JPH05310907A - 残留溶媒の除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ポリカーボネート及び／又はカーボネートオ
リゴマーのパウダーに残留する有機溶媒量を大幅に低減
し、且つ乾燥工程の省略乃至は大幅な短縮が可能で、品
質向上、工程の省力化、製造コストの低減に有効な残留
溶媒の除去方法を提供する。 【構成】 有機溶媒を含有するポリカーボネート及び／
又はカーボネートオリゴマーのパウダーに周波数３００
〜３０，０００MHz のマイクロ波を照射する残留溶媒の
除去方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリカーボネート及び
／又はカーボネートオリゴマー中の残留溶媒の除去方法
に関する。更に詳しくはポリカーボネート及び／又はカ
ーボネートオリゴマーのパウダーに残留する有機溶媒量
を大幅に低減し、且つ従来の乾燥工程を省略乃至は大幅
に短縮することができる残留溶媒の除去方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネートの界面縮合反応による
製造工程では、反応終了後精製して得たポリカーボネー
トの有機溶媒溶液から大部分の有機溶媒を除去してパウ
ダーにした後、乾燥工程により水分と同時に有機溶媒を
除去してポリカーボネートを得る方法が主に行われてい
る。また固相重合反応の製造工程では、縮合反応して得
たポリカーボネートのプレポリマーを貧溶媒に投入して
結晶化させ、しかる後固相重合反応に供する方法が行わ
れている。

【０００３】かかる有機溶媒を用いる製造法では、ポリ
カーボネートのパウダーに残留する有機溶媒の除去が大
きな問題になっている。この問題を解決するために、例
えば乾燥工程の強化、パウダー化工程においてポリカ−
ボネ−トの良溶媒の一部に貧溶媒又は非溶媒を添加する
方法等が知られている。しかしながら、乾燥工程を強化
してもこれら良溶媒、貧溶媒、非溶媒を含む有機溶媒は
１００〜３００ppm 程度残留し、それ以上除去すること
は困難である。特に貧溶媒又は非溶媒を添加する方法で
は、製造に用いた良溶媒は相当量除去されるものの貧溶
媒又は非溶媒が多量残留し、これを充分に除去すること
は極めて困難である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリカーボ
ネート及び／又はカーボネートオリゴマーのパウダーに
残留する有機溶媒量を大幅に低減し、且つ乾燥工程の省
略乃至は大幅な短縮が可能で、品質向上、工程の省力
化、製造コストの低減に有効な残留溶媒の除去方法を提
供することを目的とする。

【０００５】本発明者は、上記目的を達成せんとして鋭
意検討した結果、周波数３００〜３０，０００MHz のマ
イクロ波をポリカーボネート及び／又はカーボネートオ
リゴマーのパウダーに照射すれば、残留する有機溶媒を
大幅に低減することができると同時に、乾燥工程を省略
乃至は大幅に短縮することができることを究明し、本発
明を完成した。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、有機溶媒を含
有するポリカーボネート及び／又はカーボネートオリゴ
マーのパウダーに周波数３００〜３０，０００MHz のマ
イクロ波を照射することを特徴とする残留溶媒の除去方
法である。

【０００７】本発明でいうポリカーボネートのパウダー
は、任意の方法で製造されたものでよいが、二価フェノ
ールのアルカリ水溶液とホスゲンを有機溶媒の存在下反
応させて製造されるものが好ましく、これにジカルボン
酸成分を共重合させたポリエステルカーボネートであっ
てもよい。ポリカーボネートの分子量は特に限定する必
要はなく、粘度平均分子量で通常１２，０００〜５０，
０００であり、特に１４，０００〜３５，０００が好ま
しい。更に、二種以上の分子量水準のポリカーボネート
の混合物、例えば粘度平均分子量が８０，０００以上の
超高分子量のポリカーボネートと通常のポリカーボネー
トとの混合物であってもよい。

【０００８】ここで使用する二価フェノールとしては、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通
称ビスフェノールＡ］を主たる対象とするが、その一部
又は全部を他の二価フェノールで置き換えてもよい。他
の二価フェノールとしては、例えばビス（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ−
テル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、４，
４′−ジヒドロキシジフェニル、ハイドロキノン、２，
６−ジヒドロキシナフタレン等があげられる。またフェ
ニル基に低級アルキル基又はハロゲン原子が置換された
二価フェノールであってもよく、例えば三官能以上の多
官能性芳香族化合物を二価フェノール及びホスゲンと反
応させた分岐ポリカーボネートであってもよい。

【０００９】また本発明でいうカーボネートオリゴマー
のパウダーも、任意の方法で製造されたものでよいが、
上記二価フェノールのアルカリ水溶液とホスゲンを有機
溶媒の存在下反応させて製造されるオリゴマーが好まし
く、固相重合に使用するプレポリマーも包含する。

【００１０】本発明でいう有機溶媒は、ポリカーボネー
トやカーボネートオリゴマーの製造に使用する良溶媒、
パウダー化工程等で使用する貧溶媒や非溶媒である。ポ
リカーボネートやカーボネートオリゴマーの製造に使用
する良溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロ
エタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素、クロルベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素が
あげられる。またポリカーボネートの非溶媒又は貧溶媒
としては例えばｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘ
キサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、酢酸ブチル等のエステル
類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類等
があげられる。

【００１１】マイクロ波処理されるポリカーボネート及
び／又はカーボネートオリゴマーのパウダー（以下単に
パウダーと略称する）に残留する有機溶媒の量は、特に
限定する必要はないが、５０重量％以下が好ましく、特
に０．１〜５０重量％の範囲の場合マイクロ波照射処理
による効果が大きいので好ましい。

【００１２】有機溶媒を含有するパウダーにマイクロ波
を照射処理する時点は、特に限定する必要はなく、例え
ばパウダー化工程において、遠心分離器等により分離し
て得られる有機溶媒を含有するパウダーに、そのままマ
イクロ波を照射処理すればよい。マイクロ波処理以外の
乾燥工程を併用する際には、マイクロ波を照射処理した
後乾燥する方法、適当な乾燥工程の後にマイクロ波を照
射処理する方法、乾燥と同一工程でマイクロ波を照射処
理する方法等が任意に採用される。マイクロ波照射処理
により、パウダーに残留する有機溶媒を大幅に低減する
ことができ、同時にマイクロ波処理以外の乾燥工程を省
略乃至は大幅に短縮することができる。マイクロ波処理
以外の乾燥工程としては、熱風乾燥、赤外線乾燥、減圧
乾燥等があげられる。

【００１３】このマイクロ波の照射処理、又は乾燥工程
を併用する方法は回分式又は連続式で行うことができ
る。また、マイクロ波照射処理を効率よく行うために、
必要に応じて数箇所からパウダーにマイクロ波を照射し
たり、パウダーを撹拌、流動させながらマイクロ波を照
射することができる。

【００１４】マイクロ波は３００〜３０，０００MHz の
周波数を有するものである。３００MHz より低い周波数
及び３０，０００MHz より高い周波数波では、有機溶媒
の除去効果が小さい。通常２，４５０MHz のマイクロ波
が使用される。マイクロ波の照射量はパウダーに残留す
る有機溶媒量、有機溶媒の種類、パウダーの形状や水分
量等によって異なるが、単位重量当り１０〜４，５００
Wh／kg、好ましくは５０〜３，０００Wh／kgの範囲から
適宜選択される。

【００１５】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を更に説明す
る。なお、％は重量％であり、残留溶媒の定量分析はガ
スクロマトグラフ［（株）日立製作所製２６３型］を用
い、検出器はFID 又はECD を用いた。

【００１６】

【実施例１】塩化メチレン、水酸化ナトリウム水溶液お
よびトリエチルアミンの存在下に、ビスフェノールＡ、
末端停止剤としてビスフェノールＡに対して０．０３０
のモル比の量のp-tertブチルフェノール及びホスゲンを
常法により重合反応させ、反応終了後塩化メチレン層を
分離し、更に分離した塩化メチレン溶液を充分に水洗
し、次に塩化メチレン溶液を温水中に投入し、大部分の
塩化メチレンを除去してポリカーボネートのパウダーを
得た。得られたパウダーの残留塩化メチレン量は２６．
２％、粘度平均分子量は２３，７００であった。

【００１７】このパウダーに２，４５０MHz の周波数を
有するマイクロ波を単位重量当たり２，２００Wh／kg照
射した。得られたパウダーの残留塩化メチレン量は０．
００２％であった。

【００１８】

【実施例２】マイクロ波を照射した後更に１４０℃で６
時間乾燥する以外は実施例１と同様に行った。得られた
ポリカーボネートパウダー中の塩化メチレンの量は０．
０００３％であった。

【００１９】

【実施例３】実施例１と同様に重合反応、造粒工程を経
た後、得られたポリカーボネートパウダーを熱水中に投
入し、混合撹拌した後脱水した。得られたパウダーの残
留塩化メチレン量は２．４％であった。このパウダーに
２，４５０MHz の周波数を有するマイクロ波を単位重量
当たり１，０００Wh／kg照射した。得られたパウダーの
残留塩化メチレン量は０．００３５％であった。

【００２０】

【実施例４】マイクロ波を照射した後更に１４０℃で６
時間乾燥する以外は実施例３と同様に行った。得られた
ポリカーボネートパウダーの残留塩化メチレン量は０．
０００７％であった。

【００２１】

【比較例１】マイクロ波による処理を行わず、１４０℃
で９時間乾燥する以外は実施例１と同様に行った。得ら
れたポリカーボネートパウダーの残留塩化メチレン量は
０．０２３％であった。

【００２２】

【比較例２】マイクロ波による処理を行わず、１４０℃
で９時間乾燥する以外は実施例２と同様に行った。得ら
れたポリカーボネートパウダーの残留塩化メチレン量は
０．０１０％であった。

【００２３】

【実施例５】塩化メチレン、水酸化ナトリウム水溶液及
びトリエチルアミンの存在下、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン（以下 T
BAという）、末端停止剤として TBAに対して０．２７の
モル比の量のp-tertブチルフェノール及びホスゲンを常
法により反応させた。反応終了後塩化メチレン層を分離
し、更に分離した塩化メチレン溶液を充分に水洗し、次
に塩化メチレン溶液を温水中に投入し、大部分の塩化メ
チレンを除去して TBAカーボネートオリゴマーのパウダ
ーを得た。得られたパウダーの残留塩化メチレン量は２
３．２％、平均重合度は７．５であった。このパウダー
に２，４５０MHz の周波数を有するマイクロ波を単位重
量当たり１，９５０Wh／kg照射した。得られたパウダー
の残留塩化メチレン量は０．００３％であった。以上の
結果をまとめて表１に示す。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、ポリカーボネート及び
／又はカーボネートオリゴマーのパウダーに残留する有
機溶媒量を大幅に低減し、且つマイクロ波処理以外の乾
燥工程の省略乃至は大幅な短縮が可能で、品質向上、工
程の省力化、製造コストの低減が可能であり、その奏す
る効果は格別なものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有機溶媒を含有するポリカーボネート及
   び／又はカーボネートオリゴマーのパウダーに周波数３
   ００〜３０，０００MHz のマイクロ波を照射することを
   特徴とする残留溶媒の除去方法。