JPH05326676A - Clamping mechanism - Google Patents
Clamping mechanismInfo
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- JPH05326676A JPH05326676A JP12588792A JP12588792A JPH05326676A JP H05326676 A JPH05326676 A JP H05326676A JP 12588792 A JP12588792 A JP 12588792A JP 12588792 A JP12588792 A JP 12588792A JP H05326676 A JPH05326676 A JP H05326676A
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- Japan
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- wafer
- block
- rod
- clamper
- compression spring
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、種々の寸法のウエーハ
をクランプするのに用いるクランプ機構の改良に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvements in a clamping mechanism used for clamping wafers of various sizes.
【0002】従来の一台のクランプ機構により種々の寸
法のウエーハをクランプする場合には、寸法の大きなウ
エーハの場合にはクランプする力が大きくなってウエー
ハに過大な力が加わり、小さなウエーハの場合にはクラ
ンプする力が小さくなってクランプが不安定になる障害
が生じている。When a wafer of various sizes is clamped by a conventional single clamping mechanism, a large size wafer has a large clamping force and an excessive force is applied to the wafer, and a small size wafer. Has a problem that the clamping force becomes small and the clamp becomes unstable.
【0003】以上のような状況から、ウエーハの寸法の
大小にかかわらず常に一定の力でクランプすることが可
能なクランプ機構が要望されている。Under the circumstances as described above, there is a demand for a clamp mechanism that can always clamp with a constant force regardless of the size of the wafer.
【0004】[0004]
【従来の技術】従来のクランプ機構を図3により詳細に
説明する。図3は従来のクランプ機構を示す図である。2. Description of the Related Art A conventional clamp mechanism will be described in detail with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram showing a conventional clamp mechanism.
【0005】図3に示すように、基板21の下面には 120
°間隔で3方向に、ガイド棒23を支持するブロック22と
エアシリンダ26とが設けられており、基板21の上面にも
同様にガイド棒28を支持するブロック27と、ウエーハ12
を支持する支持部21a が設けられている。As shown in FIG.
Blocks 22 that support the guide rods 23 and air cylinders 26 are provided in three directions at intervals of °, and a block 27 that similarly supports the guide rods 28 on the upper surface of the substrate 21 and the wafer 12 are also provided.
Is provided with a support portion 21a.
【0006】このガイド棒23とガイド棒28に嵌合するス
ライドブロック25は、ガイド棒23に装着されている圧縮
ばね24によってガイド棒23とガイド棒28に沿って移動す
ることが可能であり、基板21の下面に 120°間隔で設け
られているエアシリンダ26のロッド26a はこの圧縮ばね
24に抗してスライドブロック25を移動させることが可能
である。The slide block 25 fitted to the guide rod 23 and the guide rod 28 can be moved along the guide rod 23 and the guide rod 28 by the compression spring 24 mounted on the guide rod 23. The rod 26a of the air cylinder 26, which is provided on the lower surface of the substrate 21 at 120 ° intervals, is the compression spring.
It is possible to move the slide block 25 against 24.
【0007】このようなクランプ機構でウエーハ12をク
ランプさせるには、まずウエーハ12を支持部21a の表面
に載置し、エアシリンダ26のロッド26a を図に示すよう
にエアシリンダ26の中に引っ込ませると、スライドブロ
ック25は圧縮ばね24によりガイド棒23とガイド棒28に沿
って中心方向に移動して先端部25a でウエーハ12をクラ
ンプすることが可能となる。In order to clamp the wafer 12 with such a clamping mechanism, first the wafer 12 is placed on the surface of the support portion 21a, and the rod 26a of the air cylinder 26 is retracted into the air cylinder 26 as shown in the figure. Then, the slide block 25 can be moved in the central direction along the guide rod 23 and the guide rod 28 by the compression spring 24, and the wafer 12 can be clamped at the tip portion 25a.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来のク
ランプ機構においては、圧縮ばねの圧縮力のみによりス
ライドブロックの先端部でウエーハをクランプしている
から、寸法の大きなウエーハの場合には圧縮ばねの圧縮
力が大きくなるので、クランプする力が大きくなってウ
エーハに過大な力が加わり、小さなウエーハの場合には
圧縮ばねの圧縮力が小さくなるので、クランプする力が
小さくなってクランプが不安定になるという問題点があ
った。In the conventional clamping mechanism described above, the wafer is clamped at the tip of the slide block only by the compressive force of the compression spring. Since the compressive force of the wafer becomes large, the clamping force becomes large and an excessive force is applied to the wafer, and when the wafer is small, the compressing force of the compression spring becomes small, so the clamping force becomes small and the clamping becomes unstable. There was a problem that became.
【0009】本発明は以上のような状況から、ウエーハ
の寸法が大きな場合でも小さな場合でも、常に同じ力で
クランプすることが可能なクランプ機構の提供を目的と
したものである。In view of the above situation, the present invention has an object to provide a clamp mechanism capable of always clamping with the same force regardless of whether the wafer is large or small.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のクランプ機構
は、基板に設けたブロックの間に設けたガイド棒と、こ
のガイド棒と嵌合し、圧縮ばねによりこのガイド棒に沿
ってスライド可能なスライドブロックと、このスライド
ブロックをこの圧縮ばねに抗してこのガイド棒に沿って
スライドさせるこの基板に設けたエアシリンダと、この
スライドブロックとピンにより結合されている回転ブロ
ックと、この回転ブロックの一端に設けられている、ウ
エーハをクランプするクランパーと、この回転ブロック
の係止部と係合する係止部を備えたストップレールとを
具備するように構成する。The clamp mechanism of the present invention is fitted with a guide rod provided between blocks provided on a substrate and is slidable along the guide rod by a compression spring. A slide block, an air cylinder provided on the base plate for sliding the slide block along the guide rod against the compression spring, a rotary block connected to the slide block by a pin, and a rotary block of the rotary block. A clamper for clamping a wafer, which is provided at one end, and a stop rail having a locking portion that engages with the locking portion of the rotating block are provided.
【0011】[0011]
【作用】即ち本発明においては、図1(a) 及び(b) に示
すように二本のガイド棒3の両端を支持するブロック2
を基板1に設け、このガイド棒3に沿って圧縮ばね4に
よりスライド可能なスライドブロック5をこの二本のガ
イド棒3に嵌合し、基板1に設けたエアシリンダ6によ
りこのスライドブロック5をこの圧縮ばね4に抗してこ
のガイド棒3に沿って外方向にスライドさせ、回転ブロ
ック8をピン7によりこのスライドブロック5と結合
し、ウエーハ12をクランプするクランパー9をこの回転
ブロック8の一端に設けており、V字形状の係止部11a
を備えたストップレール11を基板1と平行して設けてい
るので、図2(a) に示すようにエアシリンダ6のロッド
6aをエアシリンダ6内に引っ込ませると、圧縮ばね4に
よってスライドブロック5がガイド棒3に沿って中心方
向に移動してクランパー9がウエーハ12の周辺に接触す
る。That is, in the present invention, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the block 2 supporting both ends of the two guide rods 3 is provided.
Is provided on the substrate 1, a slide block 5 slidable along the guide rod 3 by a compression spring 4 is fitted to the two guide rods 3, and the slide block 5 is moved by an air cylinder 6 provided on the substrate 1. The rotary block 8 is slid outwardly along the guide rod 3 against the compression spring 4, the rotary block 8 is connected to the slide block 5 by the pin 7, and the clamper 9 for clamping the wafer 12 is attached to one end of the rotary block 8. V-shaped locking part 11a
Since the stop rail 11 provided with is provided in parallel with the substrate 1, as shown in FIG.
When 6a is retracted into the air cylinder 6, the slide block 5 moves toward the center along the guide rod 3 by the compression spring 4 and the clamper 9 comes into contact with the periphery of the wafer 12.
【0012】更にエアシリンダ6のロッド6aをエアシリ
ンダ6内に引っ込ませると、圧縮ばね4によりスライド
ブロック5は更に中心方向に移動するが、クランパー9
がウエーハ12の周辺に当たっているので、図2(b) に示
すように回転ブロック8がピン7を中心として回転し、
回転ブロック8の係止部8aが上方向に移動してストップ
レール11の係止部11a と係合する。When the rod 6a of the air cylinder 6 is further retracted into the air cylinder 6, the compression spring 4 causes the slide block 5 to move further toward the center.
Is hitting the periphery of the wafer 12, the rotating block 8 rotates about the pin 7 as shown in FIG. 2 (b),
The locking portion 8a of the rotating block 8 moves upward and engages with the locking portion 11a of the stop rail 11.
【0013】クランパー9がウエーハ12の周辺に接触し
てから、この係止部8aと係止部11aが係止するまでの
間、クランパー9が撓みながらウエーハ12をクランプす
る。このクランパー9のクランプ力はウエーハ12の直径
の大小にかかわりなく、クランパー9の撓みにより生じ
る一定の値となるので、常に一定のクランプ力でウエー
ハ12をクランプすることが可能となる。From the time when the clamper 9 comes into contact with the periphery of the wafer 12 to the time when the locking portion 8a and the locking portion 11a are locked, the clamper 9 flexes to clamp the wafer 12. The clamping force of the clamper 9 has a constant value generated by the bending of the clamper 9 regardless of the size of the diameter of the wafer 12, so that the wafer 12 can always be clamped with a constant clamping force.
【0014】[0014]
【実施例】以下、図1〜図2により本発明の一実施例の
クランプ機構について詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A clamp mechanism according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.
【0015】図1は本発明による一実施例のクランプ機
構の動作を示す図(1) 、図2は本発明による一実施例の
クランプ機構の動作を示す図(2) である。図1(a) 及び
(b) に示すように基板1の下面には二本のガイド棒3の
両端を支持するブロック2とエアシリンダ6が 120°間
隔で3方向に設けられており、上面にはV字形状の係止
部11a を備えたストップレール11を基板1と平行して設
け、このストップレール11の上面にウエーハ12を載置す
る支持部1aを設けている。FIG. 1 is a diagram (1) showing the operation of the clamp mechanism according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram (2) showing the operation of the clamp mechanism according to one embodiment of the present invention. Figure 1 (a) and
As shown in (b), a block 2 supporting both ends of two guide rods 3 and an air cylinder 6 are provided in three directions at 120 ° intervals on the lower surface of the substrate 1, and a V-shaped upper surface is provided on the upper surface. A stop rail 11 having a locking portion 11a is provided in parallel with the substrate 1, and a support portion 1a for mounting a wafer 12 is provided on the top surface of the stop rail 11.
【0016】スライドブロック5はこの二本のガイド棒
3に嵌合しており、ガイド棒3に沿って圧縮ばね4によ
りスライドすることが可能である。エアシリンダ6のロ
ッド6aによりこの圧縮ばね4に抗してこのガイド棒3に
沿ってスライドブロック5を外方向にスライドさせてい
る。The slide block 5 is fitted to the two guide rods 3 and can be slid along the guide rods 3 by the compression spring 4. The slide block 5 is slid outward along the guide rod 3 against the compression spring 4 by the rod 6a of the air cylinder 6.
【0017】回転ブロック8はピン7を介してこのスラ
イドブロック5と結合されており、ウエーハ12をクラン
プするクランパー9がこの回転ブロック8の一端に設け
られており、この回転ブロック8は圧縮ばね10により常
に図1(a) に示すように保持されている。The rotary block 8 is connected to the slide block 5 via a pin 7, and a clamper 9 for clamping a wafer 12 is provided at one end of the rotary block 8. The rotary block 8 has a compression spring 10. Therefore, it is always held as shown in Fig. 1 (a).
【0018】図1(a) に示すようにウエーハ12を支持部
1aの上に載置し、図2(a) に示すようにエアシリンダ6
のロッド6aをエアシリンダ6内に引っ込ませると、圧縮
ばね4によってスライドブロック5がガイド棒3に沿っ
て中心方向に移動してクランパー9がウエーハ12の周辺
に接触する。As shown in FIG. 1 (a), the wafer 12 is supported by a supporting portion.
Place it on top of 1a, and as shown in Fig. 2 (a), air cylinder 6
When the rod 6a is retracted into the air cylinder 6, the compression spring 4 moves the slide block 5 along the guide rod 3 toward the center, and the clamper 9 comes into contact with the periphery of the wafer 12.
【0019】更にエアシリンダ6のロッド6aをエアシリ
ンダ6内に引っ込ませると、圧縮ばね4によりスライド
ブロック5は更に中心方向に移動するが、クランパー9
がウエーハ12の周辺に当たっているので、図2(b) に示
すように回転ブロック8がピン7を中心として回転し、
回転ブロック8の係止部8aが上方向に移動してストップ
レール11の係止部11a と係合する。When the rod 6a of the air cylinder 6 is further retracted into the air cylinder 6, the compression spring 4 causes the slide block 5 to move further toward the center.
Is hitting the periphery of the wafer 12, the rotating block 8 rotates about the pin 7 as shown in FIG. 2 (b),
The locking portion 8a of the rotating block 8 moves upward and engages with the locking portion 11a of the stop rail 11.
【0020】クランパー9がウエーハ12の周辺に接触し
てから、この係止部8aと係止部11aが係止するまでの
間、クランパー9が撓みながらウエーハ12をクランプす
る。このクランパー9のクランプ力はウエーハ12の直径
の大小にかかわりなく、クランパー9の撓みにより生じ
る一定の値となるので、常に一定のクランプ力でウエー
ハ12をクランプすることが可能となる。From the time when the clamper 9 comes into contact with the periphery of the wafer 12 to the time when the locking portion 8a and the locking portion 11a are locked, the clamper 9 flexes to clamp the wafer 12. The clamping force of the clamper 9 has a constant value generated by the bending of the clamper 9 regardless of the size of the diameter of the wafer 12, so that the wafer 12 can always be clamped with a constant clamping force.
【0021】このようにクランパー9の撓みにより生じ
るクランプ力でウエーハ12をクランプするので、クラン
パー9の材料としてはウエーハ12を汚染せず、このクラ
ンプ力によってウエーハ12に過大な力を加えない、ばね
性を有するステンレススチール或いはプラスチックを用
いることが可能である。Since the wafer 12 is clamped by the clamping force generated by the bending of the clamper 9 as described above, the wafer 12 is not contaminated as a material for the clamper 9, and the clamping force does not apply an excessive force to the wafer 12, so that the spring 12 It is possible to use stainless steel or plastic having properties.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によればクランプ機構の構造の変更により、ウエーハの
大きさにかかわらず常に同じ力でクランプすることが可
能となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の
効果が期待できるクランプ機構の提供が可能である。As is apparent from the above description, according to the present invention, there is an advantage that the clamping force can be always clamped with the same force regardless of the size of the wafer by changing the structure of the clamping mechanism. It is possible to provide a clamp mechanism that can be expected to be economical and to improve reliability.
【図1】 本発明による一実施例のクランプ機構の動作
を説明する図(1) 、FIG. 1 is a diagram (1) for explaining the operation of a clamp mechanism according to an embodiment of the present invention,
【図2】 本発明による一実施例のクランプ機構の動作
を説明する図(2) 、FIG. 2 is a diagram (2) for explaining the operation of the clamp mechanism of the embodiment according to the present invention;
【図3】 従来のクランプ機構を示す図、FIG. 3 is a diagram showing a conventional clamp mechanism,
1は基板、 1aは支持部、 2はブロック、 3はガイド棒、 4は圧縮ばね、 5はスライドブロック、 6はエアシリンダ、 6aはロッド、 7はピン、 8は回転ブロック、 8aは係止部、 9はクランパー、 10は圧縮ばね、 11はストップレール、 11aは係止部、 12はウエーハ、 1 is a substrate, 1a is a support portion, 2 is a block, 3 is a guide rod, 4 is a compression spring, 5 is a slide block, 6 is an air cylinder, 6a is a rod, 7 is a pin, 8 is a rotation block, and 8a is a lock. Part, 9 is a clamper, 10 is a compression spring, 11 is a stop rail, 11a is a locking part, 12 is a wafer,
Claims (1)
スライド手段(6)と、 前記スライドブロック(5) と、ピン(7) により回転可能
に結合されている回転ブロック(8) と、 該回転ブロック(8) の一端に設けられ、ウエーハ(12)を
クランプするクランパー(9) と、 前記回転ブロック(8) の他端に設けられた係止部(8a)
と、該クランプ時に該係止部(8a)と係合する係止部(11
a) を備えたストップレール(11)と、 を具備することを特徴とするクランプ機構。1. A slide means (6) for sliding a slide block (5), the slide block (5), a rotary block (8) rotatably coupled by a pin (7), and the rotary block. A clamper (9) provided at one end of the (8) for clamping the wafer (12) and a locking portion (8a) provided at the other end of the rotation block (8).
And a locking portion (11) that engages with the locking portion (8a) during the clamping.
A clamp mechanism comprising: a stop rail (11) provided with a);
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12588792A JPH05326676A (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Clamping mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12588792A JPH05326676A (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Clamping mechanism |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05326676A true JPH05326676A (en) | 1993-12-10 |
Family
ID=14921385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12588792A Withdrawn JPH05326676A (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Clamping mechanism |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05326676A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003197718A (en) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | Unit and method for treatment substrate |
US6614190B2 (en) | 2001-01-31 | 2003-09-02 | Hitachi, Ltd. | Ion implanter |
JP2012033938A (en) * | 2007-10-05 | 2012-02-16 | Semes Co Ltd | Spin head |
-
1992
- 1992-05-19 JP JP12588792A patent/JPH05326676A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6614190B2 (en) | 2001-01-31 | 2003-09-02 | Hitachi, Ltd. | Ion implanter |
JP2003197718A (en) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | Unit and method for treatment substrate |
JP2012033938A (en) * | 2007-10-05 | 2012-02-16 | Semes Co Ltd | Spin head |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |