JPH05337376A - 素子冷却加熱試験装置 - Google Patents

素子冷却加熱試験装置

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JPH05337376A
JPH05337376A JP15056792A JP15056792A JPH05337376A JP H05337376 A JPH05337376 A JP H05337376A JP 15056792 A JP15056792 A JP 15056792A JP 15056792 A JP15056792 A JP 15056792A JP H05337376 A JPH05337376 A JP H05337376A
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JP
Japan
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cooling
sample
refrigerant
cooling means
heater
Prior art date
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Pending
Application number
JP15056792A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroya Taniguchi
口 裕 哉 谷
Koichi Nakayama
山 宏 一 中
Masatada Yokoi
井 正 忠 横
Kaoru Masuda
田 薫 増
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TEKUNORO KOGYO KK
Aisin Corp
Original Assignee
TEKUNORO KOGYO KK
Aisin Seiki Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05337376A publication Critical patent/JPH05337376A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、素子冷却加熱試験装置外への熱の
洩れを減少させることを目的とする。 【構成】 基台、第1,第2冷却手段および加熱手段を
直列的に接続し、加熱手段の上面に試料ステージを形成
する。更に、加熱手段に例えばスパイラル状の溝を形成
し、その底にヒータを配設する。また、第2冷却手段に
第1冷却手段よりも低温の冷媒を流す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、素子冷却加熱試験装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明に係わる従来技術には様々なもの
が提案されてきている。例えば実公昭61−45872
号公報に開示されたクライオスタットでは、液体窒素等
の寒剤にて試料を冷却するようになつている。ところ
が、この従来技術のものでは試料を電磁石の極間のよう
な狭い場所に配置するためのものであり、試料に磁力を
与える必要がなく、一般の真空容器にて単にサーマルシ
ョックを与えて特性を評価するためには適さない。
【0003】また、試料を高温度まで加熱したい場合に
は素子冷却加熱試験装置外への伝熱が問題となり、耐熱
性の低い一般真空容器を用いることができず、専用の高
耐熱性真空容器が必要となるおそれがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明では、
素子冷却加熱試験装置外への熱の洩れを減少させること
を、その技術的課題とする。
【0005】
【発明の構成】
【0006】
【課題を解決するための手段】前述した本発明の技術的
課題を解決するために講じた本発明の技術的手段は、基
台に固設され、その内部に第1冷媒が流れる第1通路が
形成された第1冷却手段と、一面が第1冷却手段の一面
と熱的に結合され、その内部に第1冷媒よりも低温の第
2冷媒が流れる第2通路が形成された第2冷却手段と、
一面が第2冷却手段の他面と熱的に結合され、その内部
にヒータが配設されると共にその内部を第2冷媒が流
れ、且つ、他面に試料ステージが形成された加熱手段か
ら素子冷却加熱試験装置を構成し、第2冷却手段とヒー
タとの間に空間断熱層を形成したことである。
【0007】
【作用】上述した本発明の技術的手段によれば、空間断
熱層および第1冷却手段によりヒータの発生する高熱は
基台へと伝熱されず、空間断熱層を介して断熱した状態
で試料は高温領域まで加熱される。また、試料は第2冷
媒によって低温領域まで冷却される。
【0008】
【実施例】以下、本発明の技術的手段を具体化した実施
例について添付図面に基づいて説明する。
【0009】図1乃至図3に示す素子冷却加熱試験装置
10おいて、冷却水供給手段(第1冷却手段)30、低
温冷却手段(第2冷却手段)40および加熱手段60
は、溶接あるいは図示しないボルト等を介して直列的に
熱的に結合され、基台11と共に図示しない真空容器内
に収容される。また、加熱手段60の上面は試料18が
配置される試料ステージ15となる。ここで、低温冷却
手段40や加熱手段60は、熱伝導性に優れる材料で形
成され、例えば無酸素銅等が用いられる。
【0010】断熱性材料からなる基台11に脚(ボルト
等)12を介して固設される冷却水供給手段30の内部
には常温領域の冷却水(第1冷媒)が流れる冷却水通路
(第1通路)31が形成され、その両端には冷却水供給
管32および冷却水排出管33が接続されている。尚、
冷却水通路31の配設状態は特に図示しないが、ヒータ
66同様にスパイラル状に形成してもよく、しかし特に
配設状態を限定しない。
【0011】低温冷却手段40の一面は熱反射板13お
よびスペーサ14を介して冷却水供給手段30の一面と
熱的に結合している。図2からもよく分かるように、低
温冷却手段40の内部には液体窒素等の低温冷媒(第2
冷媒)が流れる環状通路(第2通路)41と冷媒溜(第
2通路)42とがブロック43により区画形成されてい
る。また、環状通路21の一部には冷媒供給管44が接
続され、環状通路41と冷媒溜42とは連通路45を介
して連通している。冷却手段12の上面部には排出孔4
6,47が開口しており、それぞれ加熱手段60内に形
成された垂直通路61,62と連通している。また、冷
媒排出管48は加熱手段60内に形成された垂直通路6
3と連通している。
【0012】加熱手段60の内部には断面矩形状で図3
に示すような平面スパイラル状の2つの溝64,65が
形成され、それぞれ垂直通路61,62と連通してい
る。ここで、溝64の上底(試料ステージ14側)には
ヒータ66が密着するように配設されている。この結
果、ヒータ66と溝64の下底との間には空間断熱層6
7が形成される。尚、溝64,65の縦方向長さはでき
る限り長く形成され、且つ、ヒータ66ができる限り試
料ステージ15に接近できるよう、溝64の上底はでき
る限り試料ステージ15に接近することが望ましい。ヒ
ータ66はコネクタ68を介して外部より電力を供給さ
れる。また、溝64,65は各一端においてそれぞれ独
立しているが、他端では接続されて垂直通路63と連通
している。
【0013】尚、本実施例において溝64,65の断面
形状は矩形状のものが示されているが、この矩形状には
限定されず、断面カプセル状や断面楕円状など縦長とな
っていればどのような形状でもよい。また、溝64,6
5の平面形状はスパイラル状のものが示されているが、
試料ステージ15を効率よく加熱できるならば特にこの
形状に限定されるものではない。
【0014】試料ステージ15,低温冷却手段40およ
び加熱手段60を包囲するように、それらの外周には遮
熱板16,17が配設されている。遮熱板16は反射板
13に、遮熱板17は冷却水供給手段30にそれぞれ固
設されている。
【0015】次に、図4に基づいて制御系を説明する。
冷却水供給管32には制御弁21を介して冷却水源22
が接続されている。尚、冷却水排出管33から排出され
た冷却水は冷却水源22へと還流する。冷媒供給管44
には制御弁23を介して低温冷媒源24が接続されてい
る。尚、冷媒排出管48から排出された低温冷媒は低温
冷媒源へと還流する。そして、ヒータ66のコネクタ6
8にはスイッチ25を介して電源26が接続されてい
る。これらの制御弁21,23およびスイッチ25は制
御装置27によりその作動を制御される。また、制御装
置27には試料ステージ15上の温度を検出する温度セ
ンサ28の出力信号などが入力される。
【0016】また、試料ステージ15に試料18を置い
たり取り去ったりするため、上下方向および回転方向に
可動できるピック70が真空容器内に配設されている。
【0017】以上の構成を有する素子冷却加熱試験装置
10の作動について説明する。まず試料18を冷却する
際には、制御装置27が制御弁23のみを開とし、制御
弁21を閉、スイッチ25をオフとする。従って、低温
冷媒源24から低温冷却手段40に低温冷媒が供給され
る。この低温冷媒は環状通路41,冷媒溜42,および
溝64,65を流れて、試料ステージ15を低温冷媒の
温度(液体窒素の場合約77Kであり、低温冷媒の種類
によって可変とできる)程度にまで冷却する。
【0018】この試料ステージ15の冷却が完了した状
態で、ピック70を用いて試料ステージ15上に試料1
8を置き、試料18にサーマルショックを与えてその特
性評価を行う。この特性評価のために、試料18には各
種センサが取り付けられている。尚、本実施例では低温
冷媒を溝64,65の両方に流しているが、いずれか片
側だけに流してもよい。この時、加熱手段60は単なる
熱伝導体として作用する。また、反射板13および遮熱
板16,17の作用によって、低温冷媒の冷熱の試料ス
テージ15外への洩れが少なくなり、試料18を効率よ
く冷却することができる。
【0019】次いで、試料18を加熱してその高温度に
対する熱変化や他の特性評価を行うが、この際には、制
御装置27が制御弁21を開、制御弁23を閉、スイッ
チ25をオンとする。この結果、ヒータ66が通電され
て発熱を開始する。ここで、ヒータ66は溝64の形状
にしたがってスパイラル状に配設されているので試料ス
テージ15全面を均一に加熱し、ひいては試料18全体
を均一に加熱することとなる。尚、試料ステージ15の
温度は温度センサ28により常時モニタされ、スイッチ
25を介してヒータ66への通電量が制御されること
で、試料18は所望の温度(ヒータ材質にもよるが例え
ば最高800℃程度、ヒータ材質としては、例えばニク
ロム,タングステン,モリブデン,白金等)に加熱され
る。また、ヒータ66は溝64の上底に密着して配設さ
れているので、試料ステージ15を効率よく加熱するこ
とができると共に、空間断熱層67により低温冷却手段
40側への熱伝達量が最小限に抑えられる。更に、熱反
射板13および遮熱板16,17の作用により試料ステ
ージ15上の熱の外部への洩れ量が低減し、試料ステー
ジ15上の試料18を効率的かつ経済的に加熱できる。
更には、ヒータ66の発生する熱のうち低温冷却手段4
0を介して基台11へと伝達しようとする熱は冷却水供
給手段30の冷却水通路31を流れる冷却水により冷却
される。
【0020】また、試料ステージ15を予め高温にした
上で、ピック70を用いて試料18を試料ステージ15
上に置けば、試料18に高温側のサーマルショックを与
えることができ、この状態でも試料18の特性評価を行
うことが可能である。
【0021】
【発明の効果】上述したように本発明の素子冷却加熱試
験装置では、空間断熱層および第1冷却手段によりヒー
タの発生する高熱のうち基台へと伝熱される熱量は非常
に少なく、試料加熱時における基台の温度上昇が抑えら
れるので、基台の材質選定にあたっては高耐熱性を考慮
する必要がなくなる。この結果、本素子冷却加熱試験装
置を一般的な真空容器に設置することができ、汎用性に
優れたものとなる。
【0022】また、第2冷媒は冷却手段内のみならず加
熱手段内も流れるため、第2冷媒が試料に接近すること
ができ、試料の冷却効率が向上する。
【0023】更には、遮熱板によって試料ステージ付近
の高熱・冷熱の外部への洩れが少なくなり、経済性すな
わち運転効率に優れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の素子冷却加熱試験装置の構成図
を示す。
【図2】図1におけるA矢視図を示す。
【図3】図1におけるB矢視図を示す。
【図4】従来技術の素子冷却加熱試験装置の構成図を示
す。
【符号の説明】
10 素子冷却加熱試験装置、 11 基台、 15 試料ステージ、 16,17 遮熱板、 30 冷却水供給手段(第1冷却手段)、 31 冷却水通路(第1通路)、 40 低温冷却手段(第2冷却手段)、 41 環状通路(第2通路)、 42 冷媒溜(第2通路)、 60 加熱手段、 66 ヒータ、 67 空間断熱層。
フロントページの続き (72)発明者 横 井 正 忠 愛知県刈谷市朝日町2丁目1番地 アイシ ン精機株式会社内 (72)発明者 増 田 薫 東京都文京区本郷1−10−13 テクノロ工 業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基台に固設され、その内部に第1冷媒が
    流れる第1通路が形成された第1冷却手段と、 一面が前記第1冷却手段の一面と熱的に結合され、その
    内部に前記第1冷媒よりも低温の第2冷媒が流れる第2
    通路が形成された第2冷却手段と、 一面が前記第2冷却手段の他面と熱的に結合され、その
    内部にヒータが配設されると共にその内部を前記第2冷
    媒が流れ、且つ、他面に試料ステージが形成された加熱
    手段から成り、 前記第2冷却手段と前記ヒータとの間に空間断熱層が形
    成されていることを特徴とする素子冷却加熱試験装置。
  2. 【請求項2】 前記試料ステージの外周部には遮熱板が
    配設されていることを特徴とする請求項1記載の素子冷
    却加熱試験装置。
JP15056792A 1992-06-10 1992-06-10 素子冷却加熱試験装置 Pending JPH05337376A (ja)

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JP15056792A JPH05337376A (ja) 1992-06-10 1992-06-10 素子冷却加熱試験装置

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JP15056792A JPH05337376A (ja) 1992-06-10 1992-06-10 素子冷却加熱試験装置

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JPH05337376A true JPH05337376A (ja) 1993-12-21

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JP15056792A Pending JPH05337376A (ja) 1992-06-10 1992-06-10 素子冷却加熱試験装置

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JP (1) JPH05337376A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011010854A2 (ko) 2009-07-20 2011-01-27 (주)Lg화학 발광소자 봉지용 조성물, 발광 다이오드 및 액정표시장치
TWI761113B (zh) * 2021-03-05 2022-04-11 志聖工業股份有限公司 高溫試驗設備

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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