JPH05339555A - Adhesive composition - Google Patents

Adhesive composition

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JPH05339555A
JPH05339555A JP14707392A JP14707392A JPH05339555A JP H05339555 A JPH05339555 A JP H05339555A JP 14707392 A JP14707392 A JP 14707392A JP 14707392 A JP14707392 A JP 14707392A JP H05339555 A JPH05339555 A JP H05339555A
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JP
Japan
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diamine
silicone
dianhydride
diamino
powder
Prior art date
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Application number
JP14707392A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Sakamoto
有史 坂本
Masuo Mizuno
増雄 水野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an adhesive compsn. excellent in stress relaxation characteristics. etc., without detriment to the excellent heat resistance inherent in a polyimide by compounding an epoxy resin with a silicone-modified polyimide powder having low elasticity and water absorption. properties. CONSTITUTION:An adhesive compsn. contains, as the essential components, an epoxy resin, a curative, and a silicone-modified polyimide powder having a particle size of 30mum or lower in a wt. ratio of the powder to the sum of the resin, the curative, and the powder of 0.1-0.9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は応力緩和特性、低吸水性
に優れた接着剤組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive composition having excellent stress relaxation characteristics and low water absorption.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロニクスの分野で用いられる接
着剤は、その要求特性が年々厳しいものになっている。
特に半導体素子のダイマウント用としては、接着剤の特
性がトータル的なパッケージの信頼性向上につながって
きている。その中で応力緩和特性は最も重要な項目であ
る。一般にダイマウント用等の接着剤としてはエポキシ
樹脂、硬化剤、更には無機フィラーからなるペースト状
組成物が広汎に用いられているが、その応力緩和性はい
まだ不十分であり、特に大型素子に対応するためには更
なる改良が必要とされていた。また、エポキシ樹脂系接
着剤は、吸水率が高いためパッケージの温湿度処理後の
半田浸漬等の試験では接着剤に起因するパッケージクラ
ックの発生という問題がありこの点に関しても改良の余
地があった。
2. Description of the Related Art Adhesives used in the field of electronics are becoming more and more demanding in terms of required properties year by year.
Particularly for die mounting of semiconductor devices, the characteristics of the adhesive have led to the improvement of the total package reliability. Among them, stress relaxation property is the most important item. Generally, an epoxy resin, a curing agent, and a paste composition composed of an inorganic filler are widely used as an adhesive for die mounting, but the stress relaxation property thereof is still insufficient, especially for a large element. Further improvements were needed to address it. Further, since the epoxy resin adhesive has a high water absorption rate, there is a problem that a package crack occurs due to the adhesive in a test such as solder dipping after temperature / humidity treatment of the package, and there is room for improvement also in this point. ..

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
上記の問題点を解決せんと鋭意検討の結果、エポキシ樹
脂組成物に応力緩和成分としてシリコーン変性ポリイミ
ド微粒子を添加することにより応力緩和性が向上するこ
とを見い出し本発明を完成させるに至ったものである。
Therefore, the present inventors have found that
As a result of intensive studies to solve the above problems, it was found that the stress relaxation property is improved by adding silicone-modified polyimide fine particles as a stress relaxation component to the epoxy resin composition, and the present invention has been completed. is there.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明はエポキシ
樹脂〔A〕、硬化剤〔B〕、粒子径30μm以下の粉末
状シリコーン変性ポリイミド〔C〕を必須成分とし、か
つ〔A〕,〔B〕,〔C〕の重量比が〔C〕/(〔A〕
+〔B〕+〔C〕)=0.1〜0.9であり、更に、エ
ポキシ樹脂〔A〕、硬化剤〔B〕、粒子径30μm以下
の粉末状シリコーン変性ポリイミド〔C〕及び無機フィ
ラー〔D〕からなり、〔C〕が重量比で〔C〕/
(〔A〕+〔B〕+〔C〕)=0.1〜0.9で、かつ
〔D〕が重量比で〔D〕/(〔A〕+〔B〕+〔C〕+
〔D〕)=0.1〜0.9である接着剤組成物である。
That is, the present invention comprises an epoxy resin [A], a curing agent [B], and a powdery silicone-modified polyimide [C] having a particle diameter of 30 μm or less as essential components, and [A], [ The weight ratio of B] and [C] is [C] / ([A]
+ [B] + [C]) = 0.1 to 0.9, and further, an epoxy resin [A], a curing agent [B], a powdery silicone-modified polyimide [C] having a particle diameter of 30 μm or less, and an inorganic filler. [C] / [C] in weight ratio
([A] + [B] + [C]) = 0.1 to 0.9, and [D] is a weight ratio of [D] / ([A] + [B] + [C] +
[D]) = 0.1 to 0.9.

【0005】本発明に用いるエポキシ樹脂は、公知のも
のを用いることができるが、エレクトロニクス関連用途
の場合は加水分解性ハロゲン基の含有量は500ppm
以下であることが好ましい。更には、ペースト状組成物
を得るために常温で液状であることが好ましい。その例
としては、ビスフェノールAジグリジル、フェノールノ
ボラックのグリシジエーテル、ビスフェノールADジグ
リシジル、オキシ安息香酸ジグリシジル、これらの水素
添加化合物等が挙げられる。また、上記エポキシ樹脂に
必要に応じてモノエポキシド、脂環式エポキシド等の反
応性希釈剤、ブチルセロソルブアセテート等の溶剤、又
は固型エポキシ樹脂を添加してもよい。
As the epoxy resin used in the present invention, known epoxy resins can be used, but in the case of electronics-related applications, the content of hydrolyzable halogen groups is 500 ppm.
The following is preferable. Furthermore, in order to obtain a paste composition, it is preferably liquid at room temperature. Examples thereof include bisphenol A diglycidyl, phenol novolac glycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl, diglycidyl oxybenzoate, and hydrogenated compounds thereof. If necessary, a reactive diluent such as monoepoxide or alicyclic epoxide, a solvent such as butyl cellosolve acetate, or a solid epoxy resin may be added to the above epoxy resin.

【0006】本発明に用いられる硬化剤としては多価フ
ェノール類、芳香族系多塩基酸類、アミン系化合物等が
用いられる。これらの硬化剤は必要により2種以上を併
用してもよい。次に本発明に用いられるシリコーン変性
ポリイミド樹脂は芳香族酸二無水物、シロキサン結合を
有するジアミンを含むジアミンを縮合脱水し合成する。
As the curing agent used in the present invention, polyhydric phenols, aromatic polybasic acids, amine compounds and the like are used. These curing agents may be used in combination of two or more if necessary. Next, the silicone-modified polyimide resin used in the present invention is synthesized by condensation dehydration of aromatic acid dianhydride and diamine containing diamine having a siloxane bond.

【0007】芳香族酸二無水物としては、本発明におい
て使用されるポリイミド樹脂を構成する酸二無水物成分
の例を挙げると、ピロメリット酸二無水物、3,3′,
4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,2′,3,3′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,3′,4′−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,7−テ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,5,6
−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
1,2,6,7−テトラカルボン酸二無水物、4,8−
ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフ
タレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、
4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒ
ドロナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二
無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロナフタ
レン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−
テトラクロロナフタレン−2,3,6,7−テトラカル
ボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ジフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3′,4′−ジ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3″,4,
4″−p−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,2″,3,3″−p−テルフェニルテトラカルボン
酸二無水物、2,3,3″,4″−p−テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカ
ルボキシフェニル)−プロパン二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−プロパン二無水
物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メ
タン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ペ
リレン−2,3,8,9−テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン−4,5,10,11−テトラカルボン酸
二無水物、ペリレン−5,6,11,12−テトラカル
ボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,7,8−テ
トラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,
6,7−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−
1,2,9,10−テトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無
水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸
二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボ
ン酸二無水物などがあげられるが、これらに限定される
ものではない。
As the aromatic dianhydride, examples of the acid dianhydride component constituting the polyimide resin used in the present invention include pyromellitic dianhydride, 3,3 ',
4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride,
2,2 ', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride Anhydrous, naphthalene-1,2,5,6
-Tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,
4,5,8-Tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-
1,2,6,7-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-
Dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride,
4,8-Dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,5 8
-Tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4
5,8-Tetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8-
Tetrachloronaphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenyltetracarboxylic Acid dianhydride, 2,3,3 ', 4'-diphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ", 4
4 ″ -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride,
2,2 ", 3,3" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ", 4" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,2 3-dicarboxyphenyl) -propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -propane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3 , 4-Dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, perylene-2,3,8,9-tetracarboxylic dianhydride,
Perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, perylene-4,5,10,11-tetracarboxylic dianhydride, perylene-5,6,11,12-tetracarboxylic dianhydride , Phenanthrene-1,2,7,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,
6,7-Tetracarboxylic acid dianhydride, phenanthrene-
1,2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, Examples thereof include, but are not limited to, pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride and thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride.

【0008】本発明において用いられるジアミンの例を
具体的に挙げると、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビ
フェニル、4,6−ジメチル−m−フェニレンジアミ
ン、2,5−ジメチル−p−フェニレンジアミン、2,
4−ジアミノメシチレン、4,4′−メチレンジ−o−
トルイジン、4,4′−メチレンジ−2,6−キシリジ
ン、4,4′−メチレン−2,6−ジエチルアニリン、
2,4−トルエンジアミン、m−フェニレン−ジアミ
ン、p−フェニレン−ジアミン、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルプロパン、3,3′−ジアミノ−ジフェニル
プロパン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエタン、
3,3′−ジアミノ−ジフェニルエタン、4,4′−ジ
アミノ−ジフェニルメタン、3,3′−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、4,4′、ジアミノ−ジフェニルスルフ
ィド、3,3′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、
4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、3,3′−
ジアミノ−ジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノ−ジフェニル
エーテル、ベンジジン、3,3′−ジアミノ−ビフェニ
ル、3,3′−ジメチル−4,4´−ジアミノ−ビフェ
ニル、3,3′−ジメトキシ−ベンジジン、4,4″−
ジアミノ−p−テルフェニル、3,3″−ジアミノ−p
−テルフェニル、ビス(p−アミノ−シクロヘキシル)
メタン、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノペンチ
ル)ベンゼン、p−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペ
ンチル)ベンゼン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン、1,5−ジアミノ−ナフ
タレン、2,6−ジアミノ−ナフタレン、2,4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、2,4−ジアミ
ノ−トルエン、m−キシレン−2,5−ジアミン、p−
キシレン−2,5−ジアミン、m−キシリレン−ジアミ
ン、p−キシリレン−ジアミン、2,6−ジアミノ−ピ
リジン、2,5−ジアミノ−ピリジン、2,5−ジアミ
ノ−1,3,4−オキサジアゾール、1,4−ジアミノ
−シクロヘキサン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、
エチレン−ジアミン、プロピレン−ジアミン、2,2−
ジメチル−プロピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジ
アミン、ペンタメチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−
ジアミン、2,5−ジメチル−ヘキサメチレン−ジアミ
ン、3−メトキシ−ヘキサメチレン−ジアミン、ヘプタ
メチレン−ジアミン、2,5−ジメチル−ヘプタメチレ
ン−ジアミン、3−メチル−ヘプタメチレン−ジアミ
ン、4,4−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、オ
クタメチレン−ジアミン、ノナメチレン−ジアミン、5
−メチル−ノナメチレン−ジアミン、2,5ジメチル−
ノナメチレン−ジアミン、デカメチレン−ジアミン、
1,10−ジアミノ−1,10−ジメチル−デカン、
2,11−ジアミノ−ドデカン、1,12−ジアミノ−
オクタデカン、2,12−ジアミノ−オクタデカン、
2,17−ジアミノ−アイコサンなどがあげられるが、
これらに限定されるものではない。
Specific examples of the diamine used in the present invention are 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and 1,3-bis (4-aminophenoxy).
Benzene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,6-dimethyl-m-phenylenediamine, 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine, 2,
4-diaminomesitylene, 4,4'-methylenedi-o-
Toluidine, 4,4'-methylenedi-2,6-xylidine, 4,4'-methylene-2,6-diethylaniline,
2,4-toluenediamine, m-phenylene-diamine, p-phenylene-diamine, 4,4'-diamino-
Diphenylpropane, 3,3'-diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylethane,
3,3'-diamino-diphenylethane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, 3,3'-diamino-diphenylmethane, 4,4 ', diamino-diphenyl sulfide, 3,3'-diamino-diphenyl sulfide,
4,4'-diamino-diphenyl sulfone, 3,3'-
Diamino-diphenyl sulfone, 4,4'-diamino-
Diphenyl ether, 3,3'-diamino-diphenyl ether, benzidine, 3,3'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxy-benzidine, 4,4 ″ −
Diamino-p-terphenyl, 3,3 "-diamino-p
-Terphenyl, bis (p-amino-cyclohexyl)
Methane, bis (p-β-amino-t-butylphenyl)
Ether, bis (p-β-methyl-δ-aminopentyl) benzene, p-bis (2-methyl-4-amino-pentyl) benzene, p-bis (1,1-dimethyl-5-)
Amino-pentyl) benzene, 1,5-diamino-naphthalene, 2,6-diamino-naphthalene, 2,4-bis (β-amino-t-butyl) toluene, 2,4-diamino-toluene, m-xylene- 2,5-diamine, p-
Xylene-2,5-diamine, m-xylylene-diamine, p-xylylene-diamine, 2,6-diamino-pyridine, 2,5-diamino-pyridine, 2,5-diamino-1,3,4-oxadi Azole, 1,4-diamino-cyclohexane, piperazine, methylene-diamine,
Ethylene-diamine, propylene-diamine, 2,2-
Dimethyl-propylene-diamine, tetramethylene-diamine, pentamethylene-diamine, hexamethylene-
Diamine, 2,5-dimethyl-hexamethylene-diamine, 3-methoxy-hexamethylene-diamine, heptamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-heptamethylene-diamine, 3-methyl-heptamethylene-diamine, 4,4 -Dimethyl-heptamethylene-diamine, octamethylene-diamine, nonamethylene-diamine, 5
-Methyl-nonamethylene-diamine, 2,5 dimethyl-
Nonamethylene-diamine, decamethylene-diamine,
1,10-diamino-1,10-dimethyl-decane,
2,11-diamino-dodecane, 1,12-diamino-
Octadecane, 2,12-diamino-octadecane,
2,17-diamino-icosane and the like can be mentioned,
It is not limited to these.

【0009】次にシロキサン結合を有するジアミンの例
としては下記式(1)のジアミノポリシロキサンがあ
る。
Next, as an example of the diamine having a siloxane bond, there is diaminopolysiloxane of the following formula (1).

【0010】[0010]

【化1】 [Chemical 1]

【0011】(R1 ,R2 :2価の炭素数1〜5の脂肪
族基、又は炭素数6以上の芳香族基を示し互に同じであ
っても異っていてもよい。 R3 ,R4 :1価の炭素数1〜5の脂肪族基、又は芳香
族基を示し互に同じであっても異っていてもよい。nは
1〜100の整数)
[0011] (R 1, R 2:. 2 divalent aliphatic group of 1 to 5 carbon atoms, or may even go a mutually same an aromatic group having 6 or more carbon atoms R 3 , R 4 : a monovalent aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms or an aromatic group, which may be the same or different from each other, and n is an integer of 1 to 100).

【0012】シリコーンポリイミドの合成方法として
は、公知の方法が適用される。その例としてはジアミン
を窒素気流下極性溶媒中に溶解させた中に、酸二無水物
を徐々に添加し、所定時間反応しポリアミック酸を合成
し、次いで水と共沸する溶媒を加え加熱し脱水イミド化
を行う。更に水やメタノール中に生成物を徐々に滴下し
てポリマーを沈澱させ、濾別、乾燥させてポリマーを精
製する。このようにして得られるシリコーン変性ポリイ
ミドはイミド化率が60%以上のものが好ましい。イミ
ド化率が低いと接着剤に添加した場合、硬化時のボイド
の発生につながるためである。得られたポリマーはミキ
サー等を用いて微粉末に粉砕し、必要により篩を通し、
30μm以下の粉末にする。
As a method of synthesizing the silicone polyimide, a known method is applied. As an example, while diamine is dissolved in a polar solvent under a nitrogen stream, acid dianhydride is gradually added, polyamic acid is synthesized by reacting for a predetermined time, and then a solvent that is azeotropic with water is added and heated. Perform dehydration imidization. Further, the product is gradually dropped into water or methanol to precipitate the polymer, which is filtered and dried to purify the polymer. The silicone-modified polyimide thus obtained preferably has an imidization ratio of 60% or more. This is because when the imidization ratio is low, when added to the adhesive, voids are generated during curing. The obtained polymer is pulverized into a fine powder using a mixer or the like, and if necessary passed through a sieve,
The powder is 30 μm or less.

【0013】1)30μmを越える粒子があると、接着
剤を被着体に塗布した時の厚みのばらつきを生ずるため
好ましくない。このシリコーン変性ポリイミド〔C〕の
粉末をエポキシ樹脂〔A〕、硬化剤〔B〕からなる組成
物に添加しペースト状組成物を製造する。 2)シリコーン変性ポリイミドの粉末は接着剤硬化時に
エポキシ樹脂に溶解し分散度が向上するものであること
が好ましい。粉末のまま残存すると例えば電気伝導性フ
ィラーを添加した場合、その電気特性に支障をきたすた
めである。そのため全ポリマー中のシロキサンユニット
の重量比は25%以下であることが好ましい。又、ポリ
マーの末端をアミンあるいはジカルボン酸末端にするこ
とによりエポキシ樹脂との反応性を可能にすることによ
り、最終硬化物のエポキシ樹脂に対しシリコーン変性ポ
リイミドの溶解性が向上するため好ましい。
1) The presence of particles having a particle size of more than 30 μm is not preferable because it causes variations in thickness when the adhesive is applied to an adherend. The powder of this silicone-modified polyimide [C] is added to a composition comprising an epoxy resin [A] and a curing agent [B] to produce a paste composition. 2) It is preferable that the powder of silicone-modified polyimide is one that is dissolved in the epoxy resin when the adhesive is cured and the degree of dispersion is improved. This is because if the powder remains as it is, for example, when an electrically conductive filler is added, its electrical characteristics are impaired. Therefore, the weight ratio of siloxane units in all polymers is preferably 25% or less. It is also preferable that the end of the polymer is amine or dicarboxylic acid to allow reactivity with the epoxy resin, since the solubility of the silicone-modified polyimide in the epoxy resin of the final cured product is improved.

【0014】シリコーン変性ポリイミドの添加量は重量
比で〔C〕/(〔A〕+〔B〕+〔C〕)=0.1〜
0.9の範囲であることが必要である。0.1未満であ
ればエポキシ樹脂の応力緩和性の向上、吸水率の低下が
期待できず、0.9を越えると接着強度、特に熱時接着
強度が劣ってしまう。更に粘度が高すぎ作業性が悪くな
る。なお、これら接着剤組成物には更に、無機フィラー
を添加し熱伝導性、電気伝導性、機械強度の向上等を付
与することもできる。その添加量は重量比で〔D〕は
〔D〕/(〔A〕+〔B〕+〔C〕+〔D〕)=0.1
〜0.9であることが必要である。0.1未満では無機
フィラーの特性を十分生かしきれず、かつ0.9を越え
ると接着剤の接着力低下につながる。本発明で用いる無
機フィラーの例としては、Au、Ag、Cu、Al、N
i、Zn等の金属粉末、SiO2、Al23、ZnO、
TiO2、BeO等の金属酸化物、AlN、BN、Si3
4等の窒化物、SiC、カーボン、ダイアモンド等の
炭化物が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
The addition amount of the silicone-modified polyimide is [C] / ([A] + [B] + [C]) = 0.1 by weight ratio.
It should be in the range of 0.9. If it is less than 0.1, improvement in stress relaxation of the epoxy resin and reduction in water absorption cannot be expected, and if it exceeds 0.9, the adhesive strength, especially the adhesive strength at the time of heating is deteriorated. Further, the viscosity is too high and the workability is deteriorated. In addition, it is also possible to add an inorganic filler to these adhesive compositions to impart thermal conductivity, electrical conductivity, mechanical strength and the like. The addition amount is a weight ratio [D] is [D] / ([A] + [B] + [C] + [D]) = 0.1
It is necessary to be ~ 0.9. If it is less than 0.1, the characteristics of the inorganic filler cannot be fully utilized, and if it exceeds 0.9, the adhesive strength of the adhesive is reduced. Examples of the inorganic filler used in the present invention include Au, Ag, Cu, Al and N.
i, metal powder such as Zn, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZnO,
Metal oxides such as TiO 2 and BeO, AlN, BN, Si 3
Examples thereof include nitrides such as N 4 and carbides such as SiC, carbon, and diamond, but are not limited to these.

【0015】シリコーン変性ポリイミドの製造例 製造例1 温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備
えた四つ口フラスコに、1,3−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン(以下APB)1462g(0.05
mol)、下記式(2)で示されるシリコーンジアミン(以
下G9)42.09g(0.05mol)を仕込み、N−メ
チル−2−ピロリドン300gに溶解させ、2,2′,
3,3′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
(以下BTDA)32.22g(0.1mol)を、15分
間かけて粉状のまま徐々に添加した後窒素気流下、20
℃で5時間撹拌を続け反応を行った。次いでこの系にト
ルエン25gを添加し、乾燥窒素導入管の代りにディー
ンスターチ還流冷却管を取付け、オイルバスにて加熱
し、イミド化によって生じる水をトルエンとの共沸によ
り系外へ除去しながら加熱し続け、160〜170℃で
イミド化を進め、水の発生のなくなった5時間後に反応
を終了させた。このポリイミドワニスを30lのメタノ
ール中に撹拌しながら、1時間かけて滴下し樹脂を沈澱
させ濾別し固型分を回収し、80℃、24時間かけ乾燥
させた。得られたポリイミドのイミド化率はIRスペク
トルによる分析により100%イミド化されていること
が確認された。
Production Example of Silicone-Modified Polyimide Production Example 1 1,3-Bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter referred to as "1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene" was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material inlet, and a dry nitrogen gas inlet tube. APB) 1462 g (0.05
mol) and 42.09 g (0.05 mol) of silicone diamine represented by the following formula (2) (hereinafter referred to as G 9 ) were charged and dissolved in 300 g of N-methyl-2-pyrrolidone to prepare 2,2 ′,
32.22 g (0.1 mol) of 3,3′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter referred to as BTDA) was gradually added in powder form over 15 minutes, and then, under a nitrogen stream, 20
Stirring was continued for 5 hours at 0 ° C to carry out the reaction. Next, 25 g of toluene was added to this system, a Dean Starch reflux cooling tube was attached instead of the dry nitrogen introduction tube, and the mixture was heated in an oil bath to remove water generated by imidization from the system by azeotropic distillation with toluene. Heating was continued, imidization was promoted at 160 to 170 ° C., and the reaction was terminated 5 hours after the generation of water stopped. This polyimide varnish was added dropwise to 30 liters of methanol with stirring for 1 hour to precipitate the resin, and the solid component was collected by filtration and dried at 80 ° C. for 24 hours. The imidation ratio of the obtained polyimide was confirmed to be 100% imidized by analysis by IR spectrum.

【0016】[0016]

【化2】 [Chemical 2]

【0017】このシリコーン変性ポリイミドをドライア
イスで冷却しつつミキサーにて粉末状にし、更に篩を通
すことにより最大粒径30μm以下のシリコーン変性ポ
リイミド粒子を製造した。(この粉末をS1とする。)
This silicone-modified polyimide was powdered with a mixer while being cooled with dry ice, and was passed through a sieve to produce silicone-modified polyimide particles having a maximum particle size of 30 μm or less. (This powder is designated as S1.)

【0018】製造例2、3 表1に示す配合割合で、実施例1と同様にしてシリコー
ン変性ポリイミド粒子を製造した。この粉末をS2、S
3とする。
Production Examples 2 and 3 Silicone-modified polyimide particles were produced in the same manner as in Example 1 with the compounding ratios shown in Table 1. Add this powder to S2, S
Set to 3.

【0019】以下本発明を実施例で具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【実施例】【Example】

実施例1 ビスフェノールAジグリシジル(以下DGEBA,エポキシ当量190) 50重量部 C14の長鎖脂肪酸のグリシジルエステル(以下C14) 50重量部 ジシアンジアミド(以下DDA) 4重量部 シリコーン変性ポリイミド粉末(S1) 40重量部 1,8ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン7のフェノール塩 (以下DBU−Ph) 0.5重量部 銀粉 560重量部 ブチルセロソルブアセテート 10重量部 上記各成分を三本ロールを用いて、均一に混練しペース
ト状接着剤を調製した。 このペーストを銅フレーム上
に塗布し、6×12mm、厚み300μmのシリコーンベ
アーチップをマウントし、200℃、1hrで硬化させ
チップ歪み、硬化物の吸水率、弾性率及び熱時接着強度
を評価した。評価結果を表1に示す。
Example 1 Bisphenol A diglycidyl (hereinafter DGEBA, epoxy equivalent 190) 50 parts by weight C 14 glycidyl ester of a long-chain fatty acid (hereinafter C 14 ) 50 parts by weight Dicyandiamide (hereinafter DDA) 4 parts by weight Silicone modified polyimide powder (S1) 40 Parts by weight 1,8 diazabicyclo (5,4,0) undecene 7 phenol salt (hereinafter DBU-Ph) 0.5 parts by weight silver powder 560 parts by weight butyl cellosolve acetate 10 parts by weight Using the three rolls, the above components are uniformly mixed. Was kneaded to prepare a paste adhesive. This paste was applied on a copper frame, a silicone bare chip having a size of 6 × 12 mm and a thickness of 300 μm was mounted, and cured at 200 ° C. for 1 hr to evaluate chip distortion, water absorption of the cured product, elastic modulus, and adhesive strength with heat. .. The evaluation results are shown in Table 1.

【0020】チップ歪:銅フレーム上にペーストを塗布
しシリコーンチップ(サイズ:6×12×0.3mm)を
マウントして、200℃、1hrオーブン中で硬化し
た。これに表面粗さ計にてチップの両端を結ぶ線上から
垂直にチップ表面の頂上の高さを測定した。 吸水率:ペーストを50mm×50mm×0.1mmのサイズ
にキャスティングし、200℃、1hrで硬化させ、8
5℃、85%RH、100hr処理した後のフィルムの
吸水率を重量変化率から求めた。 弾性率: 熱時強度:銅フレーム上に2mm×2mm×0.3mmのシリ
コーンチップをペーストでマウントし、200℃、1h
rで硬化させホットプレート上に350℃、20秒置き
直後の剪断強さをプッシュプルゲージにて求めた。
Chip distortion: A paste was applied onto a copper frame, a silicone chip (size: 6 × 12 × 0.3 mm) was mounted, and the chip was cured in an oven at 200 ° C. for 1 hr. Then, the height of the top of the chip surface was measured perpendicularly from a line connecting both ends of the chip with a surface roughness meter. Water absorption rate: The paste is cast into a size of 50 mm × 50 mm × 0.1 mm, cured at 200 ° C. for 1 hr, and
The water absorption of the film after treated at 5 ° C. and 85% RH for 100 hours was calculated from the weight change rate. Elasticity: Thermal strength: 2mm x 2mm x 0.3mm silicone chip mounted on a copper frame with paste, 200 ℃, 1h
It was cured at r and was placed on a hot plate at 350 ° C. for 20 seconds, and the shear strength immediately after it was determined by a push-pull gauge.

【0021】実施例2〜7 表1に示した配合割合で、実施例1と同様にして接着剤
を調製し、実施例1と同様に評価した。評価結果を表1
に示す。 比較例1 シリコーン変性ポリイミド粉末は添加せず、銀粉を40
0重量部にした以外は実施例1と同様に接着剤を調製
し、チップ歪み、硬化物の吸水率、弾性率及び熱時接着
強度を評価した。評価結果を表1に示す。 比較例2、3 表1に示した配合割合で、実施例1と同様にして接着剤
を調製し、実施例1と同様に評価した。評価結果を表1
に示す。なお、比較例3は粘度が高すぎマウント用とし
て使用できなかった。
Examples 2 to 7 Adhesives were prepared in the same manner as in Example 1 with the compounding ratios shown in Table 1, and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results
Shown in. Comparative Example 1 Silicone-modified polyimide powder was not added, and silver powder was added to 40
An adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was 0 parts by weight, and the chip strain, the water absorption rate of the cured product, the elastic modulus, and the adhesive strength with heat were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1. Comparative Examples 2 and 3 Adhesives were prepared in the same manner as in Example 1 with the compounding ratios shown in Table 1, and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results
Shown in. In Comparative Example 3, the viscosity was too high to be used for mounting.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明は低弾性、低吸水性のシリコーン
変性ポリイミド粉末をエポキシ樹脂組成物に添加するこ
とにより、ポリイミドの特徴を生かし耐熱性を低下させ
ず、応力緩和性等の特性に優れた接着剤組成物である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, by adding a silicone-modified polyimide powder having low elasticity and low water absorption to an epoxy resin composition, the characteristics of polyimide are not used, heat resistance is not lowered, and stress relaxation properties are excellent. Adhesive composition.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年7月29日[Submission date] July 29, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0006[Correction target item name] 0006

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0006】本発明に用いられる硬化剤としては多価フ
ェノール類、多塩基酸無水物、アミン系化合物等が用い
られる。これらの硬化剤は必要により2種以上を併用し
てもよい。次に本発明に用いられるシリコーン変性ポリ
イミド樹脂は芳香族酸二無水物、シロキサン結合を有す
るジアミンを含むジアミンを縮合脱水し合成する。
As the curing agent used in the present invention, polyhydric phenols, polybasic acid anhydrides, amine compounds and the like are used. These curing agents may be used in combination of two or more if necessary. Next, the silicone-modified polyimide resin used in the present invention is synthesized by condensation dehydration of aromatic acid dianhydride and diamine containing diamine having a siloxane bond.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0019[Name of item to be corrected] 0019

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0019】以下本発明を実施例で具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【実施例】 実施例1 ビスフェノールAジグリシジル(以下DGEBA,エポキシ当量190) 50重量部 C14の長鎖脂肪酸のグリシジルエステル(以下C14) 50重量部 ジシアンジアミド(以下DDA) 4重量部 シリコーン変性ポリイミド粉末(S1) 40重量部 1,8ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン7のフェノール塩 (以下DBU−Ph) 0.5重量部 銀粉 560重量部 ブチルセロソルブアセテート 10重量部 上記各成分を三本ロールを用いて、均一に混練しペース
ト状接着剤を調製した。 このペーストを銅フレーム上
に塗布し、6×12mm、厚み300μmのシリコンベア
ーチップをマウントし、200℃、1hrで硬化させチ
ップ歪み、硬化物の吸水率、弾性率及び熱時接着強度を
評価した。評価結果を表1に示す。
Example 1 Bisphenol A diglycidyl (hereinafter DGEBA, epoxy equivalent 190) 50 parts by weight C 14 glycidyl ester of long-chain fatty acid (hereinafter C 14 ) 50 parts by weight Dicyandiamide (hereinafter DDA) 4 parts by weight Silicone-modified polyimide powder (S1) 40 parts by weight 1,8 diazabicyclo (5,4,0) undecene 7 phenol salt (hereinafter DBU-Ph) 0.5 parts by weight Silver powder 560 parts by weight butyl cellosolve acetate 10 parts by weight Then, the mixture was uniformly kneaded to prepare a paste adhesive. This paste was applied on a copper frame, a silicon bare chip having a size of 6 × 12 mm and a thickness of 300 μm was mounted, and cured at 200 ° C. for 1 hr to evaluate chip strain, water absorption rate of the cured product, elastic modulus and adhesive strength under heat. .. The evaluation results are shown in Table 1.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0020[Name of item to be corrected] 0020

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0020】チップ歪:銅フレーム上にペーストを塗布
しシリコンチップ(サイズ:6×12×0.3mm)をマ
ウントして、200℃、1hrオーブン中で硬化した。
これに表面粗さ計にてチップの両端を結ぶ線上から垂直
にチップ表面の頂上の高さを測定した。 吸水率:ペーストを50mm×50mm×0.1mmのサイズ
にキャスティングし、200℃、1hrで硬化させ、8
5℃、85%RH、100hr処理した後のフィルムの
吸水率を重量変化率から求めた。 弾性率: 熱時強度:銅フレーム上に2mm×2mm×0.3mmのシリ
コンチップをペーストでマウントし、200℃、1hr
で硬化させホットプレート上に350℃、20秒置き直
後の剪断強さをプッシュプルゲージにて求めた。
Chip distortion: A paste was applied on a copper frame, a silicon chip (size: 6 × 12 × 0.3 mm) was mounted, and it was cured in an oven at 200 ° C. for 1 hr.
Then, the height of the top of the chip surface was measured perpendicularly from a line connecting both ends of the chip with a surface roughness meter. Water absorption rate: The paste is cast into a size of 50 mm × 50 mm × 0.1 mm, cured at 200 ° C. for 1 hr, and
The water absorption of the film after treated at 5 ° C. and 85% RH for 100 hours was calculated from the weight change rate. Elasticity: Thermal strength: 2mm x 2mm x 0.3mm silicon chip mounted on a copper frame with paste, 200 ℃, 1hr
Was cured at 350 ° C. for 20 seconds on a hot plate, and the shear strength immediately after that was determined by a push-pull gauge.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂〔A〕、硬化剤〔B〕、粒
子径30μm以下の粉末状シリコーン変性ポリイミド
〔C〕を必須成分とし、かつ〔A〕,〔B〕,〔C〕の
重量比が〔C〕/(〔A〕+〔B〕+〔C〕)=0.1
〜0.9であることを特徴とする接着剤組成物。
1. An epoxy resin [A], a curing agent [B], a powdery silicone-modified polyimide [C] having a particle diameter of 30 μm or less as essential components, and a weight ratio of [A], [B], and [C]. Is [C] / ([A] + [B] + [C]) = 0.1
Adhesive composition characterized by being -0.9.
【請求項2】 エポキシ樹脂〔A〕、硬化剤〔B〕、粒
子径30μm以下の粉末状シリコーン変性ポリイミド
〔C〕及び無機フィラー〔D〕からなり、〔C〕が重量
比で〔C〕/(〔A〕+〔B〕+〔C〕)=0.1〜
0.9で、かつ〔D〕が重量比で〔D〕/(〔A〕+
〔B〕+〔C〕+〔D〕)=0.1〜0.9であること
を特徴とする接着剤組成物。
2. An epoxy resin [A], a curing agent [B], a powdery silicone-modified polyimide [C] having a particle diameter of 30 μm or less, and an inorganic filler [D], wherein [C] is [C] / weight ratio. ([A] + [B] + [C]) = 0.1
0.9 and [D] is a weight ratio of [D] / ([A] +
[B] + [C] + [D]) = 0.1 to 0.9.
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