JPH05334727A - Reflecting film of optical information recording disk - Google Patents

Reflecting film of optical information recording disk

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Publication number
JPH05334727A
JPH05334727A JP4161956A JP16195692A JPH05334727A JP H05334727 A JPH05334727 A JP H05334727A JP 4161956 A JP4161956 A JP 4161956A JP 16195692 A JP16195692 A JP 16195692A JP H05334727 A JPH05334727 A JP H05334727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
purity aluminum
film
information recording
reflectance
optical information
Prior art date
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Pending
Application number
JP4161956A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Morohoshi
孝 諸星
Masaaki Shimomura
優昭 下村
Akihisa Yokoyama
暁久 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Victor Company of Japan Ltd filed Critical Victor Company of Japan Ltd
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Publication of JPH05334727A publication Critical patent/JPH05334727A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve the high temp. and high humidity load characteristics of the reflecting film of an optical information recording medium. CONSTITUTION:This optical information recording medium 10 consists essentially of a discoid substrate 1 molded from a transparent resin, a reflecting film 3 formed on the signal face 1a of the substrate 1 and a protective film 4 laminated on the reflecting film 3 and the reflecting film 3 is made of a thin film of an Al alloy contg. 0.5-5.0% at least one among Si, Ti and Mn.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光学式情報記録円盤の
反射膜の組成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the composition of a reflective film of an optical information recording disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンパクトディスク,ビデオディスクな
どの光学式情報記録円盤は、その信号面に音声情報,画
像情報,文字情報などの情報信号を複数のピット列に変
換してデジタル記録したものであり、このデジタル記録
した情報信号はレーザ光を用いて読み出すことができ
る。
2. Description of the Related Art Optical information recording discs such as compact discs and video discs have information signals such as voice information, image information and character information converted into a plurality of pit rows and digitally recorded on their signal surfaces. The digitally recorded information signal can be read using laser light.

【0003】図1は、光学式情報記録円盤(以下、単に
光ディスクと称す)10の一部の断面図であり、1は透
明樹脂を用いて成型された円盤状の基板であり、その基
板1の信号面1aには情報信号をデジタル化した複数の
ピット2が螺旋状に形成されている。また、この信号面
1aと対向側は平坦に形成された再生面1bである。3
は信号面1a上に成膜された反射膜であり、4は反射膜
3上に積層された保護膜である。また、必要に応じて、
この保護膜4上には文字,絵柄,図形,色塗りなど光デ
ィスク10のディスク識別機能を印刷したレーベル膜5
が積層される。
FIG. 1 is a sectional view of a part of an optical information recording disk (hereinafter, simply referred to as an optical disk) 10. Reference numeral 1 is a disk-shaped substrate molded from transparent resin, and its substrate 1 A plurality of pits 2 in which information signals are digitized are spirally formed on the signal surface 1a. Further, the side opposite to the signal surface 1a is a reproducing surface 1b formed flat. Three
Is a reflective film formed on the signal surface 1 a, and 4 is a protective film laminated on the reflective film 3. Also, if necessary,
A label film 5 on which a disc identification function of the optical disc 10 such as characters, pictures, figures, and coloring is printed on the protective film 4.
Are stacked.

【0004】このように構成された光ディスク10は、
図示しない光学式再生装置に装着されて所定の回転数で
回転し、光ピックアップから発したレーザービームを再
生面1b側から入射させて信号面1aのピット2を読取
り、そのレーザービームを反射膜3で入射方向に反射さ
せて、音声情報,画像情報,文字情報などのデジタル信
号を再生することができることは周知である。
The optical disk 10 thus constructed is
It is mounted on an optical reproducing device (not shown) and rotated at a predetermined number of revolutions, a laser beam emitted from an optical pickup is made incident from the reproducing surface 1b side to read the pit 2 on the signal surface 1a, and the laser beam is reflected by a reflecting film 3 It is well known that a digital signal such as voice information, image information, character information and the like can be reproduced by reflecting the light in the incident direction.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、この光ディ
スク10の信頼性試験の一つに高温高湿負荷試験があ
る。
By the way, one of the reliability tests of the optical disk 10 is a high temperature and high humidity load test.

【0006】この高温高湿負荷試験は、所定の高温高湿
に調整した高温高湿試験槽内に光ディスク10を所定の
時間放置し、しかる後、その光ディスク10を再生して
C1エラーレートや、光ディスク10の反射膜3の反射
率などを測定するものである。このC1エラーレートと
は、フレーム単位の信号が誤った割合を示すものであ
る。
In this high temperature and high humidity load test, the optical disk 10 is left in a high temperature and high humidity test tank adjusted to a predetermined high temperature and high humidity for a predetermined time, and then the optical disk 10 is reproduced to obtain a C1 error rate, The reflectance of the reflection film 3 of the optical disk 10 is measured. The C1 error rate indicates a ratio of erroneous signals in frame units.

【0007】この光ディスク10の高温高湿負荷試験に
ついて以下に詳述する。
The high temperature and high humidity load test of the optical disk 10 will be described in detail below.

【0008】従来の光ディスク10を、温度105℃、
湿度100%に調整した高温高湿試験槽内に15時間放
置した後、C1エラーレートを測定したところ、高温高
湿負荷前の測定値 0.298%が高温高湿負荷後において1
5.268%に悪化した。この悪化したC1エラーレート15.
268%は規格(規格値 3%以下)を外れるもので、満足
する再生は困難である。このC1エラーレートの悪化し
た光ディスク10を、光学顕微鏡で再生面1b側から反
射膜3面を観察してみると、随所に欠陥部が点在するの
が観察される。
A conventional optical disc 10 is mounted at a temperature of 105 ° C.
After leaving it in a high temperature and high humidity test tank adjusted to 100% humidity for 15 hours, the C1 error rate was measured. The measured value before high temperature and high humidity load was 0.298%, which was 1 after the high temperature and high humidity load.
It deteriorated to 5.268%. This worse C1 error rate 15.
268% deviates from the standard (standard value of 3% or less), and it is difficult to satisfactorily reproduce. When observing the surface of the reflective film 3 from the reproducing surface 1b side of the optical disk 10 having the deteriorated C1 error rate with an optical microscope, it is observed that defective portions are scattered everywhere.

【0009】この反射膜3は、純度99.99%の高純度のア
ルミニウムをターゲット材にしてスパッタリング法によ
り約50nμmの厚さに基板1の信号面1a上に成膜され
たものであるが、上記欠陥部は高純度のアルミニウムが
高温高湿負荷試験において局部的に透明な酸化アルミニ
ウム(Al2 3 ) に酸化したものであることがESC
A分析により確認された。
The reflection film 3 is formed on the signal surface 1a of the substrate 1 by sputtering with a high purity aluminum having a purity of 99.99% as a target material to a thickness of about 50 nμm. The ESC shows that the high-purity aluminum is locally oxidized to transparent aluminum oxide (Al 2 O 3 ) in the high temperature and high humidity load test.
Confirmed by A analysis.

【0010】したがって、再生時にピックアップから発
するレーザービームが、この反射膜3の透明な欠陥部で
反射しないために、信号面1aのピット2を読み取るこ
とができず、C1エラーレートが増大するという問題が
あった。
Therefore, since the laser beam emitted from the pickup during reproduction is not reflected by the transparent defect portion of the reflection film 3, the pit 2 on the signal surface 1a cannot be read, and the C1 error rate increases. was there.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたものであり、Si,Ti,Mn元
素のいずれか一つを0.5〜5.0%含有したアルミニ
ウム合金薄膜からなる光学式情報記録媒体の反射膜を提
供するものである。
The present invention has been made to solve the above problems, and is an aluminum alloy containing 0.5 to 5.0% of any one of Si, Ti and Mn elements. The present invention provides a reflection film of an optical information recording medium composed of a thin film.

【0012】[0012]

【実施例】本発明は、一般的な高純度アルミニウムに対
して、Si,Ti,Mn元素のいずれか一つを0.5〜
5.0%含有させて検討した結果、高温高湿負荷特性に
優れた光ディスク10の反射膜3を見い出すことができ
た。
EXAMPLE In the present invention, one of Si, Ti, and Mn elements of 0.5 to 0.5 is added to general high-purity aluminum.
As a result of examination with 5.0% being contained, the reflection film 3 of the optical disk 10 having excellent high temperature and high humidity load characteristics could be found.

【0013】ここで、Siを0.5〜5.0%としたこ
とは、Siは酸化を抑制する有効な元素であり、酸化抑
制効果を期待するには0.5%以上含有する必要があ
る。しかし、5.0%以上含有し過ぎるとターゲット材
料として用いる塊(バルク)の組成の均一性が悪くなる
と共に、塊(バルク)の加工性が困難となるので、0.
5〜5.0%に限定した。
Here, the Si content of 0.5 to 5.0% means that Si is an effective element for suppressing oxidation, and it is necessary to contain Si in an amount of 0.5% or more in order to expect an oxidation suppression effect. is there. However, if the content is too much 5.0% or more, the composition of the lump (bulk) used as the target material becomes poor in uniformity, and the processability of the lump (bulk) becomes difficult.
It was limited to 5 to 5.0%.

【0014】さらに、Tiを0.5〜5.0%としたこ
とは、Tiは酸化を抑制する有効な元素であり、酸化抑
制効果を期待するには0.5%以上含有する必要があ
る。しかし、5.0%以上含有し過ぎると反射膜3の反
射率が低下するので、0.5〜5.0%に限定した。
Furthermore, the fact that Ti is 0.5 to 5.0% means that Ti is an effective element for suppressing oxidation, and it is necessary to contain Ti in an amount of 0.5% or more in order to expect an effect of suppressing oxidation. .. However, since the reflectance of the reflective film 3 is lowered if the content of 5.0% or more is excessive, the content is limited to 0.5 to 5.0%.

【0015】また、Mnを0.5〜5.0%としたこと
は、Mnは酸化を抑制する有効な元素であり、酸化抑制
効果を期待するには0.5%以上含有する必要がある。
しかし、5.0%以上含有し過ぎるとターゲット材料と
して用いる塊(バルク)の組成の均一性が悪くなると共
に、塊(バルク)の加工性が困難となるので、0.5〜
5.0%に限定した。これら限定理由については後に説
明する。
Further, the Mn content of 0.5 to 5.0% means that Mn is an effective element for suppressing oxidation, and 0.5% or more is necessary to expect an oxidation suppression effect. ..
However, if the content is more than 5.0%, the composition of the lump (bulk) used as the target material becomes poor in uniformity, and the processability of the lump (bulk) becomes difficult.
Limited to 5.0%. The reasons for these limitations will be described later.

【0016】一般に、光ディスク10の反射膜3は、真
空成膜技術であるスパッタリング法を用いて成膜され、
そのターゲット材料としては、成膜された薄膜の反射率
特性と経済性から高純度アルミニウムが用いられている
ことは既に周知である。この高純度アルミニウム反射膜
は酸化し易いものであるが、その酸化は薄膜と塊(バル
ク)とでは、必ずしも同じ傾向を示すものではないが、
塊(バルク)の場合、高純度アルミニウムは表面に緻密
な酸化薄膜(Al2 3 ) を生じ、この酸化薄膜(Al
2 3 ) のために内部への酸化進行を防ぐことができ
る。また、高純度アルミニウムが他元素を含有すると、
表面酸化の緻密度が低下したり、高純度アルミニウムと
含有元素とで電気化学的に局部電池を形成して腐食が始
まることもある。しかし、含有元素の種類によっては腐
食が促進される場合と、抑制される場合があることが下
記の実験1で明らかになった。
Generally, the reflective film 3 of the optical disk 10 is formed by using a sputtering method which is a vacuum film forming technique.
As the target material, it is already well known that high-purity aluminum is used because of the reflectance characteristics and economical efficiency of the formed thin film. This high-purity aluminum reflective film is easily oxidized, but the oxidation does not always show the same tendency in the thin film and the bulk (bulk),
In the case of bulk, high-purity aluminum produces a dense oxide thin film (Al 2 O 3 ) on the surface, and this oxide thin film (Al 2 O 3 )
2 O 3 ) can prevent the progress of internal oxidation. Also, if high-purity aluminum contains other elements,
In some cases, the fineness of surface oxidation may decrease, or high-purity aluminum and the contained element electrochemically form a local battery to start corrosion. However, it was revealed in Experiment 1 below that corrosion may be accelerated or suppressed depending on the type of contained element.

【0017】(実験1)高純度アルミニウムに、Mg,
Si,Mn,Ti,Cu元素をそれぞれ1%添加した下
記資料を、それぞれターゲット材にして、すべて同一条
件のスパッタリング法で反射膜3をそれぞれの基板1の
信号面1aに成膜し、さらに反射膜3上に紫外線硬化型
樹脂からなる保護膜4を成膜して光ディスク10を製作
し、その光ディスク10について高温高湿負荷試験(温
度105℃、湿度100%、5〜15時間)を行い、C
1エラーレートと反射率を測定した。
(Experiment 1) With high purity aluminum, Mg,
Using the following materials containing 1% each of Si, Mn, Ti, and Cu elements as target materials, a reflective film 3 was formed on the signal surface 1a of each substrate 1 by the sputtering method under the same conditions, and further reflected. An optical disk 10 is manufactured by forming a protective film 4 made of an ultraviolet curable resin on the film 3, and a high temperature and high humidity load test (temperature 105 ° C., humidity 100%, 5 to 15 hours) is performed on the optical disk 10. C
1 Error rate and reflectance were measured.

【0018】 資料1、高純度アルミニウム+Mg 資料2、高純度アルミニウム+Si 資料3、高純度アルミニウム+Mn 資料4、高純度アルミニウム+Ti 資料5、高純度アルミニウム+Cu 資料6、高純度アルミニウムMaterial 1, high-purity aluminum + Mg Material 2, high-purity aluminum + Si Material 3, high-purity aluminum + Mn Material 4, high-purity aluminum + Ti Material 5, high-purity aluminum + Cu Material 6, high-purity aluminum

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】[0020]

【表2】 (表1)は、資料1〜資料6をターゲット材にして、ス
パッタリング法により成膜した光ディスク10の反射膜
3の高温高湿負荷試験後の反射率の測定結果であり、
(表2)はC1エラーレートの測定結果である。個々の
測定結果は、反射率70%以下、及びC1エラーレート
3%以上の測定値を×印で表示したが、これら測定値は
規格外となるものである。
[Table 2] Table 1 shows the measurement results of the reflectance of the reflective film 3 of the optical disk 10 formed by the sputtering method using the materials 1 to 6 as the target materials after the high temperature and high humidity load test.
Table 2 shows the measurement result of the C1 error rate. As for the individual measurement results, the measured values with the reflectance of 70% or less and the C1 error rate of 3% or more are indicated by x marks, but these measured values are out of the standard.

【0021】これら測定結果から明らかなように、これ
ら光ディスク10の反射膜3の反射率は、高温高湿負荷
試験後、資料1〜資料6に大きな差異は認められない
が、C1エラーレートは資料3〜資料5であるSi,M
n,Tiが最も優れていることが判明した。
As is clear from these measurement results, the reflectance of the reflective film 3 of these optical disks 10 does not show a large difference in the materials 1 to 6 after the high temperature and high humidity load test, but the C1 error rate is the material. 3 to 5 are Si and M
It was found that n and Ti are the best.

【0022】このSi,Mn,Tiの各元素の高純度ア
ルミニウムに対する最適含有量について引き続いて実験
を行なった。
Experiments were subsequently conducted on the optimum contents of each element of Si, Mn, and Ti with respect to high-purity aluminum.

【0023】(実験2)実験1と同様にして、高純度ア
ルミニウムに、添加元素としてSiを0.1〜5.0%
変化させた下記資料をターゲット材にして、すべて同一
条件のスパッタリング法で反射膜3をそれぞれの基板1
の信号面1aに成膜し、さらに反射膜3上に紫外線硬化
型樹脂からなる保護膜4を成膜して光ディスク10を製
作し、これら光ディスク10について実験1と同一条件
の高温高湿負荷試験を行い、C1エラーレートと反射率
を測定した。
(Experiment 2) In the same manner as in Experiment 1, 0.1 to 5.0% of Si was added to high-purity aluminum as an additive element.
Using the changed materials below as the target material, the reflective film 3 was formed on each substrate 1 by the sputtering method under the same conditions.
The optical disk 10 is manufactured by forming a film on the signal surface 1a of 1., and further forming a protective film 4 made of an ultraviolet curable resin on the reflective film 3. The optical disk 10 is subjected to a high temperature and high humidity load test under the same conditions as in Experiment 1. Then, the C1 error rate and the reflectance were measured.

【0024】 資料7、高純度アルミニウム+Si 0.1% 資料8、高純度アルミニウム+Si 0.2% 資料9、高純度アルミニウム+Si 0.3% 資料10、高純度アルミニウム+Si 0.4% 資料11、高純度アルミニウム+Si 0.5% 資料12、高純度アルミニウム+Si 1.0% 資料13、高純度アルミニウム+Si 2.5% 資料14、高純度アルミニウム+Si 5.0%Material 7, high-purity aluminum + Si 0.1% Material 8, high-purity aluminum + Si 0.2% Material 9, high-purity aluminum + Si 0.3% Material 10, high-purity aluminum + Si 0.4% Material 11, High-purity aluminum + Si 0.5% Material 12, high-purity aluminum + Si 1.0% Material 13, high-purity aluminum + Si 2.5% Material 14, high-purity aluminum + Si 5.0%

【0025】[0025]

【表3】 (表3)は、資料7〜資料14からなる反射膜3を成膜し
た光ディスク10の高温高湿負荷試験後の反射率とC1
エラーレートの測定結果である。個々の測定結果は、反
射率70%以下、及びC1エラーレート3%以上の測定
値を×印で表示したが、これら測定値は規格外となるも
のである。また、規格を満足する測定値には○印で表示
した。
[Table 3] Table 3 shows the reflectance and C1 after the high temperature and high humidity load test of the optical disk 10 on which the reflection film 3 formed of materials 7 to 14 is formed.
This is the measurement result of the error rate. As for the individual measurement results, the measured values with the reflectance of 70% or less and the C1 error rate of 3% or more are indicated by x marks, but these measured values are out of the standard. In addition, the measured value that satisfies the standard is indicated by a circle.

【0026】この測定結果から明らかなように、高温高
湿負荷試験後の資料7〜資料14からなる反射膜3の反射
率は、すべて反射率70%以上の良好な結果が得られ
た。また、C1エラーレートは資料11〜資料14である
0.5〜5.0%の添加量が最も優れていることが判明
した。
As is clear from the measurement results, the reflectance of the reflective film 3 formed of the materials 7 to 14 after the high temperature and high humidity load test was all good, with the reflectance of 70% or more. Further, it was found that the C1 error rate was the best when the addition amount of 0.5 to 5.0%, which is the material 11 to the material 14, was added.

【0027】尚、Siを5.0%以上含有したアルミニ
ウム合金は、スパッタリングのターゲット材料として用
いる塊(バルク)の組成の均一性が悪くなると共に、塊
(バルク)の加工性が困難となるので、Siの添加量は
0.5〜5.0%に限定した。
An aluminum alloy containing Si in an amount of 5.0% or more deteriorates the composition uniformity of the lump (bulk) used as a target material for sputtering and makes it difficult to process the lump (bulk). , Si was limited to 0.5 to 5.0%.

【0028】(実験3)実験2と同様にして、高純度ア
ルミニウムに、添加元素としてMnを添加した下記資料
をターゲット材にして、すべて同一条件のスパッタリン
グ法で資料15〜資料22の反射膜3をそれぞれの基板1の
信号面1aに成膜し、さらに反射膜3上に紫外線硬化型
樹脂からなる保護膜4を成膜して光ディスク10を製作
し、これら光ディスク10について高温高湿負荷試験を
行い、C1エラーレートと反射率を測定した。
(Experiment 3) In the same manner as in Experiment 2, the following materials obtained by adding Mn as an additional element to high-purity aluminum were used as target materials, and the reflection films 3 of Materials 15 to 22 were formed by the same sputtering method. Is formed on the signal surface 1a of each substrate 1, and a protective film 4 made of an ultraviolet curable resin is further formed on the reflective film 3 to manufacture an optical disc 10. The optical disc 10 is subjected to a high temperature and high humidity load test. Then, the C1 error rate and the reflectance were measured.

【0029】 資料15、高純度アルミニウム+Mn 0.1% 資料16、高純度アルミニウム+Mn 0.2% 資料17、高純度アルミニウム+Mn 0.3% 資料18、高純度アルミニウム+Mn 0.4% 資料19、高純度アルミニウム+Mn 0.5% 資料20、高純度アルミニウム+Mn 1.0% 資料21、高純度アルミニウム+Mn 2.5% 資料22、高純度アルミニウム+Mn 5.0%Material 15, high-purity aluminum + Mn 0.1% Material 16, high-purity aluminum + Mn 0.2% Material 17, high-purity aluminum + Mn 0.3% Material 18, high-purity aluminum + Mn 0.4% Material 19, High-purity aluminum + Mn 0.5% Material 20, high-purity aluminum + Mn 1.0% Material 21, high-purity aluminum + Mn 2.5% Material 22, high-purity aluminum + Mn 5.0%

【0030】[0030]

【表4】 (表4)は、資料15〜資料22からなる反射膜3を成膜し
た光ディスク10の高温高湿負荷試験後の反射率とC1
エラーレートの測定結果である。個々の測定結果は、反
射率70%以下、及びC1エラーレート3%以上の測定
値を×印で表示したが、これら測定値は規格外となるも
のである。また、規格を満足する測定値には○印で表示
した。
[Table 4] (Table 4) shows the reflectance and C1 after the high-temperature and high-humidity load test of the optical disk 10 on which the reflective film 3 formed of materials 15 to 22 is formed.
This is the measurement result of the error rate. As for the individual measurement results, the measured values with the reflectance of 70% or less and the C1 error rate of 3% or more are indicated by x marks, but these measured values are out of the standard. In addition, the measured value that satisfies the standard is indicated by a circle.

【0031】この測定結果から明らかなように、高温高
湿負荷試験後の資料15〜資料22からなる反射膜3の反射
率は、すべて反射率70%以上の良好な結果が得られ
た。また、外周リングは資料19〜資料22である0.5〜
5.0%の添加量が最も優れていることが判明した。
As is clear from the measurement results, the reflectance of the reflective film 3 formed of the materials 15 to 22 after the high temperature and high humidity load test was all good, with the reflectance of 70% or more. The outer ring is Material 19 to Material 22, which is 0.5 to
It was found that the added amount of 5.0% was the best.

【0032】尚、Mnを5.0%以上含有したアルミニ
ウム合金は、スパッタリングのターゲット材料として用
いる塊(バルク)の組成の均一性が悪くなると共に、塊
(バルク)の加工性が困難となるので、Mnの添加量は
0.5〜5.0%に限定した。
An aluminum alloy containing 5.0% or more of Mn has poor composition uniformity of a lump (bulk) used as a target material for sputtering, and also has difficulty in workability of the lump (bulk). , Mn is limited to 0.5 to 5.0%.

【0033】(実験4)実験3と同様にして、高純度ア
ルミニウムに、添加元素としてTiを添加した下記資料
をターゲット材にして、すべて同一条件のスパッタリン
グ法で資料17〜資料21の反射膜3をそれぞれの基板1の
信号面1aに成膜し、さらに反射膜3上に紫外線硬化型
樹脂からなる保護膜4を成膜して光ディスク10を製作
し、これら光ディスク10について高温高湿負荷試験を
行い、外周リングと反射率を測定した。
(Experiment 4) In the same manner as in Experiment 3, the following materials obtained by adding Ti as an additive element to high-purity aluminum were used as target materials, and the reflection films 3 of Materials 17 to 21 were formed by the same sputtering method. Is formed on the signal surface 1a of each substrate 1, and a protective film 4 made of an ultraviolet curable resin is further formed on the reflective film 3 to manufacture an optical disc 10. The optical disc 10 is subjected to a high temperature and high humidity load test. Then, the outer ring and the reflectance were measured.

【0034】 資料23、高純度アルミニウム+Ti 0.1% 資料24、高純度アルミニウム+Ti 0.2% 資料25、高純度アルミニウム+Ti 0.3% 資料26、高純度アルミニウム+Ti 0.4% 資料27、高純度アルミニウム+Ti 0.5% 資料28、高純度アルミニウム+Ti 1.0% 資料29、高純度アルミニウム+Ti 2.5% 資料30、高純度アルミニウム+Ti 5.0%Material 23, high-purity aluminum + Ti 0.1% Material 24, high-purity aluminum + Ti 0.2% Material 25, high-purity aluminum + Ti 0.3% Material 26, high-purity aluminum + Ti 0.4% Material 27, High-purity aluminum + Ti 0.5% Material 28, high-purity aluminum + Ti 1.0% Material 29, high-purity aluminum + Ti 2.5% Material 30, high-purity aluminum + Ti 5.0%

【0035】[0035]

【表5】 (表5)は、資料23〜資料30からなる反射膜3を成膜し
た光ディスク10の高温高湿負荷試験後の反射率と外周
リングの測定結果である。個々の測定結果は、反射率7
0%以下、及びC1エラーレート3%以上の測定値を×
印で表示したが、これら測定値は規格外となるものであ
る。また、規格を満足する測定値には○印で表示した。
[Table 5] Table 5 shows the measurement results of the reflectance and the outer peripheral ring after the high temperature and high humidity load test of the optical disk 10 on which the reflective film 3 made of the materials 23 to 30 is formed. Each measurement result has a reflectance of 7
0% or less and C1 error rate 3% or more measured value ×
Although indicated by a mark, these measured values are out of the standard. In addition, the measured value that satisfies the standard is indicated by a circle.

【0036】この測定結果から明らかなように、高温高
湿負荷試験後の資料15〜資料22からなる反射膜3の反射
率は、すべて反射率70%以上の良好な結果が得られ
た。また、C1エラーレートは資料27〜資料30である
0.5〜5.0%の添加量が最も優れていることが判明
した。
As is clear from the measurement results, the reflectance of the reflective film 3 formed of the materials 15 to 22 after the high temperature and high humidity load test was all good, with a reflectance of 70% or more. Further, it was found that the C1 error rate was the best when the addition amount of 0.5 to 5.0%, which is Material 27 to Material 30, was added.

【0037】尚、Tiを5.0%以上含有したアルミニ
ウム合金をターゲット材料にしてスパッタリングした反
射膜は、レーザービームの反射率が70%以下となるの
で、Tiの添加量は0.5〜5.0%に限定する。
A reflective film sputtered with an aluminum alloy containing 5.0% or more of Ti as a target material has a laser beam reflectance of 70% or less. Therefore, the addition amount of Ti is 0.5 to 5 Limited to 0.0%.

【0038】上述したように本発明の光ディスク10の
反射膜3は、Si,Ti,Mn元素のうちいずれか一つ
を0.5〜5.0%含有したアルミニウム合金をターゲ
ット材料にしてスパッタリングを行ない、その反射膜3
を形成することにより、高温高湿負荷特性の改善された
高品質の光学式情報記録媒体を提供することができる。
As described above, the reflective film 3 of the optical disk 10 of the present invention is sputtered using an aluminum alloy containing 0.5 to 5.0% of any one of Si, Ti and Mn elements as a target material. The reflective film 3
By forming the above, it is possible to provide a high quality optical information recording medium having improved high temperature and high humidity load characteristics.

【0039】[0039]

【発明の効果】上述したように本発明の光学式情報記録
媒体の反射膜は、Si,Ti,Mn元素のいずれか一つ
を0.5〜5.0%含有したアルミニウム合金薄膜から
構成することにより、高温高湿負荷特性の改善された高
品質の光学式情報記録媒体を提供することができる効果
を有する。
As described above, the reflection film of the optical information recording medium of the present invention is composed of an aluminum alloy thin film containing 0.5 to 5.0% of any one of Si, Ti and Mn elements. As a result, it is possible to provide a high quality optical information recording medium with improved high temperature and high humidity load characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光学式情報記録円盤の一部の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a part of an optical information recording disk.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板,1a…信号面,1b…再生面,2…ピット,
3…反射膜、4…保護膜,5…レーベル膜、10…光学式
情報記録円盤
1 ... Substrate, 1a ... Signal surface, 1b ... Reproduction surface, 2 ... Pit,
3 ... Reflective film, 4 ... Protective film, 5 ... Label film, 10 ... Optical information recording disk

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Si,Ti,Mn元素のいずれか一つを
0.5〜5.0%含有したアルミニウム合金薄膜からな
る光学式情報記録円盤の反射膜。
1. A reflective film for an optical information recording disk comprising an aluminum alloy thin film containing 0.5 to 5.0% of any one of Si, Ti and Mn elements.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010030004A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-18 株式会社神戸製鋼所 Read-only optical information recording medium, and sputtering target for forming reflecting film for the optical information recording medium

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62295232A (en) * 1986-06-14 1987-12-22 Canon Inc Optical recording medium
JPS63224050A (en) * 1987-03-13 1988-09-19 Sanyo Electric Co Ltd Optical disk
JPH0258742A (en) * 1988-08-23 1990-02-27 Tonen Corp Optical disk

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62295232A (en) * 1986-06-14 1987-12-22 Canon Inc Optical recording medium
JPS63224050A (en) * 1987-03-13 1988-09-19 Sanyo Electric Co Ltd Optical disk
JPH0258742A (en) * 1988-08-23 1990-02-27 Tonen Corp Optical disk

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010030004A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-18 株式会社神戸製鋼所 Read-only optical information recording medium, and sputtering target for forming reflecting film for the optical information recording medium
JP2010067320A (en) * 2008-09-11 2010-03-25 Kobe Steel Ltd Read-only optical information recording medium and sputtering target for forming reflecting film for the optical information recording medium
US8470426B2 (en) 2008-09-11 2013-06-25 Kobe Steel, Ltd. Read-only optical information recording medium and sputtering target for depositing reflective film for the optical information recording medium

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