JPH05335919A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH05335919A
JPH05335919A JP4142316A JP14231692A JPH05335919A JP H05335919 A JPH05335919 A JP H05335919A JP 4142316 A JP4142316 A JP 4142316A JP 14231692 A JP14231692 A JP 14231692A JP H05335919 A JPH05335919 A JP H05335919A
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node
capacitance
terminal
switch means
reducing
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JP4142316A
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Yutaka Ikeda
豊 池田
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • H03K17/041Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit
    • H03K17/04106Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit in field-effect transistor switches
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    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • H03K17/6872Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor using complementary field-effect transistors

Abstract

PURPOSE:To suppress the level fluctuation in a signal line pair to be equalized when an equalization circuit transits from an active state to an inactive state. CONSTITUTION:This device is provided with NMOS transistors(TRs) 1, 2, 3 provided in series between nodes A, B and PMOS TRs 4, 5, 6 provided in series between the nodes A, B. The NMOS TRs 1, 3 and the PMOS TRs 4, 6 are usually active and the NMOS TR 2 and the PMOS TR 5 are turned ON/OFF in response to equalize active signals phi and the inverse of phi. Thus, the capacitance among the node A, the NMOS TR 2 and the gate electrode of the PMOS TR 5 is reduced and the capacitance among the node B, the NMOS TR2 and the gate electrode of the PMOS TR 5 is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体集積回路装置に
関し、特に2つのノード間の電位を等しくするイコライ
ズ回路の改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to improvement of an equalize circuit for equalizing potentials between two nodes.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロコンピュータ、半導体記憶装置
などの半導体集積回路装置は、多くのイコライズ回路を
備えている。イコライズ回路は、半導体集積回路装置内
の基準レベルを必要とする一対の信号線の間に設けら
れ、1対の信号線の電位を等しい電位にすることによっ
て、1対の信号線を論理しきい値にする。
2. Description of the Related Art Semiconductor integrated circuit devices such as microcomputers and semiconductor memory devices are provided with many equalizing circuits. The equalizing circuit is provided between a pair of signal lines requiring a reference level in the semiconductor integrated circuit device, and sets the potentials of the pair of signal lines to the same potential, thereby logically thresholding the pair of signal lines. Value.

【0003】図10は、このようなイコライズ回路の従
来例を示す回路図である。図10に示すイコライズ回路
は、Nチャネル型MOSトランジスタ2(以下、NMO
Sトランジスタと称する)、およびPチャネル型MOS
トランジスタ5(以下、PMOSトランジスタと称す
る)を含む。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a conventional example of such an equalizing circuit. The equalizing circuit shown in FIG. 10 is an N-channel MOS transistor 2 (hereinafter referred to as NMO).
S-transistor) and P-channel MOS
The transistor 5 (hereinafter referred to as a PMOS transistor) is included.

【0004】NMOSトランジスタ9は、そのゲート電
極がイコライズ活性化信号φを受けるように接続され、
そのドレイン電極がノードAに接続され、そのソース電
極がノードBに接続される。PMOSトランジスタ5
は、そのゲート電極がイコライズ活性化信号/φを受け
るように接続され、そのドレイン電極がノードAに接続
され、そのソース電極がノードBに接続される。なお、
S1およびS2は、1対の信号線である。
The NMOS transistor 9 has its gate electrode connected to receive the equalize activation signal φ,
Its drain electrode is connected to node A and its source electrode is connected to node B. PMOS transistor 5
Has its gate electrode connected to receive equalize activation signal / φ, its drain electrode connected to node A, and its source electrode connected to node B. In addition,
S1 and S2 are a pair of signal lines.

【0005】図11は、図10に示したイコライズ回路
の各ノードの波形図である。図11(a)はイコライズ
活性化信号φおよび/φの波形を示し、(b)は、ノー
ドAおよびBの波形である。
FIG. 11 is a waveform diagram of each node of the equalize circuit shown in FIG. FIG. 11A shows the waveforms of the equalize activation signals φ and / φ, and FIG. 11B shows the waveforms of the nodes A and B.

【0006】図10および図11を用いて、図10に示
したイコライズ回路の動作を説明する。
The operation of the equalize circuit shown in FIG. 10 will be described with reference to FIGS. 10 and 11.

【0007】まず、ノードAとノードBとを等しい電位
にする場合には、イコライズ活性化信号φが高レベルに
され、イコライズ活性化信号/φが低レベルにされる。
応答して、NMOSトランジスタ2およびPMOSトラ
ンジスタ5はONする。ノードAとノードBとは接続さ
れノードAとノードBの電位は1/2Vccとなる。
First, when the potentials of the node A and the node B are made equal, the equalize activation signal φ is set to the high level and the equalize activation signal / φ is set to the low level.
In response, the NMOS transistor 2 and the PMOS transistor 5 are turned on. The node A and the node B are connected and the potentials of the node A and the node B become 1/2 Vcc.

【0008】次に、データ信号として、信号線S1に電
源電圧Vccを与え、信号線S2に接地電位を与える場
合には、イコライズ活性化信号φを低レベルにし、イコ
ライズ活性化信号/φを高レベルにする。応答して、N
MOSトランジスタ2およびPMOSトランジスタ5は
OFFする。このようにして、ノードAとノードBとは
切離され、各ノードAおよびBの電位は、信号線S1お
よびS2に与えられた信号のレベルに収束する。
When the power supply voltage Vcc is applied to the signal line S1 and the ground potential is applied to the signal line S2 as data signals, the equalize activation signal φ is set to low level and the equalize activation signal / φ is set high. To level. In response, N
The MOS transistor 2 and the PMOS transistor 5 are turned off. In this way, the node A and the node B are separated, and the potentials of the nodes A and B converge on the level of the signal applied to the signal lines S1 and S2.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、イコライズ活
性化信号φが低レベルから高レベルへと遷移するとき、
ノードAおよびBの電位は、一瞬持上がる。このため、
ノードAおよびBの電位が信号のレベルに収束するのが
遅くなる。
However, when the equalize activation signal φ transits from the low level to the high level,
The potentials of the nodes A and B rise for a moment. For this reason,
The potentials of the nodes A and B slow to converge to the signal level.

【0010】このことを図12ないし図15を用いて詳
細に説明する。
This will be described in detail with reference to FIGS. 12 to 15.

【0011】図12は、図10に示したPMOSトラン
ジスタ5の断面構造図である。図13は図10に示した
MOSトランジスタのキャパシタンスに着目した等価回
路図である。図14はPMOSトランジスタ5のキャパ
シタンスの変化を説明するための断面構造図である。図
15はMOSトランジスタのゲート−ソース間およびゲ
ート−ドレイン間のキャパシタンスとイコライズ活性化
信号φ(ゲート電圧)との関係を示すグラフである。
FIG. 12 is a sectional structural view of the PMOS transistor 5 shown in FIG. FIG. 13 is an equivalent circuit diagram focusing on the capacitance of the MOS transistor shown in FIG. FIG. 14 is a sectional structural view for explaining the change in capacitance of the PMOS transistor 5. FIG. 15 is a graph showing the relationship between the gate-source and gate-drain capacitances of the MOS transistor and the equalize activation signal φ (gate voltage).

【0012】図12を参照して、PMOSトランジスタ
5は、N型の半導体基板20と、P型のソース領域21
と、P型のドレイン領域22と、チャネル領域23と、
図示しない絶縁層を介在させてチャネル領域23上に形
成されるゲート電極24とを備える。ゲート電極24と
ドレイン領域21との間には、寄生的にキャパシタンス
DPが存在する。ゲート電極24とソース領域22との
間には、寄生的にキャパシタンスCSPが存在する。この
ようなキャパシタンスは、NMOSトランジスタ2につ
いても同様に存在する。これらのキャパシタンスに着目
すると、図10に示したイコライズ回路は、図13の等
価回路で示すことができる。
Referring to FIG. 12, the PMOS transistor 5 includes an N type semiconductor substrate 20 and a P type source region 21.
A P-type drain region 22, a channel region 23,
The gate electrode 24 is formed on the channel region 23 with an insulating layer (not shown) interposed. A capacitance C DP exists parasitically between the gate electrode 24 and the drain region 21. A capacitance C SP parasitically exists between the gate electrode 24 and the source region 22. Such capacitance exists in the NMOS transistor 2 as well. Focusing on these capacitances, the equalizing circuit shown in FIG. 10 can be represented by an equivalent circuit shown in FIG.

【0013】次に図14を参照してキャパシタンスCDP
およびCSPの変化を説明する。
Next, referring to FIG. 14, the capacitance C DP
And the changes in C SP are explained.

【0014】まずイコライズ活性化信号/φが低レベル
になると、ゲート電極24が負に帯電し、チャネル領域
24の電子が追い払われ、プラスの電荷が現われる。こ
のようにして、チャネル領域24が深くなり、チャネル
24に蓄積されるプラスの電荷が多くなる。したがっ
て、キャパシタンスCDPおよびCSPが図15に示すごと
く大きくなる。
First, when the equalize activation signal / φ becomes low level, the gate electrode 24 is negatively charged, the electrons in the channel region 24 are driven away, and a positive charge appears. In this way, the channel region 24 becomes deep, and the amount of positive charges accumulated in the channel 24 increases. Therefore, the capacitances C DP and C SP become large as shown in FIG.

【0015】この結果、イコライズ活性化信号/φが低
レベルから高レベルに遷移するとき、PMOSトランジ
スタ5のゲート−ソース間のキャパシタンスCSPおよび
ゲート−ドレイン間のキャパシタンスCDPの影響を受
け、図11に示したように、ノードAおよびBの電位は
一瞬持上がることになる。したがって、イコライズ回路
が不活性状態になってから、イコライズしていたノード
AおよびBの電位が信号S1およびS2に与えられた電
位に収束するのが遅くなる。
As a result, when the equalize activation signal / φ transits from the low level to the high level, it is affected by the gate-source capacitance C SP and the gate-drain capacitance C DP of the PMOS transistor 5, and As shown in 11, the potentials of the nodes A and B are momentarily raised. Therefore, after the equalizing circuit is inactivated, the potentials of the equalized nodes A and B are slowed to converge to the potentials given to the signals S1 and S2.

【0016】それゆえに、この発明の目的は、イコライ
ズ回路が不活性状態になってからイコライズしていたノ
ードの電位が収束するまでの時間を短縮することであ
る。
Therefore, an object of the present invention is to shorten the time from the inactivation of the equalizing circuit to the convergence of the potential of the equalized node.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体集
積回路装置は、同じ電位にする必要がある第1および第
2のノードと、第1および第2のスイッチ手段と、第1
ないし第4のキャパシタンス低減手段とを含む。
A semiconductor integrated circuit device according to a first aspect of the present invention includes first and second nodes, first and second switch means, which are required to have the same potential, and first and second switch means.
To fourth capacitance reducing means.

【0018】第1および第2のスイッチ手段は、各々が
制御端子と第1および第2の導通端子を備え、入力され
るイコライズ活性化信号に応答して、ON/OFFす
る。
The first and second switch means each have a control terminal and first and second conduction terminals, and are turned on / off in response to an equalize activation signal inputted.

【0019】第1のキャパシタンス低減手段は、第1の
ノードと第1のスイッチ手段の第1の導通端子との間に
接続され、第1のノードと第1のスイッチ手段の制御端
子との間のキャパシタンスを低減する。
The first capacitance reducing means is connected between the first node and the first conductive terminal of the first switch means, and is connected between the first node and the control terminal of the first switch means. Reduce the capacitance of.

【0020】第2のキャパシタンス低減手段は、第1の
ノードと第2のスイッチ手段の第1の導通端子との間に
接続され、第1のノードと第2のスイッチ手段の制御端
子との間のキャパシタンスを低減する。
The second capacitance reducing means is connected between the first node and the first conducting terminal of the second switch means, and between the first node and the control terminal of the second switch means. Reduce the capacitance of.

【0021】第3のキャパシタンス低減手段は、第2の
ノードと第1のスイッチ手段の第2の導通端子との間に
接続され、第2のノードと第1のスイッチ手段の制御端
子との間のキャパシタンスを低減する。
The third capacitance reducing means is connected between the second node and the second conducting terminal of the first switch means, and between the second node and the control terminal of the first switch means. Reduce the capacitance of.

【0022】第4のキャパシタンス低減手段は、第2の
ノードと第2のスイッチ手段の第2の導通端子と間に接
続され、第2のノードと第2のスイッチ手段の制御端子
との間のキャパシタンスを低減する。
The fourth capacitance reducing means is connected between the second node and the second conductive terminal of the second switch means, and is connected between the second node and the control terminal of the second switch means. Reduce capacitance.

【0023】請求項2の発明に係る半導体集積回路装置
は、請求項1の半導体集積回路装置と同様に、第1およ
び第2のノードと、第1および第2のスイッチ手段とを
含み、さらに第1のキャパシタンス低減手段と、第2の
キャパシタンス低減手段とを含む。
A semiconductor integrated circuit device according to a second aspect of the present invention, like the semiconductor integrated circuit device of the first aspect, includes first and second nodes, first and second switch means, and A first capacitance reducing means and a second capacitance reducing means are included.

【0024】第1のキャパシタンス低減手段は第1のノ
ードと第1のスイッチ手段の第1の導通手段との間およ
び第2のノードと第1のスイッチ手段の第2の導通端子
との間のいずれか一方に接続され、第1または第2のノ
ードと第1のスイッチ手段の制御手段との間のキャパシ
タンスを低減する。
The first capacitance reducing means is between the first node and the first conducting means of the first switch means and between the second node and the second conducting terminal of the first switch means. It is connected to either one and reduces the capacitance between the first or second node and the control means of the first switch means.

【0025】第2のキャパシタンス低減手段は、第1の
ノードと第2のスイッチ手段の第1の導通端子との間お
よび第2のノードと第2のスイッチ手段の第2の導通端
子との間のいずれか一方に接続され、第1または第2の
ノードと第2のスイッチ手段の制御端子との間のキャパ
シタンスを低減する。
The second capacitance reducing means is between the first node and the first conductive terminal of the second switch means and between the second node and the second conductive terminal of the second switch means. To reduce the capacitance between the first or second node and the control terminal of the second switch means.

【0026】請求項3の発明に係る半導体集積回路装置
は、同じ電位にする必要がある第1および第2のノード
と、スイッチ手段と、第1および第2のキャパシタンス
低減手段を備える。
A semiconductor integrated circuit device according to a third aspect of the present invention comprises first and second nodes that need to be at the same potential, switch means, and first and second capacitance reducing means.

【0027】スイッチ手段は、制御端子と第1および第
2の導通端子とを備え、入力されるイコライズ活性化信
号に応答して、ON/OFFする。
The switch means has a control terminal and first and second conduction terminals, and is turned on / off in response to an input equalize activation signal.

【0028】第1のキャパシタンス低減手段は、第1の
ノードと第1のスイッチ手段の第1の導通端子との間に
接続され第1のノードとスイッチ手段の制御端子との間
のキャパシタンスを低減する。
The first capacitance reducing means is connected between the first node and the first conductive terminal of the first switch means and reduces the capacitance between the first node and the control terminal of the switch means. To do.

【0029】第2のキャパシタンス低減手段は、第2の
ノードとスイッチ手段の第2の導通端子との間に接続さ
れ、第2のノードとスイッチ手段の制御端子との間のキ
ャパシタンスを低減する。
The second capacitance reducing means is connected between the second node and the second conductive terminal of the switch means, and reduces the capacitance between the second node and the control terminal of the switch means.

【0030】請求項4の発明に係る半導体集積回路装置
は、同じ電位にする必要がある第1および第2のノード
と、第1ないし第3のNチャネル型MOSトランジスタ
と、第1ないし第3のPチャネル型MOSトランジスタ
とを含む。
According to another aspect of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the first and second nodes which need to have the same potential, the first to third N-channel MOS transistors, and the first to third nodes. P channel type MOS transistor.

【0031】第1のNチャネル型MOSトランジスタ
は、入力されるイコライズ活性化信号に応答して、ON
/OFFする。
The first N-channel MOS transistor is turned on in response to the input equalize activation signal.
/ OFF.

【0032】第1のPチャネル型MOSトランジスタ
は、入力されるイコライズ活性化信号に応答してON/
OFFする。
The first P-channel type MOS transistor is turned on / off in response to the input equalize activation signal.
Turn off.

【0033】第2のNチャネル型MOSトランジスタ
は、第1のノードにドレイン電極が接続され、第1のN
チャネル型MOSトランジスタのドレイン電極にソース
が接続され、ゲート電極が電源電圧を受けるように接続
される。
In the second N-channel MOS transistor, the drain electrode is connected to the first node and the first N-channel MOS transistor is connected.
The source is connected to the drain electrode of the channel type MOS transistor, and the gate electrode is connected to receive the power supply voltage.

【0034】第2のPチャネル型MOSトランジスタ
は、第1のノードにドレイン電極が接続され、第1のP
チャネル型MOSトランジスタのドレイン電極にソース
電極が接続され、ゲート電極が接地端子に接続される。
In the second P-channel MOS transistor, the drain electrode is connected to the first node and the first P-channel MOS transistor is connected.
The source electrode is connected to the drain electrode of the channel type MOS transistor, and the gate electrode is connected to the ground terminal.

【0035】第3のNチャネル型MOSトランジスタ
は、第2のノードにソース電極が接続され、第1のNチ
ャネル型MOSトランジスタのソース電極にソース電極
が接続され、ゲート電極が電源電圧を受けるように接続
される。
In the third N-channel MOS transistor, the source electrode is connected to the second node, the source electrode is connected to the source electrode of the first N-channel MOS transistor, and the gate electrode receives the power supply voltage. Connected to.

【0036】第3のPチャネル型MOSトランジスタ
は、第2のノードにドレイン電極が接続され、第1のP
チャネル型MOSトランジスタのソース電極にソース電
極が接続され、ゲート電極が接地端子に接続される。
In the third P-channel MOS transistor, the drain electrode is connected to the second node and the first P-channel MOS transistor is connected.
The source electrode of the channel MOS transistor is connected to the source electrode, and the gate electrode is connected to the ground terminal.

【0037】[0037]

【作用】請求項1の発明では、第1のノードと第1およ
び第2のスイッチ手段の第1の導通端子との間には、そ
れぞれ第1のキャパシタンス低減手段と第2のキャパシ
タンス低減手段とが設けられており、かつ第2のノード
と第1および第2のスイッチ手段の第2の導通端子との
間に、第3および第4のキャパシタンス低減手段が設け
られている。したがって、第1および第2のスイッチ手
段の制御端子と第1のノードとの間のキャパシタンス、
および第2のスイッチ手段の制御端子と第2のノードと
の間のキャパシタンスを低減することができる。それに
より第1および第2のスイッチ手段の各々に蓄積される
電荷が小さくなり、第1および第2のスイッチ手段がO
FFした時点において、第1および第2のノードの電位
が持上がるのを抑制できる。この結果、第1および第2
のスイッチ手段がOFFしてから第1および第2のノー
ドの電位が与えられた信号のレベルに達するまでの時間
が短縮される。
According to the invention of claim 1, a first capacitance reducing means and a second capacitance reducing means are provided between the first node and the first conducting terminals of the first and second switch means, respectively. And the third and fourth capacitance reducing means are provided between the second node and the second conducting terminals of the first and second switch means. Therefore, the capacitance between the control terminals of the first and second switch means and the first node,
And the capacitance between the control terminal of the second switch means and the second node can be reduced. As a result, the electric charge accumulated in each of the first and second switch means becomes small, and the first and second switch means become O.
It is possible to prevent the potentials of the first and second nodes from rising at the time of FF. As a result, the first and second
The time from when the switch means of (1) is turned off until the potentials of the first and second nodes reach the level of the applied signal is shortened.

【0038】請求項2の発明では、第1のキャパシタン
ス低減手段により、第1または第2のノードと第1のス
イッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低減
し、第2のキャパシタンス低減手段により、第1または
第2のノードと第2のスイッチ手段の制御端子との間の
キャパシタンスを低減している。それにより、スイッチ
手段のOFF時点で発生するノイズを抑制することがで
きる。また、請求項1に係る発明よりもキャパシタンス
低減手段の数が少なくてすみ半導体集積回路装置の構成
を簡単化することができる。
In the invention of claim 2, the capacitance between the first or second node and the control terminal of the first switch means is reduced by the first capacitance reducing means, and the second capacitance reducing means is used. , Reducing the capacitance between the first or second node and the control terminal of the second switch means. This makes it possible to suppress the noise generated when the switch means is turned off. Further, the number of capacitance reducing means is smaller than that of the invention according to claim 1, and the configuration of the semiconductor integrated circuit device can be simplified.

【0039】請求項4に係る発明では、第1のノードと
第2のノードとの間にNチャネル型MOSトランジスタ
が、第2のNMOSトランジスタ、第1のNMOSトラ
ンジスタ、第3のNMOSトランジスタの順番に接続さ
れる。また、第1のノードと第2のノードとの間に、P
チャネル型MOSトランジスタが、第2のPチャネル型
MOSトランジスタ、第1のPチャネル型MOSトラン
ジスタ、第3のPチャネル型MOSトランジスタの順に
接続される。第2および第3のNチャネル型MOSトラ
ンジスタと第2および第3のPチャネル型MOSトラン
ジスタは、常時ON状態にされているので、これらのO
N状態にされているMOSトランジスタにより発生され
るゲート−ソース間およびゲート−ドレイン間のキャパ
シタンスにより、第1のPチャネル型MOSトランジス
タおよび第1のNチャネル型MOSトランジスタのキャ
パシタンスを低減することができる。
In the invention according to claim 4, the N-channel MOS transistor is arranged between the first node and the second node in the order of the second NMOS transistor, the first NMOS transistor, and the third NMOS transistor. Connected to. Also, between the first node and the second node, P
The channel type MOS transistor is connected in the order of the second P channel type MOS transistor, the first P channel type MOS transistor, and the third P channel type MOS transistor. Since the second and third N-channel MOS transistors and the second and third P-channel MOS transistors are always in the ON state, these O
The capacitances of the first P-channel type MOS transistor and the first N-channel type MOS transistor can be reduced by the gate-source and gate-drain capacitances generated by the MOS transistor in the N state. ..

【0040】この結果、第1のPチャネル型MOSトラ
ンジスタおよび第1のNチャネル型MOSトランジスタ
がOFFした時点において、第1および第2のノードの
電位が持上がるのを抑制できる。
As a result, it is possible to prevent the potentials of the first and second nodes from rising at the time when the first P-channel type MOS transistor and the first N-channel type MOS transistor are turned off.

【0041】[0041]

【実施例】図1は、この発明の一実施例を示す回路図で
ある。図1に示すイコライズ回路と図10に示すイコラ
イズ回路とが異なるところは、ノードAとNMOSトラ
ンジスタ2のドレイン電極との間にNMOSトランジス
タ1が設けられ、ノードBとNMOSトランジスタ2の
ソース電極との間にNMOSトランジスタ3が設けら
れ、ノードAとPMOSトランジスタ5のドレイン電極
との間にPMOSトランジスタ4が設けられ、ノードB
とPMOSトランジスタ5のソース電極との間にPMO
Sトランジスタ6が設けられていることである。
1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention. The difference between the equalizing circuit shown in FIG. 1 and the equalizing circuit shown in FIG. 10 is that the NMOS transistor 1 is provided between the node A and the drain electrode of the NMOS transistor 2, and the node B and the source electrode of the NMOS transistor 2 are connected. An NMOS transistor 3 is provided therebetween, a PMOS transistor 4 is provided between the node A and the drain electrode of the PMOS transistor 5, and a node B is provided.
And the source electrode of the PMOS transistor 5 between the PMO
That is, the S transistor 6 is provided.

【0042】NMOSトランジスタ1は、そのゲート電
極が電源電圧Vccに接続され、そのドレイン電極がノ
ードAに接続され、そのソース電極がNMOSトランジ
スタ2のドレイン電極に接続されている。NMOSトラ
ンジスタ3は、そのゲート電極が電源電圧Vccに接続
され、そのソース電極がNMOSトランジスタ2のソー
ス電極に接続され、そのドレイン電極がノードBに接続
されている。PMOSトランジスタ4は、そのゲート電
極が接地端子GNDに接続され、そのドレイン電極がノ
ードAに接続され、そのソース電極がPMOSトランジ
スタ5のドレイン電極に接続されている。PMOSトラ
ンジスタ6は、そのゲート電極が接地端子GNDに接続
され、そのソース電極がPMOSトランジスタ5のソー
ス電極に接続され、そのドレイン電極がノードBに接続
されている。NMOSトランジスタ1および3とPMO
Sトランジスタ4および6は、常時ON状態である。し
たがって、このイコライズ回路は、図10に示したイコ
ライズ回路と同様に、イコライズ活性化信号φが高レベ
ルであり、/φが低レベルのとき、活性化される。
The NMOS transistor 1 has its gate electrode connected to the power supply voltage Vcc, its drain electrode connected to the node A, and its source electrode connected to the drain electrode of the NMOS transistor 2. The NMOS transistor 3 has its gate electrode connected to the power supply voltage Vcc, its source electrode connected to the source electrode of the NMOS transistor 2, and its drain electrode connected to the node B. The PMOS transistor 4 has its gate electrode connected to the ground terminal GND, its drain electrode connected to the node A, and its source electrode connected to the drain electrode of the PMOS transistor 5. The PMOS transistor 6 has its gate electrode connected to the ground terminal GND, its source electrode connected to the source electrode of the PMOS transistor 5, and its drain electrode connected to the node B. NMOS transistors 1 and 3 and PMO
S transistors 4 and 6 are always on. Therefore, like the equalize circuit shown in FIG. 10, this equalize circuit is activated when equalize activation signal φ is at a high level and / φ is at a low level.

【0043】図2は、図1に示したPMOSトランジス
タ4、5および6の断面構造図である。図2を参照し
て、PMOSトランジスタ4は、P型のドレイン領域2
5と、ゲート電極26と、P型のドレイン領域21と、
チャネル領域27とを備える。ドレイン領域21はPM
OSトランジスタ5のソース領域21と共有される。P
MOSトランジスタ6は、P型のドレイン領域28と、
P型のソース領域22と、ゲート電極29とを備える。
ソース領域22は、PMOSトランジスタ5のソース領
域21とを共有している。PMOSトランジスタ5は、
図11に示したものと同様である。
FIG. 2 is a sectional structural view of the PMOS transistors 4, 5 and 6 shown in FIG. Referring to FIG. 2, the PMOS transistor 4 has a P-type drain region 2
5, the gate electrode 26, the P-type drain region 21,
And a channel region 27. The drain region 21 is PM
It is shared with the source region 21 of the OS transistor 5. P
The MOS transistor 6 includes a P-type drain region 28,
The P-type source region 22 and the gate electrode 29 are provided.
The source region 22 shares the source region 21 of the PMOS transistor 5. The PMOS transistor 5 is
It is similar to that shown in FIG.

【0044】PMOSトランジスタ4および6は、その
ゲート電極26および29が接地端子GNDに接続され
ており、チャネル領域27および32は、プラスの電荷
が蓄積される。それにより、PMOSトランジスタ4の
ゲート電極26とドレイン領域25との間にはキャパシ
タンスCD1が存在し、ゲート電極26とソース領域21
との間にはCS1が存在する。PMOSトランジスタ6の
ゲート電極29とソース領域22との間にはキャパシタ
ンスCS2が存在し、ゲート電極29とドレイン領域28
との間にはキャパシタンスCD2が存在する。PMOSト
ランジスタ4および6は、常時ON状態であるため、キ
ャパシタンスCD1,CS1,CD2およびC S2は最も大きい
状態である。
The PMOS transistors 4 and 6 are
The gate electrodes 26 and 29 are connected to the ground terminal GND
And channel regions 27 and 32 have a positive charge.
Is accumulated. Thereby, the PMOS transistor 4
Capacitance is provided between the gate electrode 26 and the drain region 25.
Closet CD1Exists, and the gate electrode 26 and the source region 21
C betweenS1Exists. Of the PMOS transistor 6
A capacitor is provided between the gate electrode 29 and the source region 22.
CS2Exist, and the gate electrode 29 and the drain region 28
Capacitance C betweenD2Exists. PMOS
Since the transistors 4 and 6 are always on,
Capacity CD1, CS1, CD2And C S2Is the largest
It is in a state.

【0045】図3は、前述したキャパシタンスに着目し
た図1のイコライズ回路の等価回路である。図2におい
て説明したように、PMOSトランジスタ4、5および
6には寄生的にキャパシタンスが存在し、これと同様に
NMOSトランジスタ1、2および3にも寄生的にキャ
パシタンスが存在する。NMOSトランジスタ1は、そ
のゲート−ドレイン間にキャパシタンスCD3を持ち、そ
のゲートとソースとの間にキャパシタンスCS3を持つ。
NMOSトランジスタ6はそのゲートとソースとの間に
キャパシタンスCS4を持ち、そのゲートとドレインとの
間にキャパシタンスCD4を持つ。また、図3に示すRON
は、各MOSトランジスタのON状態時の抵抗値であ
る。
FIG. 3 is an equivalent circuit of the equalize circuit of FIG. 1 focusing on the capacitance described above. As described in FIG. 2, the PMOS transistors 4, 5 and 6 have a parasitic capacitance, and similarly, the NMOS transistors 1, 2 and 3 also have a parasitic capacitance. The NMOS transistor 1 has a capacitance C D3 between its gate and drain and a capacitance C S3 between its gate and source.
The NMOS transistor 6 has a capacitance C S4 between its gate and source and a capacitance C D4 between its gate and drain. In addition, R ON shown in FIG.
Is the resistance value of each MOS transistor in the ON state.

【0046】図3の等価回路により、ノードAとNMO
Sトランジスタ2のゲート電極との間のキャパシタンス
およびノードBとNMOSトランジスタ2のゲート電極
との間のキャパシタンスは、それぞれCDNおよびCSN
りも小さい。また、ノードAとPMOSトランジスタ5
のゲート電極との間のキャパシタンスおよびノードBと
NMOSトランジスタ5のゲート電極との間のキャパシ
タンスは、CDPおよびCSPよりも小さい。したがって、
PMOSトランジスタ5に蓄積されるプラスの電荷が接
地端子GNDに流れやすく、NMOSトランジスタ2に
蓄積されるマイナスの電荷が電源端子Vccに流れやす
くなる。このため、NMOSトランジスタ2およびPM
OS5がOFFしたときに、ノードAおよびBの電位が
持上がるのを抑制できる。このようにして、MOSトラ
ンジスタ2および5がOFFしたときに、ノードAおよ
びBの電位が信号のレベルに収束する時間を短縮でき
る。
According to the equivalent circuit of FIG. 3, the node A and the NMO are
The capacitance between the gate electrode of the S transistor 2 and the capacitance between the node B and the gate electrode of the NMOS transistor 2 are smaller than C DN and C SN , respectively. Also, the node A and the PMOS transistor 5
Of the gate electrode of the NMOS transistor 5 and the capacitance between the node B and the gate electrode of the NMOS transistor 5 are smaller than C DP and C SP . Therefore,
The positive charges accumulated in the PMOS transistor 5 easily flow to the ground terminal GND, and the negative charges accumulated in the NMOS transistor 2 easily flow to the power supply terminal Vcc. Therefore, the NMOS transistor 2 and PM
It is possible to prevent the potentials of the nodes A and B from rising when the OS5 is turned off. In this way, when the MOS transistors 2 and 5 are turned off, the time required for the potentials of the nodes A and B to converge to the signal level can be shortened.

【0047】図4は、図1に示したイコライズ回路の各
ノードの波形図である。図4に示す波形図が、図11に
示す波形図と異なるところは、MOSトランジスタ2お
よび5がOFFした直後に、キャパシタンスCDN
SN、CDPおよびCSPによるノイズが発生しないことで
ある。これは前述したように、ノードAとゲート電極と
の間のキャパシタンスおよびノードBとゲート電極との
間のキャパシタンスが低減されているためである。
FIG. 4 is a waveform diagram of each node of the equalize circuit shown in FIG. The difference between the waveform diagram shown in FIG. 4 and the waveform diagram shown in FIG. 11 is that the capacitance C DN , immediately after the MOS transistors 2 and 5 are turned off,
That is, noise due to C SN , C DP and C SP does not occur. This is because the capacitance between the node A and the gate electrode and the capacitance between the node B and the gate electrode are reduced as described above.

【0048】図5は、この発明の第2の実施例を示す回
路図である。図5に示すイコライズ回路が図1に示すイ
コライズ回路と異なるところは、NMOSトランジスタ
3およびPMOSトランジスタ6が除かれていることで
ある。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention. The equalizing circuit shown in FIG. 5 differs from the equalizing circuit shown in FIG. 1 in that the NMOS transistor 3 and the PMOS transistor 6 are removed.

【0049】図6は、キャパシタンスに着目した図5の
等価回路である。図6を参照して、ノードAとキャパシ
タンスCDNとの間は、ON抵抗RON、キャパシタンスC
D3およびCS3からなるフィルタが形成が形成されてい
る。またノードAとキャパシタンスCDPとの間には、キ
ャパシタンスCD1およびCS1からなるフィルタ回路が形
成されている。それにより、ノードAとMOSトランジ
スタ2および5のゲート電極との間のキャパシタンスは
低減される。この結果、MOSトランジスタ2および5
がOFFしたときに蓄積した電荷が流れやすくなり、ノ
ードAおよびノードBの電位が持上がるのを抑制するこ
とができる。
FIG. 6 is an equivalent circuit of FIG. 5 focusing on the capacitance. Referring to FIG. 6, an ON resistance R ON and a capacitance C ON are provided between the node A and the capacitance C DN.
A filter formed of D3 and C S3 is formed. Further, a filter circuit composed of the capacitances C D1 and C S1 is formed between the node A and the capacitance C DP . Thereby, the capacitance between node A and the gate electrodes of MOS transistors 2 and 5 is reduced. As a result, MOS transistors 2 and 5
When the switch is turned off, the accumulated charge easily flows, and the potentials of the node A and the node B can be suppressed from rising.

【0050】図7は、この発明の第3の実施例を示す回
路図である。図7に示すイコライズ回路が図5に示すイ
コライズ回路と異なるところは、図1に示したイコライ
ズ回路のノードA側のMOSトランジスタ1および4を
取除いていることである。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention. The equalizing circuit shown in FIG. 7 differs from the equalizing circuit shown in FIG. 5 in that MOS transistors 1 and 4 on the node A side of the equalizing circuit shown in FIG. 1 are removed.

【0051】この実施例ではノードBとNMOSトラン
ジスタ2のゲート電極との間のキャパシタンスおよびノ
ードBとPMOSトランジスタ5のゲート電極との間の
キャパシタンスを低減できる。したがって、図5の場合
と同様にMOSトランジスタ2および5がONするとき
において、ノードAおよびBの電位が持上がるのを抑制
できる。
In this embodiment, the capacitance between the node B and the gate electrode of the NMOS transistor 2 and the capacitance between the node B and the gate electrode of the PMOS transistor 5 can be reduced. Therefore, as in the case of FIG. 5, when MOS transistors 2 and 5 are turned on, it is possible to prevent the potentials of nodes A and B from rising.

【0052】図8は、この発明の第4の実施例を示す回
路図である。図8に示すイコライズ回路が、図1に示す
イコライズ回路と異なるところは、PMOSトランジス
タ4、5および6を取除いていることである。このイコ
ライズ回路のキャパシタンスに着目した等価回路は、図
3に示した等価回路から、Pチャネル側回路を取除いた
ものである。したがって、ノードAとNMOSトランジ
スタ2との間にはキャパシタンスCD3、CS3とオン抵抗
ONからなるフィルタ回路が形成される。また、ノード
BとNMOSトランジスタ2との間にはキャパシタンス
D4、CS4とオン抵抗RONからなるフィルタ回路が形成
される。したがって、ノードAとNMOSトランジスタ
2のゲート電極との間およびノードBとNMOSトラン
ジスタ2のゲート電極との間のキャパシタンスが低減さ
れる。この結果、NMOSトランジスタ2がOFFする
ときにおいて、ノードAおよびノードBの電位が持上が
るのを抑制できる。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention. The equalizing circuit shown in FIG. 8 differs from the equalizing circuit shown in FIG. 1 in that PMOS transistors 4, 5 and 6 are removed. An equivalent circuit focusing on the capacitance of the equalizer circuit is obtained by removing the P-channel side circuit from the equivalent circuit shown in FIG. Therefore, a filter circuit including the capacitances C D3 and C S3 and the on-resistance R ON is formed between the node A and the NMOS transistor 2. Further, a filter circuit including capacitances C D4 and C S4 and an on resistance R ON is formed between the node B and the NMOS transistor 2. Therefore, the capacitance between the node A and the gate electrode of the NMOS transistor 2 and between the node B and the gate electrode of the NMOS transistor 2 are reduced. As a result, it is possible to prevent the potentials of the nodes A and B from rising when the NMOS transistor 2 is turned off.

【0053】図9は、この発明の第5の実施例を示す半
導体集積回路装置の一部のブロック図である。図9に示
す半導体集積回路装置100は、行方向に設けられるワ
ード線WL0 ,WL1 と、列方向に設けられるビット線
対B,/Bと、ワード線とビット線の交点に設けられる
メモリセルMCと、データ入出力線I/O0 ,I/O 1
と、センスアンプ101と、センスアンプ101とデー
タ入出力線I/O0 ,I/O1 との間に設けられ、列選
択信号Yに応答して、ON/OFFする列選択用トラン
ジスタTR1およびTR2と、読出されたデータを増幅
するプリアンプ103と、プリアンプ103の前段に設
けられるイコライズ回路102と、プリアンプ103に
より増幅された信号をさらに増幅してデータ出力端子D
oに出力するメインアンプ104とを含む。
FIG. 9 shows a fifth embodiment of the present invention.
It is a block diagram of a part of conductor integrated circuit device. Shown in Figure 9
The semiconductor integrated circuit device 100 is provided in a row direction.
Wire line WL0, WL1And bit lines provided in the column direction
Provided at the intersection of the pair B, / B and the word line and bit line
Memory cell MC and data input / output line I / O0, I / O 1
, Sense amplifier 101, sense amplifier 101 and data
Input / output line I / O0, I / O1It is provided between the and
Column selection transistor that turns ON / OFF in response to the selection signal Y
Amplifies read data with transistors TR1 and TR2
Pre-amplifier 103 and the pre-amplifier 103
The equalizing circuit 102 and the preamplifier 103
Data output terminal D by further amplifying the amplified signal
and a main amplifier 104 that outputs the signal to the o.

【0054】プリアンプ103は、差動増幅回路10
5、106および107と、差動増幅回路105および
106の出力端子に接続される信号線をイコライズする
イコライズ回路108が設けられている。このイコライ
ズ回路108は、図1に示したイコライズ回路が用いら
れている。
The preamplifier 103 is a differential amplifier circuit 10.
5, 106 and 107 and an equalizing circuit 108 for equalizing the signal lines connected to the output terminals of the differential amplifier circuits 105 and 106 are provided. As the equalizer circuit 108, the equalizer circuit shown in FIG. 1 is used.

【0055】イコライズ回路102も、図1に示したイ
コライズ回路と同じ構成にされている。
The equalizing circuit 102 has the same structure as the equalizing circuit shown in FIG.

【0056】次に図9に示した半導体記憶装置の読出動
作について説明する。読出動作の前には、イコライズ活
性化信号φが高レベルにされ、イコライズ活性化信号/
φが低レベルにされる。応答してイコライズ回路102
はデータ入出力I/O0 ,I/O1 を接続しデータ出力
線対の電位を等しい電位にする。またイコライズ回路1
08も同様に、差動増幅器105および106の出力端
子に接続される出力線をイコライズする。このイコライ
ズをした後に、イコライズ活性化信号φ,/φが反転す
ると、応答して、データ入出力I/O0 とI/O1 とを
切離し、データ出力線I/O0 ,I/O1 に現われた電
位を伝達する。このようにして、データ入出力線対およ
び差動増幅回路105および106の出力端子に接続さ
れる信号線をイコライズすることにより、各信号線に伝
達される信号に対して基準レベルを与えることができ
る。
Next, the read operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 9 will be described. Before the read operation, the equalize activation signal φ is set to the high level, and the equalize activation signal /
φ goes low. In response, the equalizing circuit 102
Connects the data input / output I / O 0 and I / O 1 to make the potentials of the data output line pairs equal. Also equalize circuit 1
Similarly, 08 also equalizes the output lines connected to the output terminals of the differential amplifiers 105 and 106. When the equalize activation signals φ and / φ are inverted after this equalization, in response, the data input / output I / O 0 and I / O 1 are separated and the data output lines I / O 0 and I / O 1 are separated. The electric potential that appears in is transmitted. In this way, by equalizing the signal lines connected to the data input / output line pair and the output terminals of the differential amplifier circuits 105 and 106, a reference level can be given to the signal transmitted to each signal line. it can.

【0057】このようにしてイコライズされた後に、デ
ータは次のようにして読出される。すなわち、行方向に
設けられたワード線WL0 ,WL1 と、列方向に設けら
れたビット線対B,/Bを活性化することにより、所望
のメモリセルMCが選択される。選択されたメモリセル
MCから読出されたデータ信号は、センスアンプ101
により増幅された後、列選択用トランジスタTR1およ
びTR2を通してデータ入出力線I/O0 ,I/O1
伝達される。データ入出力線I/O0 ,I/O 1 に伝達
されたデータ信号は、プリアンプ103により増幅され
た後、メインアンプ104に与えられる。メインアンプ
104は、外部の負荷を駆動し得る電位までデータ信号
を増幅し、この増幅したデータ信号をデータ出力端子D
oに与える。
After being equalized in this way, the
The data is read as follows. That is, in the row direction
Provided word line WL0, WL1And provided in the column direction
By activating the pair of bit lines B and / B
Memory cell MC of is selected. Selected memory cell
The data signal read from the MC is the sense amplifier 101.
After being amplified by the column selection transistor TR1 and
And data input / output line I / O through TR20, I / O1To
Transmitted. Data input / output line I / O0, I / O 1Communicate to
The generated data signal is amplified by the preamplifier 103.
Then, it is given to the main amplifier 104. Main amplifier
104 is a data signal up to a potential capable of driving an external load
And output the amplified data signal to the data output terminal D
give to o.

【0058】以上の第5の実施例であれば、イコライズ
回路102および108が非活性状態に遷移するとき
に、データ出力線対の電位が持上がるのを抑制すること
ができるので、データの読出速度を向上させることがで
きる。
In the fifth embodiment described above, it is possible to prevent the potential of the data output line pair from rising when the equalize circuits 102 and 108 transit to the inactive state, so that the data read operation is performed. The speed can be improved.

【0059】なお第5の実施例では、読出についてのみ
説明したが、データ入出力線対をイコライズすることが
できることから、データの書込速度についても同様に向
上させることができる。
In the fifth embodiment, only reading has been described, but since the data input / output line pair can be equalized, the data writing speed can be similarly improved.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上のこの発明であれば、第1のノード
とスイッチ手段の制御端子との間および第2のノードと
スイッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低減
することができるので、スイッチ手段がON状態からO
FF状態に遷移するときに、第1のノードおよび第2の
ノードの電位が持上がるのを抑制できる。この結果、信
号の伝達速度を向上させることができる。
According to the present invention described above, it is possible to reduce the capacitance between the first node and the control terminal of the switch means and between the second node and the control terminal of the switch means. From the ON state of the switch means O
It is possible to prevent the potentials of the first node and the second node from rising when transitioning to the FF state. As a result, the signal transmission speed can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したPMOSトランジスタの断面構造
図である。
FIG. 2 is a sectional structural view of the PMOS transistor shown in FIG.

【図3】キャパシタンスに着目した図1の等価回路であ
る。
FIG. 3 is an equivalent circuit of FIG. 1 focusing on capacitance.

【図4】図1に示したイコライズ回路の各ノードの波形
図である。
FIG. 4 is a waveform diagram of each node of the equalize circuit shown in FIG.

【図5】この発明の第2の実施例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図6】キャパシタンスに着目した図5のイコライズ回
路の等価回路である。
FIG. 6 is an equivalent circuit of the equalize circuit of FIG. 5 focusing on capacitance.

【図7】この発明の第3の実施例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図8】この発明の第4の実施例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第5の実施例を示す半導体記憶装置
のブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram of a semiconductor memory device showing a fifth embodiment of the present invention.

【図10】従来のイコライズ回路の回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram of a conventional equalizing circuit.

【図11】図10に示したイコライズ回路の各ノードの
波形図である。
11 is a waveform chart of each node of the equalize circuit shown in FIG.

【図12】図10に示したPMOSトランジスタの断面
構造図である。
12 is a sectional structural view of the PMOS transistor shown in FIG.

【図13】キャパシタンスに着目した図10のイコライ
ズ回路の等価回路である。
13 is an equivalent circuit of the equalize circuit of FIG. 10 focusing on capacitance.

【図14】図10に示したPMOSトランジスタのキャ
パシタンスの変化を説明するための断面構造図である。
14 is a cross-sectional structure diagram for explaining a change in capacitance of the PMOS transistor shown in FIG.

【図15】MOSトランジスタのゲート−ソース間およ
びゲート−ドレイン間のキャパシタンスとゲート電圧と
の関係を示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing a relationship between gate-source capacitance and gate-drain capacitance of a MOS transistor and a gate voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3 NMOSトランジスタ 4,5,6 PMOSトランジスタ φ,/φ イコライズ活性化信号 CD1〜CD4 ゲート−ドレイン間容量 CDN ゲート−ドレイン間容量 CS1〜CS4 ゲート−ソース間容量 CSN,CSP ゲート−ソース間容量1,2,3 NMOS transistor 4,5,6 PMOS transistor φ, / φ Equalize activation signal C D1 to C D4 Gate-drain capacitance C DN Gate-drain capacitance C S1 to C S4 Gate-source capacitance C SN , C SP Gate-source capacitance

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同じ電位にする必要がある第1および第
2のノードと、 各々が制御端子と第1および第2の導通端子とを備え、
入力されるイコライズ活性化信号に応答して、ON/O
FFする第1および第2のスイッチ手段と、 前記第1のノードと前記第1のスイッチ手段の第1の導
通端子との間に接続され、前記第1のノードと前記第1
のスイッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低
減する第1のキャパシタンス低減手段と、 前記第1のノードと前記第2のスイッチ手段の第1の導
通端子との間に接続され、前記第1のノードと前記第2
のスイッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低
減する第2のキャパシタンス低減手段と、 前記第2のノードと前記第1のスイッチ手段の第2の導
通端子との間に接続され、前記第2のノードと前記第2
のスイッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低
減する第3のキャパシタンス低減手段と、 前記第2のノードと前記第2のスイッチ手段の第2の導
通端子との間に接続され、前記第2のノードと前記第2
のスイッチ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低
減する第4のキャパシタンス低減手段とを含む半導体集
積回路装置。
1. A first node and a second node which are required to have the same potential, and a control terminal and a first conduction terminal and a second conduction terminal, respectively.
ON / O in response to the input equalize activation signal
It is connected between the first and second switch means that perform FF, and the first node and the first conduction terminal of the first switch means, and the first node and the first switch terminal are connected to each other.
First capacitance reducing means for reducing capacitance between the first switching means and the control terminal of the second switching means, and the first capacitance reducing means connected between the first node and the first conduction terminal of the second switching means. Node and the second
Second capacitance reducing means for reducing the capacitance between the second switching means and the control terminal of the second switching means, and the second capacitance reducing means connected between the second node and the second conducting terminal of the first switching means. Node and the second
A third capacitance reducing means for reducing a capacitance between the second switch means and a control terminal of the second switch means, and the second capacitance reducing means connected between the second node and the second conductive terminal of the second switch means. Node and the second
And a fourth capacitance reducing means for reducing the capacitance between the control means and the control terminal of the switching means.
【請求項2】 同じ電位にする必要がある第1および第
2のノードと、 各々が制御端子と第1および第2の導通端子とを備え、
入力されるイコライズ活性化信号に応答して、ON/O
FFする第1および第2のスイッチ手段と、 前記第1のノードと前記第1のスイッチ手段の第1の導
通端子との間および前記第2のノードと前記第1のスイ
ッチ手段の第2の導通端子との間のいずれか一方に接続
され、前記第1または第2のノードと前記第1のスイッ
チ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低減する第
1のキャパシタンス低減手段と、 前記第1のノードと前記第2のスイッチ手段の第1の導
通端子との間および前記第2のノードと前記第2のスイ
ッチ手段の第2の導通端子との間のいずれか一方に接続
され、前記第1または第2のノードと前記第2のスイッ
チ手段の制御端子との間のキャパシタンスを低減する第
2のキャパシタンス低減手段を含む半導体集積回路装
置。
2. A first node and a second node which are required to have the same potential, and a control terminal and a first and a second conduction terminal, respectively,
ON / O in response to the input equalize activation signal
Between the first and second switch means for FF, between the first node and the first conduction terminal of the first switch means, and between the second node and the second switch means of the first switch means. First capacitance reducing means connected to either one of a conduction terminal and reducing capacitance between the first or second node and a control terminal of the first switch means; Node and a first conductive terminal of the second switch means, and between the second node and a second conductive terminal of the second switch means, and A semiconductor integrated circuit device including second capacitance reducing means for reducing capacitance between the first or second node and a control terminal of the second switch means.
【請求項3】 同じ電位にする必要がある第1および第
2のノードと、 制御端子と第1および第2の導通端子とを備え、入力さ
れるイコライズ活性化信号に応答してON/OFFする
スイッチ手段と、 前記第1のノードと前記スイッチ手段の第1の導通端子
との間に接続され、前記第1のノードと前記スイッチ手
段の制御端子との間のキャパシタンスを低減する第1の
キャパシタンス低減手段と、 前記第2のノードと前記スイッチ手段の第2の導通端子
との間に接続され、前記第2のノードと前記スイッチ手
段の制御手段との間のキャパシタンスを低減する第2の
キャパシタンス低減手段とを含む半導体集積回路装置。
3. A first and a second node, which are required to have the same potential, a control terminal and a first and a second conduction terminal, and are turned on / off in response to an input equalize activation signal. And a first switching element connected between the first node and a first conductive terminal of the switching means to reduce a capacitance between the first node and a control terminal of the switching means. A second capacitance connected between the second node and the second conduction terminal of the switch means for reducing the capacitance between the second node and the control means of the switch means. A semiconductor integrated circuit device including a capacitance reducing means.
【請求項4】 同じ電位にする必要がある第1および第
2のノードと、 入力されるイコライズ活性化信号に応答して、ON/O
FFする第1Nチャネル形MOSトランジスタと、 入力されるイコライズ活性化信号に応答して、ON/O
FFする第1のPチャネル型MOSトランジスタと、 前記第1のノードにドレイン電極が接続され、前記第1
のNチャネル型MOSトランジスタのドレイン電極にソ
ース電極が接続され、ゲート電極が電源電圧を受けるよ
うに接続された第2のNチャネル型MOSトランジスタ
と、 前記第2のノードにドレイン電極が接続され、前記第1
のNチャネル型MOSトランジスタのソース電極にソー
ス電極が接続され、ゲート電極が電源電圧を受けるよう
に接続された第3のNチャネル型MOSトランジスタ
と、 前記第1のノードにドレイン電極が接続され、前記第1
のPチャネル型MOSトランジスタのドレイン電極にソ
ース電極が接続され、ゲート電極が接地端子に接続され
た第2Pチャネル型MOSトランジスタと、 前記第2のノードにドレイン電極が接続され、前記第1
のPチャネル型MOSトランジスタのソース電極にソー
ス電極が接続され、ゲート電極が接地端子に接続された
第3のPチャネル型MOSトランジスタとを含む半導体
集積回路装置。
4. A first node and a second node which are required to have the same potential, and an ON / O switch in response to an equalize activation signal inputted.
In response to the equalizing activation signal that is input, the first N-channel MOS transistor that performs FF and ON / O
A first P-channel MOS transistor that performs FF, and a drain electrode connected to the first node,
A source electrode is connected to the drain electrode of the N-channel MOS transistor, and a drain electrode is connected to the second node, the second N-channel MOS transistor having a gate electrode connected to receive a power supply voltage; The first
A source electrode of the N-channel MOS transistor is connected to the source electrode, the gate electrode is connected to receive the power supply voltage, and a drain electrode is connected to the first node, The first
A second P-channel MOS transistor having a source electrode connected to the drain electrode of the P-channel MOS transistor and a gate electrode connected to a ground terminal; and a drain electrode connected to the second node,
A semiconductor integrated circuit device including a third P-channel type MOS transistor having a source electrode connected to the source electrode of the P-channel type MOS transistor and a gate electrode connected to a ground terminal.
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