JPH05309964A - Aluminum alloy for lithography printing plate and preparation thereof - Google Patents

Aluminum alloy for lithography printing plate and preparation thereof

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JPH05309964A
JPH05309964A JP11291392A JP11291392A JPH05309964A JP H05309964 A JPH05309964 A JP H05309964A JP 11291392 A JP11291392 A JP 11291392A JP 11291392 A JP11291392 A JP 11291392A JP H05309964 A JPH05309964 A JP H05309964A
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JP
Japan
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acid
less
printing plate
intermediate annealing
alloy
Prior art date
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Application number
JP11291392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigenori Yamauchi
重徳 山内
Yuji Suzuki
祐治 鈴木
Hiraki Kido
開 木戸
Yoshinori Hotta
吉則 堀田
Hirokazu Sakaki
博和 榊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Sumitomo Light Metal Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Light Metal Industries Ltd
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To avoid occurrence of staining due to ink by incorporating a proper amt. of Mg in accordance with Si content and the amt. of Mn as an impurity and furthermore, specifying an intermediate annealing temp. in accordance with the amt. of Si and the amt. of Mn as the impurity. CONSTITUTION:The title alloy is obtd. in such a way that it consists of 0.1-1.0% Fe, 0.03-0.30% Si, 0.002-0.05% Mg, at most 0.1% Ti, at most 0.02% Cu, the remaining part of Al and unavoidable impurities all in terms of wt. base and the content of Mn as an impurity is less than 0.05% and formulas I and II are satisfied. After homogenizing treatment, hot rolling and cold rolling of a cast mass of this alloy are performed, intermediate annealing is performed at a temp. where the formula III [wherein T is the intermediate annealing temp. ( deg.C) and A=10{2(Mg%) + (Mn%)}-(Si%) is satisfied and then, recrystallization and final cold rolling are successively performed to manufacture the title alloy.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は耐インキ汚れ性及び電気
化学的粗面化性に優れた平版印刷版用アルミニウム合金
及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum alloy for a lithographic printing plate having excellent ink stain resistance and electrochemical roughening property, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版の支持体用アルミニウム合金
にはAl−Fe−Si系合金(例えば特公昭55−28
874、特開昭58−42493、特開昭62−146
694、特公平1−35910)、更にCuを含む合金
(例えば特開昭62−148295)あるいはCuとT
iを含む合金(例えば特開昭60−215725、特開
昭60−215728、特開昭61−272357)な
どが用いられている。これらの合金は従来連続鋳造し、
面削、均質化処理の後、熱間圧延を行いながらコイルに
巻き取り、その後冷間圧延、中間焼鈍および冷間圧延の
工程を経て、平版印刷版支持体用アルミニウム合金とさ
れる。この際、均質化処理の後、室温まで冷却すること
はなく、そのまま熱間圧延を行うこともあれば、均質化
処理後、室温まで冷却した後、再加熱して熱間圧延を行
うこともある。後者の場合、面削と均質化処理の順序を
逆にすることもある。
2. Description of the Related Art An aluminum alloy for a support of a lithographic printing plate is an Al--Fe--Si type alloy (for example, Japanese Patent Publication No. 55-28
874, JP-A-58-42493, and JP-A-62-146.
694, Japanese Examined Patent Publication No. 1-35910), and an alloy containing Cu (for example, JP-A-62-148295) or Cu and T.
Alloys containing i (for example, JP-A-60-215725, JP-A-60-215728, and JP-A-61-272357) are used. These alloys are conventionally continuously cast,
After chamfering and homogenizing treatment, the aluminum alloy for a lithographic printing plate support is taken up by winding it into a coil while performing hot rolling, and then performing cold rolling, intermediate annealing and cold rolling. At this time, after the homogenization treatment, it may not be cooled to room temperature and may be hot-rolled as it is, or after the homogenization treatment, it may be cooled to room temperature and then reheated to be hot-rolled. is there. In the latter case, the order of chamfering and homogenization may be reversed.

【0003】一方、平版印刷版支持体用アルミニウム合
金は上述のように製造された後、機械的粗面化、化学的
粗面化および電気化学的粗面化などの方法により粗面化
される。機械的粗面化は、アルミニウム表面を金属ワイ
ヤでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研摩球と研摩
剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法
あるいはナイロンブラシと研摩剤で表面を砂目立てする
ブラシグレイン法などによって行われる。化学的粗面化
は酸またはアルカリ溶液中でエッチングすることによっ
て行われる。また電気化学的粗面化は塩酸系溶液または
硝酸系溶液中で交流電解することによって行われる。
On the other hand, the aluminum alloy for a lithographic printing plate support is manufactured as described above and then roughened by a method such as mechanical surface roughening, chemical surface roughening and electrochemical surface roughening. .. Mechanical surface roughening includes a wire brush grain method of scratching the aluminum surface with a metal wire, a ball grain method of graining the aluminum surface with a polishing ball and an abrasive, or a brush grain method of graining the surface with a nylon brush and an abrasive. Done by Chemical surface roughening is performed by etching in an acid or alkaline solution. Further, the electrochemical graining is performed by AC electrolysis in a hydrochloric acid solution or a nitric acid solution.

【0004】以上のように粗面化されたアルミニウム合
金の表面は陽極酸化され、必要に応じて親水性処理がな
され、その上に感光層を設けて平版印刷版とされる。
The surface of the aluminum alloy that has been roughened as described above is anodized, and if necessary hydrophilic treatment is performed, and a photosensitive layer is provided thereon to obtain a lithographic printing plate.

【0005】上述のように製造された平版印刷版を用い
て印刷を行うと、非画像部の汚れ(インキ汚れ)が激し
いことがある。インキ汚れの原因のひとつとして、アル
ミニウム合金の中に単体Siが多く存在すると、これが
陽極酸化皮膜の欠陥を生じさせ、その部分の親水性を低
下させることになり、その結果インキ汚れを増大させる
ことがわかっている。
When printing is performed using the lithographic printing plate manufactured as described above, stains (ink stains) on the non-image area may be severe. As one of the causes of ink stains, if a large amount of elemental Si is present in the aluminum alloy, this will cause defects in the anodic oxide film and reduce the hydrophilicity of that part, resulting in increased ink stains. I know.

【0006】この問題に対する対策としては、アルミニ
ウム合金の中の単体Siを少なくすることが有効である
(特開昭62−146694、特開昭62−14829
5)。そして、具体的な方法としては、中間焼鈍時に連
続焼鈍装置によって400〜600℃に加熱した後、1
50℃/sec以上の冷却速度で100℃以下まで冷却
することにより単体Siをマトリクス中に溶け込ませる
方法があり(特開昭62−146694)、また鋳塊を
均熱処理した後、430℃以下の温度まで50℃/hr
以下の平均冷却速度で冷却するか、又は350〜450
℃の温度で30分以上保持してから熱間圧延を行う方法
が提唱されている(特開昭62−148295)。
As a countermeasure against this problem, it is effective to reduce the amount of elemental Si in the aluminum alloy (Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-146694 and 62-14829).
5). Then, as a specific method, after heating to 400 to 600 ° C. by a continuous annealing device during intermediate annealing, 1
There is a method in which elemental Si is melted in a matrix by cooling to 100 ° C. or lower at a cooling rate of 50 ° C./sec or more (Japanese Patent Laid-Open No. 62-146694). Up to 50 ℃ / hr
Cool at the following average cooling rates or 350-450
A method has been proposed in which hot rolling is carried out after holding at a temperature of 30 ° C. for 30 minutes or longer (JP-A-62-148295).

【0007】しかし、前者(特開昭62−14669
4)の場合、中間焼鈍の温度が低いと単体Siの溶け込
みが不十分となり、インキ汚れを完全に解消するまでに
至っていない。中間焼鈍の温度が高いと単体Siの溶け
込みは十分となるが、連続焼鈍の通板速度が低くなり、
能率の大幅な低下を招くという問題がある。また、後者
(特開昭62−148295)の場合、この方法のみで
は単体Siの量が十分には少なくならず、近年の高品質
を要求する印刷分野においてインキ汚れの問題を解消す
るに至っていない。
However, the former (JP-A-62-14669)
In the case of 4), if the temperature of the intermediate annealing is low, the melting of the simple substance Si becomes insufficient, and the ink stain is not completely eliminated. If the temperature of the intermediate annealing is high, the melting of elemental Si will be sufficient, but the strip speed of continuous annealing will be low,
There is a problem that the efficiency is drastically reduced. In the case of the latter (Japanese Patent Laid-Open No. 62-148295), the amount of simple substance Si cannot be reduced sufficiently by this method alone, and the problem of ink stain has not been solved in the printing field requiring high quality in recent years. .

【0008】次に、平版印刷版の支持体としてアルミニ
ウム合金を用いた場合のもう一つの問題点として、電気
化学的粗面化によって生じたピットの大きさが不均一に
なったり、浅くなったりするために、耐刷性が不良にな
ることがある。
Next, as another problem in using an aluminum alloy as a support for a lithographic printing plate, the size of pits formed by electrochemical graining becomes uneven or becomes shallow. Therefore, the printing durability may be poor.

【0009】電気化学的粗面化によるピットを深く均一
にして耐刷性を向上させる方法としては、0.005〜
0.05%のCuを添加することが提唱されている(特
開平3−122241)。しかし、Cuを添加した場
合、適切な処理条件の下では効果が大きいが、前処理の
条件(例えば電気化学的粗面化の前の化学エッチングに
おける薬品濃度、エッチング液の温度やエッチング時
間、あるいは化学エッチング後の中和処理における薬品
濃度、中和浴の温度や処理時間)、あるいは電気化学的
粗面化の条件(例えば溶液中浸漬から通電までの時間、
電解電流密度)などがわずかに変動すると、電気化学的
粗面化時に局部的エッチング不足部(ピットが生じない
局部領域)が生じ、耐刷性が不良となる。従って、処理
条件の制約が大きく、工業的、経済的でなかった。つま
り、薬品濃度を厳密に制御するために、液の取替を頻繁
に行なったり、処理ライン上で処理時間の変動が生じた
場合には、材料が不良品となったり、また処理速度を任
意に変えることが困難である等、工業的、経済的な問題
が残っていた。
[0009] As a method of making the pits deep and uniform by electrochemical graining to improve printing durability, 0.005-
It has been proposed to add 0.05% Cu (JP-A-3-122241). However, when Cu is added, the effect is large under appropriate processing conditions, but pretreatment conditions (for example, chemical concentration in chemical etching before electrochemical graining, etching solution temperature and etching time, or Chemical concentration in the neutralization treatment after chemical etching, temperature and treatment time of the neutralization bath), or electrochemical roughening conditions (for example, the time from immersion in the solution to energization,
If the electrolysis current density) or the like is slightly changed, a locally insufficiently etched portion (a local area where no pits are formed) is generated during electrochemical graining, resulting in poor printing durability. Therefore, the processing conditions are largely restricted, which is not industrial or economical. In other words, in order to strictly control the chemical concentration, if the liquid is frequently replaced, or if the processing time fluctuates on the processing line, the material becomes a defective product, and the processing speed is arbitrary. It was difficult to change to, and industrial and economic problems remained.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、中間焼鈍の
温度を高くすることなく、すなわち通板速度を低下させ
ることなく単体のSiを溶け込ませ、かつ合金成分とし
てCuを添加することによってインキ汚れがなく、しか
も耐刷性が良好なアルミニウム合金及びその製造方法を
提供しようとするものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION According to the present invention, an ink is prepared by melting Si as a simple substance without increasing the temperature of intermediate annealing, that is, without reducing the striping speed, and adding Cu as an alloy component. It is an object of the present invention to provide an aluminum alloy which is free from stains and has good printing durability, and a method for producing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは単体Siの
析出量に及ぼす添加元素の影響について検討し、Si含
有量及び不純物としてのMn量に応じて適量のMgを添
加すれば単体Siの析出が生じにくくなり、耐インキ汚
れ性が良好になることを見出し、更に、Mg量、Si量
及び不純物としてのMn量に応じて中間焼鈍温度を決め
れば、耐インキ汚れ性が良好なアルミニウム合金が製造
できることを見出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have studied the effect of additional elements on the precipitation amount of elemental Si, and if a proper amount of Mg is added according to the Si content and the amount of Mn as an impurity, elemental Si It has been found that the precipitation resistance to ink is less likely to occur, and the ink stain resistance is improved. Further, if the intermediate annealing temperature is determined according to the Mg content, the Si content and the Mn content as impurities, aluminum with good ink stain resistance is obtained. It has been found that alloys can be produced.

【0012】また、電気化学的粗面化時の局部的エッチ
ング不足(局部的にピットが生成しない現象)の発生に
及ぼす添加元素の影響についても検討し、Cu量を0.
020%以下に抑えるとともに、(Mg%)−(Cu
%)≧−0.01、更に望ましくは(Mg%)−(Cu
%)≧0とすれば、処理条件の変動に影響されることな
く局部的エッチング不足の問題を解消できることを見出
した。以上のことにより本発明を完成した。
Further, the influence of the additive element on the occurrence of local etching shortage (a phenomenon in which no pit is locally formed) at the time of electrochemical graining is examined, and the Cu content is set to 0.
It is suppressed to 020% or less and (Mg%)-(Cu
%) ≧ −0.01, more preferably (Mg%) − (Cu
%) ≧ 0, it has been found that the problem of local insufficient etching can be solved without being affected by fluctuations in processing conditions. The present invention has been completed as described above.

【0013】すなわち、本発明は特許請求の範囲に記載
のとおりの平版印刷版用アルミニウム合金及びその製造
方法である。
That is, the present invention is an aluminum alloy for a lithographic printing plate as described in the claims and a method for producing the same.

【0014】[0014]

【作用】以下、各条件について詳細に説明する。The operation will be described in detail below.

【0015】(1) Fe:0.1〜1.0% Feは合金の強度を上げるとともに微細析出物を生成
し、電気化学的粗面化によるビットを微細にする。その
結果、耐刷性を向上させる。0.1%未満では効果が十
分でなく、1.0%を越えると粗大晶出物が多くなり逆
にピットが不均一となる。
(1) Fe: 0.1 to 1.0% Fe increases the strength of the alloy and produces fine precipitates, which makes the bits fine by electrochemical roughening. As a result, printing durability is improved. If it is less than 0.1%, the effect is not sufficient, and if it exceeds 1.0%, coarse crystallized substances increase and conversely the pits become nonuniform.

【0016】(2) Si:0.03〜0.30% Siは合金の強度を上げるとともにAl−Fe−Si化
合物を形成し、電気化学的粗面化によるピットの微細化
に寄与する。その結果、耐刷性を向上させる。0.03
%未満では効果が十分でなく、0.30%を越えると耐
インキ汚れ性が劣化する。
(2) Si: 0.03 to 0.30% Si increases the strength of the alloy and forms an Al-Fe-Si compound, which contributes to the miniaturization of pits by electrochemical graining. As a result, printing durability is improved. 0.03
If it is less than 0.3%, the effect is not sufficient, and if it exceeds 0.30%, the ink stain resistance deteriorates.

【0017】(3) Mg:0.002%以上0.05%未
満 MgはSiと化合物を形成し、単体Siとしての析出を
抑制する。そして単体Siの析出が生ずる場合も析出量
を少なくするので、中間焼鈍時の溶入化が容易になる。
0.002%未満では効果が十分でない。Mgが0.0
5%以上になると、電気化学的粗面化の際のピットが微
細になり過ぎ、耐刷性が不良となる。
(3) Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Mg forms a compound with Si and suppresses precipitation as simple Si. Further, even when the precipitation of elemental Si occurs, the precipitation amount is reduced, so that it becomes easy to perform the infiltration during the intermediate annealing.
If it is less than 0.002%, the effect is not sufficient. Mg is 0.0
If it is 5% or more, the pits at the time of electrochemical roughening become too fine, resulting in poor printing durability.

【0018】又、Mgは電気化学的粗面化時の局部的エ
ッチング不足を生じにくくする。適切な添加量は後で説
明するようにCuの量との関係で決定される。
Further, Mg makes it difficult to cause local etching shortage during electrochemical graining. The appropriate addition amount is determined in relation to the amount of Cu, as will be described later.

【0019】(4) Ti:0.1%以下 アルミニウム中の不純物であるGaは電気化学的粗面化
によるピットの形状を歪め、耐刷性を害する。Tiはこ
のようなGaの作用を抑制し、その結果、ピットが微細
な円形となり、耐刷性が向上する。また、Tiは鋳塊の
結晶粒を微細にし、その結果印刷版としての処理を行っ
たときの筋模様(ストリーク)の発生を防止する。
(4) Ti: 0.1% or less Ga, which is an impurity in aluminum, distorts the shape of pits due to electrochemical roughening and impairs printing durability. Ti suppresses such an action of Ga, and as a result, the pit becomes a fine circle, and the printing durability is improved. Further, Ti makes the crystal grains of the ingot finer, and as a result, prevents the generation of streak patterns (streaks) when processed as a printing plate.

【0020】一方、Ti量が0.1%を越えるとAl−
Ti系の粗大な化合物を形成し、ピットを粗大にし、耐
刷性を低下させる。
On the other hand, when the Ti content exceeds 0.1%, Al-
It forms a coarse Ti-based compound, coarsens the pits, and reduces printing durability.

【0021】(5) Cu:0.020%以下 Cuは電気化学的粗面化のピットを深く、均一にし、耐
刷性を向上させる。しかし、0.020%を越えると処
理条件の変動により局部的エッチング不足を生じやすく
なり、耐刷性が不良となる。また、局部的エッチング不
足を生じやすいCu量はMg量とも関係し、その関係に
おいても後で説明するように適切な添加量が決まる。
(5) Cu: 0.020% or less Cu makes the pits for electrochemical surface roughening deep and uniform, and improves printing durability. However, if it exceeds 0.020%, local etching shortage is likely to occur due to fluctuations in processing conditions, resulting in poor printing durability. Further, the amount of Cu, which is apt to cause local insufficient etching, is also related to the amount of Mg, and in this relationship, an appropriate addition amount is determined as described later.

【0022】(6) 不純物としてのMn:0.05%未満 不純物としてのMnが多くなると電気化学的粗面化のピ
ットが独立して不均一になり、耐刷性が不良となる。し
かしながらMnはSiと化合物を形成して単体Siの析
出を抑制する効果を有しており、(7) に記述するように
不純物Mn量が多くなると、添加すべきMg量が少なく
てもよくなる。
(6) Mn as an impurity: less than 0.05% If the amount of Mn as an impurity increases, the pits for electrochemical graining become independent and non-uniform, resulting in poor printing durability. However, Mn has the effect of forming a compound with Si to suppress the precipitation of elemental Si, and as described in (7), when the amount of impurity Mn is large, the amount of Mg to be added may be small.

【0023】 (7) 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1) Mg量はSi含有量と不純物としてのMn量に対して
(1) 式を満足する必要がある。(1) 式を満足しない場
合、Siと化合物を形成するMgが不足し、単体Siの
析出が生じやすくなって、インキ汚れが生ずる。
(7) 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) (1) The Mg content is based on the Si content and the Mn content as impurities.
It is necessary to satisfy the formula (1). If the formula (1) is not satisfied, Mg forming a compound with Si will be insufficient, and simple Si will be easily deposited, resulting in ink stains.

【0024】 (8) (Mg%)−(Cu%)≧−0.01……(2) Mg量、Cu量は(2)式を満足する必要がある。(2)式を
満足しない場合、処理条件の変動の影響を受けやすくな
り、電気化学的粗面化時に局部的エッチング不足を生じ
やすくなる。
(8) (Mg%) − (Cu%) ≧ −0.01 (2) The amount of Mg and the amount of Cu must satisfy the formula (2). If the formula (2) is not satisfied, it is likely to be affected by fluctuations in the processing conditions, and local etching shortage is likely to occur during electrochemical graining.

【0025】なお、局部的エッチング不足の問題を完全
に解消するには、 (Mg%)−(Cu%)≧0……………………(2') とすることが更に望ましい。
In order to completely solve the problem of local etching deficiency, it is more desirable to satisfy (Mg%)-(Cu%) ≧ 0 .................... (2 ').

【0026】(9) 製造方法 本発明のアルミニウム合金は鋳造−均質化処理−熱間圧
延−冷間圧延−中間焼鈍−仕上げ冷間圧延の工程により
製造される。但し、均質化処理と熱間圧延前の加熱とは
兼ねることもできる。即ち、均質化処理を行った後、そ
のまま熱間圧延を行ったり、又所定の温度まで冷却して
から熱間圧延を行うこともできる。
(9) Manufacturing Method The aluminum alloy of the present invention is manufactured by the steps of casting-homogenizing treatment-hot rolling-cold rolling-intermediate annealing-finish cold rolling. However, the homogenization treatment and the heating before hot rolling can be combined. That is, it is possible to carry out hot rolling as it is after the homogenization treatment, or to carry out hot rolling after cooling to a predetermined temperature.

【0027】中間焼鈍は材料を再結晶させるために行
い、通常300〜600℃で行われる。製版後の耐バー
ニング性(製版後感光膜の強度を高め、耐刷性を向上さ
せるために250〜300℃で加熱をする際、材料が軟
化しにくい性質)を高めるためには高温で処理する連続
焼鈍が有効である。連続焼鈍の温度T(℃)は T≧−300A+460…………………………………(3) ここでA=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si
%) を満足する条件で行われる。連続焼鈍の保持時間は通常
0〜60秒程度と短いので、(3) 式が満足されないとS
iの溶け込みが不十分となり、単体Siが残存してイン
キ汚れを生ずる。なお、(3) 式はSi含有量及び不純物
としてのMn量との関係でMg量が多くなればなるほど
中間焼鈍時にSiの溶入化が生じやすくなり、より低温
の中間焼鈍で十分となることを示している。
The intermediate annealing is performed to recrystallize the material and is usually performed at 300 to 600 ° C. In order to enhance the burning resistance after plate-making (the property that the material is hard to be softened when heated at 250 to 300 ° C. to increase the strength of the photosensitive film after plate-making and improve the printing durability), it is treated at a high temperature. Continuous annealing is effective. The temperature T (° C.) of continuous annealing is T ≧ −300A + 460 ……………………………… (3) where A = 10 {2 (Mg%) + (Mn%)}-(Si
%) Is satisfied. Since the holding time of continuous annealing is usually as short as 0 to 60 seconds, if the formula (3) is not satisfied, S
Melting of i becomes insufficient, and simple substance Si remains to cause ink stain. In the equation (3), in relation to the Si content and the amount of Mn as an impurity, the larger the amount of Mg, the more easily Si is infiltrated during the intermediate annealing, and the lower temperature intermediate annealing is sufficient. Is shown.

【0028】次に、本発明に係る平版印刷版用アルミニ
ウム合金支持体の表面処理方法について詳細に説明す
る。
Next, the surface treatment method of the aluminum alloy support for lithographic printing plates according to the present invention will be described in detail.

【0029】本発明における砂目立て方法は、塩酸系又
は硝酸系電解液中で交流を流し、砂目立てする電解粗面
化法である。本発明においては、アルミニウム表面を金
属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研摩
球と研摩剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグ
レイン法、ナイロンブラシと研摩剤で表面を砂目立てす
るブラシグレイン法のような機械的粗面化法を電解粗面
化法と併用してもよい。
The graining method in the present invention is an electrolytic graining method of graining by passing an alternating current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. In the present invention, such as a wire brush grain method of scratching the aluminum surface with a metal wire, a ball grain method of graining the aluminum surface with a polishing ball and an abrasive, and a brush grain method of graining the surface with a nylon brush and an abrasive. The mechanical surface roughening method may be used in combination with the electrolytic surface roughening method.

【0030】電解粗面化処理に先立って、アルミニウム
表面に付着した圧延油あるいは機械的粗面化後のかみ込
んだ研摩剤(機械的粗面化を施した場合)を除去し、表
面を清浄化するための表面処理が行われる。一般的に、
圧延油除去のためにはトリクレン等の溶剤や界面活性剤
を用いて表面を清浄する方法が用いられる。又、1〜3
0%の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、アルミニウム合金
板を20〜80℃の温度で5〜250秒間浸漬してアル
カリエッチングを行い、次いで10〜30%硝酸又は硫
酸水溶液に20〜70℃の温度で5〜250秒間浸漬し
て、中和及びスマット除去を行うという方法は、圧延油
の除去並びに研摩剤の除去のいずれに対しても一般的に
用いられる。
Prior to the electrolytic surface-roughening treatment, the rolling oil adhering to the aluminum surface or the abrasive which has been bitten after the mechanical surface-roughening (when mechanically surface-roughened) is removed to clean the surface. A surface treatment is performed to convert the surface. Typically,
For removing rolling oil, a method of cleaning the surface with a solvent such as trichlene or a surfactant is used. Also, 1-3
The aluminum alloy plate is immersed in an aqueous solution of 0% sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate or the like at a temperature of 20 to 80 ° C. for 5 to 250 seconds for alkali etching, and then 10 to 30% nitric acid. Alternatively, a method of immersing in a sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 20 to 70 ° C. for 5 to 250 seconds to perform neutralization and smut removal is generally used for both removal of rolling oil and removal of abrasives. ..

【0031】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
電解粗面化処理が施される。
After cleaning the surface of this aluminum alloy plate,
Electrolytic surface roughening treatment is performed.

【0032】本発明において電解粗面化処理に使用され
る電解液は、塩酸溶液を使用する場合の濃度は0.01
〜3重量%の範囲で使用することが好ましく、0.05
〜2.5重量%であれば更に好ましい。又、硝酸溶液を
使用する場合の濃度は、0.2〜5重量%、好ましくは
0.5〜3重量%が好適である。
The electrolytic solution used for electrolytic graining treatment in the present invention has a concentration of 0.01 when a hydrochloric acid solution is used.
Is preferably used in the range of
It is even more preferable if it is up to 2.5% by weight. When the nitric acid solution is used, the concentration is 0.2 to 5% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight.

【0033】又、この電解液には必要に応じて硝酸塩、
塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド類、燐
酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸等の腐蝕抑制剤(又は
安定化剤)、砂目の均一化剤などを加えることができ
る。
If necessary, the electrolytic solution contains nitrates,
Corrosion inhibitors (or stabilizers) such as chlorides, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid and oxalic acid, and a grain leveling agent can be added.

【0034】電解液の温度は通常10〜60℃で処理さ
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に変換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。又電流密度
は5〜100A/dm2で、10〜300秒間処理する
ことが望ましい。
The temperature of the electrolytic solution is usually 10 to 60 ° C. As the alternating current used at this time, any of rectangular wave, trapezoidal wave, and sine wave can be used as long as positive and negative polarities are alternately converted. Phase alternating current can be used. Further, it is desirable that the current density is 5 to 100 A / dm 2 and the treatment is performed for 10 to 300 seconds.

【0035】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μ
mとする。0.8μmを越えると、極端に粗面化面がマ
クロピットで覆われ、これは耐刷性の低下やインキ汚れ
の発生原因となり、好ましくない。又、0.2μm未満
では、印刷版上の湿し水のコントロールができずシャド
ー部の網点部がカラミ易くなり、良好な印刷物が得られ
ない。
The surface roughness of the aluminum alloy support in the present invention is adjusted to 0.2 to 0.8 μm by adjusting the amount of electricity.
m. If it exceeds 0.8 μm, the macro-roughened surface is extremely covered with macro pits, which causes deterioration of printing durability and ink stains, which is not preferable. On the other hand, if it is less than 0.2 μm, the dampening water on the printing plate cannot be controlled, and the halftone dot portions of the shadow portion are likely to be colored, so that a good printed matter cannot be obtained.

【0036】このように砂目立てされたアルミニウム合
金は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や稀薄な
アルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着した
スマットが除去される。アルカリで除去した場合は、引
続いて清浄のため酸(硝酸又は硫酸)に浸漬して中和す
る。
In the grained aluminum alloy, the smut adhering to the surface is removed by 10 to 50% hot sulfuric acid (40 to 60 ° C.) or a dilute alkali (sodium hydroxide or the like). If removed with alkali, subsequently, for cleaning, soak in acid (nitric acid or sulfuric acid) for neutralization.

【0037】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それについで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸法も又有用で
ある。
After removing the surface smut, an anodic oxide film is provided. As the anodizing method, a conventionally well-known method can be used, but sulfuric acid is used as the most useful electrolytic solution. Then phosphoric acid is also a useful electrolyte. Further, the mixed acid method of sulfuric acid and phosphoric acid disclosed in JP-A-55-28400 is also useful.

【0038】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化
皮膜が設けられる。更にこのときの電流密度は1〜20
A/dm2が好ましい。リン酸法の場合には、5〜50
%の濃度、30〜60℃の温度で、10〜300秒間、
1〜15A/dm2の電流密度で処理される。
In the sulfuric acid method, the treatment is usually carried out with a direct current, but it is also possible to use an alternating current. The concentration of sulfuric acid is 5
Used at 30%, 5 to 25 in the temperature range of 20 to 60 ° C
Electrolytic treatment is carried out for 0 seconds, and an oxide film of 1 to 10 g / m 2 is provided on the surface. Further, the current density at this time is 1 to 20.
A / dm 2 is preferred. 5 to 50 in the case of the phosphoric acid method
% Concentration at a temperature of 30 to 60 ° C. for 10 to 300 seconds,
It is processed at a current density of 1 to 15 A / dm 2 .

【0039】このように、陽極酸化皮膜を設けた後、必
要に応じて後処理を行うことができる。例えば、英国特
許第1230447号公報に開示されたポリビニルホス
ホン酸の水溶液中に浸漬処理する方法や、米国特許第3
181461号公報に開示されたアルカリ金属珪酸塩の
水溶液に浸漬する方法が用いられる。又、必要に応じて
親水性高分子の下塗り層を設けることも可能であるが、
その後に設ける感光性物質の性質により、取捨選択され
る。
As described above, after the anodic oxide film is provided, a post-treatment can be performed if necessary. For example, a method of dipping treatment in an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid disclosed in British Patent No. 1230447 and US Pat.
The method of immersing in an aqueous solution of an alkali metal silicate disclosed in Japanese Patent No. 181461 is used. It is also possible to provide an undercoat layer of a hydrophilic polymer, if necessary.
Selection is made according to the properties of the photosensitive material provided after that.

【0040】本発明の製造方法によって製造された支持
体には、以下に例示する感光層を設けて平版印刷版とす
ることができる。
The support produced by the production method of the present invention may be provided with a photosensitive layer exemplified below to prepare a lithographic printing plate.

【0041】[I]ポリヒドロキシ系高分子化合物のo
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル及びフェノ
ール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含有する感光
層を設ける場合。
[I] o of the polyhydroxy polymer
-When providing a photosensitive layer containing a naphthoquinone diazide sulfonic acid ester and a novolac resin of a phenol / cresol mixture.

【0042】ポリヒドロキシ系高分子化合物としては、
平均分子量で1000〜7000のものが用いられ、例
えばベンゼン環上にヒドロキシ基を2個以上有する、フ
ェノール化合物(例えばレゾルシノール、ピロガロール
等)とアルデヒド化合物(例えばホルマリン、ベンズア
ルデヒド等)との重縮合物がある。この他、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−tert−ブチルフェノール−ホルムアル
デヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂が挙げられ
る。更に好適なノボラック樹脂としては、比較的高分子
量のフェノールを含むノボラック樹脂で、特開昭55−
57841号公報に開示されているフェノール−m−ク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂が好まし
い。又、露光により可視像を形成するためにo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホニルクロライド、p−ジア
ゾフェニルアミンの無機アニオン塩、トリハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ベンゾフラン環を有するトリハ
ロメチルオキサジアゾール化合物等の光によりルイス酸
を発生する化合物等が添加される。一方色素としては、
ビクトリアブルーBOH、クリスタルバイオレット、オ
イルブルー等のトリフェニルメタン色素が用いられる。
これらの成分からなる感光性組成物が固形分として、
0.5〜3.0g/m2設けられる。
As the polyhydroxy polymer compound,
A polycondensation product of a phenol compound (eg, resorcinol, pyrogallol, etc.) and an aldehyde compound (eg, formalin, benzaldehyde, etc.) having an average molecular weight of 1,000 to 7,000 and having, for example, two or more hydroxy groups on the benzene ring is used. is there. Other examples include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, and phenol-modified xylene resin. A more preferable novolak resin is a novolak resin containing a phenol having a relatively high molecular weight, which is disclosed in JP-A-55-
Phenol-m-cresol-formaldehyde novolac resins disclosed in 57841 are preferred. Further, in order to form a visible image by exposure, o-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride, inorganic anion salt of p-diazophenylamine, trihalomethyloxadiazole compound, trihalomethyloxadiazole compound having a benzofuran ring, etc. A compound or the like that generates a Lewis acid by the above light is added. On the other hand, as a pigment,
Triphenylmethane dyes such as Victoria Blue BOH, Crystal Violet and Oil Blue are used.
As the solid content of the photosensitive composition comprising these components,
0.5 to 3.0 g / m 2 is provided.

【0043】[II]ジアゾ樹脂と水酸基を有する水不溶
性かつ親油性高分子化合物を含有する感光層を設ける場
合。
[II] When a photosensitive layer containing a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound having a hydroxyl group is provided.

【0044】前述の如く、陽極酸化皮膜を設けた後、米
国特許第3181461号に開示されているアルカリ金
属シリケート浴中に浸漬する。このように処理した表面
にジアゾ樹脂のPF6塩又はBF4塩等とジアゾ樹脂の有
機塩と水酸基を有する水不溶性かつ親油性高分子化合物
を含有する感光層を設けることが好ましい。かかる感光
層を本発明による支持体表面に塗布すると、保存安定性
及び可視画性が優れ、特に高温・多湿下等の苛酷な条件
下で安定な感光性平版印刷版を得ることができる。
As described above, after forming the anodized film, it is immersed in the alkali metal silicate bath disclosed in US Pat. No. 3,181,461. It is preferred to provide a photosensitive layer containing a PF 6 salt or BF 4 salt of a diazo resin, an organic salt of a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound having a hydroxyl group on the surface thus treated. When such a photosensitive layer is coated on the surface of the support according to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive lithographic printing plate which is excellent in storage stability and visibility and is stable particularly under severe conditions such as high temperature and high humidity.

【0045】このためのジアゾ樹脂は、PF6塩又はB
4塩と有機塩から成り、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、4,4´−ビフェニルジスルホン酸、5−
スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−
5−スルホン酸、及びp−トルエンスルホン酸等の芳香
族スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン−5−スルホン酸等の水酸基含有芳香族スルホン
酸等が挙げられる。
The diazo resin for this purpose is PF 6 salt or B
Consists of F 4 salt and organic salt, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4′-biphenyldisulfonic acid, 5-
Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 1-naphthol-
Examples thereof include 5-sulfonic acid, aromatic sulfonic acid such as p-toluenesulfonic acid, and hydroxyl group-containing aromatic sulfonic acid such as 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

【0046】又水酸基含有の高分子化合物は、重量平均
分子量で5000〜500,000の化合物で例えば、
(1)N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシナフチル)メタクリルアミド
等と他のモノマーとの共重合体、(2)o−、m−、又
はp−ヒドロキシスチレンと他のモノマーとの共重合
体、(3)o−、m−、又はp−ヒドロキシフェニルメ
タクリレート等と他のモノマーとの共重合体が挙げられ
る。
The hydroxyl group-containing polymer compound is a compound having a weight average molecular weight of 5000 to 500,000, for example,
(1) A copolymer of N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxynaphthyl) methacrylamide and the like with another monomer, (2) o- , M- or p-hydroxystyrene and other monomers, and (3) o-, m- or p-hydroxyphenyl methacrylate and other monomers and other monomers.

【0047】上記モノマーとしては、例えば、 (イ)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α,β−不飽和カルボン酸。
Examples of the above-mentioned monomers include (a) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride.

【0048】(ロ)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル等のアルキルアクリレート。
(B) Alkyl acrylates such as methyl acrylate and ethyl acrylate.

【0049】(ハ)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート等のアルキルメタクリレート。
(C) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate.

【0050】(ニ)アクリルアミド、メタクリルアミド
等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド類。
(D) Acrylamide or methacrylamide such as acrylamide or methacrylamide.

【0051】(ホ)エチルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル等のビニルエステル類。
(E) Vinyl esters such as ethyl vinyl ether and hydroxyethyl vinyl ether.

【0052】(ヘ)スチレン、α−メチルスチレン等の
スチレン類。
(F) Styrenes such as styrene and α-methylstyrene.

【0053】(ト)メチルビニルケトン等のビニルケト
ン類。
(G) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone.

【0054】(チ)エチレン、プロピレン、イソプレン
等のオレフィン類。
(H) Olefins such as ethylene, propylene and isoprene.

【0055】(リ)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等が挙げられ、その他芳香族性水酸基を含有するモノマ
ーと共重合し得るモノマーであればよい。
(I) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. may be mentioned, and any other monomer may be used as long as it is copolymerizable with a monomer having an aromatic hydroxyl group.

【0056】又、感光層中に添加される油溶性染料は、
ビクトリアピュアーブルーBOH、クリスタルバイオレ
ット、ビクトリアブルー、メチルバイオレット、オイル
ブルー#603等が好ましい。これらの組成の感光層を
形成するには、フッ素系の界面活性剤、ノニオン系界面
活性剤、可塑剤(例えばジブチルフタレート、ポリエチ
レングリコール、フタル酸ジエチル、リン酸トリオクチ
ル等)及び公知の安定剤(例えば、リン酸、亜リン酸、
有機酸)等を加えて、乾燥後の塗布重量が0.5〜2.
5g/m2となるように設ける。
The oil-soluble dye added to the photosensitive layer is
Victoria Pure Blue BOH, Crystal Violet, Victoria Blue, Methyl Violet, Oil Blue # 603 and the like are preferable. To form a photosensitive layer having these compositions, a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a plasticizer (for example, dibutyl phthalate, polyethylene glycol, diethyl phthalate, trioctyl phosphate, etc.) and a known stabilizer ( For example, phosphoric acid, phosphorous acid,
Organic acid) and the like, and the coating weight after drying is 0.5 to 2.
It is provided so as to be 5 g / m 2 .

【0057】[III] カルボン酸残基又は無水カルボン酸
残基を有する重合体、付加重合性不飽和化合物及び光重
合開始剤を含有する光重合型感光性組成物からなる感光
層を設ける場合。
[III] In the case of providing a photosensitive layer made of a photopolymerizable photosensitive composition containing a polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic acid anhydride residue, an addition polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator.

【0058】光重合型感光性材料の場合には、塩酸浴で
砂目立てされた支持体表面をリン酸又はリン酸と硫酸の
混酸により陽極酸化することが好ましい。
In the case of a photopolymerizable photosensitive material, it is preferable to anodize the surface of the support grained in a hydrochloric acid bath with phosphoric acid or a mixed acid of phosphoric acid and sulfuric acid.

【0059】リン酸浴中で陽極酸化し、シリケート処理
した後、カルボン酸残基又は無水カルボン酸残基を有す
る重合体、付加重合性不飽和化合物及び光重合開始剤を
含有する光重合型感光性組成物の層を設ける。又、特開
昭60−107042号公報に開示されているような電
子写真感光体を用いた平版印刷版に用いることができ
る。
After anodic oxidation in a phosphoric acid bath and silicate treatment, a photopolymerization type photosensitive material containing a polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic acid anhydride residue, an addition polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator. A layer of the volatile composition is provided. Further, it can be used for a lithographic printing plate using an electrophotographic photoreceptor as disclosed in JP-A-60-107042.

【0060】このように形成された印刷版は、保存性が
よく、しかも、露出した非画像部のアルミニウム板表面
は、印刷インキで汚れ難く、しかも汚れたインキを迅速
に除去する良好な親水性を有しており、感光層との高い
接着力を有する。
The printing plate thus formed has good storage stability, and the exposed surface of the aluminum plate in the non-image area is hard to be contaminated with printing ink, and has good hydrophilicity for quickly removing the contaminated ink. And has a high adhesive force with the photosensitive layer.

【0061】この目的に適合するカルボン酸残基又は無
水カルボン酸残基を有する重合体としては、下記の
[A]〜[D]の中から選ばれた構造単位を有する重合
体が好ましい。
As the polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic acid anhydride residue suitable for this purpose, a polymer having a structural unit selected from the following [A] to [D] is preferable.

【0062】[0062]

【化1】 [Chemical 1]

【0063】(式中、R1およびR4は水素原子又はアル
キル基を示し、R3はフェニレン基又はヒドロキシ基を
有していてもよいアルキレン基、R5は水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、R6は置換基を有し
ていてもよいアルキル基、アリル基もしくはアリール基
又はシクロアルキル基を表し、nは0又は1を表す)よ
り具体的な構造単位としては、式(A)としてアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル安息香酸等が挙
げられ、式(B)としてマレイン酸、マレイン酸モノヒ
ドロキシアルキルエステル、マレイン酸モノシクロヘキ
シルエステル等が挙げられ、式(C)としてマレイン酸
モノアルキルアミド、マレイン酸モノヒドロキシアルキ
ルアミド等が挙げられ、式(D)として無水マレイン
酸、無水イタコン酸等が挙げられる。重合体としては通
常平均分子量1000〜100000のものを使用す
る。
(In the formula, R 1 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 3 represents a phenylene group or an alkylene group which may have a hydroxy group, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent. An optionally substituted alkyl group, R 6 represents an alkyl group which may have a substituent, an allyl group, an aryl group or a cycloalkyl group, and n represents 0 or 1) Formula (A) includes acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, vinyl benzoic acid, and the like, Formula (B) includes maleic acid, maleic acid monohydroxyalkyl ester, maleic acid monocyclohexyl ester, and the like. Examples of C) include maleic acid monoalkylamides and maleic acid monohydroxyalkylamides, and examples of formula (D) include maleic anhydride and itaconic anhydride. Is mentioned. A polymer having an average molecular weight of 1,000 to 100,000 is usually used.

【0064】付加重合性不飽和化合物は、光重合型感光
性樹脂組成物が活性光線の照射を受けた場合、相互に三
次元方向で付加重合し、不溶化をもたらすようなエチレ
ン性不飽和二重結合を有する単量体である。例えば、不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる。
The addition-polymerizable unsaturated compound is an ethylenically unsaturated double compound which, when the photopolymerizable photosensitive resin composition is irradiated with actinic rays, undergoes addition polymerization in the three-dimensional directions with each other to cause insolubilization. It is a monomer having a bond. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids, esters of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydroxy compounds, and esters of unsaturated carboxylic acids with aromatic polyhydroxy compounds.

【0065】光重合開始剤は、ベンゾイン、ベンゾイン
アルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキノン、
ミヒラーケトン等を単独もしくは組合わせて用いること
ができ、1〜3g/m2の乾燥後の塗布量になるように
設ける。
The photopolymerization initiator is benzoin, benzoin alkyl ether, benzophenone, anthraquinone,
Michler's ketone or the like can be used alone or in combination, and is provided so as to have a coating amount after drying of 1 to 3 g / m 2 .

【0066】以上のようにして平版印刷版を作製する。A lithographic printing plate is prepared as described above.

【0067】[0067]

【実施例】以下、実施例によって、本発明を具体的に説
明する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0068】実施例1 表1に示すNo.1〜No.14の合金を溶解、鋳造
し、両面を面削して厚さ500mm、幅1000mm、
長さ3500mmの鋳塊とし、これに540℃において
均質化処理を施し、400℃に加熱して熱間圧延を行っ
た後、冷間圧延を行い、連続焼鈍炉により500℃(保
持なし)で中間焼鈍を行ってから、板厚減少率80%で
仕上げ冷間圧延を施し、0.30mm厚さの合金板を得
た。
Example 1 No. 1 shown in Table 1 1-No. Melting and casting 14 alloys, chamfering on both sides, thickness 500 mm, width 1000 mm,
A slab having a length of 3500 mm was homogenized at 540 ° C., heated to 400 ° C., hot-rolled, cold-rolled, and continuously anneal furnace at 500 ° C. (without holding). After performing the intermediate annealing, finish cold rolling was performed at a plate thickness reduction rate of 80% to obtain an alloy plate having a thickness of 0.30 mm.

【0069】こうして得た合金板について、機械的性質
を調べた。又、透過電子顕微鏡(TEM)で単体のSi
の有無を調べた。
The alloy sheet thus obtained was examined for mechanical properties. In addition, a single element of Si can be observed with a transmission electron microscope (TEM).
Was checked for.

【0070】次に、前記の0.30mm厚さの合金板の
表面をパミストンと水の懸濁液中で回転ナイロンブラシ
で粗面化し、10%水酸化ナトリウム水溶液で化学的エ
ッチングを施した後、20%硝酸中で、温度20℃で中
和洗浄し、1.5%硝酸電解液で、電流密度30A/d
2、50℃、10秒間の交流電解を行った。なお、電
解時の溶液浸漬から通電までの時間は3秒であった。
Then, the surface of the alloy plate having a thickness of 0.30 mm was roughened with a rotating nylon brush in a suspension of pumice and water, and chemically etched with a 10% aqueous sodium hydroxide solution. Neutralized and washed in 20% nitric acid at a temperature of 20 ° C. and a current density of 30 A / d with a 1.5% nitric acid electrolytic solution.
AC electrolysis was carried out at m 2 of 50 ° C. for 10 seconds. In addition, the time from the solution immersion to the energization during electrolysis was 3 seconds.

【0071】引き続き15%硫酸の50℃水溶液に3分
間浸漬して表面を清浄化したのち、20%の硫酸を主成
分とする電解液中で浴温30℃で3g/dm2の酸化皮
膜を設けた。
Subsequently, the surface was cleaned by immersing it in an aqueous solution of 15% sulfuric acid at 50 ° C. for 3 minutes, and then an oxide film of 3 g / dm 2 was formed at a bath temperature of 30 ° C. in an electrolytic solution containing 20% sulfuric acid as a main component. Provided.

【0072】このようにして、作製したサンプルに下記
の感光層を乾燥時の塗布量が2.5g/m2となるよう
に設けた。
Thus prepared sample was provided with the following photosensitive layer so that the coating amount when dried was 2.5 g / m 2 .

【0073】 ナフトキノン(1,2)−ジアジド−(2)−5− スルホン酸クロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂 とのエステル化合物 1重量部 フェノールとm−、p−混合クレゾールと ホルムアルデヒド共重縮合樹脂 3.5重量部 2−トリクロロメチル−5−[β−(2´− ベンゾフリル)ビニル]−1,3,4−オキサジアゾール 0.03重量部 ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ケ谷化学製) 0.1重量部 p−ブチルフェノールベンズアルデヒドノボラック樹脂の o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル 0.05重量部 メチルセロソルブ 27重量部 3KWのメタルハライドランプを用いて、1mの距離
で、50秒間露光し、4%メタケイ酸ナトリウム水溶液
によって25℃、45秒間現像して、水洗乾燥後、ガム
引きし、平版印刷版を得た。
Ester compound of naphthoquinone (1,2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid chloride and resorcin-benzaldehyde resin 1 part by weight Phenol and m-, p-mixed cresol and formaldehyde copolycondensation resin 3. 5 parts by weight 2-trichloromethyl-5- [β- (2′-benzofuryl) vinyl] -1,3,4-oxadiazole 0.03 parts by weight Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by weight p-Butylphenol benzaldehyde novolac resin o-naphthoquinonediazide sulfonate 0.05 part by weight Methyl cellosolve 27 parts by weight Using a 3 KW metal halide lamp, exposed at a distance of 1 m for 50 seconds, and then exposed to 4% sodium metasilicate aqueous solution for 25 seconds. Develop at 45 ℃ for 45 seconds, wash and dry After that, gumming was performed to obtain a lithographic printing plate.

【0074】印刷版表面のストリーク(筋模様)を観察
した後、これらの印刷版をオフセット印刷機KORに取
付け、非画像部の汚れ(インキ汚れ)及び耐刷性(印刷
物が不鮮明になるまでの印刷枚数で表わす)を調べた。
電気化学的粗面化によるピットパターンは、電子顕微鏡
(SEM)で表面観察した。
After observing streaks (streak patterns) on the surface of the printing plate, these printing plates were mounted on an offset printing machine KOR, and stains (ink stains) on non-image areas and printing durability (until the printed matter became unclear) (Represented by the number of prints).
The surface of the pit pattern formed by electrochemical graining was observed with an electron microscope (SEM).

【0075】以上の結果を表2に示す。The above results are shown in Table 2.

【0076】本発明例No.1〜7の場合、引張強さが
136MPa以上と高く、単体Siが観察されず、イン
キ汚れも極めて少ない。また、ピットパターンも微細均
一で良好であり、印刷枚数が10〜11万枚と多くて耐
刷性が良く、ストリークもない。
Inventive Example No. In the case of 1 to 7, the tensile strength was as high as 136 MPa or more, simple substance Si was not observed, and the ink stain was extremely small. Further, the pit pattern is fine and uniform, and the number of printed sheets is as large as 100,000 to 110,000 so that the printing durability is good and there are no streaks.

【0077】比較例No.8はFeが少ないために、強
度が低く、ピットパターンもやや不良となり、印刷枚数
も少ない。No.9はFeが多いためにピットパターン
が不良であり、印刷枚数が少ない。No.10はSiが
少ないために強度が低く、ピットパターンもやや不良
で、印刷枚数も少ない。No.11はSiが多いために
単体Siが多く、インキ汚れが多い。No.12はMg
を含まず、(1)式を満足しないため単体Siがやや多
く、インキ汚れが多い。No.13はMgが多いために
ピットパターンが微細になり過ぎ、印刷枚数が少ない。
No.14はTiを含まないためにストリークが発生し
ている。No.15はTiが多いためにピットパターン
が不均一になり、印刷枚数が少ない。No.16はCu
が多いために局部的エッチング不足が生じ、印刷枚数が
少ない。No.17はMnが多いためにピットパターン
が不均一になり印刷枚数が少ない。No.18は(Mg
%)−(Cu%)}≧−0.01を満たさないため、局
部的エッチング不足が生じ、印刷枚数が少ない。
Comparative Example No. In No. 8, since Fe is small, the strength is low, the pit pattern is slightly defective, and the number of printed sheets is small. No. No. 9 has a large pit pattern because of a large amount of Fe, and the number of printed sheets is small. No. No. 10 has a low strength due to a small amount of Si, the pit pattern is somewhat defective, and the number of printed sheets is small. No. Since No. 11 has a large amount of Si, it has a large amount of Si alone and has a large amount of ink contamination. No. 12 is Mg
Since it does not contain the formula (1) and does not satisfy the formula (1), it contains a little amount of Si as a single substance and a lot of ink stains. No. In No. 13, since the amount of Mg is large, the pit pattern becomes too fine and the number of printed sheets is small.
No. Since No. 14 does not contain Ti, streaks occur. No. In No. 15, since the amount of Ti is large, the pit pattern becomes non-uniform, and the number of printed sheets is small. No. 16 is Cu
However, the number of printed sheets is small due to lack of local etching. No. In No. 17, since the Mn is large, the pit pattern becomes non-uniform and the number of printed sheets is small. No. 18 is (Mg
%) − (Cu%)} ≧ −0.01 is not satisfied, so local etching shortage occurs and the number of printed sheets is small.

【0078】実施例2 表1のNo.2、3、4、11、12の合金について実
施例1と同様な工程で0.30mm厚さの板を得た。但
し、ここでは中間焼鈍の温度を420〜540℃の範囲
で変化させた。得られた合金板に実施例1と同一の処理
を施し、印刷版を得、オフセット印刷を行ってインキ汚
れ性を調べた。
Example 2 No. 1 in Table 1 A plate having a thickness of 0.30 mm was obtained in the same process as in Example 1 for the alloys 2, 3, 4, 11, and 12. However, here, the temperature of the intermediate annealing was changed in the range of 420 to 540 ° C. The obtained alloy plate was subjected to the same treatment as in Example 1 to obtain a printing plate, and offset printing was performed to examine the ink stain resistance.

【0079】結果を表3に示し、A=10{2(Mg
%)+(Mn%)}−(Si%)と中間焼鈍温度との関
係で図示したものを図1に示す。本発明合金No.2、
3、4の場合、比較合金No.11、12と比べてかな
り低温で耐インキ汚れ性が良好となっている。また、 A≧0 T≧−300A+460 ここでA=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si
%) で囲まれた領域で耐インキ汚れ性が良好である。
The results are shown in Table 3, where A = 10 {2 (Mg
%) + (Mn%)}-(Si%) and the relationship between the intermediate annealing temperature are shown in FIG. Inventive alloy No. 2,
In the case of Nos. 3 and 4, comparative alloy No. Compared with Nos. 11 and 12, the ink stain resistance is good at a considerably low temperature. Further, A ≧ 0 T ≧ −300A + 460 where A = 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} − (Si
%) Shows good ink stain resistance.

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】[0081]

【表2】 [Table 2]

【0082】[0082]

【表3】 [Table 3]

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したように本発明合金によれ
ば、中間焼鈍の温度を高くすることなく、すなわち通板
速度を低くして能率を低下させることなく、単体Siを
溶け込ませ、インキ汚れの問題を解消できる。
As described above, according to the alloy of the present invention, simple Si is melted and ink stains are caused without increasing the temperature of the intermediate annealing, that is, without reducing the stripping speed to reduce the efficiency. The problem of can be solved.

【0084】更に、処理条件が変動しても良好な電気化
学的粗面化が行なわれるようになり、処理条件の制約が
大幅に少なくなる。
Furthermore, even if the processing conditions change, good electrochemical graining can be performed, and the restrictions on the processing conditions are greatly reduced.

【0085】以上のとおり、本発明によれば大きな経済
的効果、省エネルギ−効果を奏することができる。
As described above, according to the present invention, a great economic effect and energy saving effect can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における合金組成、中間焼鈍温度と耐イ
ンキ汚れ性の関係を示すグラフ。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between alloy composition, intermediate annealing temperature and ink stain resistance in the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木戸 開 東京都港区新橋5丁目11番3号 住友軽金 属工業株式会社内 (72)発明者 堀田 吉則 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フィルム株式会社内 (72)発明者 榊 博和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フィルム株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kaido Kido 5-11-3 Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Sumitomo Light Metal Industries, Ltd. (72) Inventor Yoshinori Hotta 4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Fuji In Shasha Film Co., Ltd. (72) Hirokazu Sakaki, 4000 Kawajiri, Yoshida Town, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Fuji Shashin Film Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Fe:0.1〜1.0%(重量基準、以
下同様) Si:0.03〜0.30% Mg:0.002%以上、0.05%未満 Ti:0.1%以下 Cu:0.020%以下 残部Al及び不可避不純物 からなり、かつ、不純物としてのMnの含有量が0.0
5%未満で、下記(1) 式および(2)式を満足することを
特徴とする平版印刷版用アルミニウム合金。 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1) (Mg%)−(Cu%)≧−0.01…………………(2)
1. Fe: 0.1 to 1.0% (weight basis, the same applies below) Si: 0.03 to 0.30% Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Ti: 0.1 % Or less Cu: 0.020% or less Residual Al and inevitable impurities, and the content of Mn as impurities is 0.0
An aluminum alloy for a lithographic printing plate which is less than 5% and satisfies the following formulas (1) and (2). 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) …… (1) (Mg%) − (Cu%) ≧ −0.01 ……………… (2)
【請求項2】 Fe:0.1〜1.0% Si:0.03〜0.30% Mg:0.002%以上、0.05%未満 Ti:0.1%以下 Cu:0.020%以下 残部Al及び不可避不純物 からなり、かつ、不純物としてのMnの含有量が0.0
5%未満で、下記(1) 式および(2)式を満足する合金の
鋳塊を、均質化処理、熱間圧延、冷間圧延の後、下記
(3) 式を満足する温度で、連続焼鈍炉を用いて中間焼鈍
を行い、再結晶させ、その後最終冷間圧延を行うことを
特徴とする平版印刷版用アルミニウム合金の製造方法。 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1) (Mg%)−(Cu%)≧−0.01…………………(2) T≧−300A+460…………………………………(3) 但し、上記(3) 式中、 T:中間焼鈍温度(℃) A=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si%) である。
2. Fe: 0.1 to 1.0% Si: 0.03 to 0.30% Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Ti: 0.1% or less Cu: 0.020 % Or less The balance consists of Al and unavoidable impurities, and the content of Mn as impurities is 0.0
After less than 5%, the ingot of the alloy satisfying the following formulas (1) and (2) is homogenized, hot-rolled, cold-rolled, and then
A method for producing an aluminum alloy for a lithographic printing plate, which comprises performing intermediate annealing in a continuous annealing furnace at a temperature satisfying the expression (3), recrystallization, and then final cold rolling. 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) …… (1) (Mg%) − (Cu%) ≧ −0.01 ……………… (2) T ≧ − 300A + 460 ………………………… (3) However, in the above formula (3), T: intermediate annealing temperature (° C.) A = 10 {2 (Mg%) + (Mn%)}- (Si%).
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