JP2717042B2 - Aluminum alloy for lithographic printing plate and method for producing the same - Google Patents

Aluminum alloy for lithographic printing plate and method for producing the same

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JP2717042B2
JP2717042B2 JP11291192A JP11291192A JP2717042B2 JP 2717042 B2 JP2717042 B2 JP 2717042B2 JP 11291192 A JP11291192 A JP 11291192A JP 11291192 A JP11291192 A JP 11291192A JP 2717042 B2 JP2717042 B2 JP 2717042B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は耐インキ汚れ性に優れた
平版印刷版用アルミニウム合金及びその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum alloy for lithographic printing plates having excellent ink stain resistance and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版の支持体用アルミニウム合金
にはAl−Fe−Si系合金(例えば特公昭55−28
874、特開昭58−42493、特開昭62−146
694、特公平1−35910)、更にCuを含む合金
(例えば特開昭62−148295)あるいはCuとT
iを含む合金(例えば特開昭60−215725、特開
昭60−215728、特開昭61−272357)な
どが用いられている。これらの合金は従来連続鋳造し、
面削、均質化処理の後、熱間圧延を行いながらコイルに
巻き取り、その後冷間圧延、中間焼鈍および冷間圧延の
工程を経て、平版印刷版支持体用アルミニウム合金とさ
れる。この際、均質化処理の後、室温まで冷却すること
はなく、そのまま熱間圧延を行うこともあれば、均質化
処理後、室温まで冷却した後、再加熱して熱間圧延を行
うこともある。後者の場合、面削と均質化処理の順序を
逆にすることもある。
2. Description of the Related Art Al-Fe-Si alloys (for example, Japanese Patent Publication No. 55-28)
874, JP-A-58-42493, JP-A-62-146
694, JP-B 1-35910), an alloy containing Cu (for example, JP-A-62-148295), or Cu and T
Alloys containing i (for example, JP-A-60-215725, JP-A-60-215728, and JP-A-61-272357) are used. These alloys are conventionally continuously cast,
After facing and homogenizing, the coil is wound around a coil while performing hot rolling, and then subjected to the steps of cold rolling, intermediate annealing, and cold rolling to obtain an aluminum alloy for a lithographic printing plate support. At this time, after the homogenization treatment, there is no need to cool down to room temperature, hot rolling may be performed as it is, or after homogenization treatment, after cooling to room temperature, re-heating and hot rolling may be performed. is there. In the latter case, the order of facing and homogenizing may be reversed.

【0003】一方、平版印刷版支持体用アルミニウム合
金は上述のように製造された後、機械的粗面化、化学的
粗面化および電気化学的粗面化などの方法により粗面化
される。機械的粗面化は、アルミニウム表面を金属ワイ
ヤでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研摩球と研摩
剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法
あるいはナイロンブラシと研摩剤で表面を砂目立てする
ブラシグレイン法などによって行われる。化学的粗面化
は酸またはアルカリ溶液中でエッチングすることによっ
て行われる。また電気化学的粗面化は塩酸系溶液または
硝酸系溶液中で交流電解することによって行われる。
On the other hand, an aluminum alloy for a lithographic printing plate support is manufactured as described above and then roughened by a method such as mechanical roughening, chemical roughening and electrochemical roughening. . Mechanical surface roughening can be performed by wire brush graining, where the aluminum surface is scratched with a metal wire, ball graining, which uses an abrasive ball and abrasive to grain the aluminum surface, or brush graining, which uses a nylon brush and abrasive to grain the surface. Done by Chemical surface roughening is performed by etching in an acid or alkali solution. Electrochemical surface roughening is carried out by alternating current electrolysis in a hydrochloric acid solution or a nitric acid solution.

【0004】以上のように粗面化されたアルミニウム合
金の表面は陽極酸化され、必要に応じて親水性処理がな
され、その上に感光層を設けて平版印刷版とされる。
[0004] The surface of the aluminum alloy roughened as described above is anodized, subjected to a hydrophilic treatment as required, and a photosensitive layer is provided thereon to form a lithographic printing plate.

【0005】上述のように製造された平版印刷版を用い
て印刷を行うと、非画像部の汚れ(インキ汚れ)が激し
いことがある。インキ汚れの原因のひとつとして、アル
ミニウム合金の中に単体Siが多く存在すると、これが
陽極酸化皮膜の欠陥を生じさせ、その部分の親水性を低
下させることになり、その結果インキ汚れを増大させる
ことがわかっている。
[0005] When printing is performed using the lithographic printing plate manufactured as described above, the non-image portion (ink stain) may be severe. As one of the causes of ink stains, if there is a large amount of elemental Si in the aluminum alloy, this will cause defects in the anodic oxide film and reduce the hydrophilicity of that part, resulting in an increase in ink stains I know.

【0006】この問題に対する対策としては、アルミニ
ウム合金の中の単体Siを少なくすることが有効である
(特開昭62−146694、特開昭62−14829
5)。そして、具体的な方法としては、中間焼鈍時に連
続焼鈍装置によって400〜600℃に加熱した後、1
50℃/sec以上の冷却速度で100℃以下まで冷却
することにより単体Siをマトリクス中に溶け込ませる
方法があり(特開昭62−146694)、また鋳塊を
均熱処理した後、430℃以下の温度まで50℃/hr
以下の平均冷却速度で冷却するか、又は350〜450
℃の温度で30分以上保持してから熱間圧延を行う方法
が提唱されている(特開昭62−148295)。
As a countermeasure against this problem, it is effective to reduce the amount of elemental Si in the aluminum alloy (Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-146694 and 62-14829).
5). And as a specific method, after heating to 400-600 degreeC by the continuous annealing apparatus at the time of intermediate annealing,
There is a method of dissolving the elemental Si into the matrix by cooling at a cooling rate of 50 ° C./sec or more to 100 ° C. or less (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-146694). Up to 50 ° C / hr
Cool at the following average cooling rate or 350-450
A method has been proposed in which hot rolling is performed after holding at a temperature of 30 ° C. for 30 minutes or more (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-148295).

【0007】しかし、前者(特開昭62−14669
4)の場合、中間焼鈍の温度が低いと単体Siの溶け込
みが不十分となり、インキ汚れを完全に解消するまでに
至っていない。中間焼鈍の温度が高いと単体Siの溶け
込みは十分となるが、連続焼鈍の通板速度が低くなり、
能率の大幅な低下を招くという問題がある。また、後者
(特開昭62−148295)の場合、この方法のみで
は単体Siの量が十分には少なくならず、近年の高品質
を要求する印刷分野においてインキ汚れの問題を解消す
るに至っていない。
However, the former (JP-A-62-14669)
In the case of 4), if the temperature of the intermediate annealing is low, the incorporation of the elemental Si becomes insufficient, and the ink stain has not been completely eliminated. If the temperature of the intermediate annealing is high, the penetration of the elemental Si becomes sufficient, but the passing speed of the continuous annealing decreases,
There is a problem that the efficiency is greatly reduced. In the latter case (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-148295), the amount of the elemental Si is not sufficiently reduced by this method alone, and the problem of ink smearing in recent printing fields requiring high quality has not been solved. .

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、中間焼鈍の
温度を高くすることなく、すなわち通板速度を低下させ
ることなく単体のSiを溶け込ませ、インキ汚れのない
アルミニウム合金及びその製造方法を提供しようとする
ものである。
An object of the present invention is to provide an aluminum alloy free from ink stains by dissolving simple Si without raising the temperature of intermediate annealing, that is, without lowering the sheet passing speed, and a method for producing the same. It is something to offer.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは単体Siの
析出量に及ぼす添加元素の影響について検討し、Si含
有量及び不純物としてのMn量に応じて適量のMgを添
加すれば単体Siの析出が生じにくくなり、耐インキ汚
れ性が良好になることを見出し、本発明を完成した。更
に、Mg量、Si量及び不純物としてのMn量に応じて
中間焼鈍温度を決めれば、耐インキ汚れ性が良好なアル
ミニウム合金が製造できることを見出し、本発明を完成
した。
Means for Solving the Problems The present inventors studied the effect of the added element on the amount of elemental Si deposited, and found that if an appropriate amount of Mg was added in accordance with the Si content and the amount of Mn as an impurity, the elemental Si was added. Have been found to be less likely to occur, and the ink stain resistance has been improved, and the present invention has been completed. Furthermore, they have found that if the intermediate annealing temperature is determined in accordance with the amount of Mg, the amount of Si, and the amount of Mn as an impurity, an aluminum alloy having good ink stain resistance can be produced, and the present invention has been completed.

【0010】すなわち、本発明の要旨は、Fe:0.1
〜1.0%、Si:0.03〜0.30%、Mg:0.
002%以上、0.05%未満、Ti:0.1%以下と
し、不純物としてのMnの含有量が0.05%未満で、
かつ、Mg、Mn、Siからなる関係式を満足するアル
ミニウム合金を第1の発明とし、その合金の鋳塊を、均
質化処理、熱間圧延、冷間圧延の後、Mg、Mn、Si
からなる関係式を満足する温度で、連続焼鈍炉を用いて
中間焼鈍を行い、再結晶させ、その後最終冷間圧延を行
う方法である。
That is, the gist of the present invention is that Fe: 0.1
1.0 to 1.0%, Si: 0.03 to 0.30%, Mg: 0.
002% or more and less than 0.05%, Ti: 0.1% or less, and the content of Mn as an impurity is less than 0.05%,
In addition, an aluminum alloy satisfying the relational expression consisting of Mg, Mn, and Si is defined as a first invention, and the ingot of the alloy is subjected to homogenization treatment, hot rolling, and cold rolling, and then to Mg, Mn, and Si.
This is a method in which intermediate annealing is performed using a continuous annealing furnace at a temperature satisfying the relational expression, and recrystallization is performed, and then final cold rolling is performed.

【0011】[0011]

【作用】以下、各条件について詳細に説明する。The following is a detailed description of each condition.

【0012】(1) Fe:0.1〜1.0% Feは合金の強度を上げるとともに微細析出物を生成
し、電気化学的粗面化によるビットを微細にする。その
結果、耐刷性を向上させる。0.1%未満では効果が十
分でなく、1.0%を越えると粗大晶出物が多くなり逆
にピットが不均一となる。
(1) Fe: 0.1 to 1.0% Fe increases the strength of the alloy and forms fine precipitates, thereby making the bit finer due to electrochemical surface roughening. As a result, the printing durability is improved. If it is less than 0.1%, the effect is not sufficient, and if it exceeds 1.0%, coarse crystals are increased and pits become uneven.

【0013】(2) Si:0.03〜0.30% Siは合金の強度を上げるとともにAl−Fe−Si化
合物を形成し、電気化学的粗面化によるピットの微細化
に寄与する。その結果、耐刷性を向上させる。0.03
%未満では効果が十分でなく、0.30%を越えると耐
インキ汚れ性が劣化する。
(2) Si: 0.03 to 0.30% Si increases the strength of the alloy and forms an Al—Fe—Si compound, which contributes to finer pits due to electrochemical surface roughening. As a result, the printing durability is improved. 0.03
%, The effect is not sufficient, and if it exceeds 0.30%, the ink stain resistance deteriorates.

【0014】(3) Mg:0.002%以上0.05%未
満 MgはSiと化合物を形成し、単体Siとしての析出を
抑制する。そして単体Siの析出が生ずる場合も析出量
を少なくするので、中間焼鈍時の溶入化が容易になる。
0.002%未満では効果が十分でない。Mgが0.0
5%以上になると、電気化学的粗面化の際のピットが微
細になり過ぎ、耐刷性が不良となる。
(3) Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Mg forms a compound with Si and suppresses precipitation as elemental Si. Further, even when precipitation of elemental Si occurs, the amount of precipitation is reduced, so that penetration during intermediate annealing becomes easy.
If less than 0.002%, the effect is not sufficient. Mg is 0.0
If it is 5% or more, pits at the time of electrochemical surface roughening become too fine, and the printing durability becomes poor.

【0015】(4) Ti:0.1%以下 アルミニウム中の不純物であるGaは電気化学的粗面化
によるピットの形状を歪め、耐刷性を害する。Tiはこ
のようなGaの作用を抑制し、その結果、ピットが微細
な円形となり、耐刷性が向上する。また、Tiは鋳塊の
結晶粒を微細にし、その結果印刷版としての処理を行っ
たときの筋模様 (ストリーク)の発生を防止する。
(4) Ti: 0.1% or less Ga, which is an impurity in aluminum, distorts the shape of pits due to electrochemical surface roughening and impairs printing durability. Ti suppresses such an action of Ga, and as a result, the pit becomes a fine circle, and the printing durability is improved. Further, Ti makes the crystal grains of the ingot fine, and as a result, prevents the occurrence of streaks when the printing plate is processed.

【0016】一方、Ti量が0.1%を越えるとAl−
Ti系の粗大な化合物を形成し、ピットを粗大にし、耐
刷性を低下させる。
On the other hand, if the Ti content exceeds 0.1%, Al-
It forms a Ti-based coarse compound, coarsens pits, and reduces printing durability.

【0017】(5) 不純物としてのMn:0.05%未満 不純物としてのMnが多くなると電気化学的粗面化のピ
ットが独立して不均一になり、耐刷性が不良となる。し
かしながらMnはSiと化合物を形成して単体Siの析
出を抑制する効果を有しており、(6) に記述するように
不純物Mn量が多くなると、添加すべきMg量が少なく
てもよくなる。
(5) Mn as an impurity: less than 0.05% When the Mn as an impurity increases, the pits of the electrochemical surface roughening become non-uniform independently, resulting in poor printing durability. However, Mn has the effect of forming a compound with Si and suppressing the precipitation of elemental Si. As described in (6), when the amount of impurity Mn increases, the amount of Mg to be added may be reduced.

【0018】 (6) 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1) Mg量はSi含有量と不純物としてのMn量に対して
(1) 式を満足する必要がある。(1) 式を満足しない場
合、Siと化合物を形成するMgが不足し、単体Siの
析出が生じやすくなって、インキ汚れが生ずる。
(6) 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) (1) The Mg content is based on the Si content and the Mn content as impurities.
Equation (1) must be satisfied. If the formula (1) is not satisfied, Mg which forms a compound with Si is insufficient, and elemental Si is likely to precipitate, resulting in ink smearing.

【0019】(7) その他の元素 その他の元素としては、本発明の効果を損なわない範囲
でCu、Zn、Crなどを含んでもよい。
(7) Other Elements Other elements may include Cu, Zn, Cr and the like as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0020】(8) 製造方法 本発明のアルミニウム合金は鋳造−均質化処理−熱間圧
延−冷間圧延−中間焼鈍−仕上げ冷間圧延の工程により
製造される。但し、均質化処理と熱間圧延前の加熱とは
兼ねることもできる。即ち、均質化処理を行った後、そ
のまま熱間圧延を行ったり、又所定の温度まで冷却して
から熱間圧延を行うこともできる。
(8) Manufacturing method The aluminum alloy of the present invention is manufactured by the steps of casting, homogenization, hot rolling, cold rolling, intermediate annealing, and finish cold rolling. However, the homogenization treatment and the heating before hot rolling can also be performed. That is, after the homogenization treatment, hot rolling can be performed as it is, or hot rolling can be performed after cooling to a predetermined temperature.

【0021】中間焼鈍は材料を再結晶させるために行
い、通常300〜600℃で行われる。製版後の耐バー
ニング性(製版後感光膜の強度を高め、耐刷性を向上さ
せるために250〜300℃で加熱をする際、材料が軟
化しにくい性質)を高めるためには高温で処理する連続
焼鈍が有効である。連続焼鈍の温度T(℃)は T≧−300A+460…………………………………(2) ここでA=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si
%) を満足する条件で行われる。連続焼鈍の保持時間は通常
0〜60秒程度と短いので、(2) 式が満足されないとS
iの溶け込みが不十分となり、単体Siが残存してイン
キ汚れを生ずる。なお、(2) 式はSi含有量及び不純物
としてのMn量との関係でMg量が多くなればなるほど
中間焼鈍時にSiの溶入化が生じやすくなり、より低温
の中間焼鈍で十分となることを示している。
[0021] Intermediate annealing is performed to recrystallize the material, and is usually performed at 300 to 600 ° C. Treat at a high temperature in order to improve the burning resistance after plate making (the material is hard to soften when heated at 250 to 300 ° C. in order to increase the strength of the photosensitive film after plate making and improve the printing durability). Continuous annealing is effective. The temperature T (° C.) of the continuous annealing is as follows: T ≧ −300 A + 460 (2) where A = 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} − (Si
%). Since the holding time of the continuous annealing is usually short, about 0 to 60 seconds, if the equation (2) is not satisfied, S
Insufficient melting of i occurs, and the elemental Si remains to cause ink stains. Equation (2) indicates that as the Mg content increases in relation to the Si content and the Mn content as an impurity, the penetration of Si becomes more likely to occur during the intermediate annealing, and the lower temperature intermediate annealing is sufficient. Is shown.

【0022】次に、本発明に係る平版印刷版用アルミニ
ウム合金支持体の表面処理方法について詳細に説明す
る。
Next, the method for treating the surface of the aluminum alloy support for a lithographic printing plate according to the present invention will be described in detail.

【0023】本発明における砂目立て方法は、塩酸系又
は硝酸系電解液中で交流を流し、砂目立てする電解粗面
化法である。本発明においては、アルミニウム表面を金
属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研摩
球と研摩剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグ
レイン法、ナイロンブラシと研摩剤で表面を砂目立てす
るブラシグレイン法のような機械的粗面化法を電解粗面
化法と併用してもよい。
The graining method in the present invention is an electrolytic graining method in which an alternating current is flowed in a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution to grain. In the present invention, such as a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive, and a brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive. The mechanical surface roughening method may be used in combination with the electrolytic surface roughening method.

【0024】電解粗面化処理に先立って、アルミニウム
表面に付着した圧延油あるいは機械的粗面化後のかみ込
んだ研摩剤(機械的粗面化を施した場合)を除去し、表
面を清浄化するための表面処理が行われる。一般的に、
圧延油除去のためにはトリクレン等の溶剤や界面活性剤
を用いて表面を清浄する方法が用いられる。又、1〜3
0%の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、アルミニウム合金
板を20〜80℃の温度で5〜250秒間浸漬してアル
カリエッチングを行い、次いで10〜30%硝酸又は硫
酸水溶液に20〜70℃の温度で5〜250秒間浸漬し
て、中和及びスマット除去を行うという方法は、圧延油
の除去並びに研摩剤の除去のいずれに対しても一般的に
用いられる。
Prior to the electrolytic surface-roughening treatment, the rolling oil adhering to the aluminum surface or the abrasive which has been mechanically roughened (if mechanical surface-roughening is applied) is removed to clean the surface. A surface treatment is performed to convert the surface into a surface. Typically,
For removing the rolling oil, a method of cleaning the surface using a solvent such as trichlene or a surfactant is used. Also, 1-3
The aluminum alloy plate is immersed in an aqueous solution of 0% sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate or the like at a temperature of 20 to 80 ° C. for 5 to 250 seconds to perform alkali etching, and then 10 to 30% nitric acid Alternatively, the method of immersing in a sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 20 to 70 ° C. for 5 to 250 seconds to neutralize and remove the smut is generally used for removing both the rolling oil and the abrasive. .

【0025】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
電解粗面化処理が施される。
After cleaning the surface of the aluminum alloy plate,
An electrolytic surface roughening treatment is performed.

【0026】本発明において電解粗面化処理に使用され
る電解液は、塩酸溶液を使用する場合の濃度は0.01
〜3重量%の範囲で使用することが好ましく、0.05
〜2.5重量%であれば更に好ましい。又、硝酸溶液を
使用する場合の濃度は、0.2〜5重量%、好ましくは
0.5〜3重量%が好適である。
In the present invention, the electrolytic solution used for the electrolytic surface roughening treatment has a concentration of 0.01 when a hydrochloric acid solution is used.
33% by weight, preferably 0.05 to 3% by weight.
More preferably, it is in the range of ~ 2.5% by weight. When a nitric acid solution is used, the concentration is 0.2 to 5% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight.

【0027】又、この電解液には必要に応じて硝酸塩、
塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド類、燐
酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸等の腐蝕抑制剤(又は
安定化剤)、砂目の均一化剤などを加えることができ
る。
The electrolyte may contain a nitrate, if necessary.
Corrosion inhibitors (or stabilizers) such as chlorides, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, and oxalic acid, and grain uniforming agents can be added.

【0028】電解液の温度は通常10〜60℃で処理さ
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に変換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。又電流密度
は5〜100A/dm2で、10〜300秒間処理する
ことが望ましい。
The temperature of the electrolytic solution is usually from 10 to 60 ° C. As the alternating current used at this time, any of a rectangular wave, a trapezoidal wave, and a sine wave can be used as long as the positive and negative polarities are alternately converted. Phase alternating current can be used. The current density is preferably 5 to 100 A / dm 2 , and the treatment is preferably performed for 10 to 300 seconds.

【0029】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μ
mとする。0.8μmを越えると、極端に粗面化面がマ
クロピットで覆われ、これは耐刷性の低下やインキ汚れ
の発生原因となり、好ましくない。又、0.2μm未満
では、印刷版上の湿し水のコントロールができずシャド
ー部の網点部がカラミ易くなり、良好な印刷物が得られ
ない。
The surface roughness of the aluminum alloy support in the present invention is adjusted according to the quantity of electricity, and is 0.2 to 0.8 μm.
m. When the thickness exceeds 0.8 μm, the extremely roughened surface is extremely covered with macro pits, which causes a decrease in printing durability and causes ink stains, which is not preferable. On the other hand, if the thickness is less than 0.2 μm, the dampening solution on the printing plate cannot be controlled, so that the halftone dot portion of the shadow portion tends to be limp, and a good printed matter cannot be obtained.

【0030】このように砂目立てされたアルミニウム合
金は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や稀薄な
アルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着した
スマットが除去される。アルカリで除去した場合は、引
続いて清浄のため酸(硝酸又は硫酸)に浸漬して中和す
る。
The smut adhered to the surface of the grained aluminum alloy is removed with 10 to 50% hot sulfuric acid (40 to 60 ° C.) or diluted alkali (such as sodium hydroxide). When removed with alkali, it is subsequently neutralized by immersion in an acid (nitric acid or sulfuric acid) for cleaning.

【0031】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それについで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸法も又有用で
ある。
After de-smutting the surface, an anodic oxide coating is provided. As the anodic oxidation method, a conventionally well-known method can be used, but sulfuric acid is used as the most useful electrolytic solution. Subsequently, phosphoric acid is also a useful electrolyte. Further, the mixed acid method of sulfuric acid and phosphoric acid disclosed in JP-A-55-28400 is also useful.

【0032】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化
皮膜が設けられる。更にこのときの電流密度は1〜20
A/dm2が好ましい。リン酸法の場合には、5〜50
%の濃度、30〜60℃の温度で、10〜300秒間、
1〜15A/dm2の電流密度で処理される。
In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can also be used. The concentration of sulfuric acid is 5
Used at 30%, 5-25 in a temperature range of 20-60 ° C
Electrolytic treatment is performed for 0 second to provide an oxide film of 1 to 10 g / m 2 on the surface. Further, the current density at this time is 1 to 20
A / dm 2 is preferred. In the case of the phosphoric acid method, 5 to 50
% At a temperature of 30 to 60 ° C. for 10 to 300 seconds,
It is processed at a current density of 1 to 15 A / dm 2 .

【0033】このように、陽極酸化皮膜を設けた後、必
要に応じて後処理を行うことができる。例えば、英国特
許第1230447号公報に開示されたポリビニルホス
ホン酸の水溶液中に浸漬処理する方法や、米国特許第3
181461号公報に開示されたアルカリ金属珪酸塩の
水溶液に浸漬する方法が用いられる。又、必要に応じて
親水性高分子の下塗り層を設けることも可能であるが、
その後に設ける感光性物質の性質により、取捨選択され
る。
After providing the anodic oxide film in this manner, post-treatment can be performed as required. For example, a method of immersion treatment in an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid disclosed in British Patent No. 1230447, US Pat.
A method of dipping in an aqueous solution of an alkali metal silicate disclosed in Japanese Patent No. 181461 is used. It is also possible to provide a hydrophilic polymer undercoat layer if necessary,
It is selected depending on the properties of the photosensitive material provided thereafter.

【0034】本発明の製造方法によって製造された支持
体には、以下に例示する感光層を設けて平版印刷版とす
ることができる。
The support produced by the production method of the present invention can be provided with a photosensitive layer as exemplified below to form a lithographic printing plate.

【0035】[I]ポリヒドロキシ系高分子化合物のo
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル及びフェノ
ール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含有する感光
層を設ける場合。
[I] o of the polyhydroxy polymer compound
When a photosensitive layer containing a naphthoquinonediazidesulfonic acid ester and a novolak resin of a mixture of phenol and cresol is provided.

【0036】ポリヒドロキシ系高分子化合物としては、
平均分子量で1000〜7000のものが用いられ、例
えばベンゼン環上にヒドロキシ基を2個以上有する、フ
ェノール化合物(例えばレゾルシノール、ピロガロール
等)とアルデヒド化合物(例えばホルマリン、ベンズア
ルデヒド等)との重縮合物がある。この他、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−tert−ブチルフェノール−ホルムアル
デヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂が挙げられ
る。更に好適なノボラック樹脂としては、比較的高分子
量のフェノールを含むノボラック樹脂で、特開昭55−
57841号公報に開示されているフェノール−m−ク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂が好まし
い。又、露光により可視像を形成するためにo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホニルクロライド、p−ジア
ゾフェニルアミンの無機アニオン塩、トリハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ベンゾフラン環を有するトリハ
ロメチルオキサジアゾール化合物等の光によりルイス酸
を発生する化合物等が添加される。一方色素としては、
ビクトリアブルーBOH、クリスタルバイオレット、オ
イルブルー等のトリフェニルメタン色素が用いられる。
これらの成分からなる感光性組成物が固形分として、
0.5〜3.0g/m2設けられる。
As the polyhydroxy polymer compound,
Those having an average molecular weight of 1,000 to 7000 are used. For example, a polycondensate of a phenol compound (eg, resorcinol, pyrogallol, etc.) and an aldehyde compound (eg, formalin, benzaldehyde, etc.) having two or more hydroxy groups on a benzene ring is used. is there. Other examples include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, and phenol-modified xylene resin. A more preferred novolak resin is a novolak resin containing a relatively high molecular weight phenol.
Phenol-m-cresol-formaldehyde novolak resin disclosed in US Pat. Also, in order to form a visible image upon exposure, o-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride, an inorganic anion salt of p-diazophenylamine, a trihalomethyloxadiazole compound, a trihalomethyloxadiazole compound having a benzofuran ring, etc. A compound that generates a Lewis acid by the light of the above is added. On the other hand, as a dye,
Triphenylmethane dyes such as Victoria Blue BOH, Crystal Violet, and Oil Blue are used.
As a photosensitive composition comprising these components as a solid content,
0.5 to 3.0 g / m 2 is provided.

【0037】[II]ジアゾ樹脂と水酸基を有する水不溶
性かつ親油性高分子化合物を含有する感光層を設ける場
合。
[II] When a photosensitive layer containing a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound having a hydroxyl group is provided.

【0038】前述の如く、陽極酸化皮膜を設けた後、米
国特許第3181461号に開示されているアルカリ金
属シリケート浴中に浸漬する。このように処理した表面
にジアゾ樹脂のPF6塩又はBF4等とジアゾ樹脂の有機
塩と水酸基を有する水不溶性かつ親油性高分子化合物を
含有する感光層を設けることが好ましい。かかる感光層
を本発明による支持体表面に塗布すると、保存安定性及
び可視画性が優れ、特に高温・多湿下等の苛酷な条件下
で安定な感光性平版印刷版を得ることができる。
As described above, after the anodic oxide film is provided, it is immersed in an alkali metal silicate bath disclosed in US Pat. No. 3,181,461. It is preferable to provide a photosensitive layer containing a water-insoluble and lipophilic high molecular compound having a hydroxyl group and a PF 6 salt or BF 4 of a diazo resin, an organic salt of a diazo resin, or the like on the surface thus treated. When such a photosensitive layer is coated on the surface of the support according to the present invention, a photosensitive lithographic printing plate having excellent storage stability and visibility, and particularly stable under severe conditions such as high temperature and high humidity can be obtained.

【0039】このためのジアゾ樹脂は、PF6塩又はB
4塩と有機塩から成り、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、4,4´−ビフェニルジスルホン酸、5−
スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−
5−スルホン酸、及びp−トルエンスルホン酸等の芳香
族スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン−5−スルホン酸等の水酸基含有芳香族スルホン
酸等が挙げられる。
The diazo resin for this purpose is PF 6 salt or B
Consisting of F 4 salt and an organic salt, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4′-biphenyldisulfonic acid, 5-
Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 1-naphthol
Examples thereof include aromatic sulfonic acids such as 5-sulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, and aromatic sulfonic acids containing a hydroxyl group such as 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

【0040】又水酸基含有の高分子化合物は、重量平均
分子量で5000〜500,000の化合物で例えば、
(1)N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシナフチル)メタクリルアミド
等と他のモノマーとの共重合体、(2)o−、m−、又
はp−ヒドロキシスチレンと他のモノマーとの共重合
体、(3)o−、m−、又はp−ヒドロキシフェニルメ
タクリレート等と他のモノマーとの共重合体が挙げられ
る。
The hydroxyl-containing polymer compound is a compound having a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, for example,
(1) a copolymer of N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxynaphthyl) methacrylamide and other monomers, (2) o- And (3) copolymers of o-, m- or p-hydroxyphenyl methacrylate and other monomers with other monomers.

【0041】上記モノマーとしては、例えば、 (イ)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α,β−不飽和カルボン酸。
Examples of the monomer include (a) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride.

【0042】(ロ)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル等のアルキルアクリレート。
(Ii) Alkyl acrylates such as methyl acrylate and ethyl acrylate.

【0043】(ハ)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート等のアルキルメタクリレート。
(C) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate.

【0044】(ニ)アクリルアミド、メタクリルアミド
等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド類。
(D) Acrylamide or methacrylamides such as acrylamide and methacrylamide.

【0045】(ホ)エチルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル等のビニルエステル類。
(E) Vinyl esters such as ethyl vinyl ether and hydroxyethyl vinyl ether.

【0046】(ヘ)スチレン、α−メチルスチレン等の
スチレン類。
(F) Styrenes such as styrene and α-methylstyrene.

【0047】(ト)メチルビニルケトン等のビニルケト
ン類。
(G) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone.

【0048】(チ)エチレン、プロピレン、イソプレン
等のオレフィン類。
(H) Olefins such as ethylene, propylene and isoprene.

【0049】(リ)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等が挙げられ、その他芳香族性水酸基を含有するモノマ
ーと共重合し得るモノマーであればよい。
(Ii) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like, and any other monomer which can be copolymerized with a monomer containing an aromatic hydroxyl group.

【0050】又、感光層中に添加される油溶性染料は、
ビクトリアピュアーブルーBOH、クリスタルバイオレ
ット、ビクトリアブルー、メチルバイオレット、オイル
ブルー#603等が好ましい。これらの組成の感光層を
形成するには、フッ素系の界面活性剤、ノニオン系界面
活性剤、可塑剤(例えばジブチルフタレート、ポリエチ
レングリコール、フタル酸ジエチル、リン酸トリオクチ
ル等)及び公知の安定剤(例えば、リン酸、亜リン酸、
有機酸)等を加えて、乾燥後の塗布重量が0.5〜2.
5g/m2となるように設ける。
The oil-soluble dye added to the photosensitive layer is
Preferred are Victoria Pure Blue BOH, Crystal Violet, Victoria Blue, Methyl Violet, Oil Blue # 603 and the like. In order to form a photosensitive layer having these compositions, a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a plasticizer (eg, dibutyl phthalate, polyethylene glycol, diethyl phthalate, trioctyl phosphate, etc.) and a known stabilizer ( For example, phosphoric acid, phosphorous acid,
Organic acid) and the like, and the coating weight after drying is 0.5-2.
It is provided to be 5 g / m 2 .

【0051】[III] カルボン酸残基又は無水カルボン酸
残基を有する重合体、付加重合性不飽和化合物及び光重
合開始剤を含有する光重合型感光性組成物からなる感光
層を設ける場合。
[III] A case where a photosensitive layer comprising a photopolymerizable photosensitive composition containing a polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic anhydride residue, an addition polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator is provided.

【0052】光重合型感光性材料の場合には、塩酸浴で
砂目立てされた支持体表面をリン酸又はリン酸と硫酸の
混酸により陽極酸化することが好ましい。
In the case of a photopolymerizable photosensitive material, the surface of the support grained in a hydrochloric acid bath is preferably anodized with phosphoric acid or a mixed acid of phosphoric acid and sulfuric acid.

【0053】リン酸浴中で陽極酸化し、シリケート処理
した後、カルボン酸残基又は無水カルボン酸残基を有す
る重合体、付加重合性不飽和化合物及び光重合開始剤を
含有する光重合型感光性組成物の層を設ける。又、特開
昭60−107042号公報に開示されているような電
子写真感光体を用いた平版印刷版に用いることができ
る。
After anodic oxidation in a phosphoric acid bath and silicate treatment, a photopolymerization type photosensitive polymer containing a polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic anhydride residue, an addition-polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator. A layer of a hydrophilic composition is provided. Further, it can be used for a lithographic printing plate using an electrophotographic photosensitive member as disclosed in JP-A-60-107042.

【0054】このように形成された印刷版は、保存性が
よく、しかも、露出した非画像部のアルミニウム板表面
は、印刷インキで汚れ難く、しかも汚れたインキを迅速
に除去する良好な親水性を有しており、感光層との高い
接着力を有する。
The printing plate thus formed has good storability, and the surface of the exposed aluminum plate in the non-image area is hardly stained with printing ink, and has good hydrophilicity to quickly remove the stained ink. And has high adhesive strength to the photosensitive layer.

【0055】この目的に適合するカルボン酸残基又は無
水カルボン酸残基を有する重合体としては、下記の
[A]〜[D]の中から選ばれた構造単位を有する重合
体が好ましい。
The polymer having a carboxylic acid residue or a carboxylic anhydride residue suitable for this purpose is preferably a polymer having a structural unit selected from the following [A] to [D].

【0056】[0056]

【化1】 Embedded image

【0057】(式中、R1およびR4は水素原子又はアル
キル基を示し、R3はフェニレン基又はヒドロキシ基を
有していてもよいアルキレン基、R5は水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、R6は置換基を有し
ていてもよいアルキル基、アリル基もしくはアリール基
又はシクロアルキル基を表し、nは0又は1を表す)よ
り具体的な構造単位としては、式(A)としてアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル安息香酸等が挙
げられ、式(B)としてマレイン酸、マレイン酸モノヒ
ドロキシアルキルエステル、マレイン酸モノシクロヘキ
シルエステル等が挙げられ、式(C)としてマレイン酸
モノアルキルアミド、マレイン酸モノヒドロキシアルキ
ルアミド等が挙げられ、式(D)として無水マレイン
酸、無水イタコン酸等が挙げられる。重合体としては通
常平均分子量1000〜100000のものを使用す
る。
(Wherein R 1 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 3 represents an alkylene group which may have a phenylene group or a hydroxy group, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent An optionally substituted alkyl group, R 6 represents an optionally substituted alkyl group, an allyl group or an aryl group or a cycloalkyl group, and n represents 0 or 1). The formula (A) includes acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, vinylbenzoic acid, and the like, and the formula (B) includes maleic acid, monohydroxyalkyl maleate, monocyclohexyl maleate, and the like. Examples of C) include maleic acid monoalkylamides and maleic acid monohydroxyalkylamides. Formula (D) includes maleic anhydride, itaconic anhydride and the like. Is mentioned. As the polymer, those having an average molecular weight of 1,000 to 100,000 are usually used.

【0058】付加重合性不飽和化合物は、光重合型感光
性樹脂組成物が活性光線の照射を受けた場合、相互に三
次元方向で付加重合し、不溶化をもたらすようなエチレ
ン性不飽和二重結合を有する単量体である。例えば、不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる。
The addition-polymerizable unsaturated compound is an ethylenically unsaturated double compound which, when the photopolymerizable photosensitive resin composition is irradiated with actinic rays, mutually undergoes addition polymerization in three-dimensional directions to cause insolubilization. It is a monomer having a bond. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds, and the like.

【0059】光重合開始剤は、ベンゾイン、ベンゾイン
アルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキノン、
ミヒラーケトン等を単独もしくは組合わせて用いること
ができ、1〜3g/m2の乾燥後の塗布量になるように
設ける。
The photopolymerization initiator includes benzoin, benzoin alkyl ether, benzophenone, anthraquinone,
Michler's ketone or the like can be used alone or in combination, and is provided so as to have a coating amount after drying of 1 to 3 g / m 2 .

【0060】以上のようにして平版印刷版を作製する。A lithographic printing plate is manufactured as described above.

【0061】[0061]

【実施例】以下、実施例によって、本発明を具体適に説
明する。
EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to examples.

【0062】実施例1 表1に示すNo.1〜No.14の合金を溶解、鋳造
し、両面を面削して厚さ500mm、幅1000mm、
長さ3500mmの鋳塊とし、これに540℃において
均質化処理を施し、400℃に加熱して熱間圧延を行っ
た後、冷間圧延を行い、連続焼鈍炉により500℃(保
持なし)で中間焼鈍を行ってから、板厚減少率80%で
仕上げ冷間圧延を施し、0.30mm厚さの合金板を得
た。
Example 1 No. 1 shown in Table 1 1 to No. The alloy of No. 14 was melted and cast, and both surfaces were chamfered to a thickness of 500 mm and a width of 1000 mm.
A 3500 mm long ingot was subjected to a homogenization treatment at 540 ° C., heated to 400 ° C., hot-rolled, then cold-rolled, and heated at 500 ° C. (without holding) in a continuous annealing furnace. After the intermediate annealing, finish cold rolling was performed at a sheet thickness reduction rate of 80% to obtain a 0.30 mm thick alloy sheet.

【0063】こうして得た合金板について、機械的性質
を調べた。又、透過電子顕微鏡(TEM)で単体のSi
の有無を調べた。
The mechanical properties of the alloy plate thus obtained were examined. In addition, a single Si sample was observed with a transmission electron microscope (TEM).
Was examined.

【0064】次に、前記の0.30mm厚さの合金板の
表面をパミストンと水の懸濁液中で回転ナイロンブラシ
で粗面化し、10%水酸化ナトリウム水溶液で化学的エ
ッチングを施した後、20%硝酸中で、温度20℃で中
和洗浄し、1.5%硝酸電解液で、電流密度30A/d
2、50℃、10秒間の交流電解を行った。
Next, the surface of the alloy plate having a thickness of 0.30 mm was roughened with a rotating nylon brush in a suspension of pumicestone and water, and then chemically etched with a 10% aqueous sodium hydroxide solution. , 20% nitric acid, neutralization and washing at a temperature of 20 ° C, and 1.5% nitric acid electrolyte at a current density of 30 A / d
Alternating current electrolysis was performed at 50 ° C. for 10 seconds at m 2 .

【0065】引き続き15%硫酸の50℃水溶液に3分
間浸漬して表面を清浄化したのち、20%の硫酸を主成
分とする電解液中で浴温30℃で3g/dm2の酸化皮
膜を設けた。
Subsequently, the surface was cleaned by immersion in a 50% aqueous solution of 15% sulfuric acid for 3 minutes, and then an oxide film of 3 g / dm 2 was applied in an electrolyte containing 20% sulfuric acid at a bath temperature of 30 ° C. Provided.

【0066】このようにして、作製したサンプルに下記
の感光層を乾燥時の塗布量が2.5g/m2となるよう
に設けた。
The thus prepared sample was provided with the following photosensitive layer so that the coating amount upon drying was 2.5 g / m 2 .

【0067】 ナフトキノン(1,2)−ジアジド−(2)−5− スルホン酸クロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂 とのエステル化合物 1重量部 フェノールとm−、p−混合クレゾールと ホルムアルデヒド共重縮合樹脂 3.5重量部 2−トリクロロメチル−5−[β−(2´− ベンゾフリル)ビニル]−1,3,4−オキサジアゾール 0.03重量部 ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ケ谷化学製) 0.1重量部 p−ブチルフェノールベンズアルデヒドノボラック樹脂の o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル 0.05重量部 メチルセロソルブ 27重量部 3KWのメタルハライドランプを用いて、1mの距離
で、50秒間露光し、4%メタケイ酸ナトリウム水溶液
によって25℃、45秒間現像して、水洗乾燥後、ガム
引きし、平版印刷版を得た。
1. Naphthoquinone (1,2) -diazide- (2) -5 ester compound of sulfonic acid chloride and resorcin-benzaldehyde resin 1 part by weight Phenol and m-, p-mixed cresol and formaldehyde copolycondensation resin 5 parts by weight 2-trichloromethyl-5- [β- (2′-benzofuryl) vinyl] -1,3,4-oxadiazole 0.03 parts by weight Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical) 0.1 part by weight o-Naphthoquinonediazidosulfonic acid ester of p-butylphenol benzaldehyde novolak resin 0.05 parts by weight Methyl cellosolve 27 parts by weight Using a 3 KW metal halide lamp at a distance of 1 m for 50 seconds, and 25% aqueous solution of 4% sodium metasilicate. Develop at 45 ° C for 45 seconds, wash and dry Thereafter, gumming was performed to obtain a lithographic printing plate.

【0068】印刷版表面のストリーク(筋模様)を観察
した後、これらの印刷版をオフセット印刷機KORに取
付け、非画像部の汚れ(インキ汚れ)及び耐刷性(印刷
物が不鮮明になるまでの印刷枚数で表わす)を調べた。
電気化学的粗面化によるピットパターンは、電子顕微鏡
(SEM)で表面観察した。
After observing streaks (streaks) on the surface of the printing plate, these printing plates were attached to an offset printing machine KOR, and stains (ink stains) in the non-image area and printing durability (a period until the printed matter became unclear) were obtained. (Represented by the number of prints).
The pit pattern due to the electrochemical surface roughening was observed with an electron microscope (SEM).

【0069】以上の結果を表2に示す。Table 2 shows the above results.

【0070】本発明例No.1〜5の場合、引張強さが
137MPa以上と高く、単体Siが観察されず、イン
キ汚れも極めて少ない。また、ピットパターンも微細均
一で良好であり、印刷枚数が10〜11万枚と多くて耐
刷性が良く、ストリークもない。
Inventive Example No. In the case of 1 to 5, the tensile strength is as high as 137 MPa or more, no elemental Si is observed, and the ink stain is extremely small. Also, the pit pattern is fine and uniform, and the number of printed sheets is as large as 100,000 to 110,000.

【0071】比較例No.6はFeが少ないために、強
度が低く、ピットパターンもやや不良となり、印刷枚数
も少ない。No.7はFeが多いためにピットパターン
が不良であり、印刷枚数が少ない。No.8はSiが少
ないために強度が低く、ピットパターンもやや不良で、
印刷枚数も少ない。No.9はSiが多いために単体S
iが多く、インキ汚れが多い。No.10はMgを含ま
ず、(a)式を満足しないため単体Siがやや多く、イ
ンキ汚れが多い。No.11はMgが多いためにピット
パターンが微細になり過ぎ、印刷枚数が少ない。No.
12はTiを含まないためにストリークが発生してい
る。No.13はTiが多いためにピットパターンが不
均一になり、印刷枚数が少ない。No.14はMnが多
いためにピットパターンが不均一になり印刷枚数が少な
い。
Comparative Example No. Sample No. 6 has a low strength, a slightly poor pit pattern, and a small number of printed sheets due to a small amount of Fe. No. No. 7 has a poor pit pattern due to a large amount of Fe, and the number of printed sheets is small. No. No. 8 has low strength due to low Si, and the pit pattern is slightly poor.
The number of prints is also small. No. 9 is a simple substance S because of much Si
i is large and ink stains are large. No. Since No. 10 does not contain Mg and does not satisfy the expression (a), the amount of simple substance Si is slightly large, and the ink stain is large. No. No. 11 has too much Mg, so the pit pattern is too fine, and the number of printed sheets is small. No.
No. 12 has a streak because it does not contain Ti. No. In No. 13, the pit pattern becomes uneven because of a large amount of Ti, and the number of printed sheets is small. No. In No. 14, since the Mn is large, the pit pattern becomes uneven and the number of printed sheets is small.

【0072】実施例2 表1のNo.1、2、3、9、10の合金について実施
例1と同様な工程で0.30mm厚さの板を得た。但
し、ここでは中間焼鈍の温度を420〜540℃の範囲
で変化させた。得られた合金板に実施例1と同一の処理
を施し、印刷版を得、オフセット印刷を行ってインキ汚
れ性を調べた。
Example 2 No. 2 in Table 1 A plate having a thickness of 0.30 mm was obtained in the same manner as in Example 1 for the alloys 1, 2, 3, 9, and 10. Here, the temperature of the intermediate annealing was changed in the range of 420 to 540 ° C. The same processing as in Example 1 was performed on the obtained alloy plate, a printing plate was obtained, and offset printing was performed to examine the ink stainability.

【0073】結果を表3に示し、A=10{2(Mg
%)+(Mn%)}−(Si%)と中間焼鈍温度との関
係で図示したものを図1に示す。本発明合金No.1、
2、3の場合、比較合金No.9、10と比べてかなり
低温で耐インキ汚れ性が良好となっている。また、 A≧0 T≧−300A+460 ここでA=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si
%) で囲まれた領域で耐インキ汚れ性が良好である。
The results are shown in Table 3, where A = 10 {2 (Mg
%) + (Mn%)}-(Si%) and the relationship between the intermediate annealing temperature are shown in FIG. The alloy No. of the present invention. 1,
In the case of Comparative Examples 2 and 3, 9 and 10, the ink stain resistance is excellent at a considerably low temperature. A ≧ 0 T ≧ −300 A + 460 where A = 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} − (Si
%), The ink stain resistance is good in the area surrounded by.

【0074】[0074]

【表1】 [Table 1]

【0075】[0075]

【表2】 [Table 2]

【0076】[0076]

【表3】 [Table 3]

【0077】[0077]

【発明の効果】以上説明したように本発明合金によれ
ば、中間焼鈍の温度を高くすることなく、すなわち通板
速度を低くして能率を低下させることなく、単体Siを
溶け込ませ、インキ汚れの問題を解消できる。その経済
的効果、省エネルギー効果は大きい。
As described above, according to the alloy of the present invention, it is possible to dissolve the elemental Si without increasing the temperature of the intermediate annealing, that is, without lowering the sheet passing speed and lowering the efficiency, and to contaminate the ink. Problem can be solved. Its economic and energy-saving effects are great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における合金組成、中間焼鈍温度と耐イ
ンキ汚れ性の関係を示すグラフ。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the alloy composition, the intermediate annealing temperature and the ink stain resistance in the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土田 信 東京都港区新橋5丁目11番3号 住友軽 金属工業株式会社内 (72)発明者 木戸 開 東京都港区新橋5丁目11番3号 住友軽 金属工業株式会社内 (72)発明者 堀田 吉則 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士 写真フィルム株式会社内 (72)発明者 榊 博和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士 写真フィルム株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Shin Nobuchi 5-11-3 Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Inside Sumitomo Light Metal Industries Co., Ltd. (72) Inventor Kido Open 5-11-3 Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Sumitomo Light Metal Industries, Ltd. (72) Inventor Yoshinori Hotta 4000, Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Fuji Photo Film Co., Ltd. (72) Hirokazu Sakaki 4000, Kawajiri, Yoshida-cho, Harihara-gun, Shizuoka Fuji Fuji Photo Film Stock In company

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 Fe:0.1〜1.0%(重量基準、以
下同様) Si:0.03〜0.30% Mg:0.002%以上、0.05%未満 Ti:0.1%以下 残部Al及び不可避不純物からなり、かつ、不純物とし
てのMnの含有量が0.05%未満で、下記(1) 式を満
足することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム合
金。 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1)
1. Fe: 0.1 to 1.0% (weight basis, the same applies hereinafter) Si: 0.03 to 0.30% Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Ti: 0.1 % Or less An aluminum alloy for a lithographic printing plate, characterized in that the balance consists of Al and inevitable impurities, the content of Mn as impurities is less than 0.05%, and the following formula (1) is satisfied. 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) (1)
【請求項2】 Fe:0.1〜1.0% Si:0.03〜0.30% Mg:0.002%以上、0.05%未満 Ti:0.1%以下 残部Al及び不可避不純物からなり、かつ、不純物とし
てのMnの含有量が0.05%未満で、下記(1) 式を満
足する合金の鋳塊を、均質化処理、熱間圧延、冷間圧延
の後、下記(2) 式を満足する温度で、連続焼鈍炉を用い
て中間焼鈍を行い、再結晶させ、その後最終冷間圧延を
行うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム合金の
製造方法。 10{2(Mg%)+(Mn%)}≧(Si%)……(1) T≧−300A+460…………………………………(2) 但し、上記(2) 式中、 T:中間焼鈍温度(℃) A=10{2(Mg%)+(Mn%)}−(Si%) である。
2. Fe: 0.1 to 1.0% Si: 0.03 to 0.30% Mg: 0.002% or more and less than 0.05% Ti: 0.1% or less Residual Al and unavoidable impurities And an ingot having an Mn content of less than 0.05% as an impurity and satisfying the following formula (1) is homogenized, hot-rolled, and cold-rolled. 2) A method for producing an aluminum alloy for a lithographic printing plate, comprising performing intermediate annealing using a continuous annealing furnace at a temperature satisfying the expression, recrystallizing, and then performing final cold rolling. 10 {2 (Mg%) + (Mn%)} ≧ (Si%) (1) T ≧ −300 A + 460 (2) where the above formula (2) is used. Medium, T: Intermediate annealing temperature (° C.) A = 10 2 (Mg%) + (Mn%)}-(Si%)
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