JPH05305473A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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Publication number
JPH05305473A
JPH05305473A JP4113544A JP11354492A JPH05305473A JP H05305473 A JPH05305473 A JP H05305473A JP 4113544 A JP4113544 A JP 4113544A JP 11354492 A JP11354492 A JP 11354492A JP H05305473 A JPH05305473 A JP H05305473A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser beam
laser processing
mirror
processing head
Prior art date
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Pending
Application number
JP4113544A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeji Arai
武二 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Amada Co Ltd
Original Assignee
Amada Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Amada Co Ltd filed Critical Amada Co Ltd
Priority to JP4113544A priority Critical patent/JPH05305473A/en
Publication of JPH05305473A publication Critical patent/JPH05305473A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To always nearly parallelize a laser beam without originating in the divergence angle of the laser beam emitted from a laser generator and to have this parallelized laser beam taken in a laser beam machining head without reference to the length of a light path. CONSTITUTION:The laser beam machine 1 is provided with the laser machining head 11 which is freely movable at least to one axial direction, and is also provided with a laser beam parallelization processing device 17 near the exit of the laser generator 15 so as to always nearly parallelize the laser beam LB without reference to the variation of the length of the light path in the laser beam LB from the emission out of the laser generator 15 to the laser beam machining head 11. Also, the laser beam parallelization processing device 17 is constituted of a polarizing mirror 21, convex mirror 23 and concave mirror 25.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、レーザ加工ヘッドが
少なくとも一軸方向へ移動可能なレーザ加工装置に係
り、さらに詳細には、レーザ加工ヘッドの移動によって
レーザビームの光路長が変化しても、レーザ加工ヘッド
に取込まれるレーザビームの径を常にほぼ平行にし、延
いてはワークに照射されるレーザビームのスポット径と
集光点位置を常にほぼ一定に保持することのできるレー
ザ加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus in which a laser processing head is movable in at least one axis direction, and more specifically, even if the optical path length of a laser beam is changed by the movement of the laser processing head, The present invention relates to a laser processing apparatus capable of keeping a diameter of a laser beam taken in by a laser processing head substantially parallel to each other, and keeping a spot diameter and a focal point position of a laser beam applied to a work substantially constant.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ加工ヘッドが移動する形式のレー
ザ加工装置においては、レーザ発振器から前記レーザ加
工ヘッドに内装した集光レンズまでの距離が大きく変化
するので、レーザビームの発散角に起因して、上記集光
レンズの位置において、レーザビームの径が大幅に変化
することが知られている。このレーザビームの径の変化
に起因して焦点位置が変化し、ワークの所定位置に照射
されるレーザビームのスポット径が変化して加工精度に
影響を与える。
2. Description of the Related Art In a laser processing apparatus of a type in which a laser processing head moves, the distance from a laser oscillator to a condenser lens inside the laser processing head changes greatly, which is caused by the divergence angle of a laser beam. It is known that the diameter of the laser beam changes significantly at the position of the condenser lens. The focus position changes due to the change in the diameter of the laser beam, and the spot diameter of the laser beam irradiated to a predetermined position on the work changes, which affects the processing accuracy.

【0003】そこで、従来は、例えば特公平1−550
76号公報に示されているように、レーザ加工ヘッドが
移動した場合であっても、レーザ発振器からレーザ加工
ヘッドに至る光路長が常に一定になるように、格別の機
構を採用することがある。
Therefore, conventionally, for example, Japanese Patent Publication No. 1-550
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 76-76, a special mechanism may be adopted so that the optical path length from the laser oscillator to the laser processing head is always constant even when the laser processing head moves. ..

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】レーザ加工ヘッドの移
動位置に拘りなく光路長を常にほぼ一定に保持しようと
する構成においては、レーザビームを反転屈曲するため
の反転器を格別に設けて、この反転器を、レーザ加工ヘ
ッドの移動に関連して移動せしめる必要がある。
In a structure in which the optical path length is always kept substantially constant regardless of the moving position of the laser processing head, a reversing device for reversing and bending the laser beam is specially provided. The invertor needs to be moved relative to the movement of the laser processing head.

【0005】したがって、前記反転器を備える分だけ構
成が大型になり、また関連移動せしめるための機構又は
制御装置が必要であり、全体的構成を複雑化する等の問
題がある。
Therefore, the size of the structure is increased due to the provision of the reversing device, and a mechanism or a control device for performing the related movement is required, which causes a problem that the overall structure is complicated.

【0006】この発明の目的は、上記問題点を改善する
ために、レーザ発振器から発振されるレーザビームの発
散角に起因せずにレーザビームの径を常にほぼ平行化し
て、光路長の変化に関係なくこの平行化されたレーザビ
ームをレーザ加工ヘッドに取り込まれるようにしてワー
クの所定位置に照射されるレーザビームのスポット径を
ほぼ一定に保持して加工精度良好なレーザ加工を行ない
得るようにしたレーザ加工装置を提供することにある。
In order to improve the above problems, an object of the present invention is to make the diameter of a laser beam almost always parallel without causing the divergence angle of a laser beam emitted from a laser oscillator, and to change the optical path length. Regardless of this, the collimated laser beam is taken into the laser processing head so that the spot diameter of the laser beam irradiated to a predetermined position on the workpiece can be held substantially constant and laser processing with good processing accuracy can be performed. The present invention is to provide a laser processing device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、レーザ加工ヘッドを少なくとも一軸方
向へ移動自在に備えてなるレーザ加工装置にして、レー
ザ発振器から発振されたレーザビームの径を一定の倍率
に拡大すると共に、レーザ加工ヘッドに至るまでの光路
長の変化に関係なくレーザビームの径をほぼ平行にする
レーザビーム平行化処理装置を前記レーザ発振器の出口
近傍に設けてなることを特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a laser processing apparatus having a laser processing head movably in at least one axial direction, and a laser beam oscillated from a laser oscillator. A laser beam collimating device is provided in the vicinity of the exit of the laser oscillator, which enlarges the diameter to a constant magnification and makes the diameter of the laser beam substantially parallel regardless of the change in the optical path length up to the laser processing head. It is characterized by that.

【0008】前記レーザ加工装置において、前記レーザ
ビーム平行化処理装置が、円偏光鏡または平面鏡,凸面
鏡および凹面鏡で構成されていること、並びに、前記レ
ーザ加工ヘッドが移動してワークにレーザ加工される加
工範囲のほぼ真中部に、拡大されたレーザビームのビー
ムウエストが位置すべく、前記レーザビーム平行化処理
装置の凹面鏡を選択して設けてなることが望ましいもの
である。
In the laser processing apparatus, the laser beam parallelization processing apparatus is composed of a circular polarization mirror or a plane mirror, a convex mirror and a concave mirror, and the laser processing head is moved to perform laser processing on a work. It is desirable that the concave mirror of the laser beam collimating apparatus is selected and provided so that the beam waist of the expanded laser beam is located in the substantially middle part of the processing range.

【0009】[0009]

【作用】この発明のレーザ加工装置を採用することによ
り、レーザ発振器から発振されたレーザビームを、例え
ばレーザ発振器の出口近傍に設けたレーザ光平行化処理
装置を通すことによって、レーザビームは一定の倍率に
拡大されると共にほぼ平行化されてレーザ加工ヘッドに
取り込まれる。このレーザ加工ヘッドが移動してレーザ
発振器からレーザ加工ヘッドまでのレーザ光路長が変化
してもレーザ光平行化処理装置を出たレーザビームはレ
ーザビームの光路長に関係なく常にほぼ平行化されてい
るので、レーザ加工ヘッドからワークに照射されるレー
ザ光のスポット径と集光点位置は常にほぼ一定に保持さ
れてレーザ加工される。したがって、ワークに加工精度
良好な加工が行なわれる。
By adopting the laser processing apparatus of the present invention, the laser beam oscillated from the laser oscillator is passed through a laser beam collimating processing device provided near the exit of the laser oscillator, for example, so that the laser beam is kept constant. It is magnified to a magnification and is almost parallelized, and is taken into the laser processing head. Even if this laser processing head moves and the laser optical path length from the laser oscillator to the laser processing head changes, the laser beam that exits the laser beam collimator will always be almost parallel regardless of the optical path length of the laser beam. Since the laser beam is applied to the work from the laser processing head, the spot diameter and the focal point position of the laser beam are always kept substantially constant for laser processing. Therefore, the work is processed with good processing accuracy.

【0010】[0010]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0011】レーザ加工装置には、レーザ加工ヘッドを
Y軸方向へ移動自在に備え、ワークテーブルをX軸方向
へ移動自在に備えた形式及びレーザ加工ヘッドをX軸及
びY軸方向へ移動自在に備えた形式や、レーザ加工ヘッ
ドをX,Y,Zの3軸方向へ移動自在に備えた形式など
があるが、本実施例においては、レーザ加工ヘッドをY
軸方向へ移動自在に備え、ワークテーブルをX軸方向へ
移動自在に備えた形式を例にとって説明する。
The laser processing apparatus includes a laser processing head movably in the Y-axis direction and a work table movably in the X-axis direction, and a laser processing head movably in the X-axis and Y-axis directions. There are a type provided with the laser processing head and a type provided with a laser processing head movable in three axial directions of X, Y, and Z. In the present embodiment, the laser processing head is Y
An example will be described in which the work table is movably provided in the axial direction and the work table is movably provided in the X-axis direction.

【0012】図1を参照するに、レーザ加工装置1はX
軸方向(図1において左右方向)へ移動自在な加工テー
ブル3を備えている。この加工テーブル3は図示省略の
例えばX軸サーボモータ,ボールねじなどによってX軸
方向へ移動自在となっているものである。しかも、この
加工テーブル3上には加工すべきワークWが載置され、
さらに図示省略のワーククランプによってクランプされ
固定されている。
Referring to FIG. 1, the laser processing apparatus 1 has an X
A processing table 3 is provided which is movable in the axial direction (left and right direction in FIG. 1). The processing table 3 is movable in the X-axis direction by, for example, an X-axis servomotor, a ball screw, etc., which are not shown. Moreover, the work W to be machined is placed on the machining table 3,
Further, it is clamped and fixed by a work clamp (not shown).

【0013】この加工テーブル3に跨って門型形状のフ
レーム5が立設されている。このフレーム5にはY軸方
向(図1において上下方向)へ移動自在なY軸キャレッ
ジ7が設けられている。しかも、このY軸キャレッジ7
は図示省略の例えばY軸サーボモータ,ボールねじなど
によってY軸方向へ移動自在となっているものである。
また、Y軸キャレッジ7の上端にはベンドミラー9が取
付けられている。
A gate-shaped frame 5 is erected on the processing table 3. The frame 5 is provided with a Y-axis carriage 7 which is movable in the Y-axis direction (vertical direction in FIG. 1). Moreover, this Y-axis carriage 7
Is movable in the Y-axis direction by a Y-axis servomotor, a ball screw, etc., which are not shown.
A bend mirror 9 is attached to the upper end of the Y-axis carriage 7.

【0014】前記Y軸キャレッジ7の下部にはZ軸方向
(図1において紙面に対して直交した方向)へ移動自在
なレーザ加工ヘッド11が設けられている。このレーザ
加工ヘッド11は図示省略の例えばZ軸サーボモータ,
ウォーム,ウォームギヤなどによってZ軸方向へ移動自
在となっているものである。しかも、レーザ加工ヘッド
11内にはレーザビームLBを集光する集光レンズが備
えられていて、この集光レンズで集光されたレーザビー
ムLBはワークWの所望位置へ照射される。また、レー
ザ加工ヘッド11の下端にはアシストガスをワークWの
所望位置へ噴射せしめるためのレーザノズルが設けられ
ている。
Below the Y-axis carriage 7, there is provided a laser processing head 11 which is movable in the Z-axis direction (direction orthogonal to the paper surface in FIG. 1). The laser processing head 11 is, for example, a Z-axis servomotor (not shown),
It is movable in the Z-axis direction by a worm, a worm gear, etc. Moreover, the laser processing head 11 is provided with a condenser lens for condensing the laser beam LB, and the laser beam LB condensed by the condenser lens is applied to a desired position of the work W. A laser nozzle for ejecting the assist gas to a desired position on the work W is provided at the lower end of the laser processing head 11.

【0015】前記フレーム5における上部の一端例えば
図1の下端にはベンドミラー13が設けられていると共
に、フレーム5の例えば図1において右側には離隔して
レーザ発振器15が配置されている。このレーザ発振器
15の出口近傍例えば図1において下側には、レーザビ
ーム平行化処理装置17が設けられている。
A bend mirror 13 is provided at one end of the upper portion of the frame 5, for example, at the lower end of FIG. 1, and a laser oscillator 15 is arranged separately on the right side of the frame 5 in FIG. A laser beam parallelizing device 17 is provided near the exit of the laser oscillator 15, for example, on the lower side in FIG.

【0016】上記構成により、ワークWを載置した加工
テーブル3をX軸方向へ移動せしめると共に、レーザ加
工ヘッド11をY軸方向へ移動せしめてワークWの所望
位置の上方にレーザ加工ヘッド11が位置決めされる。
次いで、レーザ発振器15で発振されたレーザビームL
Bはレーザビーム平行化処理装置17で一定の倍率に拡
大され、しかも平行化された後、ベンドミラー13,9
を経てレーザ加工ヘッド11の集光レンズに集光され
る。集光レンズに集光されたレーザビームはレーザノズ
ルからワークWへ向けて照射されてワークWにレーザ加
工が行なわれることになる。
With the above construction, the processing table 3 on which the work W is placed is moved in the X-axis direction, and the laser processing head 11 is moved in the Y-axis direction so that the laser processing head 11 is positioned above the desired position of the work W. Positioned.
Next, the laser beam L oscillated by the laser oscillator 15
B is magnified to a certain magnification by the laser beam collimating device 17, and after collimated, the bend mirrors 13 and 9 are used.
Then, the light is focused on the focusing lens of the laser processing head 11. The laser beam focused on the focusing lens is irradiated from the laser nozzle toward the work W, and the work W is laser-processed.

【0017】前記レーザビーム平行化処理装置17の一
例としては、図2に示されているように、レーザ発振器
15の出口近傍に配置されていて、ケース19内に円偏
光鏡21,凸面鏡23および凹面鏡25が備えられてい
る。前記ケース19の前壁および側壁にはレーザビーム
LBを通過せしめる穴27,29が形成されている。
As an example of the laser beam collimation processing device 17, as shown in FIG. 2, it is arranged near the exit of the laser oscillator 15 and a circular polarization mirror 21, a convex mirror 23, and a convex mirror 23 are provided in the case 19. A concave mirror 25 is provided. Holes 27 and 29 for passing the laser beam LB are formed in the front wall and the side wall of the case 19.

【0018】また、前記レーザ発振器15の出口壁には
レーザビームLBを通過せしめる穴31が形成されてい
ると共に、レーザ発振器15の出口部内に出力鏡33が
設けられている。なお、この実施例においてはレーザ発
振器15から45度直線偏光されたレーザビームLBA
が円偏光鏡21によって円偏光レーザビームLBB に円
偏光される例である。
A hole 31 for passing the laser beam LB is formed on the exit wall of the laser oscillator 15, and an output mirror 33 is provided in the exit portion of the laser oscillator 15. In this embodiment, the laser beam LB A linearly polarized by 45 degrees from the laser oscillator 15 is used.
Is an example in which the circularly polarized laser beam LB B is circularly polarized by the circularly polarized light mirror 21.

【0019】上記構成により、レーザ発振器15で発振
された45度直線偏光レーザビームLBA は出力鏡33
より穴31を通ってレーザビーム平行化処理装置17に
送られる。レーザビーム平行化処理装置17ではケース
19の穴29を通って円偏光鏡21に到達し、45度直
線偏光レーザビームLBA が円偏光レーザビームLBB
に円偏光されて凸面鏡23に入射される。この凸面鏡2
3で円偏光レーザビームLBB の径が予め設定されたビ
ーム径D0 に拡大される。、さらに凹面鏡25を経て穴
27から平行化された円偏光レーザビームLBB が出力
される。この出力される円偏光レーザビームLBB の径
は凸面鏡23により一定の倍率に拡大される。この一定
の倍率に拡大されかつ平行化された円偏光レーザビーム
LBB の径D0 は、レーザ加工ヘッド11がY軸方向へ
最大移動したレーザビームの光路長並びにレーザ加工ヘ
ッド11がZ軸方向の下方へ最大移動した光路長時にお
けるレーザ加工ヘッド11の集光レンズに到達した円偏
光レーザビームLBB の径D1 とほぼ誤差範囲に収まっ
た状態(D0 ≒D1 ) となっている。
With the above configuration, the 45-degree linearly polarized laser beam LB A oscillated by the laser oscillator 15 is output from the output mirror 33.
It is sent to the laser beam collimation processing device 17 through the hole 31. In the laser beam collimation processing device 17, the circular polarization mirror 21 reaches the circular polarization mirror 21 through the hole 29 of the case 19, and the 45-degree linearly polarized laser beam LB A is circularly polarized laser beam LB B.
The light is circularly polarized and is incident on the convex mirror 23. This convex mirror 2
At 3, the diameter of the circularly polarized laser beam LB B is expanded to the preset beam diameter D 0 . The collimated circularly polarized laser beam LB B is output from the hole 27 through the concave mirror 25. Diameter of the circular laser beam LB B to be output is expanded to a constant magnification by the convex mirror 23. Diameter D 0 of this is enlarged to a predetermined magnification and collimated circularly polarized laser beam LB B, the optical path length and the laser processing head 11 of the laser beam by the laser machining head 11 has the maximum movement in the Y-axis direction Z-axis direction The diameter D 1 of the circularly polarized laser beam LB B that has reached the condenser lens of the laser processing head 11 when the optical path length has moved to the maximum downward direction is within a margin of error (D 0 ≈D 1 ). ..

【0020】したがって、レーザ発振器15からレーザ
加工ヘッド11までの光路長が最小から最大まで変化し
ても、円偏光レーザビームLBB をレーザビーム平行化
処理装置17で一定の倍率に拡大し平行化せしめること
によって、平行化された円偏光レーザビームLBB のビ
ーム径は常にほぼ一定に保持される。而して、集光レン
ズで集光された円偏光レーザビームLBB はレーザノズ
ルからワークWへ向けて照射される。すなわち、レーザ
ノズルからワークWに照射される円偏光レーザビームL
B のスポット径と集光点位置を常にほぼ一定に保持で
きるので、加工精度良好なレーザ加工を行なうことがで
きる。
Therefore, even if the optical path length from the laser oscillator 15 to the laser processing head 11 changes from the minimum to the maximum, the circularly polarized laser beam LB B is expanded by the laser beam parallelization processing device 17 to a certain magnification and parallelized. Due to this, the beam diameter of the collimated circularly polarized laser beam LB B is always kept substantially constant. Then, the circularly polarized laser beam LB B condensed by the condenser lens is irradiated from the laser nozzle toward the work W. That is, the circularly polarized laser beam L irradiated onto the work W from the laser nozzle
Since the spot diameter of B B and the focal point position can always be kept substantially constant, laser processing with good processing accuracy can be performed.

【0021】図3にはレーザビーム平行化処理装置17
における他の実施例が示されている。図3において図2
における部品と同じ部品には同一符号を付して説明を省
略する。すなわち、図3の実施例において、図2と異な
る点は、円偏光鏡21の代りに平面鏡35を使用し、レ
ーザ発振器15から発振された直線レーザビームLBC
は平面鏡35に入射され、この平面鏡35により直線レ
ーザビームLBC が45度直線偏光レーザビームLBD
に偏光される。この場合には例えば集光レンズ直前にお
けるベンドミラー9に円偏光鏡を使用して集光レンズに
は円偏光された円偏光レーザビームLBB が入射され
る。而して、図2における実施例と全く同じ作用並びに
効果を奏するものである。
FIG. 3 shows a laser beam collimation processing device 17
Another embodiment of is shown. 2 in FIG.
The same parts as the parts in FIG. That is, in the embodiment of FIG. 3, the difference from FIG. 2 is that the plane mirror 35 is used instead of the circular polarization mirror 21, and the linear laser beam LB C oscillated from the laser oscillator 15 is used.
Is incident on the plane mirror 35, and the plane laser 35 causes the linear laser beam LB C to be a 45 ° linearly polarized laser beam LB D.
Is polarized to. In this case, for example, a circularly polarized mirror is used as the bend mirror 9 immediately before the condenser lens, and the circularly polarized circularly polarized laser beam LB B is incident on the condenser lens. Thus, the same operation and effect as those of the embodiment shown in FIG. 2 are achieved.

【0022】前記レーザビーム平行化処理装置17の凹
面鏡25からベンドミラー9を経てレーザ加工ヘッド1
1の集光レンズに入射される円偏光レーザビームLBB
の径は、凸面鏡23により一定倍率に拡大されると共に
ほぼ平行されてビーム径D1として入射される。しか
し、このビーム径D1 は図4に示されているように、凹
面鏡25の位置から例えばL0 の距離には鏡の性質から
ビームウエスト部が生じる。このビームウエスト部のビ
ーム径は前記ビーム径D1 より2ΔDだけ細くなってい
る。このビームウエスト部が生じるのを考慮してレーザ
加工ヘッド11が例えばY軸方向へ移動される最大の加
工範囲を2L1 としたときに、加工範囲の真中をビーム
ウエスト部の位置L0 に合せておけば、(D1 −2Δ
D)からD1までのビーム径からなる平行化された円偏
光レーザビームLBB でもって最大の加工範囲のレーザ
加工を均一に行なうことができる。しかも、ΔDはゼロ
に近い非常に小さい値である。したがって、ビームウエ
ストを考慮しないレーザ加工よりもさらに加工精度良好
なレーザ加工を行なうことができる。すなわち、最大の
加工範囲の真中がビームウエスト部に位置するように、
凹面鏡25を選択して設けることにより、精度良好なレ
ーザ加工を行なうことができる。しかも、最大の加工範
囲が例えば約3m以内であれば、凹面鏡25を一度選択
して設けることにより最大の加工範囲の変化に応じて凹
面鏡25を変える必要がない。最大の加工範囲が例えば
約3m以上の場合には、加工精度に影響を受けないよう
に、ΔDが大きくならない凹面鏡25に変えて行なうこ
とも可能である。
The laser processing head 1 passes from the concave mirror 25 of the laser beam collimator 17 through the bend mirror 9.
Circularly polarized laser beam LB B incident on the condenser lens 1
The diameter of the beam is enlarged by the convex mirror 23 to a constant magnification and is made substantially parallel to be incident as the beam diameter D 1 . However, as shown in FIG. 4, the beam diameter D 1 has a beam waist portion due to the nature of the mirror at a distance L 0 from the position of the concave mirror 25, for example. The beam diameter of the beam waist portion is smaller than the beam diameter D 1 by 2ΔD. Considering that the beam waist portion is generated, when the maximum processing range in which the laser processing head 11 is moved in the Y-axis direction is set to 2L 1 , the center of the processing range is adjusted to the position L 0 of the beam waist portion. If you keep it, (D 1-2 Δ
Laser processing in the maximum processing range can be performed uniformly with the collimated circularly polarized laser beam LB B having a beam diameter of D) to D 1 . Moreover, ΔD is a very small value close to zero. Therefore, it is possible to perform laser processing with better processing accuracy than laser processing that does not consider the beam waist. That is, so that the center of the maximum processing range is located at the beam waist,
By selectively providing the concave mirror 25, it is possible to perform laser processing with high accuracy. Moreover, if the maximum processing range is within about 3 m, for example, it is not necessary to select and provide the concave mirror 25 once to change the concave mirror 25 according to the change in the maximum processing range. When the maximum processing range is, for example, about 3 m or more, the concave mirror 25 may be replaced with a concave mirror 25 so that the processing accuracy is not affected.

【0023】なお、この発明は、前述した実施例に限定
されることなく、適宜の変更を行なうことによって、そ
の他の態様で実施し得るものである。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be implemented in other modes by making appropriate changes.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のごとき実施例の説明より理解され
るように、この発明によれば、特許請求の範囲に記載さ
れたとおりの構成であるから、レーザ発振器で発振され
たレーザビームはレーザビーム平行化処理装置によって
平行化される。したがって、レーザ加工ヘッドが移動し
てレーザ発振器からレーザ加工ヘッドまでの光路長が変
化しても、この光路長の変化に関係なく、レーザ加工ヘ
ッドには常にほぼ一定の径の平行化されたレーザビーム
が取り込まれる。而して、レーザ加工ヘッドからワーク
に照射されるレーザビームのスポット径を常にほぼ一定
に保持できるので、加工精度良好なレーザ加工を行なう
ことができる。
As can be understood from the above description of the embodiments, according to the present invention, the laser beam oscillated by the laser oscillator has the structure as described in the claims. The beam is collimated by the beam collimator. Therefore, even if the laser processing head moves and the optical path length from the laser oscillator to the laser processing head changes, the laser processing head is always provided with a parallelized laser with a substantially constant diameter regardless of the change in the optical path length. The beam is captured. Thus, since the spot diameter of the laser beam applied to the work from the laser processing head can be kept substantially constant at all times, laser processing with good processing accuracy can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明を実施する一実施例のレーザ加工装置
の概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるレーザビーム平行化処理装置の一
例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a laser beam parallelization processing device in FIG.

【図3】図2に代る他のレーザビーム平行化処理装置の
斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of another laser beam collimation processing device that replaces FIG.

【図4】レーザビーム平行化処理装置で処理されたレー
ザビームの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a laser beam processed by a laser beam parallelization processing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ加工装置 11 レーザ加工ヘッド 15 レーザ発振器 17 レーザビーム平行化処理装置 21 円偏光鏡 23 凸面鏡 25 凹面鏡 LB レーザビーム W ワーク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser processing device 11 Laser processing head 15 Laser oscillator 17 Laser beam parallelization processing device 21 Circular polarization mirror 23 Convex mirror 25 Concave mirror LB Laser beam W work

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ加工ヘッドを少なくとも一軸方向
へ移動自在に備えてなるレーザ加工装置にして、レーザ
発振器から発振されたレーザビームの径を一定の倍率に
拡大すると共に、レーザ加工ヘッドに至るまでの光路長
の変化に関係なくレーザビームの径をほぼ平行にするレ
ーザビーム平行化処理装置を前記レーザ発振器の出口近
傍に設けてなることを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser processing apparatus comprising a laser processing head movably in at least one axis direction, the diameter of a laser beam oscillated from a laser oscillator is expanded to a constant magnification, and the laser processing head is reached. A laser beam collimating device for making the diameter of the laser beam substantially parallel regardless of a change in the optical path length of the laser processing device.
【請求項2】 前記レーザビーム平行化処理装置が、円
偏光鏡または平面鏡,凸面鏡および凹面鏡で構成されて
いることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
2. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser beam collimation processing device is constituted by a circular polarization mirror or a plane mirror, a convex mirror and a concave mirror.
【請求項3】 前記レーザ加工ヘッドが移動してワーク
にレーザ加工される加工範囲のほぼ真中部に、拡大され
たレーザビームのビームウエストが位置すべく、前記レ
ーザビーム平行化処理装置の凹面鏡を選択して設けてな
ることを特徴とする請求項2記載のレーザ加工装置。
3. The concave mirror of the laser beam collimation processing device is arranged so that the beam waist of the expanded laser beam is positioned substantially in the center of the processing range where the laser processing head moves to perform laser processing on a work. The laser processing apparatus according to claim 2, wherein the laser processing apparatus is selectively provided.
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