous solution of sodium hydroxide, but not developed at all. Development was possible with an exposure time of about 300 seconds, but the result was less sharp than the black stripe of Example 1.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上、実施例と共に詳しく述べたよう
に、本発明によれば、カラーブラウン管のブラックマト
リックスが、高精細に、短時間で、かつ簡単な工程で形
成する方法を提供することができる。As described above in detail with reference to the embodiments, according to the present invention, it is possible to provide a method for forming a black matrix of a color cathode ray tube with high precision in a short time and in a simple process. it can.
Claims (1)
て、 実質的に透明な基板上に、 (イ) 一般式下記「化１」で表わされる構造単位を有する
高分子化合物と、 【化１】 (ロ) 光の照射により酸を発生する系と、 (ハ) 黒色顔料とを含有してなる感光性の黒色樹脂組成物
を塗布、乾燥し、黒色樹脂層を形成する工程と、 該黒色樹脂層をパターン露光する工程と、 該露光済みの黒色樹脂層の露光部を除去する現像工程
とを、含むことを特徴とするブラックマトリックスの形
成方法。1. A method for forming a black matrix, comprising: (a) a polymer compound having a structural unit represented by the following general formula "Chemical Formula 1" on a substantially transparent substrate; (B) a step of applying a photosensitive black resin composition containing a system that generates an acid upon irradiation with light and (c) a black pigment and drying the composition to form a black resin layer, and the black resin A method for forming a black matrix, comprising: a step of pattern-exposing the layer, and a developing step of removing an exposed portion of the exposed black resin layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4153382A JPH05341530A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Method for forming black matrix |
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| JP4153382A JPH05341530A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Method for forming black matrix |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH05341530A true JPH05341530A (en) | 1993-12-24 |
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| JP4153382A Pending JPH05341530A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Method for forming black matrix |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05341530A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE38256E1 (en) | 1994-03-15 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photosensitive composition |
| KR100467680B1 (en) * | 1998-12-28 | 2005-06-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | Formation method of black matrix of color CRT |
| KR100467679B1 (en) * | 1998-12-28 | 2005-06-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | Formation method of black matrix of color CRT |
| KR20160102028A (en) | 2014-02-20 | 2016-08-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition, cured object and production method therefor, resin pattern production method, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cutoff filter, and solid imaging device |
| KR20160104021A (en) | 2014-02-20 | 2016-09-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition, cured object and production method therefor, resin pattern production method, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cutoff filter, and solid imaging device |
| JP2021170132A (en) * | 2017-04-07 | 2021-10-28 | 昭和電工株式会社 | Resin composition |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP4153382A patent/JPH05341530A/en active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE38256E1 (en) | 1994-03-15 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photosensitive composition |
| KR100467680B1 (en) * | 1998-12-28 | 2005-06-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | Formation method of black matrix of color CRT |
| KR100467679B1 (en) * | 1998-12-28 | 2005-06-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | Formation method of black matrix of color CRT |
| KR20160102028A (en) | 2014-02-20 | 2016-08-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition, cured object and production method therefor, resin pattern production method, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cutoff filter, and solid imaging device |
| KR20160104021A (en) | 2014-02-20 | 2016-09-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition, cured object and production method therefor, resin pattern production method, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cutoff filter, and solid imaging device |
| US9599901B2 (en) | 2014-02-20 | 2017-03-21 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device |
| US10133175B2 (en) | 2014-02-20 | 2018-11-20 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, cured product and method for producing same, method for producing resin pattern, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cut filter, and solid-state imaging device |
| JP2021170132A (en) * | 2017-04-07 | 2021-10-28 | 昭和電工株式会社 | Resin composition |
| US11561469B2 (en) | 2017-04-07 | 2023-01-24 | Showa Denko K.K. | Photosensitive resin composition |
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