JPH053305A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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Publication number
JPH053305A
JPH053305A JP3154785A JP15478591A JPH053305A JP H053305 A JPH053305 A JP H053305A JP 3154785 A JP3154785 A JP 3154785A JP 15478591 A JP15478591 A JP 15478591A JP H053305 A JPH053305 A JP H053305A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ferroelectric capacitor
line
potential
bit line
data
Prior art date
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Pending
Application number
JP3154785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Moichi Matsukuma
茂一 松熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
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Publication of JPH053305A publication Critical patent/JPH053305A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a non-volatile memory enabling high speed and easy rewriting of data and suitable for high integration. CONSTITUTION:A memory cell M is composed by connecting one electrode E1 of a ferroelectric capacitor Z1 to a bit line BL via an NMOS transistor N1 the gate of the NMOS transistor N1 to a word line WL, and the other electrode E2 of the ferroelectric capacitor Z1 to a drive line DL. The drive line DL is connected to the word line WL via a delay circuit. Thus, unlike in the case of EPROMs, data can be rewritten only by controlling the electric potential of the bit line BL and the word line WL. Moreover, the memory cell, which is composed of a transistor and a ferroelectric capacitor, is downside.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、強誘電体コンデンサを利用した不揮発性メモ
リに係る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a nonvolatile memory using a ferroelectric capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置には、電源を投入してい
る間だけ情報を保存することができる揮発性メモリと、
電源を切断した後も情報を保存することができる不揮発
性メモリとがあり、揮発性メモリとしては、SRAM
(Static Random Access Memory)やDRAM(DynamicR
AM)があり、不揮発性メモリとしては、マスクROM(M
ask Read Only Memory),PROM(Programmable RO
M),EPROM(ErasablePROM),EEPROM(Elec
trically Erasable and Programmable ROM)等がある。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device includes a volatile memory capable of storing information only while power is on,
There is a non-volatile memory that can store information even after the power is turned off, and a volatile memory is an SRAM.
(Static Random Access Memory) and DRAM (Dynamic Random Access Memory)
AM), and the non-volatile memory is a mask ROM (M
ask Read Only Memory), PROM (Programmable RO
M), EPROM (ErasablePROM), EEPROM (Elec
trically Erasable and Programmable ROM) etc.

【0003】そして、不揮発性メモリの内、EPROM
は、RAMと同様に何回でも記憶内容を書き換えること
ができるROMであって、コントロールゲートとチャネ
ルとの間にフローティングゲートが形成されたMOS−
FET(MOS型電界効果トランジスタ)が一般的であ
り、これは、紫外線を照射することによりフローティン
グゲート内の電荷を放電させて記憶内容を消去し、コン
トロールゲートとドレインとの間に高電圧を加えた際の
ブレークダウン現象により発生するホットエレクトロン
がフローティングゲート内に残留することを利用して書
き込みを行っている。
Among non-volatile memories, EPROM
Is a ROM in which the stored contents can be rewritten as many times as the RAM, and the floating gate is formed between the control gate and the channel.
A FET (MOS field effect transistor) is generally used, which irradiates ultraviolet rays to discharge the electric charge in the floating gate to erase the stored contents and to apply a high voltage between the control gate and the drain. Writing is performed by utilizing the fact that hot electrons generated by the breakdown phenomenon at the time of remaining remain in the floating gate.

【0004】また、EEPROMは、電気的に記憶内容
を書き換えることができるROMであって、紫外線を照
射することなく内容を消去することができるという利点
がある。
Further, the EEPROM is a ROM whose stored contents can be electrically rewritten, and has an advantage that the contents can be erased without being irradiated with ultraviolet rays.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記フ
ローティングゲート型のMOS−FETの情報の書き込
み及び消去には、msオーダの時間と107 V/cmオーダの
高電界が必要であるし、また、EEPROMの情報の書
き込み時間も通常のDRAM等に比べてはるかに長いと
いう欠点があるため、従来の不揮発性メモリでは、通常
のSRAMやDRAMの様に、同一サイクル内のデータ
の書き込み及び消去を実現することができなかった。
However, for writing and erasing information in the floating gate type MOS-FET, a time on the order of ms and a high electric field on the order of 10 7 V / cm are required, and Since the writing time of information in the EEPROM is much longer than that of a normal DRAM or the like, the conventional nonvolatile memory realizes writing and erasing of data in the same cycle like a normal SRAM or DRAM. I couldn't.

【0006】この発明は、このような従来の技術が有す
る未解決の課題に着目してなされたものであり、従来の
SRAMやDRAMの様に容易に且つ短時間でのデータ
の書き込み及び読み出しができる不揮発性メモリを提供
することを目的とする。
The present invention has been made by paying attention to the unsolved problem of the conventional technique, and can easily write and read data in a short time like a conventional SRAM or DRAM. An object of the present invention is to provide a nonvolatile memory that can be used.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る半導体記憶装置は、強誘電体コンデン
サの一方の電極をパストランジスタを介してビットライ
ンに接続するとともに、前記パストランジスタのゲート
をワードラインに接続し、前記強誘電体コンデンサの他
方の電極をドライブラインに接続し、そして、前記ワー
ドラインが選択されてから所定時間経過した後に前記ド
ライブラインを立ち上げるドライブライン制御手段を設
けた。
In order to achieve the above object, in a semiconductor memory device according to the present invention, one electrode of a ferroelectric capacitor is connected to a bit line via a pass transistor and the pass transistor is connected. Is connected to a word line, the other electrode of the ferroelectric capacitor is connected to a drive line, and the drive line is activated after a predetermined time has elapsed since the word line was selected. Was established.

【0008】[0008]

【作用】データ書き込み時には、ビットラインの電位は
書き込まれるデータに応じて高レベル又は低レベルとな
り、そして、ワードラインが選択されてパストランジス
タがオンとなると、そのビットラインの電位が強誘電体
コンデンサの一方の電極に供給される。
When the data is written, the potential of the bit line becomes high level or low level according to the data to be written, and when the word line is selected and the pass transistor is turned on, the potential of the bit line is changed to the ferroelectric capacitor. Is supplied to one of the electrodes.

【0009】また、パストランジスタがオンとなった直
後は、ドライブライン制御手段はドライブラインを立ち
上げていないので、強誘電体コンデンサの他方の電極に
は低レベルの電位が供給されている。この時、ビットラ
インの電位が低レベルであれば、強誘電体コンデンサの
両電極間に電位差は生じないが、ビットラインの電位が
高レベルであれば、強誘電体コンデンサの両電極間に電
位差が生じ、強誘電体コンデンサに所定の電荷が蓄積さ
れる。
Immediately after the pass transistor is turned on, the drive line control means does not raise the drive line, so a low level potential is supplied to the other electrode of the ferroelectric capacitor. At this time, if the potential of the bit line is low level, no potential difference occurs between both electrodes of the ferroelectric capacitor, but if the potential of the bit line is high level, the potential difference between both electrodes of the ferroelectric capacitor is Occurs, and a predetermined charge is accumulated in the ferroelectric capacitor.

【0010】そして、ワードラインが選択されてから所
定時間経過すると、ドライブライン制御手段がドライブ
ラインを立ち上げるから、強誘電体コンデンサの他方の
電極の電位は高レベルとなる。この時、ビットラインの
電位が低レベルであれば、強誘電体コンデンサの両電極
間に電位差が生じるから、強誘電体コンデンサに所定の
電荷が蓄積されるし、ビットラインの電位が高レベルで
あれば、強誘電体コンデンサの両電極間の電位差は零と
なるが、強誘電体の分極は交流電界に対して履歴(ヒス
テリシス)曲線を描くため、電位差が零となっても所定
の電荷が蓄積された状態を維持する。
Then, when a predetermined time elapses after the word line is selected, the drive line control means raises the drive line, so that the potential of the other electrode of the ferroelectric capacitor becomes high level. At this time, if the potential of the bit line is at a low level, a potential difference occurs between both electrodes of the ferroelectric capacitor, so that a predetermined charge is accumulated in the ferroelectric capacitor and the potential of the bit line is at a high level. If so, the potential difference between both electrodes of the ferroelectric capacitor becomes zero, but since the polarization of the ferroelectric substance draws a hysteresis (hysteresis) curve with respect to the alternating electric field, even if the potential difference becomes zero, the predetermined electric charge remains. Maintain the accumulated state.

【0011】その後、ワードラインの選択が解除され、
ドライブラインが低レベルとなっても、上述したように
強誘電体は交流電界に対して履歴曲線を描くため、強誘
電体コンデンサには、ビットラインの電位に応じた電荷
が蓄積されることになる。そして、最終的に強誘電体コ
ンデンサに蓄積される電荷は、ビットラインの電位に応
じて決まるから、強誘電体コンデンサに情報が記憶され
たことになり、また、電源が切断されても強誘電体コン
デンサに蓄積された電荷は長時間(通常は、10年間以
上)保存されるから、不揮発性メモリとして機能する。
After that, the selection of the word line is released,
Even if the drive line goes to a low level, as described above, the ferroelectric draws a hysteresis curve with respect to the AC electric field, so that the ferroelectric capacitor accumulates electric charges according to the potential of the bit line. Become. Then, the charge finally stored in the ferroelectric capacitor is determined according to the potential of the bit line, which means that the information is stored in the ferroelectric capacitor, and even if the power is turned off, the ferroelectric capacitor is stored. Since the electric charge accumulated in the body capacitor is stored for a long time (usually 10 years or more), it functions as a non-volatile memory.

【0012】一方、データ読み出し時には、ワードライ
ンが選択されてパストランジスタがオンになると、強誘
電体コンデンサの一方の電極がビットラインに接続され
た状態になる。この時、ビットラインはプリチャージさ
れて低レベルの電位となっているし、ドライブライン制
御手段はパストランジスタがオンとなってから所定時間
経過するまではドライブラインを立ち上げないから、強
誘電体コンデンサの他方の電極の電位は低レベルであ
り、強誘電体コンデンサの両電極間には電位差は生じて
いない。
On the other hand, at the time of reading data, when the word line is selected and the pass transistor is turned on, one electrode of the ferroelectric capacitor is connected to the bit line. At this time, the bit line is precharged to a low-level potential, and the drive line control means does not raise the drive line until a predetermined time elapses after the pass transistor is turned on. The potential of the other electrode of the capacitor is at a low level, and there is no potential difference between both electrodes of the ferroelectric capacitor.

【0013】そして、ワードラインが選択されてから所
定時間経過すると、ドライブライン制御手段がドライブ
ラインを立ち上げるから、強誘電体コンデンサの他方の
電極の電位が高レベルとなり、強誘電体コンデンサの両
電極間に電位差が生じるが、強誘電体コンデンサの一方
の電極はビットラインに接続されているので、強誘電体
コンデンサに蓄積されていた電荷に応じてビットライン
の電位が変動することになり、強誘電体コンデンサに記
憶されていた情報がビットラインに転送されたことにな
る。
Then, after a lapse of a predetermined time from the selection of the word line, the drive line control means raises the drive line, so that the potential of the other electrode of the ferroelectric capacitor becomes high level and both of the ferroelectric capacitors are driven. Although there is a potential difference between the electrodes, one electrode of the ferroelectric capacitor is connected to the bit line, so the potential of the bit line changes according to the charge accumulated in the ferroelectric capacitor. The information stored in the ferroelectric capacitor has been transferred to the bit line.

【0014】[0014]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図1乃至図6は、本発明の一実施例を示す図で
ある。先ず、構成を説明すると、図1は、本発明を適用
した半導体記憶装置の全体構成を示す回路図であって、
(N+1)2 個の記憶セルM00〜MNNをマトリックス状
に配設するとともに、マトリックス状に配設された記憶
セルM00〜MNNに対応して、ロウ方向には(N+1)本
のワードラインWL0 〜WLN 及び(N+1)本のドラ
イブラインDL0 〜DLN を、カラム方向には(N+
1)本のビットラインBL0 〜BLN を配設している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 6 are views showing an embodiment of the present invention. First, the configuration will be described. FIG. 1 is a circuit diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device to which the present invention is applied.
(N + 1) two storage cells M 00 ~M NN well as arranged in a matrix, corresponding to the memory cell M 00 ~M NN arranged in a matrix, the row direction (N + 1) Book The word lines WL 0 to WL N and (N + 1) drive lines DL 0 to DL N are (N +) in the column direction.
1) The bit lines BL 0 to BL N are arranged.

【0015】各記憶セルM00〜MNNは、図2に拡大図示
するように、パストランジスタとしてのNMOSトラン
ジスタ(NチャネルMOSトランジスタ)N1 と、強誘
電体コンデンサZ1 とを有するとともに、強誘電体コン
デンサZ1 の一方の電極E1 をNMOSトランジスタN
1 を介してビットラインBLに接続し、強誘電体コンデ
ンサZ1 の他方の電極E2 をドライブラインDLに接続
し、そして、NMOSトランジスタN1 のゲートをワー
ドラインWLに接続している。
Each memory cell M 00 to M NN has an NMOS transistor (N-channel MOS transistor) N 1 as a pass transistor and a ferroelectric capacitor Z 1 as shown in the enlarged view of FIG. One electrode E 1 of the dielectric capacitor Z 1 is connected to the NMOS transistor N 1.
1 is connected to the bit line BL, the other electrode E 2 of the ferroelectric capacitor Z 1 is connected to the drive line DL, and the gate of the NMOS transistor N 1 is connected to the word line WL.

【0016】ここで、強誘電体コンデンサZ1 は、図3
に示すように、電荷が存在せず且つ両電極E1 ,E2
の印加電圧が零である状態(A点)から徐々に正方向に
電圧を加えると、印加電界に配列した分極が急激に増加
し、ある値以上の電圧に対しては比較的滑らかに電荷が
増加し、曲線A−Bを描く。そして、強誘電体の分極は
交流電界に対して履歴(ヒステリシス)曲線を描くた
め、B点の状態から徐々に電圧を下げて電極E1 ,E2
間の電位差を零としても電荷は零にはならず、残留分極
点Cの状態を採る。
Here, the ferroelectric capacitor Z 1 is shown in FIG.
As shown in, when a voltage is gradually applied in the positive direction from the state where there is no charge and the applied voltage between the electrodes E 1 and E 2 is zero (point A), the polarization arranged in the applied electric field is suddenly increased. To a certain value or more, the charge increases relatively smoothly, and a curve AB is drawn. Since the polarization of the ferroelectric substance draws a hysteresis (hysteresis) curve with respect to the AC electric field, the voltage is gradually lowered from the state of the point B and the electrodes E 1 and E 2 are
The electric charge does not become zero even if the potential difference between them is zero, and the state of the remanent polarization point C is taken.

【0017】電荷を零とするには、負方向の電圧を印加
する必要があり、さらに負方向の電圧を増加させると電
荷も逆方向に増加し、曲線B−C−Dを描き、また、D
点の状態から徐々に電圧を上げて電極E1 ,E2 間の電
位差を零とすると、残留分極点Eの状態を採り、さらに
電圧を増加させれば、曲線D−E−Bを描くことにな
る。
To make the charge zero, it is necessary to apply a voltage in the negative direction, and when the voltage in the negative direction is further increased, the charge also increases in the opposite direction to draw a curve B-C-D, and D
If the voltage difference is gradually raised from the state of the point to make the potential difference between the electrodes E 1 and E 2 zero, the state of the remanent polarization point E is taken, and if the voltage is further increased, the curve D-E-B is drawn. become.

【0018】つまり、強誘電体コンデンサZ1 は、電圧
を印加した後にその印加電圧を零にすると、残留分極点
C又はEの状態の何れかを採るため、この二つの状態に
よって1ビットの情報を記憶することが可能であり、そ
の情報も、非常に長時間(通常、10年間以上)保持さ
れるから、不揮発性メモリとして利用できる。図1に戻
って、ワードラインWL0 〜WLN は、それぞれロウデ
コーダRD0 〜RDN に接続されている。
That is, since the ferroelectric capacitor Z 1 takes one of the states of the remanent polarization point C or E when the applied voltage is set to zero after applying the voltage, 1-bit information is obtained depending on these two states. Can be stored, and since the information is stored for a very long time (usually 10 years or more), it can be used as a non-volatile memory. Returning to FIG. 1, the word lines WL 0 to WL N are connected to the row decoders RD 0 to RD N , respectively.

【0019】そして、それらロウデコーダRD0 〜RD
N は、Yアドレス信号Y0 〜YN の内の一つと、プリチ
ャージ信号Pr とが入力されるアンド回路であって、Y
アドレス信号Y0 〜YN は同時には一つだけ選択される
から、ロウデコーダRD0 〜RDN は同時には一つだけ
が選択され、それに接続されるワードラインWL0 〜W
N を立ち上げる。
Then, the row decoders RD 0 to RD
N is an AND circuit to which one of the Y address signals Y 0 to Y N and the precharge signal P r are input, and Y
Since only one of the address signals Y 0 to Y N is selected at the same time, only one of the row decoders RD 0 to RD N is selected at the same time and the word lines WL 0 to W connected to it.
Launch L N.

【0020】また、ドライブラインDL0 〜DLN は、
同じ記憶セルM00〜MNNに接続されるワードラインWL
0 〜WLN に、ドライブライン制御手段としての遅延回
路1を介して接続されている。従って、ドライブライン
DL0 〜DLNは、ロウデコーダRD0 〜RDN によっ
てワードラインWL0 〜WLN が選択されてから遅延回
路1で決まる所定時間経過した後に立ち上がることにな
る。
The drive lines DL 0 to DL N are
Word line WL connected to the same memory cells M 00 to M NN
It is connected to 0 to WL N via a delay circuit 1 as a drive line control means. Therefore, the drive lines DL 0 to DL N rise after a predetermined time determined by the delay circuit 1 has passed since the word lines WL 0 to WL N were selected by the row decoders RD 0 to RD N.

【0021】一方、ビットラインBL0 〜BLN は、プ
リチャージ用のNMOSトランジスタN2 を介して接地
されるとともに、二段のインバータからなるビットライ
ンドライバ2を介してデータ入力ラインDINに接続され
ている。各ビットラインドライバ2,…,2は、カラム
デコーダCD0 〜CDN の出力を受けていて、対応する
カラムデコーダCD0 〜CDN が選択された時にのみデ
ータ入力ラインDIN上のデータをビットラインBL0
BLN に供給する。
On the other hand, the bit lines BL 0 to BL N are grounded via the NMOS transistor N 2 for precharging and connected to the data input line D IN via the bit line driver 2 consisting of a two-stage inverter. Has been done. Each bit line driver 2, ..., 2, have undergone output of the column decoder CD 0 ~CD N, bit data on the data input line D IN only when the corresponding column decoder CD 0 ~CD N is selected Line BL 0 ~
Supply to BL N.

【0022】そして、それらカラムデコーダCD0 〜C
N は、Xアドレス信号X0 〜XN の内の一つと、リー
ドライト信号RWとが入力されるアンド回路であって、
Yアドレス信号Y0 〜YN と同様にXアドレス信号X0
〜XN も同時には一つだけ選択されるから、カラムデコ
ーダCD0 〜CDN は同時には一つだけが選択され、そ
れに対応する一つのビットラインドライバ2が駆動す
る。従って、データ入力ラインDIN上のデータは、同時
にはビットラインBL0 〜BLN の内の一つにだけ供給
される。
Then, those column decoders CD 0 to C
D N is an AND circuit to which one of the X address signals X 0 to X N and the read / write signal RW are input,
Similar to the Y address signals Y 0 to Y N , the X address signal X 0
Since to X N are also selected only one simultaneously, only one column decoder CD 0 ~CD N simultaneously is selected, one of the bit line driver 2 and the corresponding drive. Therefore, the data on the data input line D IN is simultaneously supplied to only one of the bit lines BL 0 to BL N.

【0023】また、ビットラインBL0 〜BLN は、セ
ンスアンプ3にも接続され、そのセンスアンプ3で増幅
されたビットラインBL0 〜BLN 上のデータは、ドラ
イバ4を介してデータ出力ラインDOUT に供給される。
ここで、本実施例では、センスアンプ3として、いわゆ
るカレントミラー回路を利用している。具体的には、図
4に示すように、ビットラインBLの電位が直接供給さ
れるNMOSトランジスタN3 と、ビットラインBLの
電位がインバータ3aを介して供給されるNMOSトラ
ンジスタN4 と、NMOSトランジスタN3 の電源側に
接続されたPMOSトランジスタ(PチャネルMOSト
ランジスタ)P1 と、NMOSトランジスタN4 の電源
側に接続されたPMOSトランジスタP2 と、それらP
MOSトランジスタP1 ,P2 と電源VCCとの間に介在
するPMOSトランジスタP3 とを有し、NMOSトラ
ンジスタN3 及びPMOSトランジスタP1 間の電位が
PMOSトランジスタP1 ,P2 のゲートに供給され、
NMOSトランジスタN4 及びPMOSトランジスタP
2 間の電位がセンスアンプ3の出力としてドライバ4に
供給されている。
The bit lines BL 0 to BL N are also connected to the sense amplifier 3, and the data on the bit lines BL 0 to BL N amplified by the sense amplifier 3 is output via the driver 4 to the data output line. Supplied on D OUT .
Here, in this embodiment, a so-called current mirror circuit is used as the sense amplifier 3. Specifically, as shown in FIG. 4, the NMOS transistor N 3 where the potential of the bit line BL is supplied directly, the NMOS transistor N 4 the potential of the bit line BL is supplied via the inverter 3a, NMOS transistors a PMOS transistor (P-channel MOS transistor) P 1 connected to the power supply side of the N 3, a PMOS transistor P 2, which is connected to the power source side of the NMOS transistor N 4, they P
It has a PMOS transistor P 3 interposed between the MOS transistors P 1 and P 2 and the power supply V CC, and the potential between the NMOS transistor N 3 and the PMOS transistor P 1 is supplied to the gates of the PMOS transistors P 1 and P 2. Was
NMOS transistor N 4 and PMOS transistor P
The potential between 2 is supplied to the driver 4 as the output of the sense amplifier 3.

【0024】なお、PMOSトランジスタP3 のゲート
には、図1に示すように、Xアドレス信号X0 〜XN
内の一つと、遅延回路6を経たプリチャージ信号Pr
が入力されるアンド回路5の出力が、インバータ3bを
介して供給される。また、ドライバ4は、カラムデコー
ダCD0 〜CDN の出力を受けていて、対応するカラム
デコーダCD0 〜CDN が選択されている場合にのみ、
センスアンプ3の出力をデータ出力ラインDOUT に供給
する。
As shown in FIG. 1, one of the X address signals X 0 to X N and the precharge signal P r passed through the delay circuit 6 are input to the gate of the PMOS transistor P 3 . The output of the AND circuit 5 is supplied via the inverter 3b. The driver 4 is not receiving the output of the column decoder CD 0 ~CD N, when the corresponding column decoder CD 0 ~CD N is selected only,
The output of the sense amplifier 3 is supplied to the data output line D OUT .

【0025】従って、データ出力ラインDOUT には、同
時にはビットラインBL0 〜BLN の内の一つのデータ
のみが供給される。次に、本実施例の動作を説明する。
図5は、記憶セルM00に論理値“1”というデータを書
き込む際の波形図であり、先ず、図5に従って書き込み
動作について説明する。
Therefore, only one data among the bit lines BL 0 to BL N is supplied to the data output line D OUT at the same time. Next, the operation of this embodiment will be described.
FIG. 5 is a waveform diagram at the time of writing the data of the logical value “1” to the memory cell M 00. First, the write operation will be described with reference to FIG.

【0026】即ち、書き込み動作を行うには、リードラ
イト信号RWを立ち上げた後に、Xアドレス信号X0
N の内、書き込みを行う記憶セルM00に対応するXア
ドレス信号X0 を立ち上げる。すると、カラムデコーダ
CD0 が選択され、ビットラインドライバ2が駆動可能
状態となる。
That is, in order to perform the write operation, after the read / write signal RW is raised, the X address signals X 0 to
Of X N , the X address signal X 0 corresponding to the memory cell M 00 to be written is raised. Then, the column decoder CD 0 is selected and the bit line driver 2 becomes drivable.

【0027】一方、プリチャージ信号Pr を立ち上げ、
アンド回路5,…,5の一方の入力を高レベルとする
が、それらアンド回路5,…,5の他方の入力はXアド
レス信号X0 〜XN の内の一つであるから、この場合に
は、アドレス信号X0 が供給されるアンド回路5の出力
のみが高レベルとなる。そして、アンド回路5,…,5
の出力は、ビットラインBL0 〜BLN と接地との間に
介在するプリチャージ用のNMOSトランジスタN2
ゲートに供給されているから、ビットラインBL0 と接
地との間が導通し、不確定であったビットラインBL0
が一旦低レベルに安定する。なお、ビットラインBL1
〜BLN と接地との間に介在するNMOSトランジスタ
2 はオフしているから、それらビットラインBL1
BLN はフローティング状態を維持する。
On the other hand, the precharge signal P r is raised,
, 5 is set to a high level, but the other input of the AND circuits 5, ..., 5 is one of the X address signals X 0 to X N. , Only the output of the AND circuit 5 to which the address signal X 0 is supplied becomes high level. Then, the AND circuit 5, ..., 5
Is supplied to the gate of the NMOS transistor N 2 for precharging which is interposed between the bit lines BL 0 to BL N and the ground, the bit line BL 0 and the ground are electrically connected to each other. Bit line BL 0 that was confirmed
Will once stabilize to a low level. The bit line BL 1
~ N bit of the bit lines BL 1 ~ since the NMOS transistor N 2 interposed between BL N and ground is off.
BL N remains floating.

【0028】ビットラインBL0 が低レベルに安定する
のに十分な時間が経過した後に、データ入力ラインDIN
を高レベルにする。なお、論理値“0”というデータを
記憶させる場合には、この時、データ入力ラインDIN
低レベルにすればよい。そして、既にビットラインドラ
イバ2が駆動状態となっているから、データ入力ライン
INの電位がビットラインBL0 に供給され、ビットラ
インBL0 が高レベルになる。
After a sufficient time has elapsed for the bit line BL 0 to stabilize at a low level, the data input line D IN
To a high level. When the data of the logical value "0" is stored, the data input line D IN may be set to the low level at this time. Then, because there is already a bit line driver 2 has a driving state, the potential of the data input line D IN is supplied to the bit lines BL 0, bit lines BL 0 goes high.

【0029】次に、Yアドレス信号Y0 〜YN の内、書
き込みを行う記憶セルM00に対応するYアドレス信号Y
0 を立ち上げる。すると、この時既にプリチャージ信号
r が立ち上がっているから、ロウデコーダRD0 〜R
N の内、ロウデコーダRD0 が選択され、これに接続
されたワードラインWL0 が立ち上がる。
Next, of the Y address signals Y 0 to Y N , the Y address signal Y corresponding to the memory cell M 00 to be written.
Start up 0 . Then, since the precharge signal P r has already risen at this time, the row decoders RD 0 to R
Of the D N , the row decoder RD 0 is selected and the word line WL 0 connected to it is raised.

【0030】ワードラインWL0 が立ち上がると、これ
に接続された記憶セルM00〜M0NのNMOSトランジス
タN1 がオンになり、ビットラインBL0 〜BLN の電
位がそれら記憶セルM00〜M0Nの強誘電体コンデンサZ
1 の一方の電極E1 に供給される。なお、選択されてい
ないビットラインBL1 〜BLN は上述したようにフロ
ーティング状態を維持しているから、NMOSトランジ
スタN1 がオンになっても、強誘電体コンデンサZ1
影響はない。
When the word line WL 0 rises, the NMOS transistors N 1 of the memory cells M 00 to M 0N connected to it are turned on, and the potentials of the bit lines BL 0 to BL N are changed to those memory cells M 00 to M 00. 0N ferroelectric capacitor Z
It is supplied to one electrode E 1 1. Incidentally, the bit lines BL 1 to BL N not selected because they maintain a floating state as described above, NMOS transistor N 1 is also turned on, there is no effect on the ferroelectric capacitor Z 1.

【0031】しかし、選択されているビットラインBL
0 の電位はデータ入力ラインDINにより高レベルとなっ
ているから、記憶セルM00の強誘電体コンデンサZ1
一方の電極E1 の電位は、高レベルとなる。この時、ド
ライブラインDL0 が遅延回路1を介してワードライン
WL0 に接続されていることから、他方の電極E2 の電
位は低レベルであり、従って、両電極間E1 及びE2
に電位差が生じ、強誘電体コンデンサZ1 は図3D点の
状態を採る。
However, the selected bit line BL
Since the potential of 0 is high level due to the data input line D IN , the potential of one electrode E 1 of the ferroelectric capacitor Z 1 of the memory cell M 00 is high level. At this time, since the drive line DL 0 is connected to the word line WL 0 via the delay circuit 1, the potential of the other electrode E 2 is at a low level, and therefore, the potential between both electrodes E 1 and E 2 is low. A potential difference is generated in the ferroelectric capacitor Z 1 , and the ferroelectric capacitor Z 1 assumes the state of point D in FIG.

【0032】そして、遅延回路1で決まる所定時間経過
後に、ドライブラインDL0 が立ち上がると、強誘電体
コンデンサZ1 の他方の電極E2 の電位も高レベルとな
り、両電極間E1 ,E2間の電位差は零になって、強誘
電体コンデンサZ1 は図3E点の状態を採る。なお、論
理値“0”のデータを記憶する場合には、ドライブライ
ンDL0 が立ち上がった時点で電位差が生じ、図3B点
の状態を採り、その後ロウデコーダRD0 がオフとなる
ことで再度電位差が零となるから、強誘電体コンデンサ
1 は図3C点の状態を採る。
When the drive line DL 0 rises after a lapse of a predetermined time determined by the delay circuit 1, the potential of the other electrode E 2 of the ferroelectric capacitor Z 1 also becomes high level, and both electrodes E 1 and E 2 are connected. The potential difference between them becomes zero, and the ferroelectric capacitor Z 1 assumes the state of point E in FIG. When the data of the logical value “0” is stored, a potential difference is generated at the time when the drive line DL 0 rises, the state at the point of FIG. 3B is taken, and then the row decoder RD 0 is turned off, so that the potential difference again occurs. Is zero, the ferroelectric capacitor Z 1 adopts the state of point C in FIG.

【0033】このように、データ書き込み時には、強誘
電体コンデンサZ1は、書き込まれるデータが論理値
“1”であれば図3E点の状態を採り、書き込まれるデ
ータが論理値“0”であれば図3C点の状態を採るか
ら、結果として1ビットの情報が記憶され、そして、こ
の状態は長時間(通常、10年間以上)保持されるか
ら、実質的に不揮発性メモリとして機能する。
As described above, at the time of writing data, the ferroelectric capacitor Z 1 adopts the state of the point of FIG. 3E when the written data is the logical value "1", and the written data is the logical value "0". For example, since the state at point C in FIG. 3 is adopted, 1-bit information is stored as a result, and this state is retained for a long time (usually 10 years or more), so that it substantially functions as a non-volatile memory.

【0034】図6は、記憶セルM00に記憶されているデ
ータを読み出す際の波形図であり、図6に従ってデータ
読み出し時の動作について説明する。なお、この時の記
憶セルM00には、論理値“1”のデータが記憶されてい
るものとし、従って、記憶セルM00の強誘電体コンデン
サZ1 は、図3E点の状態を採っている。即ち、読み出
し動作を行う場合にも、書き込み動作を行う場合と同様
に、リードライト信号RWを立ち上げた後に、Xアドレ
ス信号X0 〜XN の内、読み出しを行う記憶セルM00
対応するXアドレス信号X0 を立ち上げる。
FIG. 6 is a waveform diagram at the time of reading the data stored in the memory cell M 00. The operation at the time of reading the data will be described with reference to FIG. Note that the memory cell M 00 in this, it is assumed that data of a logical value "1" is stored, therefore, the ferroelectric capacitor Z 1 of the memory cell M 00 is take the state shown in FIG. 3E point There is. That is, also in the case of performing the read operation, like the case of performing the write operation, after the read / write signal RW is raised, it corresponds to the memory cell M 00 to be read out of the X address signals X 0 to X N. The X address signal X 0 is raised.

【0035】すると、カラムデコーダCD0 が選択さ
れ、その出力が供給されるドライバ4が駆動可能状態と
なる。一方、プリチャージ信号Prを立ち上げ、アンド
回路5,…,5の一方の入力を高レベルとするが、それ
らアンド回路5,…,5の他方の入力はXアドレス信号
0 〜XN の内の一つであるから、この場合には、アド
レス信号X0 が供給されるアンド回路5の出力のみが高
レベルとなる。
Then, the column decoder CD 0 is selected, and the driver 4 to which the output is supplied is in the drivable state. On the other hand, the precharge signal P r is raised to bring one input of the AND circuits 5, ..., 5 to a high level, and the other input of the AND circuits 5, ..., 5 is supplied with the X address signals X 0 to X N. Therefore, in this case, only the output of the AND circuit 5 to which the address signal X 0 is supplied becomes high level.

【0036】そして、アンド回路5の出力は、センスア
ンプ3のPMOSトランジスタP3 にインバータ3bで
反転されて供給されるので、各センスアンプ3,…,3
の内、ビットラインBL0 に接続されたセンスアンプ3
のみが作動状態になる。また、アンド回路5,…,5の
出力は、ビットラインBL0 〜BLN と接地との間に介
在するプリチャージ用のNMOSトランジスタN2 のゲ
ートにも供給されているから、ビットラインBL0 と接
地との間が導通し、不確定であったビットラインBL0
が一旦低レベルに安定する。なお、ビットラインBL1
〜BLN と接地との間に介在するNMOSトランジスタ
2はオフしているから、それらビットラインBL1
BLN はフローティング状態を維持する。
The output of the AND circuit 5 is inverted by the inverter 3b and supplied to the PMOS transistor P 3 of the sense amplifier 3, so that each sense amplifier 3 ,.
Of the sense amplifier 3 connected to the bit line BL 0
Only activated. Further, the outputs of the AND circuits 5, ..., 5 are also supplied to the gate of the precharge NMOS transistor N 2 interposed between the bit lines BL 0 to BL N and the ground, so that the bit line BL 0. The bit line BL 0 , which has been indefinite, is electrically connected between the ground and the ground.
Will once stabilize to a low level. The bit line BL 1
~ N bit of the bit lines BL 1 ~ since the NMOS transistor N 2 interposed between BL N and ground is off.
BL N remains floating.

【0037】次に、Yアドレス信号Y0 〜YN の内、デ
ータの読み出しを行う記憶セルM00に対応するYアドレ
ス信号Y0を立ち上げる。すると、この時既にプリチャ
ージ信号Pr が立ち上がっているから、ロウデコーダR
0 〜RDN の内、ロウデコーダRD0 が選択され、こ
れに接続されたワードラインWL0 が立ち上がる。
Next, among the Y address signal Y 0 to Y N, raises the Y address signal Y 0 corresponding to storage cell M 00 for reading data. Then, since the precharge signal P r has already risen at this time, the row decoder R
The row decoder RD 0 is selected from D 0 to RD N , and the word line WL 0 connected to it is raised.

【0038】ワードラインWL0 が立ち上がると、これ
に接続された記憶セルM00〜M0NのNMOSトランジス
タN1 がオンになり、それら記憶セルM00〜M0Nの内、
プリチャージされているビットラインBL0 に接続され
ている記憶セルM00の強誘電体コンデンサZ1 の一方の
電極E1 の電位が低レベルになる。なお、選択されてい
ないビットラインBL1 〜BLN は上述したようにフロ
ーティング状態を維持しているから、NMOSトランジ
スタN1 がオンになっても、強誘電体コンデンサZ1
影響はない。
When the word line WL 0 rises, the NMOS transistors N 1 of the memory cells M 00 to M 0N connected to it are turned on, and among these memory cells M 00 to M 0N ,
The potential of one electrode E 1 of the ferroelectric capacitor Z 1 of the memory cell M 00 connected to the precharged bit line BL 0 becomes low level. Incidentally, the bit lines BL 1 to BL N not selected because they maintain a floating state as described above, NMOS transistor N 1 is also turned on, there is no effect on the ferroelectric capacitor Z 1.

【0039】この時、ドライブラインDL0 は遅延回路
1を介してワードラインWL0 に接続されていることか
ら、他方の電極E2 の電位は低レベルであり、従って両
電極間E1 及びE2 間には電位差は生じず、強誘電体コ
ンデンサZ1 は図3E点の状態を維持する。そして、遅
延回路1で決まる所定時間経過後に、ドライブラインD
0 が立ち上がると、強誘電体コンデンサZ1 の他方の
電極E2 の電位が高レベルになり、両電極E1 及びE2
間に電位差が生じ、強誘電体コンデンサZ1 は図3E点
の状態からB点の状態に移行するが、ビットラインBL
0 はプリチャージされて低レベルになっているため、強
誘電体コンデンサZ1 の電荷の変化に伴い、ビットライ
ンBL0 には比較的大きな電位変化(数100mV)が
生じる。
At this time, since the drive line DL 0 is connected to the word line WL 0 via the delay circuit 1, the potential of the other electrode E 2 is at a low level, so that the electrodes E 1 and E between both electrodes are low. There is no potential difference between the two , and the ferroelectric capacitor Z 1 maintains the state at point E in FIG. Then, after a lapse of a predetermined time determined by the delay circuit 1, the drive line D
When L 0 rises, the potential of the other electrode E 2 of the ferroelectric capacitor Z 1 becomes high level, and both electrodes E 1 and E 2
A potential difference occurs between them, and the ferroelectric capacitor Z 1 shifts from the state at point E to the state at point B in FIG.
Since 0 is precharged to a low level, a relatively large potential change (several hundred mV) occurs in the bit line BL 0 with a change in charge of the ferroelectric capacitor Z 1 .

【0040】なお、強誘電体コンデンサZ1 に論理値
“0”のデータが記憶されている場合には、ドライブラ
インDL0 が立ち上がった時点で、強誘電体コンデンサ
1 は図3C点の状態からB点の状態に移行するので、
ビットラインBL0 には比較的小さな電位変化(数10
mV)が生じる。そして、ビットラインBL0 の電位は
センスアンプ3に供給されるが、ビットラインBL0
電位が高レベルであれば、その電位が直接供給されるN
MOSトランジスタN3 はオンになり、そのドレイン側
の電位は低レベルになるから、PMOSトランジスタP
2 はオンになる。そして、ビットラインBL0 の電位が
インバータ3aで反転されて供給されるNMOSトラン
ジスタN4 はオフとなるから、PMOSトランジスタP
2 及びNMOSトランジスタN4間の電位は高レベルに
安定し、これがセンスアンプ3の出力となる。
[0040] In the case where the data is stored logic value "0" in the ferroelectric capacitor Z 1 is at the time when the driveline DL 0 rises, the ferroelectric capacitor Z 1 is in Figure 3C point state From the point B to the state,
The bit line BL 0 has a relatively small potential change ( equation 10).
mV) occurs. Then, the potential of the bit line BL 0 is supplied to the sense amplifier 3, but if the potential of the bit line BL 0 is at a high level, the potential is directly supplied N.
Since the MOS transistor N 3 is turned on and the potential on the drain side thereof becomes low level, the PMOS transistor P 3
2 turns on. Then, since the potential of the bit line BL 0 is inverted by the inverter 3a and the supplied NMOS transistor N 4 is turned off, the PMOS transistor P
The potential between 2 and the NMOS transistor N 4 stabilizes at a high level, and this becomes the output of the sense amplifier 3.

【0041】逆に、ビットラインBL0 の電位が低レベ
ルであれば、NMOSトランジスタN3 はオフとなり、
そのドレイン側の電位は高レベルになるから、PMOS
トランジスタP2 はオフになる。そして、NMOSトラ
ンジスタN4 はオンとなるから、PMOSトランジスタ
2 及びNMOSトランジスタN4 間の電位は低レベル
に安定し、これがセンスアンプ3の出力となる。
On the contrary, when the potential of the bit line BL 0 is low level, the NMOS transistor N 3 is turned off,
Since the drain side potential becomes high level, the PMOS
Transistor P 2 turns off. Then, since the NMOS transistor N 4 is turned on, the potential between the PMOS transistor P 2 and the NMOS transistor N 4 is stabilized at a low level, and this becomes the output of the sense amplifier 3.

【0042】つまり、ビットラインBL0 の電位変化
は、センスアンプ3で増幅され、ドライバ4を介してデ
ータ出力ラインDOUT に供給されるから、そのデータ出
力ラインDOUT の電位を読み取ることにより、記憶セル
00に記憶されていたデータが論理値“1”であるか、
論理値“0”であるかが検出できる。このように、本実
施例の構成によれば、強誘電体コンデンサZ1 の電荷を
長時間蓄積できるという特性を利用しているため、実質
的に不揮発性メモリとして機能し、しかも、データの書
き換えは、通常のDRAMやSRAM等と同様にビット
ラインBL0 〜BLN 及びワードラインWL0 〜WLN
の電位を制御するだけで行えるため、従来のEPROM
やEEPROM等と異なり、簡易且つ高速に行える。
That is, the potential change of the bit line BL 0 is amplified by the sense amplifier 3 and supplied to the data output line D OUT through the driver 4. Therefore, by reading the potential of the data output line D OUT , Whether the data stored in the memory cell M 00 has the logical value “1”,
It can be detected whether the logical value is "0". As described above, according to the configuration of the present embodiment, since the characteristic of the ferroelectric capacitor Z 1 capable of accumulating charges for a long time is utilized, it substantially functions as a non-volatile memory, and moreover, rewrites data. , like ordinary DRAM and SRAM, etc. bit lines BL 0 to BL N and the word lines WL 0 to WL N
Conventional EPROM because it can be done only by controlling the potential of
It can be performed easily and at high speed, unlike EEPROMs and EEPROMs.

【0043】また、各記憶セルM00〜MNNを、一つのN
MOSトランジスタN1 及び一つの強誘電体コンデンサ
1 で構成しているため、非常に小さくて済み、高集積
化に適している。さらには、図5及び図6を比較しても
明らかなように、データ書き込み時の制御と、データ読
み出し時の制御とが、ほとんど同じ内容で済むから、特
に新たな制御回路等を設ける必要がないという利点もあ
る。
Further, each of the memory cells M 00 to M NN is replaced by one N
Since it is composed of the MOS transistor N 1 and one ferroelectric capacitor Z 1 , it is very small and suitable for high integration. Further, as is clear from comparison between FIG. 5 and FIG. 6, the control at the time of writing data and the control at the time of reading data are almost the same, so that it is necessary to provide a new control circuit or the like. There is also the advantage of not having it.

【0044】そして、本実施例では、ビットラインBL
0 〜BLN 毎に個別に設けたアンド回路5,…,5の出
力でプリチャージ用のNMOSトランジスタN2 をオン
・オフしていることから、選択されているビットライン
以外のビットラインはプリチャージされずにフローティ
ング状態を維持するので、NMOSトランジスタN1
オンになり、ドライブラインDLが立ち上がっても、選
択されていない記憶セルの強誘電体コンデンサZ1 は何
ら影響を受けずに済む。
In this embodiment, the bit line BL
Since the precharge NMOS transistor N 2 is turned on / off by the output of the AND circuits 5, ..., 5 provided individually for each 0 to BL N, bit lines other than the selected bit line are pre-selected. Since the floating state is maintained without being charged, even if the NMOS transistor N 1 is turned on and the drive line DL rises, the ferroelectric capacitor Z 1 of the unselected memory cell is not affected at all.

【0045】このことは、図3に示すような履歴曲線を
描いた回数に従ってその機能が劣化していく強誘電体コ
ンデンサZ1 にとっては、無駄なアクセスがなくなるか
ら、寿命の大幅な延長が期待でき、信頼性の向上にもつ
ながる。
This means that for the ferroelectric capacitor Z 1 whose function deteriorates according to the number of times the history curve as shown in FIG. 3 is drawn, unnecessary access will be eliminated, and therefore the life is expected to be greatly extended. It is possible and leads to improvement of reliability.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
強誘電体コンデンサの特性を利用してデータを記憶でき
るから、不揮発性メモリとして機能するとともに、その
データの書き換えも簡易且つ高速に行えるし、しかも、
一つのトランジスタと一つの強誘電体コンデンサとで構
成されるから、高集積化にも適しているという効果があ
る。
As described above, according to the present invention,
Since the data can be stored by utilizing the characteristics of the ferroelectric capacitor, it functions as a non-volatile memory, and the data can be rewritten easily and at high speed.
Since it is composed of one transistor and one ferroelectric capacitor, it is suitable for high integration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の全体構成を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an overall configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】記憶セルの拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a memory cell.

【図3】強誘電体の分極特性を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing polarization characteristics of a ferroelectric substance.

【図4】センスアンプの一例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a sense amplifier.

【図5】データ書き込み時の波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram at the time of writing data.

【図6】データ読み出し時の波形図である。FIG. 6 is a waveform diagram at the time of reading data.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 遅延回路(ドライブライン制御手
段) M00〜MNN 記憶セル BL0 〜BLN ビットライン WL0 〜WLN ワードライン DL0 〜DLN ドライブライン Z1 強誘電体コンデンサ N1 NMOSトランジスタ(パストラ
ンジスタ)
1 Delay Circuit (Drive Line Control Means) M 00 to M NN Storage Cell BL 0 to BL N Bit Line WL 0 to WL N Word Line DL 0 to DL N Drive Line Z 1 Ferroelectric Capacitor N 1 NMOS Transistor (Pass Transistor) )

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 強誘電体コンデンサの一方の電極をパス
トランジスタを介してビットラインに接続するととも
に、前記パストランジスタのゲートをワードラインに接
続し、前記強誘電体コンデンサの他方の電極をドライブ
ラインに接続し、そして、前記ワードラインが選択され
てから所定時間経過した後に前記ドライブラインを立ち
上げるドライブライン制御手段を設けたことを特徴とす
る半導体記憶装置。
Claim: What is claimed is: 1. One electrode of a ferroelectric capacitor is connected to a bit line via a pass transistor, and the gate of the pass transistor is connected to a word line. A semiconductor memory device comprising drive line control means for connecting the other electrode to a drive line, and for raising the drive line after a predetermined time has elapsed since the word line was selected.
JP3154785A 1991-06-26 1991-06-26 Semiconductor storage Pending JPH053305A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3154785A JPH053305A (en) 1991-06-26 1991-06-26 Semiconductor storage

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005050494A (en) * 2003-07-30 2005-02-24 Hynix Semiconductor Inc Nonvolatile ferroelectric memory device having multi-bit control function

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005050494A (en) * 2003-07-30 2005-02-24 Hynix Semiconductor Inc Nonvolatile ferroelectric memory device having multi-bit control function

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