JPH05331233A - 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 - Google Patents
広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法Info
- Publication number
- JPH05331233A JPH05331233A JP32900191A JP32900191A JPH05331233A JP H05331233 A JPH05331233 A JP H05331233A JP 32900191 A JP32900191 A JP 32900191A JP 32900191 A JP32900191 A JP 32900191A JP H05331233 A JPH05331233 A JP H05331233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- acid
- component
- ome
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 成形性の良好な広い分子量分布を有するポリ
プロピレンの製造法を提供する。 【構成】 下記１）〜３）からなる重合触媒の存在下プ
ロピレンを重合する： １）Ｍｇ，Ｔｉ，ハロゲン及び電子供与性化合物を含む
固体触媒成分、２）有機Ａｌ化合物及び３） 〔Ｒ1 はＣ６〜１０脂環式炭化水素基、Ｒ2 はＣ３〜１
０２級もしくは３級の脂肪族又は脂環式炭化水素基であ
る〕で表わされる有機珪素化合物。例えば、（Ｍｅｎ
Ｏ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 ，（３，５−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨ
ｐＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｃＯ）
（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＥｔ）2 。
プロピレンの製造法を提供する。 【構成】 下記１）〜３）からなる重合触媒の存在下プ
ロピレンを重合する： １）Ｍｇ，Ｔｉ，ハロゲン及び電子供与性化合物を含む
固体触媒成分、２）有機Ａｌ化合物及び３） 〔Ｒ1 はＣ６〜１０脂環式炭化水素基、Ｒ2 はＣ３〜１
０２級もしくは３級の脂肪族又は脂環式炭化水素基であ
る〕で表わされる有機珪素化合物。例えば、（Ｍｅｎ
Ｏ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 ，（３，５−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨ
ｐＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｃＯ）
（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＥｔ）2 。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリプロピレンの製造法
に関し、更に詳しくは、広い分子量分布を有するポリプ
ロピレンの製造法に関する。
に関し、更に詳しくは、広い分子量分布を有するポリプ
ロピレンの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子供与体を含有し、支持されたチタン
とハロゲン化マグネシウムを含有する成分；アルキルア
ルミニウム化合物；および有機シラン化合物を含み、該
有機シラン化合物が分枝Ｃ3 〜Ｃ10アルキル・ｔ−ブト
キシジメトキシシラン類からなる重合触媒を用いて、分
子量分布の広いポリプロピレンを製造することは知られ
ている（特開平３−１１９００４号公報）。
とハロゲン化マグネシウムを含有する成分；アルキルア
ルミニウム化合物；および有機シラン化合物を含み、該
有機シラン化合物が分枝Ｃ3 〜Ｃ10アルキル・ｔ−ブト
キシジメトキシシラン類からなる重合触媒を用いて、分
子量分布の広いポリプロピレンを製造することは知られ
ている（特開平３−１１９００４号公報）。
【０００３】しかしながら、上記の重合触媒で製造され
たポリプロピレンの分子量分布は充分広いとはいえず、
さらに広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法
の開発が望まれていた。
たポリプロピレンの分子量分布は充分広いとはいえず、
さらに広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法
の開発が望まれていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、成形性の良
好な広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法を
提供することを目的とする。
好な広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、特定の有機珪素化合物を一成分とする重
合触媒を用いてプロピレンを重合することにより本発明
の目的を達成し得ることを見出して本発明を完成した。
を行った結果、特定の有機珪素化合物を一成分とする重
合触媒を用いてプロピレンを重合することにより本発明
の目的を達成し得ることを見出して本発明を完成した。
【０００６】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、（Ａ）マグネシウム，チタ
ン，ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
体触媒成分、（Ｂ）有機金属化合物及び（Ｃ）一般式
ン，ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
体触媒成分、（Ｂ）有機金属化合物及び（Ｃ）一般式
【化２】 〔但し、Ｒ1 は炭素数６〜１０個の脂環式炭化水素基、
Ｒ2 は炭素数３〜１０個の２級もしくは３級の脂肪族又
は脂環式炭化水素基である。〕の有機珪素化合物とから
なる重合触媒の存在下、プロピレンを重合する広い分子
量分布を有するポリプロピレンの製造法を要旨とする。
Ｒ2 は炭素数３〜１０個の２級もしくは３級の脂肪族又
は脂環式炭化水素基である。〕の有機珪素化合物とから
なる重合触媒の存在下、プロピレンを重合する広い分子
量分布を有するポリプロピレンの製造法を要旨とする。
【０００７】固体触媒成分 本発明の触媒の一成分である固体触媒成分（以下、成分
Ａという）は、マグネシウム，チタン，ハロゲン及び電
子供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は
通常マグネシウム化合物、チタン化合物及び電子供与性
化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有しない化合物
の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞれ接触するこ
とにより調製される。
Ａという）は、マグネシウム，チタン，ハロゲン及び電
子供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は
通常マグネシウム化合物、チタン化合物及び電子供与性
化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有しない化合物
の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞれ接触するこ
とにより調製される。
【０００８】（１）マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式ＭｇＲ1 Ｒ2 で表わされ
る。式において、Ｒ1及びＲ2 は同一か異なる炭化水素
基、ＯＲ基（Ｒは炭化水素基）、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、Ｒ1 及びＲ2 の炭化水素基としては、炭
素数１〜２０個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、ＯＲ基としては、Ｒが炭素
数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
る。式において、Ｒ1及びＲ2 は同一か異なる炭化水素
基、ＯＲ基（Ｒは炭化水素基）、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、Ｒ1 及びＲ2 の炭化水素基としては、炭
素数１〜２０個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、ＯＲ基としては、Ｒが炭素
数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
【０００９】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル、Ｐｒ :プ
ロピル、Ｂｕ：ブチル、Ｈｅ：ヘキシル、Ｏｃｔ：オク
チル、Ｐｈ：フェニル、ｃｙＨｅ：シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。ＭｇＭｅ2 ，ＭｇＥｔ2 , Ｍｇｉ−Ｐ
ｒ2 , ＭｇＢｕ2 ，ＭｇＨｅ2 ，ＭｇＯｃｔ2 ，ＭｇＥ
ｔＢｕ，ＭｇＰｈ2 ，ＭｇｃｙＨｅ2 ，Ｍｇ（ＯＭｅ）
2 ，Ｍｇ（ＯＥｔ）2 ，Ｍｇ（ＯＢｕ）2 ，Ｍｇ（ＯＨ
ｅ）2 ，Ｍｇ（ＯＯｃｔ）2 ，Ｍｇ（ＯＰｈ）2 ，Ｍｇ
（ＯｃｙＨｅ）2 , ＥｔＭｇＣｌ，ＢｕＭｇＣｌ，Ｈｅ
ＭｇＣｌ，ｉ−ＢｕＭｇＣｌ，ｔ−ＢｕＭｇＣｌ，Ｐｈ
ＭｇＣｌ，ＰｈＣＨ2 ＭｇＣｌ，ＥｔＭｇＢｒ，ＢｕＭ
ｇＢｒ，ＰｈＭｇＢｒ，ＢｕＭｇＩ，ＥｔＭｇＣｌ，Ｂ
ｕＯＭｇＣｌ，ＨｅＯＭｇＣｌ，ＰｈＯＭｇＣｌ，Ｅｔ
ＯＭｇＢｒ，ＢｕＯＭｇＢｒ，ＥｔＯＭｇＩ，ＭｇＣｌ
2 ，ＭｇＢｒ2 ，ＭｇＩ2 。
学式において、Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル、Ｐｒ :プ
ロピル、Ｂｕ：ブチル、Ｈｅ：ヘキシル、Ｏｃｔ：オク
チル、Ｐｈ：フェニル、ｃｙＨｅ：シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。ＭｇＭｅ2 ，ＭｇＥｔ2 , Ｍｇｉ−Ｐ
ｒ2 , ＭｇＢｕ2 ，ＭｇＨｅ2 ，ＭｇＯｃｔ2 ，ＭｇＥ
ｔＢｕ，ＭｇＰｈ2 ，ＭｇｃｙＨｅ2 ，Ｍｇ（ＯＭｅ）
2 ，Ｍｇ（ＯＥｔ）2 ，Ｍｇ（ＯＢｕ）2 ，Ｍｇ（ＯＨ
ｅ）2 ，Ｍｇ（ＯＯｃｔ）2 ，Ｍｇ（ＯＰｈ）2 ，Ｍｇ
（ＯｃｙＨｅ）2 , ＥｔＭｇＣｌ，ＢｕＭｇＣｌ，Ｈｅ
ＭｇＣｌ，ｉ−ＢｕＭｇＣｌ，ｔ−ＢｕＭｇＣｌ，Ｐｈ
ＭｇＣｌ，ＰｈＣＨ2 ＭｇＣｌ，ＥｔＭｇＢｒ，ＢｕＭ
ｇＢｒ，ＰｈＭｇＢｒ，ＢｕＭｇＩ，ＥｔＭｇＣｌ，Ｂ
ｕＯＭｇＣｌ，ＨｅＯＭｇＣｌ，ＰｈＯＭｇＣｌ，Ｅｔ
ＯＭｇＢｒ，ＢｕＯＭｇＢｒ，ＥｔＯＭｇＩ，ＭｇＣｌ
2 ，ＭｇＢｒ2 ，ＭｇＩ2 。
【００１０】上記マグネシウム化合物は、成分Ａを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Ｘn Ｍ（ＯＲ) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式にお
いて、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２０
個の炭化水素基、Ｍは硼素、炭素、アルミニウム、珪素
又は燐原子、Ｒは炭素数１〜２０個の炭化水素基、ｍは
Ｍの原子価、ｍ＞ｎ≧０を示す。〕を接触させる方法が
挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のＸ及
びＲの炭化水素基としては、メチル（Ｍｅ）、エチル
（Ｅｔ) 、プロピル、（Ｐｒ）、ｉ−プロピル（ｉ−Ｐ
ｒ) 、ブチル（Ｂｕ) 、ｉ−ブチル（ｉ−Ｂｕ) 、ヘキ
シル（Ｈｅ)、オクチル（Ｏｃｔ）等のアルキル基、シ
クロヘキシル（ｃｙＨｅ) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル（Ｐｈ) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、３−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数１〜１０個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Ｘn Ｍ（ＯＲ) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式にお
いて、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２０
個の炭化水素基、Ｍは硼素、炭素、アルミニウム、珪素
又は燐原子、Ｒは炭素数１〜２０個の炭化水素基、ｍは
Ｍの原子価、ｍ＞ｎ≧０を示す。〕を接触させる方法が
挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のＸ及
びＲの炭化水素基としては、メチル（Ｍｅ）、エチル
（Ｅｔ) 、プロピル、（Ｐｒ）、ｉ−プロピル（ｉ−Ｐ
ｒ) 、ブチル（Ｂｕ) 、ｉ−ブチル（ｉ−Ｂｕ) 、ヘキ
シル（Ｈｅ)、オクチル（Ｏｃｔ）等のアルキル基、シ
クロヘキシル（ｃｙＨｅ) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル（Ｐｈ) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、３−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数１〜１０個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
【００１１】Ｍが炭素の場合の化合物 式 Ｃ（ＯＲ）4 に含まれるＣ（ＯＭｅ）4 ，Ｃ（ＯＥ
ｔ）4 , Ｃ（ＯＰｒ） 4 , Ｃ（ＯＢｕ）4 , Ｃ（Ｏｉ−
Ｂｕ）4 ，Ｃ（ＯＨｅ）4 , Ｃ（ＯＯｃｔ）4：式 Ｘ
Ｃ（ＯＲ）3 に含まれるＨＣ（ＯＭｅ）3 , ＨＣ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＨＣ（ＯＰｒ）3 , ＨＣ（ＯＢｕ）3 ，ＨＣ
（ＯＨｅ）3 , ＨＣ（ＯＰｈ）3 ；ＭｅＣ（ＯＭ
ｅ）3 , ＭｅＣ（ＯＥｔ）3 ，ＥｔＣ（ＯＭｅ）3 ,Ｅ
ｔＣ（ＯＥｔ）3，ｃｙＨｅＣ（ＯＥｔ）3 , ＰｈＣ
（ＯＭｅ）3 ，ＰｈＣ（ＯＥｔ）3 ，ＣＨ2ＣｌＣ（Ｏ
Ｅｔ）3 ，ＭｅＣＨＢｒＣ（ＯＥｔ）3 , ＭｅＣＨＣｌ
Ｃ（ＯＥｔ） 3 ；ＣｌＣ（ＯＭｅ）3 ，ＣｌＣ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＣｌＣ（Ｏｉ−Ｂｕ）3 ，ＢｒＣ（ＯＥ
ｔ）3 ；式 Ｘ2 Ｃ（ＯＲ）2 に含まれるＭｅＣＨ（Ｏ
Ｍｅ）2 , ＭｅＣＨ（ＯＥｔ）2 , ＣＨ2 （ＯＭ
ｅ）2 , ＣＨ2 （ＯＥｔ）2 ，ＣＨ2 ＣｌＣＨ（ＯＥ
ｔ）2 ，ＣＨＣｌ2 ＣＨ（ＯＥｔ）2 ，ＣＣｌ3 ＣＨ
（ＯＥｔ）2 ，ＣＨ 2 ＢｒＣＨ（ＯＥｔ）2 ，ＰｈＣＨ
（ＯＥｔ）2 。
ｔ）4 , Ｃ（ＯＰｒ） 4 , Ｃ（ＯＢｕ）4 , Ｃ（Ｏｉ−
Ｂｕ）4 ，Ｃ（ＯＨｅ）4 , Ｃ（ＯＯｃｔ）4：式 Ｘ
Ｃ（ＯＲ）3 に含まれるＨＣ（ＯＭｅ）3 , ＨＣ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＨＣ（ＯＰｒ）3 , ＨＣ（ＯＢｕ）3 ，ＨＣ
（ＯＨｅ）3 , ＨＣ（ＯＰｈ）3 ；ＭｅＣ（ＯＭ
ｅ）3 , ＭｅＣ（ＯＥｔ）3 ，ＥｔＣ（ＯＭｅ）3 ,Ｅ
ｔＣ（ＯＥｔ）3，ｃｙＨｅＣ（ＯＥｔ）3 , ＰｈＣ
（ＯＭｅ）3 ，ＰｈＣ（ＯＥｔ）3 ，ＣＨ2ＣｌＣ（Ｏ
Ｅｔ）3 ，ＭｅＣＨＢｒＣ（ＯＥｔ）3 , ＭｅＣＨＣｌ
Ｃ（ＯＥｔ） 3 ；ＣｌＣ（ＯＭｅ）3 ，ＣｌＣ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＣｌＣ（Ｏｉ−Ｂｕ）3 ，ＢｒＣ（ＯＥ
ｔ）3 ；式 Ｘ2 Ｃ（ＯＲ）2 に含まれるＭｅＣＨ（Ｏ
Ｍｅ）2 , ＭｅＣＨ（ＯＥｔ）2 , ＣＨ2 （ＯＭ
ｅ）2 , ＣＨ2 （ＯＥｔ）2 ，ＣＨ2 ＣｌＣＨ（ＯＥ
ｔ）2 ，ＣＨＣｌ2 ＣＨ（ＯＥｔ）2 ，ＣＣｌ3 ＣＨ
（ＯＥｔ）2 ，ＣＨ 2 ＢｒＣＨ（ＯＥｔ）2 ，ＰｈＣＨ
（ＯＥｔ）2 。
【００１２】Ｍが珪素の場合の化合物 式 Ｓｉ（ＯＲ）4 に含まれるＳｉ（ＯＭｅ）4 ，Ｓｉ
（ＯＥｔ）4 ，Ｓｉ（ＯＢｕ）4 ，Ｓｉ（Ｏｉ−Ｂｕ）
4 ，Ｓｉ（ＯＨｅ）4 ，Ｓｉ（ＯＯｃｔ）4 ，Ｓｉ（Ｏ
Ｐｈ）4 ：式 ＸＳｉ（ＯＲ）3 に含まれるＨＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）3 ，ＨＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＨＳｉ（ＯＨｅ）3 ，
ＨＳｉ（ＯＰｈ）3 ；ＭｅＳｉ（ＯＭｅ）3 ，ＭｅＳｉ
（ＯＥｔ）3 ，ＭｅＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＥｔＳｉ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）3 ，ＥｔＳｉ（ＯＰ
ｈ）3 ；ＣｌＳｉ（ＯＭｅ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＰ
ｈ）3 ，ＢｒＳｉ（ＯＥｔ）3 ；式 Ｘ2 Ｓｉ（ＯＲ）
2 に含まれるＭｅ2 Ｓｉ（ＯＭｅ）2 ，Ｍｅ2Ｓｉ（Ｏ
Ｅｔ）2 ，Ｅｔ2 Ｓｉ（ＯＥｔ）2 ；ＭｅＣｌＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）2 ；ＣＨＣｌ2 ＳｉＨ（ＯＥｔ）2 ；ＣＣｌ3 Ｓ
ｉＨ（ＯＥｔ）2 ；ＭｅＢｅＳｉ（ＯＥｔ）2 ：Ｘ3 Ｓ
ｉＯＲに含まれるＭｅ3 ＳｉＯＭｅ，Ｍｅ3 ＳｉＯＥ
ｔ，Ｍｅ3ＳｉＯＢｕ，Ｍｅ3 ＳｉＯＰｈ，Ｅｔ3 Ｓｉ
ＯＥｔ，Ｐｈ3 ＳｉＯＥｔ。
（ＯＥｔ）4 ，Ｓｉ（ＯＢｕ）4 ，Ｓｉ（Ｏｉ−Ｂｕ）
4 ，Ｓｉ（ＯＨｅ）4 ，Ｓｉ（ＯＯｃｔ）4 ，Ｓｉ（Ｏ
Ｐｈ）4 ：式 ＸＳｉ（ＯＲ）3 に含まれるＨＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）3 ，ＨＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＨＳｉ（ＯＨｅ）3 ，
ＨＳｉ（ＯＰｈ）3 ；ＭｅＳｉ（ＯＭｅ）3 ，ＭｅＳｉ
（ＯＥｔ）3 ，ＭｅＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＥｔＳｉ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）3 ，ＥｔＳｉ（ＯＰ
ｈ）3 ；ＣｌＳｉ（ＯＭｅ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＥ
ｔ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＢｕ）3 ，ＣｌＳｉ（ＯＰ
ｈ）3 ，ＢｒＳｉ（ＯＥｔ）3 ；式 Ｘ2 Ｓｉ（ＯＲ）
2 に含まれるＭｅ2 Ｓｉ（ＯＭｅ）2 ，Ｍｅ2Ｓｉ（Ｏ
Ｅｔ）2 ，Ｅｔ2 Ｓｉ（ＯＥｔ）2 ；ＭｅＣｌＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）2 ；ＣＨＣｌ2 ＳｉＨ（ＯＥｔ）2 ；ＣＣｌ3 Ｓ
ｉＨ（ＯＥｔ）2 ；ＭｅＢｅＳｉ（ＯＥｔ）2 ：Ｘ3 Ｓ
ｉＯＲに含まれるＭｅ3 ＳｉＯＭｅ，Ｍｅ3 ＳｉＯＥ
ｔ，Ｍｅ3ＳｉＯＢｕ，Ｍｅ3 ＳｉＯＰｈ，Ｅｔ3 Ｓｉ
ＯＥｔ，Ｐｈ3 ＳｉＯＥｔ。
【００１３】Ｍが硼素の場合の化合物 式 Ｂ（ＯＲ）3 に含まれるＢ（ＯＥｔ）3 ，Ｂ（ＯＢ
ｕ）3 , Ｂ（ＯＨｅ） 3 ，Ｂ（ＯＰｈ）3 。
ｕ）3 , Ｂ（ＯＨｅ） 3 ，Ｂ（ＯＰｈ）3 。
【００１４】Ｍがアルミニウムの場合の化合物 式 Ａｌ（ＯＲ）3 に含まれるＡｌ（ＯＭｅ）3 ，Ａｌ
（ＯＥｔ）3 ，Ａｌ（ＯＰｒ）3 ，Ａｌ（Ｏｉ−Ｐｒ）
3 ，Ａｌ（ＯＢｕ）3 ，Ａｌ（Ｏｔ−Ｂｕ）3，Ａｌ
（ＯＨｅ）3 ，Ａｌ（ＯＰｈ）3 。
（ＯＥｔ）3 ，Ａｌ（ＯＰｒ）3 ，Ａｌ（Ｏｉ−Ｐｒ）
3 ，Ａｌ（ＯＢｕ）3 ，Ａｌ（Ｏｔ−Ｂｕ）3，Ａｌ
（ＯＨｅ）3 ，Ａｌ（ＯＰｈ）3 。
【００１５】Ｍが燐の場合の化合物 式 Ｐ（ＯＲ）3 に含まれるＰ（ＯＭｅ）3 , Ｐ（ＯＥ
ｔ）3 , Ｐ（ＯＢｕ） 3 ，Ｐ（ＯＨｅ）3 ，Ｐ（ＯＰ
ｈ）3 。
ｔ）3 , Ｐ（ＯＢｕ） 3 ，Ｐ（ＯＨｅ）3 ，Ｐ（ＯＰ
ｈ）3 。
【００１６】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIａ族金属（Ｍ）の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 ＭｇＲ1 Ｒ
2 ・ｎ（ＭＲ3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、Ｒ3 は炭素数
１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、ｍは金属Ｍの原子価
を、ｎは０．１〜１０の数を示す。ＭＲ3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、ＡｌＭｅ3 , ＡｌＥｔ3 ，
Ａｌｉ−Ｂｕ3 ，ＡｌＰｈ3 ，ＺｎＭｅ2 ，ＺｎＥ
ｔ2 ，ＺｎＢｕ2 ，ＺｎＰｈ2 ，ＣａＥｔ2 ，ＣａＰｈ
2 等が挙げられる。
第II族又は第 IIIａ族金属（Ｍ）の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 ＭｇＲ1 Ｒ
2 ・ｎ（ＭＲ3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、Ｒ3 は炭素数
１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、ｍは金属Ｍの原子価
を、ｎは０．１〜１０の数を示す。ＭＲ3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、ＡｌＭｅ3 , ＡｌＥｔ3 ，
Ａｌｉ−Ｂｕ3 ，ＡｌＰｈ3 ，ＺｎＭｅ2 ，ＺｎＥ
ｔ2 ，ＺｎＢｕ2 ，ＺｎＰｈ2 ，ＣａＥｔ2 ，ＣａＰｈ
2 等が挙げられる。
【００１７】（２）チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
【００１８】（３）電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
【００１９】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−１，２−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−４−メチルシクロヘキセン−１，
２−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−１，２−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−４−メチルシクロヘキセン−１，
２−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
【００２０】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、ｐ−トルイル酸メチル、ｐ
−第三級ブチル安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ２−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、ｐ−トルイル酸メチル、ｐ
−第三級ブチル安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ２−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
【００２１】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイ
ル酸ブロミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイ
ル酸ブロミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
【００２２】アルコール類は、一般式 ＲＯＨで表わさ
れる。式においてＲは炭素数１〜１２個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、ｐ−ターシャリーブチルフェノール、
ｎ−オクチルフェノール等である。エーテル類は、一般
式ＲＯＲ1 で表わされる。式においてＲ，Ｒ1 は炭素数
１〜１２個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルアルキルであり、ＲとＲ1 は同じでも異
ってもよい。その具体例としては、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブ
チルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジ−２−エチル
ヘキシルエーテル、ジアリルエーテル、エチルアリルエ
ーテル、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、
アニソール、エチルフェニルエーテル等である。
れる。式においてＲは炭素数１〜１２個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、ｐ−ターシャリーブチルフェノール、
ｎ−オクチルフェノール等である。エーテル類は、一般
式ＲＯＲ1 で表わされる。式においてＲ，Ｒ1 は炭素数
１〜１２個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルアルキルであり、ＲとＲ1 は同じでも異
ってもよい。その具体例としては、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブ
チルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジ−２−エチル
ヘキシルエーテル、ジアリルエーテル、エチルアリルエ
ーテル、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、
アニソール、エチルフェニルエーテル等である。
【００２３】成分Ａの調製法としては、マグネシウム
化合物（成分１）、チタン化合物（成分２）及び電子供
与性化合物（成分３）をその順序に接触させる。成分
１と成分３を接触させた後、成分２を接触させる。成
分１，成分２及び成分３を同時に接触させる等の方法が
採用し得る。又、成分２を用いて接触させる前にハロゲ
ン含有化合物と接触させることもできる。
化合物（成分１）、チタン化合物（成分２）及び電子供
与性化合物（成分３）をその順序に接触させる。成分
１と成分３を接触させた後、成分２を接触させる。成
分１，成分２及び成分３を同時に接触させる等の方法が
採用し得る。又、成分２を用いて接触させる前にハロゲ
ン含有化合物と接触させることもできる。
【００２４】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIａ族、IVａ
族、Ｖａ族元素のハロゲン化物 （以下、金属ハライド
という。）等が挙げられる。
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIａ族、IVａ
族、Ｖａ族元素のハロゲン化物 （以下、金属ハライド
という。）等が挙げられる。
【００２５】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数１〜
１２個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、１，２−
ジクロルエタン、１，２−ジブロムエタン、１，２−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、１，１，２−トリクロルエチ
レン、１，１，２−トリブロモエチレン、１，１，２,
２−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、ｎ−プロピルク
ロライド、１，２−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ｐ−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、ｐ−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
１２個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、１，２−
ジクロルエタン、１，２−ジブロムエタン、１，２−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、１，１，２−トリクロルエチ
レン、１，１，２−トリブロモエチレン、１，１，２,
２−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、ｎ−プロピルク
ロライド、１，２−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ｐ−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、ｐ−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
【００２６】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。
【００２７】それら化合物を例示すると、２−クロルエ
タノール、１−クロル−２−プロパノール、３−クロル
−１−プロパノール、１−クロル−２−メチル−２−プ
ロパノール、４−クロル−１−ブタノール、５−クロル
−１−ペンタノール、６−クロル−１−ヘキサノール、
３−クロル−１，２−プロパンジオール、２−クロルシ
クロヘキサノール、４−クロルベンズヒドロール、
（ｍ，ｏ，ｐ）−クロルベンジルアルコール、４−クロ
ルカテコール、４−クロル−（ｍ，ｏ）−クレゾール、
６−クロル−（ｍ，ｏ）−クレゾール、４−クロル−
３，５−ジメチルフェノール、クロルハイドロキノン、
２−ベンジル−４−クロルフェノール、４−クロル−１
−ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−クロルフェノール、ｐ
−クロル−α−メチルベンジルアルコール、２−クロル
−４−フェニルフェノール、６−クロルチモール、４−
クロルレゾルシン、２−ブロムエタノール、３−ブロム
−１−プロパノール、１−ブルム−２−プロパノール、
１−ブロム−２−ブタノール、２−ブロム−ｐ−クレゾ
ール、１−ブロム−２−ナフトール、６−ブロム−２−
ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−ブロムフェノール、４−
ブロムレゾルシン、（ｍ，ｏ，ｐ）−フロロフェノー
ル、ｐ−イオドフェノール：２，２−ジクロルエタノー
ル、２，３−ジクロル−１−プロパノール、１，３−ジ
クロル−２−プロパノール、３−クロル−１−（α−ク
ロルメチル）−１−プロパノール、２，３−ジブロム−
１−プロパノール、１，３−ジブロム−２−プロパノー
ル、２，４−ジブロムフェノール、２，４−ジブロム−
１−ナフトール：２，２，２−トリクロルエタノール、
１，１，１−トリクロル−２−プロパノール、β，β，
β−トリクロル−ｔｅｒｔ−ブタノール、２，３，４−
トリクロルフェノール、２，４，５−トリクロルフェノ
ール、２，４，６−トリクロルフェノール、２，４，６
−トリブロムフェノール、２，３，５−トリブロム−２
−ヒドロキシトルエン、２，３，５−トリブロム−４−
ヒドロキシトルエン、２，２，２−トリフルオロエタノ
ール、α，α，α−トリフルオロ−ｍ−クレゾール、
２，４，６−トリイオドフェノール：２，３，４，６−
テトラクロルフェノール、テトラクロルハイドロキノ
ン、テトラクロルビスフェノールＡ、テトラブロムビス
フェノールＡ、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−
プロパノール、２，３，５，６−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等が挙げられる。
タノール、１−クロル−２−プロパノール、３−クロル
−１−プロパノール、１−クロル−２−メチル−２−プ
ロパノール、４−クロル−１−ブタノール、５−クロル
−１−ペンタノール、６−クロル−１−ヘキサノール、
３−クロル−１，２−プロパンジオール、２−クロルシ
クロヘキサノール、４−クロルベンズヒドロール、
（ｍ，ｏ，ｐ）−クロルベンジルアルコール、４−クロ
ルカテコール、４−クロル−（ｍ，ｏ）−クレゾール、
６−クロル−（ｍ，ｏ）−クレゾール、４−クロル−
３，５−ジメチルフェノール、クロルハイドロキノン、
２−ベンジル−４−クロルフェノール、４−クロル−１
−ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−クロルフェノール、ｐ
−クロル−α−メチルベンジルアルコール、２−クロル
−４−フェニルフェノール、６−クロルチモール、４−
クロルレゾルシン、２−ブロムエタノール、３−ブロム
−１−プロパノール、１−ブルム−２−プロパノール、
１−ブロム−２−ブタノール、２−ブロム−ｐ−クレゾ
ール、１−ブロム−２−ナフトール、６−ブロム−２−
ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−ブロムフェノール、４−
ブロムレゾルシン、（ｍ，ｏ，ｐ）−フロロフェノー
ル、ｐ−イオドフェノール：２，２−ジクロルエタノー
ル、２，３−ジクロル−１−プロパノール、１，３−ジ
クロル−２−プロパノール、３−クロル−１−（α−ク
ロルメチル）−１−プロパノール、２，３−ジブロム−
１−プロパノール、１，３−ジブロム−２−プロパノー
ル、２，４−ジブロムフェノール、２，４−ジブロム−
１−ナフトール：２，２，２−トリクロルエタノール、
１，１，１−トリクロル−２−プロパノール、β，β，
β−トリクロル−ｔｅｒｔ−ブタノール、２，３，４−
トリクロルフェノール、２，４，５−トリクロルフェノ
ール、２，４，６−トリクロルフェノール、２，４，６
−トリブロムフェノール、２，３，５−トリブロム−２
−ヒドロキシトルエン、２，３，５−トリブロム−４−
ヒドロキシトルエン、２，２，２−トリフルオロエタノ
ール、α，α，α−トリフルオロ−ｍ−クレゾール、
２，４，６−トリイオドフェノール：２，３，４，６−
テトラクロルフェノール、テトラクロルハイドロキノ
ン、テトラクロルビスフェノールＡ、テトラブロムビス
フェノールＡ、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−
プロパノール、２，３，５，６−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等が挙げられる。
【００２８】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、ＨＳｉＣｌ3 ，Ｈ2ＳｉＣｌ2 ，Ｈ3 Ｓ
ｉＣｌ，ＨＣＨ3 ＳｉＣｌ2 , ＨＣ2 Ｈ5 ＳｉＣｌ2 ，
Ｈ（ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）ＳｉＣｌ2 ，ＨＣ6 Ｈ5 ＳｉＣｌ
2 , Ｈ（ＣＨ3 ) 2 ＳｉＣｌ，Ｈ（ｉ−Ｃ3 Ｈ7 ）2 Ｓ
ｉＣｌ，Ｈ2 Ｃ2 Ｈ5 ＳｉＣｌ，Ｈ2 （ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）
ＳｉＣｌ、Ｈ2 （Ｃ6 Ｈ4 ＣＨ3 ）ＳｉＣｌ、ＨＳｉＣ
ｌ（Ｃ6 Ｈ5 ）2 等が挙げられる。
合物としては、ＨＳｉＣｌ3 ，Ｈ2ＳｉＣｌ2 ，Ｈ3 Ｓ
ｉＣｌ，ＨＣＨ3 ＳｉＣｌ2 , ＨＣ2 Ｈ5 ＳｉＣｌ2 ，
Ｈ（ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）ＳｉＣｌ2 ，ＨＣ6 Ｈ5 ＳｉＣｌ
2 , Ｈ（ＣＨ3 ) 2 ＳｉＣｌ，Ｈ（ｉ−Ｃ3 Ｈ7 ）2 Ｓ
ｉＣｌ，Ｈ2 Ｃ2 Ｈ5 ＳｉＣｌ，Ｈ2 （ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）
ＳｉＣｌ、Ｈ2 （Ｃ6 Ｈ4 ＣＨ3 ）ＳｉＣｌ、ＨＳｉＣ
ｌ（Ｃ6 Ｈ5 ）2 等が挙げられる。
【００２９】金属ハライドとしては、Ｂ，Ａｌ，Ｇａ，
Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂ
ｉの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にＢＣｌ3 ，ＢＢｒ3 , ＢＩ3 ，ＡｌＣｌ3 ，ＡｌＢｒ
3 , ＧａＣｌ3 ，ＧａＢｒ3, ＩｎＣｌ3 ，ＴｌＣ
ｌ3 ，ＳｉＣｌ4 ，ＳｎＣｌ4 ，ＳｂＣｌ5 ，ＳｂＦ5
等が好適である。
Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂ
ｉの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にＢＣｌ3 ，ＢＢｒ3 , ＢＩ3 ，ＡｌＣｌ3 ，ＡｌＢｒ
3 , ＧａＣｌ3 ，ＧａＢｒ3, ＩｎＣｌ3 ，ＴｌＣ
ｌ3 ，ＳｉＣｌ4 ，ＳｎＣｌ4 ，ＳｂＣｌ5 ，ＳｂＦ5
等が好適である。
【００３０】成分１，成分２及び成分３、更に必要に応
じて接触させることのできるハロゲン含有化合物との接
触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌す
るか、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は
４０〜１５０℃の加熱下で行うことができる。
じて接触させることのできるハロゲン含有化合物との接
触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌す
るか、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は
４０〜１５０℃の加熱下で行うことができる。
【００３１】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
【００３２】本発明における成分Ａの望ましい調製法
は、特開昭６３−２６４６０７号、同５８−１９８５０
３号、同６２−１４６９０４号公報等に開示されている
方法である。より詳細には、 （イ) 金属マグネシウム、（ロ）ハロゲン化炭化水
素、（ハ) 一般式Ｘn Ｍ（ＯＲ）m-n の化合物（前記の
アルコキシ基含有化合物と同じ）を接触させることによ
り得られるマグネシウム含有固体を（ニ) ハロゲン含有
アルコールと接触させ、次いで（ホ）電子供与性化合物
及び（ヘ) チタン化合物と接触させる方法（特開昭６３
−２６４６０７号公報）、 （イ）マグネシウムジアルコキシドと（ロ) 水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、（ハ）ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
（ニ）電子供与性化合物と接触させ（必要に応じて更に
ハロゲン化チタン化合物と接触させる）る方法（特開昭
６２−１４６９０４号公報）、 （イ) マグネシウムジアルコキシドと（ロ）水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、（ハ）電子供与性化合物と接触させ、次いで（ニ）
チタン化合物と接触させる方法（特開昭５８−１９８５
０３号公報）である。 これらの内でも特にの方法が最も望ましい。上記のよ
うにして成分Ａは調製されるが、成分Ａは必要に応じて
前記の不活性媒体で洗浄してもよく、更に乾燥してもよ
い。
は、特開昭６３−２６４６０７号、同５８−１９８５０
３号、同６２−１４６９０４号公報等に開示されている
方法である。より詳細には、 （イ) 金属マグネシウム、（ロ）ハロゲン化炭化水
素、（ハ) 一般式Ｘn Ｍ（ＯＲ）m-n の化合物（前記の
アルコキシ基含有化合物と同じ）を接触させることによ
り得られるマグネシウム含有固体を（ニ) ハロゲン含有
アルコールと接触させ、次いで（ホ）電子供与性化合物
及び（ヘ) チタン化合物と接触させる方法（特開昭６３
−２６４６０７号公報）、 （イ）マグネシウムジアルコキシドと（ロ) 水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、（ハ）ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
（ニ）電子供与性化合物と接触させ（必要に応じて更に
ハロゲン化チタン化合物と接触させる）る方法（特開昭
６２−１４６９０４号公報）、 （イ) マグネシウムジアルコキシドと（ロ）水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた
後、（ハ）電子供与性化合物と接触させ、次いで（ニ）
チタン化合物と接触させる方法（特開昭５８−１９８５
０３号公報）である。 これらの内でも特にの方法が最も望ましい。上記のよ
うにして成分Ａは調製されるが、成分Ａは必要に応じて
前記の不活性媒体で洗浄してもよく、更に乾燥してもよ
い。
【００３３】又、成分Ａは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分Ａ中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
物の存在下、オレフィンと接触させて成分Ａ中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
【００３４】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常１００℃以下、望ましくは−１０〜＋
５０℃の温度で行われる。成分Ａ中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分Ａ１ｇ当り通常０．１〜１０
０ｇである。
レン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常１００℃以下、望ましくは−１０〜＋
５０℃の温度で行われる。成分Ａ中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分Ａ１ｇ当り通常０．１〜１０
０ｇである。
【００３５】成分Ａとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Ａを調製させる際に用い
られる化合物およびＳｉ−Ｏ−Ｃ結合もしくはＳｉ−Ｎ
−Ｃ結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Ａは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Ａを調製させる際に用い
られる化合物およびＳｉ−Ｏ−Ｃ結合もしくはＳｉ−Ｎ
−Ｃ結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Ａは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
【００３６】有機金属化合物 有機金属化合物（以下成分Ｂという。）は、周期表第Ｉ
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Ｂとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Ｒn Ａｌ
Ｘ3-n （但し、Ｒはアルキル基又はアリール基、Ｘはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、ｎは１
≦ｎ≦３の範囲の任意の数である。）で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数１ないし１８
個、好ましくは炭素数２ないし６個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
又、酸素原子や窒素原子を介して２個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能であ
る。そのような化合物としては、例えば
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Ｂとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Ｒn Ａｌ
Ｘ3-n （但し、Ｒはアルキル基又はアリール基、Ｘはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、ｎは１
≦ｎ≦３の範囲の任意の数である。）で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数１ないし１８
個、好ましくは炭素数２ないし６個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
又、酸素原子や窒素原子を介して２個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能であ
る。そのような化合物としては、例えば
【化３】 等を例示できる。
【００３７】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他ＬｉＡｌ（Ｃ
2 Ｈ5 ）4 ，ＬｉＡｌ（Ｃ7 Ｈ15）4 等の化合物が挙げ
られる。
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他ＬｉＡｌ（Ｃ
2 Ｈ5 ）4 ，ＬｉＡｌ（Ｃ7 Ｈ15）4 等の化合物が挙げ
られる。
【００３８】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物（以下、成
分Ｃという。）は、前記一般式で表わされる。該一般式
において、Ｒ1 は炭素数６〜１０個の脂環式炭化水素
基、好ましくは飽和脂環式炭化水素基であり、Ｒ2 は炭
素数３〜１０個の２級もしくは３級の脂肪族又は脂環式
炭化水素基、好ましくは飽和脂環式炭化水素基である。
分Ｃという。）は、前記一般式で表わされる。該一般式
において、Ｒ1 は炭素数６〜１０個の脂環式炭化水素
基、好ましくは飽和脂環式炭化水素基であり、Ｒ2 は炭
素数３〜１０個の２級もしくは３級の脂肪族又は脂環式
炭化水素基、好ましくは飽和脂環式炭化水素基である。
【００３９】以下、成分Ｃの具体例を列挙する。なお、
以下において、Ｍｅ＝メチル、Ｐｒ＝プロピル、Ｂｕ＝
ブチル、ＣｙＰｅ＝シクロペンチル、ＣｙＨｅ＝シクロ
ヘキシル、３−ＭｅＣｙＰｅ＝３−メチルシクロペンチ
ル、４−ＭｅＣｙＨｅ＝４−メチルシクロヘキシル、
３，５−ＭｅＣｙＨｅ＝３，５−ジメチルシクロヘキシ
ル、ＣｙＨｐ＝シクロヘプチル、ＣｙＯｔ＝シクロオク
チル、Ｎｏｒ＝ノルボルニル、Ａｄｍ＝１−アダマンチ
ル、Ｍｅｎ＝メンチル基をそれぞれ示す。
以下において、Ｍｅ＝メチル、Ｐｒ＝プロピル、Ｂｕ＝
ブチル、ＣｙＰｅ＝シクロペンチル、ＣｙＨｅ＝シクロ
ヘキシル、３−ＭｅＣｙＰｅ＝３−メチルシクロペンチ
ル、４−ＭｅＣｙＨｅ＝４−メチルシクロヘキシル、
３，５−ＭｅＣｙＨｅ＝３，５−ジメチルシクロヘキシ
ル、ＣｙＨｐ＝シクロヘプチル、ＣｙＯｔ＝シクロオク
チル、Ｎｏｒ＝ノルボルニル、Ａｄｍ＝１−アダマンチ
ル、Ｍｅｎ＝メンチル基をそれぞれ示す。
【００４０】（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ
（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓ
ｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｓ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｔ−Ｂ
ｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（Ｃｙ
Ｐｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（Ｃ
ｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨｅＯ）
（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨｅ
Ｏ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙ
ＨｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣ
ｙＨｅＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨ
ｐＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）
（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ｓ−
Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ｔ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ
（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＮｏｒＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｎｏｒ
Ｏ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ｔ
−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ＣｙＰｅ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（Ｏ
Ｍｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓ
ｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ｉ−Ｂ
ｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）
（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５
−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＣｙＯｔＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｃｙ
ＯｔＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｔ
Ｏ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｔＯ）
（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｉ−Ｐ
ｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ
（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＭｅｎＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｍｅｎ
Ｏ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ｓ
−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ） 2 、（ＭｅｎＯ）（ｔ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（Ｏ
Ｍｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 。
（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓ
ｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｓ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（ｔ−Ｂ
ｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（Ｃｙ
Ｐｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３−ＭｅＣｙＰｅＯ）（Ｃ
ｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨｅＯ）
（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨｅ
Ｏ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣｙ
ＨｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−ＭｅＣ
ｙＨｅＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（４−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨ
ｐＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）
（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ｓ−
Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ｔ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ
（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＨｐＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＮｏｒＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｎｏｒ
Ｏ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ｔ
−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ＣｙＰｅ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＮｏｒＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（Ｏ
Ｍｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓ
ｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ｉ−Ｂ
ｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨｅＯ）
（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−ＭｅＣｙＨ
ｅＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５−Ｍｅ
ＣｙＨｅＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（３，５
−ＭｅＣｙＨｅＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＣｙＯｔＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｃｙ
ＯｔＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｔ
Ｏ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＣｙＯｔＯ）
（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｉ−Ｐ
ｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ
（ＯＭｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｓ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 、（ＡｄｍＯ）（ｔ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、
（ＭｅｎＯ）（ｉ−Ｐｒ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（Ｍｅｎ
Ｏ）（ｉ−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ｓ
−Ｂｕ）Ｓｉ（ＯＭｅ） 2 、（ＭｅｎＯ）（ｔ−Ｂｕ）
Ｓｉ（ＯＭｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ＣｙＰｅ）Ｓｉ（Ｏ
Ｍｅ）2 、（ＭｅｎＯ）（ＣｙＨｅ）Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）2 。
【００４１】本発明に用いる重合触媒は、成分Ａ，成分
Ｂ及び成分Ｃからなるが、それらの構成割合は、成分Ｂ
が成分Ａ中のチタン１グラム原子当り１〜２，０００グ
ラムモル、望ましくは２０〜５００グラムモル、成分Ｃ
が成分Ｂ１モルに対して０．００１〜１０モル、望まし
くは０．０１〜１．０モルとなるように用いられる。
Ｂ及び成分Ｃからなるが、それらの構成割合は、成分Ｂ
が成分Ａ中のチタン１グラム原子当り１〜２，０００グ
ラムモル、望ましくは２０〜５００グラムモル、成分Ｃ
が成分Ｂ１モルに対して０．００１〜１０モル、望まし
くは０．０１〜１．０モルとなるように用いられる。
【００４２】プロピレンの重合 本発明は、前記重合触媒の存在下、プロピレンを重合す
るものである。重合反応は、気相、液相のいずれでもよ
く、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブ
タン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー中
で行うことができる。重合温度は、通常−８０℃〜＋１
５０℃、好ましくは４０〜１２０℃の範囲である。重合
圧力は、例えば１〜６０気圧でよい。又、得られる重合
体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量調
節剤を存在せしめることにより行われる。
るものである。重合反応は、気相、液相のいずれでもよ
く、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブ
タン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー中
で行うことができる。重合温度は、通常−８０℃〜＋１
５０℃、好ましくは４０〜１２０℃の範囲である。重合
圧力は、例えば１〜６０気圧でよい。又、得られる重合
体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量調
節剤を存在せしめることにより行われる。
【００４３】
【実施例】本発明を実施例により具体的に説明する。な
お、例におけるパーセント（％）は特に断らない限り重
量による。ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘ
プタン不溶分（以下ＨＩと略称する。）は、改良型ソッ
クスレー抽出器で沸騰ｎ−ヘプタンにより６時間抽出し
た場合の残量である。ポリマーのＭＦＲはＡＳＴＭ Ｄ
−１２３８に従って測定した。又、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は、Ｗａｔｅｒｓ社製ＧＰＣ（ゲル・パーミエー
ション・クロマトグラフィー）１５０−Ｃを用いて、Ｏ
−ジクロルベンゼン中、１３５℃で測定した。
お、例におけるパーセント（％）は特に断らない限り重
量による。ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘ
プタン不溶分（以下ＨＩと略称する。）は、改良型ソッ
クスレー抽出器で沸騰ｎ−ヘプタンにより６時間抽出し
た場合の残量である。ポリマーのＭＦＲはＡＳＴＭ Ｄ
−１２３８に従って測定した。又、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は、Ｗａｔｅｒｓ社製ＧＰＣ（ゲル・パーミエー
ション・クロマトグラフィー）１５０−Ｃを用いて、Ｏ
−ジクロルベンゼン中、１３５℃で測定した。
【００４４】実施例１ 成分Ａの調製 還流冷却器をつけた１リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム（純度９９．
５％、平均粒径１．６mm）８．３ｇ及びｎ−ヘキサン２
５０mlを入れ、６８℃で１時間攪拌後、金属マグネシウ
ムを取出し、６５℃で減圧乾燥するという方法で予備活
性化した金属マグネシウムを得た。次に、この金属マグ
ネシウムに、ｎ−ブチルエーテル１４０ml及びｎ−ブチ
ルマグネシウムクロリドのｎ−ブチルエーテル溶液
（１．７５モル／ｌ）を０．５ml加えた懸濁液を５５℃
に保ち、更にｎ−ブチルエーテル５０mlにｎ−ブチルク
ロライド３８．５mlを溶解した溶液を５０分間で滴下し
た。攪拌下７０℃で４時間反応を行った後、反応液を２
５℃に保持した。次いで、この反応液にＨＣ（ＯＣ2 Ｈ
5 ）3 ５５．７mlを１時間で滴下した。滴下終了後、
６０℃で１５分間反応を行い、反応生成固体をｎ−ヘキ
サン各３００mlで６回洗浄し、室温で１時間減圧乾燥
し、マグネシウムを１９．０％、塩素を２８．９％を含
むマグネシウム含有固体３１．６ｇを回収した。還流冷
却器、攪拌機及び滴下ロートを取付けた３００mlの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム含有固体６．３
ｇ及びｎ−ヘプタン５０mlを入れ懸濁液とし、室温で攪
拌しながら２，２，２−トリクロルエタノール２０ml
（０．０２ミリモル）とｎ−ヘプタン１１mlの混合溶液
を滴下ロートから３０分間で滴下し、更に８０℃で１時
間攪拌した。得られた固体をろ過し、室温のｎ−ヘキサ
ン各１００mlで４回洗浄し、更にトルエン各１００mlで
２回洗浄して固体成分を得た。
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム（純度９９．
５％、平均粒径１．６mm）８．３ｇ及びｎ−ヘキサン２
５０mlを入れ、６８℃で１時間攪拌後、金属マグネシウ
ムを取出し、６５℃で減圧乾燥するという方法で予備活
性化した金属マグネシウムを得た。次に、この金属マグ
ネシウムに、ｎ−ブチルエーテル１４０ml及びｎ−ブチ
ルマグネシウムクロリドのｎ−ブチルエーテル溶液
（１．７５モル／ｌ）を０．５ml加えた懸濁液を５５℃
に保ち、更にｎ−ブチルエーテル５０mlにｎ−ブチルク
ロライド３８．５mlを溶解した溶液を５０分間で滴下し
た。攪拌下７０℃で４時間反応を行った後、反応液を２
５℃に保持した。次いで、この反応液にＨＣ（ＯＣ2 Ｈ
5 ）3 ５５．７mlを１時間で滴下した。滴下終了後、
６０℃で１５分間反応を行い、反応生成固体をｎ−ヘキ
サン各３００mlで６回洗浄し、室温で１時間減圧乾燥
し、マグネシウムを１９．０％、塩素を２８．９％を含
むマグネシウム含有固体３１．６ｇを回収した。還流冷
却器、攪拌機及び滴下ロートを取付けた３００mlの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム含有固体６．３
ｇ及びｎ−ヘプタン５０mlを入れ懸濁液とし、室温で攪
拌しながら２，２，２−トリクロルエタノール２０ml
（０．０２ミリモル）とｎ−ヘプタン１１mlの混合溶液
を滴下ロートから３０分間で滴下し、更に８０℃で１時
間攪拌した。得られた固体をろ過し、室温のｎ−ヘキサ
ン各１００mlで４回洗浄し、更にトルエン各１００mlで
２回洗浄して固体成分を得た。
【００４５】上記の固体成分にトルエン４０mlを加え、
更に四塩化チタン／トルエンの体積比が３／２になるよ
うに四塩化チタンを加えて９０℃に昇温した。攪拌下、
フタル酸ジｎ−ブチル２mlとトルエン５mlの混合溶液を
５分間で滴下した後、１２０℃で２時間攪拌した。得ら
れた固体状物質を９０℃でろ別し、トルエン各１００ml
で２回、９０℃で洗浄した。更に、新たに四塩化チタン
／トルエンの体積比が３／２になるように四塩化チタン
を加え、１２０℃で２時間攪拌した。得られた固体物質
を１１０℃でろ別し、室温の各１００mlのｎ−ヘキサン
にて７回洗浄して成分Ａ５．５ｇを得た。
更に四塩化チタン／トルエンの体積比が３／２になるよ
うに四塩化チタンを加えて９０℃に昇温した。攪拌下、
フタル酸ジｎ−ブチル２mlとトルエン５mlの混合溶液を
５分間で滴下した後、１２０℃で２時間攪拌した。得ら
れた固体状物質を９０℃でろ別し、トルエン各１００ml
で２回、９０℃で洗浄した。更に、新たに四塩化チタン
／トルエンの体積比が３／２になるように四塩化チタン
を加え、１２０℃で２時間攪拌した。得られた固体物質
を１１０℃でろ別し、室温の各１００mlのｎ−ヘキサン
にて７回洗浄して成分Ａ５．５ｇを得た。
【００４６】プロピレンの重合 攪拌機を取付けた１．５リットルのステンレス製オート
クレーブに、窒素ガス雰囲気下、上記で得られた成分Ａ
９．５ｍｇ、ｎ−ヘプタン１リットル中に０．４モルの
トリエチルアルミニウム（以下ＴＥＡＬと称する。）を
含む溶液４ｍｌ及びｎ−ヘプタン１リットル中に０．０
８モルのメンチルオキシシクロペンチルジメトキシシラ
ンを含む溶液１ｍｌを混合し５分間保持したものを入れ
た。次いで、分子量制御剤としての水素ガス６００ｍｌ
及び液体プロピレン１リットルを圧入した後、反応系を
７０℃に昇温して、１時間プロピレンの重合を行った。
重合終了後、未反応のプロピレンをパージし、ＨＩ ９
７．５％、ＭＦＲ ３．６ｄｇ／ｍｉｎの白色のポリプ
ロピレン粉末を得た。重合活性は２５．０ｋｇ／ｇ・成
分Ａ・時間であり、得られたポリマーのＭｗ／Ｍｎは
７．２であった。
クレーブに、窒素ガス雰囲気下、上記で得られた成分Ａ
９．５ｍｇ、ｎ−ヘプタン１リットル中に０．４モルの
トリエチルアルミニウム（以下ＴＥＡＬと称する。）を
含む溶液４ｍｌ及びｎ−ヘプタン１リットル中に０．０
８モルのメンチルオキシシクロペンチルジメトキシシラ
ンを含む溶液１ｍｌを混合し５分間保持したものを入れ
た。次いで、分子量制御剤としての水素ガス６００ｍｌ
及び液体プロピレン１リットルを圧入した後、反応系を
７０℃に昇温して、１時間プロピレンの重合を行った。
重合終了後、未反応のプロピレンをパージし、ＨＩ ９
７．５％、ＭＦＲ ３．６ｄｇ／ｍｉｎの白色のポリプ
ロピレン粉末を得た。重合活性は２５．０ｋｇ／ｇ・成
分Ａ・時間であり、得られたポリマーのＭｗ／Ｍｎは
７．２であった。
【００４７】なお、メンチルオキシシクロペンチルジメ
トキシシランは下記の方法で合成した。１００ｍｌの耐
圧容器に、シクロペンテン１６．７ｇ（０．２４５モ
ル）、トリクロロシラン３０．１ｇ（０．２２２モル）
及び０．０７７ミリモル／ｍｌの塩化白金酸のイソプロ
ピルアルコール溶液２５μｌ（白金含量１．９２×１０
-6モル）を仕込み、１５０℃で３０分間攪拌することに
より、シクロペンチルトリクロロシランを定量的に得
た。磁気攪拌子、還流冷却器及び滴下ロートを備えた５
００ｍｌの三つ口フラスコに、先に得たシクロペンチル
トリクロロシラン３６．６ｇ（０．１８０モル）及びヘ
キサン２００ｍｌを仕込み、ここに、ピリジン４５．４
ｇ（０．５７４モル）及び（−）−メントールのヘキサ
ン溶液〔３９．４ｇ（０．２５２モル）のメントールを
１００ｍｌにヘキサンに溶かしたもの〕の混合物を、室
温にて攪拌下３０分間で滴下した。さらに３０分間攪拌
を続けた後、ここにメタノール１７．０（０．５５９モ
ル）を添加し、さらに３０分間攪拌を続けてから反応を
終了した。生成した塩をろ過により除去し、次いでヘキ
サンを留去した後、減圧蒸溜することにより、メンチル
オキシシクロペンチルジメトキシシラン３９．６ｇ
（０．１２６モル）を得た。構造はＧＣ−ＭＳ、 1Ｈ−
ＮＭＲ及びＩＲで確認した。
トキシシランは下記の方法で合成した。１００ｍｌの耐
圧容器に、シクロペンテン１６．７ｇ（０．２４５モ
ル）、トリクロロシラン３０．１ｇ（０．２２２モル）
及び０．０７７ミリモル／ｍｌの塩化白金酸のイソプロ
ピルアルコール溶液２５μｌ（白金含量１．９２×１０
-6モル）を仕込み、１５０℃で３０分間攪拌することに
より、シクロペンチルトリクロロシランを定量的に得
た。磁気攪拌子、還流冷却器及び滴下ロートを備えた５
００ｍｌの三つ口フラスコに、先に得たシクロペンチル
トリクロロシラン３６．６ｇ（０．１８０モル）及びヘ
キサン２００ｍｌを仕込み、ここに、ピリジン４５．４
ｇ（０．５７４モル）及び（−）−メントールのヘキサ
ン溶液〔３９．４ｇ（０．２５２モル）のメントールを
１００ｍｌにヘキサンに溶かしたもの〕の混合物を、室
温にて攪拌下３０分間で滴下した。さらに３０分間攪拌
を続けた後、ここにメタノール１７．０（０．５５９モ
ル）を添加し、さらに３０分間攪拌を続けてから反応を
終了した。生成した塩をろ過により除去し、次いでヘキ
サンを留去した後、減圧蒸溜することにより、メンチル
オキシシクロペンチルジメトキシシラン３９．６ｇ
（０．１２６モル）を得た。構造はＧＣ−ＭＳ、 1Ｈ−
ＮＭＲ及びＩＲで確認した。
【００４８】実施例２〜５ メンチルオキシシクロペンチルジメトキシシランに代え
て、表１に示す有機珪素化合物（成分Ｃ）を用いた以外
は実施例１と同様にして、プロピレンの重合を行った。
結果を表１に示す。
て、表１に示す有機珪素化合物（成分Ｃ）を用いた以外
は実施例１と同様にして、プロピレンの重合を行った。
結果を表１に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】比較例１〜４ 有機珪素化合物として、表２に示す化合物を用いた以外
は実施例１と同様にしてプロピレンの重合を行った。結
果を表２に示す。
は実施例１と同様にしてプロピレンの重合を行った。結
果を表２に示す。
【００５１】
【表２】
【００５２】
【発明の効果】本発明の方法により成形性の良好な広い
分子量分布を有するポリプロピレンを製造することがで
きる。
分子量分布を有するポリプロピレンを製造することがで
きる。
【図１】図１は本発明のポリプロピレンの製造法を示す
フローチャート図である。
フローチャート図である。
フロントページの続き (72)発明者 石原 毅 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 滝 敬之 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）マグネシウム，チタン，ハロゲン及
び電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、
（Ｂ）有機金属化合物及び（Ｃ）一般式 【化１】 〔但し、Ｒ1 は炭素数６〜１０個の脂環式炭化水素基、
Ｒ2 は炭素数３〜１０個の２級もしくは３級の脂肪族又
は脂環式炭化水素基である。〕の有機珪素化合物とから
なる重合触媒の存在下、プロピレンを重合する広い分子
量分布を有するポリプロピレンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32900191A JPH05331233A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32900191A JPH05331233A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331233A true JPH05331233A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=18216500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32900191A Pending JPH05331233A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05331233A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5747595A (en) * | 1995-03-28 | 1998-05-05 | Tonen Corporation | Catalyst for the polymerization of olefines and processes for the polymerization of olefines using the same |
-
1991
- 1991-12-12 JP JP32900191A patent/JPH05331233A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5747595A (en) * | 1995-03-28 | 1998-05-05 | Tonen Corporation | Catalyst for the polymerization of olefines and processes for the polymerization of olefines using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06128317A (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分 | |
| JP2772573B2 (ja) | α―オレフィン重合用触媒 | |
| JP2984090B2 (ja) | プロピレンのブロック共重合体の製造方法 | |
| JP2978257B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH05331233A (ja) | 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 | |
| JP3132681B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JP3132680B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JP2772572B2 (ja) | α―オレフィン重合用触媒 | |
| JP2873050B2 (ja) | α―オレフィン重合用触媒 | |
| JPH0597924A (ja) | α−オレフイン重合用触媒 | |
| JPH06136023A (ja) | プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造方法 | |
| JP2775507B2 (ja) | ポリα―オレフインの製造方法 | |
| JP3044095B2 (ja) | プロピレンのブロック共重合体の製造方法 | |
| JPH0532741A (ja) | プロピレン−エチレンブロツク共重合体の製造法 | |
| JPH0625336A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH0625334A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH06145235A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH07149812A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH05105719A (ja) | α−オレフイン重合用触媒 | |
| JPH0625333A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH0625335A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH05331234A (ja) | 広い分子量分布を有するポリプロピレンの製造法 | |
| JPH08269123A (ja) | プロピレン共重合体の製造方法 | |
| JPH05320238A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
| JPH0641227A (ja) | α−オレフィン重合用触媒 |