JP2000084691A - Laser beam machining device - Google Patents

Laser beam machining device

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JP2000084691A
JP2000084691A JP10256181A JP25618198A JP2000084691A JP 2000084691 A JP2000084691 A JP 2000084691A JP 10256181 A JP10256181 A JP 10256181A JP 25618198 A JP25618198 A JP 25618198A JP 2000084691 A JP2000084691 A JP 2000084691A
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JP
Japan
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laser beam
mask
laser
lens
output
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JP10256181A
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Japanese (ja)
Inventor
Hikoharu Aoki
彦治 青木
Kentaro Obara
建太郎 小原
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Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam machining device that enhances energy density in the machining point of a laser beam used for machining, that reduces the size and the output of a laser oscillator, that decreases gas exchanging frequency inside the laser oscillator, and that lowers running cost as well as extending the life of the device. SOLUTION: In a laser beam machining device 20 that converges a laser beam from a laser oscillator 1 in nearly a long narrow shape on a mask 11 having a pattern corresponding to a machining shape for a workpiece, through a beam shaping part 6, beam expander 7, homogenizer 8 and a condenser lens 9; a cylindrical lens 10 is arranged between the condenser lens 9 and the mask 11, limiting the irradiation angle of the laser beam emitted to the mask 11 only in the narrow width direction of a narrow converging shape formed on the mask 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ発振器か
ら出力されたレーザビームの光エネルギーの密度を高め
ることにより、高効率的かつ経済的にレーザ加工を行う
ためのレーザ加工装置に関するもので、詳しくは例えば
インクジェット用プリンタのインク噴射用ノズル孔の加
工を行うレーザ加工装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for performing laser processing efficiently and economically by increasing the density of light energy of a laser beam output from a laser oscillator. For example, the present invention relates to a laser processing apparatus for processing an ink jet nozzle hole of an ink jet printer.

【0002】[0002]

【従来の技術】上記したインク噴射用ノズル孔を加工す
るためのレーザ加工装置として、従来は、図4に示すよ
うにレーザビーム発振器1と、レーザビームAを整形す
るビーム整形部5と、被加工物Bへのレーザ加工形状す
なわち複数のノズル孔が列状に並んだ孔パターン(図示
せず)を有するマスク11と、マスク11にレーザビー
ムAを集光して照射する集光光学手段9と、マスク11
の孔パターンの像を被加工物Bに所定の倍率(普通は縮
小倍率)で結像する投影光学手段(結像光学手段)12
とを備えたものが一般的である。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a laser processing apparatus for processing the above-described ink jet nozzle hole, as shown in FIG. 4, a laser beam oscillator 1, a beam shaping section 5 for shaping a laser beam A, and A mask 11 having a laser processing shape on the workpiece B, that is, a hole pattern (not shown) in which a plurality of nozzle holes are arranged in a row, and condensing optical means 9 for condensing and irradiating the mask 11 with a laser beam A And the mask 11
Projection optical means (imaging optical means) 12 for forming an image of the hole pattern on the workpiece B at a predetermined magnification (usually a reduction magnification)
The one having the following is common.

【0003】なお、図4に示すレーザ加工装置50は、
レーザビームAを拡大するためのビームエクスパンダー
7、ビーム平坦化光学系(ホモジナイザー)としての一
対のフライアイレンズ8・8が使用され、このフライア
イレンズ8・8にてレーザビームAを多数の縦長状ビー
ムに分散させることによりビーム強度の均一化および光
出力の制御を行ったのち、集光光学系としてのコンデン
サレンズ9により集光した細長・長方形状のレーザビー
ムAをマスク11の所定位置(孔パターン位置)に集光
させる。こうしてマスク11を透過したレーザビームA
が投影光学手段としての結像レンズ12にて所定の倍率
(例えば1/4倍や1/5倍)で被加工物上に結像さ
れ、マスク11の列状に並んだ孔パターンに対応した複
数のノズル孔(図示せず)が被加工物B上に加工され、
複数のノズル孔(例えば64個)が列状に穿設される。
ここで、X−Yテーブル5上の被加工物BをX方向又は
Y方向に所定寸法移動させた状態で、レーザビーム発振
器1により再度レーザビームAを出力して照射し、所定
数のノズル孔の列が一定のピッチをあけて穿設される。
なお、図中の符号2、3、4は全反射ミラーである。
The laser processing device 50 shown in FIG.
A beam expander 7 for expanding the laser beam A and a pair of fly-eye lenses 8.8 as a beam flattening optical system (homogenizer) are used. After uniformizing the beam intensity and controlling the light output by dispersing the beam into a vertically long beam, the narrow and rectangular laser beam A condensed by a condenser lens 9 as a condensing optical system is placed on a predetermined position of a mask 11. (Hole pattern position). The laser beam A thus transmitted through the mask 11
Are imaged on the workpiece at a predetermined magnification (for example, 1/4 or 1/5) by the imaging lens 12 as the projection optical means, and correspond to the hole patterns arranged in a row of the mask 11. A plurality of nozzle holes (not shown) are formed on the workpiece B,
A plurality of nozzle holes (for example, 64) are formed in a row.
Here, while the workpiece B on the XY table 5 is moved by a predetermined dimension in the X direction or the Y direction, the laser beam A is again output and radiated by the laser beam oscillator 1 to emit a predetermined number of nozzle holes. Are drilled at a constant pitch.
Reference numerals 2, 3, and 4 in the figure are total reflection mirrors.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のレーザ加工装置には、次のような点で改良すべ
き余地がある。すなわち、マスク上にはレーザビームが
均一に照射されるがその形状は、図3(a)に示すように
長方形状で、ホモジナイザー8で均一化を図る際のレー
ザビームAのロスが非常に大きく、したがって、被加工
物B上の加工点におけるエネルギー密度が低かった。こ
のため、レーザ発振器1の出力を高めなければならず、
装置の費用が高くなったり、ランニングコストが高くな
ったりする。そのうえ、レーザ発振器1の出力を高くし
た状態で使用するために内蔵のガスの劣化が早く、また
高電圧での使用のためにレーザ発振器1の寿命が非常に
短かくなるという問題もある。さらに、ホモジナイザー
8において、レーザビームAを多数の縦長状ビームに分
散させるためのフライアイレンズを構成する要素を細分
化する方法もあるが、ホモジナイザー8が非常に高価に
なる。
However, the above-mentioned conventional laser processing apparatus has room for improvement in the following points. That is, the laser beam is uniformly irradiated on the mask, but the shape is rectangular as shown in FIG. 3A, and the loss of the laser beam A when homogenizing by the homogenizer 8 is very large. Therefore, the energy density at the processing point on the workpiece B was low. For this reason, the output of the laser oscillator 1 must be increased,
The cost of the device is high and the running cost is high. In addition, there is a problem that the built-in gas deteriorates quickly because the laser oscillator 1 is used in a state where the output is high, and the life of the laser oscillator 1 is very short because the laser oscillator 1 is used at a high voltage. Further, in the homogenizer 8, there is a method of subdividing elements constituting a fly-eye lens for dispersing the laser beam A into a plurality of vertically long beams, but the homogenizer 8 becomes very expensive.

【0005】ところで、一般的なレーザ加工装置にあっ
ては、図5に示すようにコンデンサレンズ9により集光
されてマスク11上に照射されるY方向における集光角
度である開口数NA(屈折率Nと集光角度(照射角度と
もいう)θの正弦(sinθ)との積)とX方向における開
口数NAとは等しいのが一般的であるが、本出願の発明
者は、コンデンサレンズ9により集光されてマスク11
上に照射されるY方向における開口数NAと、同じくマ
スク11上に照射されるX方向における開口数NAとを
異ならせて、つまり図2に示すようにX方向におけるレ
ーザビームAの集光角度θを拡げて開口数NAを大きく
することにより、従来とは集光特性を変更して被加工物
Bに対しノズル孔の加工を行ってみたところ、ノズル孔
が加工上の歪み等もなくてきれいに仕上がり、被加工物
Bに対する加工時間も短縮された。これは、レーザビー
ムAの照射状態をX方向にのみ絞って集光角度θを拡大
して開口数NAを大きくしたことにより、レーザビーム
Aのエネルギー密度が上がったためであり、またこれに
よりレーザ加工の際に必ずしもX方向とY方向の開口数
NAを一致させた状態で使用しなくてもよいことが確認
された。
Meanwhile, in a general laser processing apparatus, as shown in FIG. 5, a numerical aperture NA (refraction angle) which is a condensing angle in the Y direction which is condensed by a condenser lens 9 and irradiated on a mask 11 is shown. In general, the numerical aperture NA in the X direction is equal to the product of the ratio N and the sine (sin θ) of the condensing angle (also referred to as the irradiation angle) θ. Condensed by the mask 11
The numerical aperture NA in the Y direction irradiated on the mask 11 is different from the numerical aperture NA in the X direction irradiated on the mask 11, that is, the focusing angle of the laser beam A in the X direction as shown in FIG. By increasing θ and increasing the numerical aperture NA, the light-collecting characteristic was changed from the conventional one and processing of the nozzle hole was performed on the workpiece B. The nozzle hole was free from distortion in processing. The finish was fine, and the processing time for the workpiece B was also reduced. This is because the energy density of the laser beam A was increased by narrowing the irradiation state of the laser beam A only in the X direction and enlarging the converging angle θ to increase the numerical aperture NA. In this case, it was confirmed that it was not necessary to use the magnetic head in a state where the numerical apertures NA in the X direction and the Y direction were matched.

【0006】この発明は上述に点に鑑みなされたもの
で、レーザ加工に使用するレーザビームの加工点におけ
るエネルギー密度を向上させ、レーザ発振器を小さくで
き、またレーザ発振器の出力を下げられ、レーザ発振器
内のガスの交換頻度が少なくなり、ランニングコストを
安くでき、また装置の寿命を延ばすことができるレーザ
加工装置を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to improve the energy density of a laser beam used for laser processing at a processing point, to reduce the size of a laser oscillator, and to reduce the output of a laser oscillator. It is an object of the present invention to provide a laser processing apparatus that can reduce the frequency of gas exchange in the inside, reduce running costs, and extend the life of the apparatus.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の請求項1に係るレーザ加工装置は、レーザ
ビーム発振器と、この発振器から射出されたレーザビー
ムを整形するビーム整形部と、この整形部から出力され
たレーザビームを拡大するためのビームエクスパンダー
と、このビームエクスパンダーから出力されたレーザビ
ームを均一化するホモジナイザーと、このホモジナイザ
ーから出力されたレーザビームを被加工物への加工形状
に対応するパターンを有するマスクにほぼ細長形状に集
光するコンデンサレンズとを有するレーザ加工装置にお
いて、前記コンデンサレンズと前記マスクとの間に、こ
のマスクに向け照射されるレーザビームの照射角度を、
同マスク上に形成される前記集光形状の狭い幅の方向に
絞るレンズ手段を配置している。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus comprising: a laser beam oscillator; and a beam shaping unit for shaping a laser beam emitted from the oscillator. A beam expander for expanding the laser beam output from the shaping unit, a homogenizer for homogenizing the laser beam output from the beam expander, and a laser beam output from the homogenizer to the workpiece. In a laser processing apparatus having a condenser lens that condenses light into a substantially elongated shape on a mask having a pattern corresponding to the processing shape of the above, irradiation of a laser beam directed toward the mask between the condenser lens and the mask The angle,
Lens means for narrowing the light condensing shape formed on the same mask in a narrow width direction is arranged.

【0008】上記の構成を有する請求項1に係るレーザ
加工装置によると、マスクに照射されるレーザビームの
照射光形状(ほぼ細長形状)が狭い幅の方向(長手方向
に比べて狭い幅方向側)においてだけ絞られることによ
り、レーザビームのエネルギー密度が向上される。この
ため、従来のレーザ加工装置に比べて、例えばレーザ発
振器を小さくでき、また従来と同じ大きさのレーザ発振
器を使用する場合には、出力(電力)を低くでき、この
結果、レーザ発振器内に密封するガスの劣化が遅くな
り、長期間使用でき、レーザ発振器の寿命も延びる。こ
のことは、非常に高価でランニングコストも高いレーザ
加工装置を使用するうえで、レーザ加工装置のイニシャ
ルコストとともにランニングコストも低減されることに
なり、加工費用の大幅なコストダウンが図れる。
According to the laser processing apparatus of the first aspect having the above configuration, the irradiation light shape (substantially elongated shape) of the laser beam applied to the mask has a narrow width direction (a width direction side narrower than the longitudinal direction). The energy density of the laser beam is improved by narrowing down only in (2). Therefore, for example, the laser oscillator can be made smaller than the conventional laser processing apparatus, and when a laser oscillator having the same size as the conventional one is used, the output (power) can be reduced. The deterioration of the gas to be sealed is delayed, the gas can be used for a long time, and the life of the laser oscillator is extended. This means that when using a laser processing apparatus that is extremely expensive and has a high running cost, the running cost as well as the initial cost of the laser processing apparatus is reduced, and the processing cost can be significantly reduced.

【0009】請求項2に記載のように、前記レンズ手段
として、シリンドリカルレンズを用いることができる。
[0009] As described in claim 2, a cylindrical lens can be used as the lens means.

【0010】請求項2記載のレーザ加工装置によれば、
シリンドリカルレンズを用いることによって、マスク上
に照射されるレーザビームのほぼ細長形状を長手方向に
はほとんど変化させず一定に保ったうえで、幅方向にの
み絞ることができる。
[0010] According to the laser processing apparatus of the second aspect,
By using the cylindrical lens, it is possible to keep the substantially elongated shape of the laser beam irradiated on the mask constant in the longitudinal direction and hardly change it, and to narrow down the laser beam only in the width direction.

【0011】請求項3に記載のように、レーザビーム発
振器と、この発振器から射出されたレーザビームを整形
するビーム整形部と、この整形部から出力されたレーザ
ビームを拡大するためのビームエクスパンダーと、この
ビームエクスパンダーから出力されたレーザビームを均
一化するホモジナイザーと、このホモジナイザーから出
力されたレーザビームを被加工物への加工形状に対応す
るパターンを有するマスクにほぼ細長形状に集光するコ
ンデンサレンズとを有するレーザ加工装置において、前
記コンデンサレンズから前記マスクに向け集光されるレ
ーザビームの開口数(NA)を、同マスク上に形成され
る前記集光形状の長手方向よりも狭い幅の方向において
大きくしている。
A laser beam oscillator, a beam shaping unit for shaping a laser beam emitted from the oscillator, and a beam expander for expanding the laser beam output from the shaping unit And a homogenizer for homogenizing the laser beam output from the beam expander, and condensing the laser beam output from the homogenizer in a substantially elongated shape on a mask having a pattern corresponding to a processing shape on a workpiece. In a laser processing apparatus having a condenser lens, a numerical aperture (NA) of a laser beam converged from the condenser lens toward the mask has a smaller width than a longitudinal direction of the condensed shape formed on the mask. In the direction of.

【0012】上記の構成を有する請求項3に係るレーザ
加工装置によると、マスクに照射されるレーザビームの
開口数(NA)、つまり屈折率Nと集光角度θの正弦
(sinθ)との積が、マスク上の照射位置における集光
光形状(ほぼ細長形状)の長手方向より狭い幅の方向に
おいて大きくすることにより、マスク上の集光形状の幅
が狭くなってレーザビームのエネルギー密度が向上され
る(図3(b)参照)。このため、従来の開口数(NA)
をX方向とY方向で共通にした一般的なレーザ加工装置
(図4・図5参照)に比べて、例えばレーザ発振器を小
さくでき、また従来と同じ大きさのレーザ発振器を使用
する場合には、出力(電力)を低くでき、この結果、レ
ーザ発振器内に密封するガスの劣化が遅くなり、長期間
使用でき、レーザ発振器の寿命も延びる。一方、Y方向
とX方向の開口数(NA)に差が生じるが、被加工物に
対する歪みなどの加工上の問題も、上記したように、ノ
ズル孔の加工で実証されているから一切ないと言える。
According to the laser processing apparatus of the third aspect having the above configuration, the numerical aperture (NA) of the laser beam applied to the mask, that is, the product of the refractive index N and the sine of the converging angle θ (sin θ). However, by increasing the condensed light shape (almost elongated shape) at the irradiation position on the mask in the width direction narrower than the longitudinal direction, the width of the condensed light shape on the mask is narrowed and the energy density of the laser beam is improved. (See FIG. 3B). Therefore, the conventional numerical aperture (NA)
For example, as compared with a general laser processing apparatus (see FIGS. 4 and 5) in which the laser oscillator is commonly used in the X direction and the Y direction, the laser oscillator can be made smaller. In addition, the output (power) can be reduced, and as a result, the deterioration of the gas sealed in the laser oscillator is slowed down, the laser can be used for a long time, and the life of the laser oscillator is extended. On the other hand, there is a difference in the numerical aperture (NA) between the Y direction and the X direction, but there is no processing problem such as distortion on the workpiece, as described above, since it has been demonstrated in the processing of the nozzle hole. I can say.

【0013】請求項4に記載のように、前記コンデンサ
レンズと前記マスクとの間に、レンズ手段を配置するこ
とができる。
According to a fourth aspect of the present invention, lens means can be arranged between the condenser lens and the mask.

【0014】請求項4に係るレーザ加工装置によれば、
前記ホモジナイザーにて例えばレーザビームを多数の縦
長状ビームに分散させることによりビーム強度の均一化
および光出力の制御が行なわれたのち、コンデンサレン
ズにより多数の縦長状ビーム部が集光されて細長で長方
形状のレーザビームがマスクの所定位置(孔パターン位
置)に照射されるが、コンデンサレンズで集光されたレ
ーザビームは、さらにマスクとの間に配置されたレンズ
手段によって、長手方向に比べて狭い幅方向の開口数
(NA)が大きくなるように絞られることにより、マス
ク上の照射位置における集光形状が狭い幅の方向に一層
凝縮(収縮)される。
According to the laser processing apparatus of the fourth aspect,
After homogenizing the beam intensity and controlling the light output by, for example, dispersing the laser beam into a number of longitudinal beams in the homogenizer, a number of the longitudinal beam portions are condensed by a condenser lens to be elongated. A rectangular laser beam is applied to a predetermined position (hole pattern position) of the mask, but the laser beam condensed by the condenser lens is further compared with the longitudinal direction by a lens means disposed between the mask and the condenser lens. By narrowing down the numerical aperture (NA) in the narrow width direction, the condensing shape at the irradiation position on the mask is further condensed (contracted) in the narrow width direction.

【0015】請求項5に記載のように、前記ホモジナイ
ザーが、レーザビームを多数の細長形状のビームに分散
するフライアイレンズであり、前記コンデンサレンズが
それらの多数の細長形状のビームを集光するものである
のが好ましい。
[0015] The homogenizer may be a fly-eye lens for dispersing the laser beam into a plurality of elongated beams, and the condenser lens may focus the plurality of elongated beams. Preferably, it is

【0016】請求項5に係るレーザ加工装置によれば、
レーザビーム発振器から出力され、ビーム整形部で通常
正方形に整形されたレーザビームは、ビームエキスパン
ダーで拡大されたのち、ホモジナイザーによってレーザ
ビームが多数の縦長状ビームに分散されることにより、
ビーム強度の均一化および光出力の制御が行なわれる。
それから、集光光学系としてのコンデンサレンズにより
多数の縦長状ビームが集光され、細長で長方形状になっ
たレーザビームがマスクの所定位置に照射される。な
お、こうしてマスクを透過したレーザビームは、普通は
投影光学系としての結像レンズにて所定の縮小倍率(例
えば1/4倍、1/5倍)で被加工物上に結像され、孔
パターンに対応してレーザ加工が施されるが、従来の集
光特性と違って長手方向より狭い幅の方向に開口数NA
が大きくなるようにレーザビームが絞られているから、
請求項1のレーザ加工装置と同様に、従来の加工装置に
比べてエネルギー密度が向上し、仕上がりのきれいな加
工ができ、したがって、レーザ発振器を小さくでき、出
力(電力)を低くでき、レーザ発振器内に密封するガス
の劣化が遅くなり、長期間使用でき、レーザ発振器の寿
命も延びるようになる。
According to the laser processing apparatus of claim 5,
The laser beam output from the laser beam oscillator and usually shaped into a square by the beam shaping unit is expanded by the beam expander, and then dispersed by the homogenizer into a number of vertically long beams.
The beam intensity is made uniform and the light output is controlled.
Then, a number of vertically long beams are condensed by a condenser lens as a condensing optical system, and a narrow and rectangular laser beam is irradiated to a predetermined position of the mask. The laser beam transmitted through the mask in this way is usually imaged on a workpiece at a predetermined reduction magnification (for example, 1/4, 1/5) by an imaging lens as a projection optical system, and a hole is formed. Laser processing is performed according to the pattern, but unlike the conventional light-collecting characteristics, the numerical aperture NA is narrower than the longitudinal direction.
Laser beam is narrowed so that
As in the case of the laser processing apparatus of claim 1, the energy density is improved as compared with the conventional processing apparatus, and the processing can be finished finely. Therefore, the laser oscillator can be reduced in size, the output (power) can be reduced, and The deterioration of the gas to be sealed is delayed, the gas can be used for a long time, and the life of the laser oscillator is extended.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、この発明に係るレーザ加工
装置の実施の形態を図面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the laser processing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1はインクジェットプリンタのインク噴
射用ノズル孔を加工するためのレーザ加工装置の実施例
を示す全体概略図、図2は図1の加工装置におけるコン
デンサレンズで集光されたレーザビームがシリンドリカ
ルレンズで片方向(狭い幅の方向)にさらに絞られマス
ク上にに集光される状態を拡大して示す概略平面図、図
3(a)はシリンドリカルレンズ挿入前のマスク上のレー
ザビーム形状(集光形状)を拡大して示す正面図、図3
(b)は本実施例の図1の装置におけるシリンドリカルレ
ンズ挿入後のマスク上のレーザビーム形状(集光形状)
を拡大して示す正面図である。
FIG. 1 is an overall schematic view showing an embodiment of a laser processing apparatus for processing an ink jet nozzle hole of an ink jet printer. FIG. 2 is a view showing a laser beam condensed by a condenser lens in the processing apparatus of FIG. FIG. 3A is an enlarged schematic plan view showing a state where the light is further narrowed in one direction (narrow width direction) by a cylindrical lens and is focused on a mask. FIG. 3A shows a laser beam shape on the mask before the cylindrical lens is inserted. FIG. 3 is an enlarged front view showing (light collecting shape).
(b) shows the shape of the laser beam on the mask after the cylindrical lens is inserted (light-condensing shape) in the apparatus shown in FIG.
It is a front view which expands and shows.

【0019】図1に示すように、本実施例のレーザ加工
装置20では、レーザ発振器1から出力(射出)され
た、例えば248nmの波長を有するエキシマレーザビ
ーム(KrFレーザビーム)Aは、3つの45°傾斜さ
せて配置した全反射ミラー2、3、4を経由してそれぞ
れ直角方向に屈折され、被加工物BをX方向およびY方
向へ選択的に移動可能な加工テーブル5へ至る。レーザ
発振器1と第1ミラー2との間には、レーザビームAを
整形するビーム整形部6が配置されている。このビーム
整形部6は、本例では凹レンズおよび凸レンズなどによ
り構成され、レーザ発振器1から射出された長方形の断
面形状を有するレーザビームAを正方形に整形する。
As shown in FIG. 1, in the laser processing apparatus 20 of this embodiment, an excimer laser beam (KrF laser beam) A having a wavelength of, for example, 248 nm output (emitted) from the laser oscillator 1 The light is refracted in the right-angle direction via total reflection mirrors 2, 3, and 4 arranged at an angle of 45 °, and reaches a processing table 5 that can selectively move the workpiece B in the X and Y directions. A beam shaping unit 6 for shaping the laser beam A is arranged between the laser oscillator 1 and the first mirror 2. In this example, the beam shaping unit 6 includes a concave lens and a convex lens, and shapes the laser beam A having a rectangular cross-sectional shape emitted from the laser oscillator 1 into a square shape.

【0020】レーザビームAは第1ミラー2で直角方向
に屈折され、図の上方に直進する。第1ミラー2と第3
ミラー3との間には、レーザビームAを拡大するための
ビームエキスパンダ(Beam Expander)7が配置され、
このビームエキスパンダ7は本例では一対の凸レンズな
どから構成されている。第3ミラー3の下流側に、ホモ
ジナイザーとしての一対のフライアイレンズ(Fly-eye-
Lenz)8・8が対峙するように配置されている。第3ミ
ラー3で直角方向に屈折され、水平方向に図の右側へ直
進するレーザビームAは、それらのフライアイレンズ8
・8にてビームを多数の縦長状ビームに分散させること
により、ビーム強度の均一化および光出力の制御が図ら
れる。
The laser beam A is refracted at right angles by the first mirror 2 and travels straight upward in the drawing. First mirror 2 and third
A beam expander (Beam Expander) 7 for expanding the laser beam A is disposed between the mirror 3 and the mirror 3.
In this embodiment, the beam expander 7 includes a pair of convex lenses and the like. Downstream of the third mirror 3, a pair of fly-eye lenses (Fly-eye-
Lenz) 8.8 are arranged to face each other. The laser beam A, which is refracted by the third mirror 3 in the right angle direction and travels straight in the horizontal direction to the right side of the figure,
By dispersing the beam into a number of vertically elongated beams at 8, the beam intensity is made uniform and the light output is controlled.

【0021】フライアイレンズ8の下流側には、集光光
学手段としてのコンデンサレンズ9が配置され、このコ
ンデンサレンズ9により多数の縦長状ビームを集光して
細長で長方形状のレーザビームAが、コンデンサレンズ
9の下流側に配置されているマスク11の所定位置(孔
パターン位置)に集光される。マスク11上に集光して
照射される集光形状は、従来の一般的なレーザ加工装置
50(図4)では図3(a)に示すようにやや幅の広い長
方形(矩形)になる。しかし、本発明においてはその特
徴的構成として、シリンドリカルレンズ(Cylindrical
Lenz)10を、コンデンサレンズ9とマスク11との間
に配置している。
On the downstream side of the fly-eye lens 8, a condenser lens 9 as a condensing optical means is arranged. The condenser lens 9 condenses a large number of vertically long beams to form a narrow and rectangular laser beam A. Then, the light is condensed at a predetermined position (hole pattern position) of the mask 11 disposed downstream of the condenser lens 9. The condensed shape to be condensed and irradiated on the mask 11 is a rectangle (rectangle) having a slightly wider width in the conventional general laser processing apparatus 50 (FIG. 4), as shown in FIG. However, in the present invention, as a characteristic configuration, a cylindrical lens (Cylindrical) is used.
Lenz) 10 is arranged between the condenser lens 9 and the mask 11.

【0022】シリンドリカルレンズ10は、周知のよう
に通過するレーザビームを長軸方向(長手方向)にはほ
とんど変化させず、短軸方向(狭い幅の方向)にだけ集
光(絞る)という機能を有している。このため、マスク
11上に集光して照射される集光形状は、図3(b)に示
すように幅の狭い長方形(矩形)になる。つまり、レー
ザビームAはシリンドリカルレンズ10を通過する際
に、幅方向(X方向)にだけ絞られてマスク11上に照
射される。この結果、マスク11上に照射・集光される
レーザビームAのエネルギー密度が増大する。
As is well known, the cylindrical lens 10 has a function of hardly changing the laser beam passing therethrough in the major axis direction (longitudinal direction), and condensing (squeezing) it only in the minor axis direction (narrow width direction). Have. For this reason, the condensing shape condensed and irradiated on the mask 11 is a narrow rectangle (rectangle) as shown in FIG. That is, when the laser beam A passes through the cylindrical lens 10, it is focused only in the width direction (X direction) and is irradiated on the mask 11. As a result, the energy density of the laser beam A irradiated and focused on the mask 11 increases.

【0023】マスク11には、インク噴射用の複数のノ
ズル孔に対応した孔パターンが設けられており、マスク
11はマスクホルダー(図示せず)に保持されている。
マスク11の孔パターンを透過したレーザビームAは、
第3ミラー4によって直角方向に屈折され、図の下方に
直進する。この第3ミラー3の下流側において、被加工
物BがX方向およびY方向に移動自在な加工テーブル5
上に載置されている。なお、加工テーブル5は垂直方向
にも昇降自在である。
The mask 11 is provided with a hole pattern corresponding to a plurality of nozzle holes for ink ejection, and the mask 11 is held by a mask holder (not shown).
The laser beam A transmitted through the hole pattern of the mask 11 is
The light is refracted at right angles by the third mirror 4 and travels straight downward in the figure. On the downstream side of the third mirror 3, the processing table 5 on which the workpiece B is movable in the X and Y directions.
Is placed on top. The working table 5 can be moved up and down in the vertical direction.

【0024】さらに、第3ミラー3と加工テーブル13
の間には、結像レンズ(投影レンズともいう)12が配
置されている。この結像レンズ12は、マスク11の孔
パターンを透過したレーザビームA(の像)が所定の倍
率(本例では1/5倍)に縮小して被加工物B上に結像
され、マスク11の孔パターンに対応してレーザ加工が
施される。被加工物Bには本例では高分子材料であるポ
リイミドシート(厚さ約100μm)が使用されてお
り、レーザビームAにより超精密微細のノズル孔(口径
約30μm)が列状に複数個穿設される。一群のノズル
孔が加工されたのち、加工テーブル5を駆動して被加工
物Bが所定ピッチだけX方向に移動され、被加工物B上
の加工しようとする領域が、結像レンズ12の直下に配
置されるとともに、結像レンズ12の焦点が被加工物B
上で合焦するように加工テーブル5は垂直方向にも移動
される。そして、再度レーザ発振器1によりレーザビー
ムAが出力され、さらに一群のノズル孔が加工される。
Further, the third mirror 3 and the processing table 13
An image forming lens (also referred to as a projection lens) 12 is disposed between them. The image forming lens 12 forms an image of the laser beam A (image of the laser beam A) transmitted through the hole pattern of the mask 11 on the workpiece B by reducing it to a predetermined magnification (in this example, 1/5). Laser processing is performed corresponding to the 11 hole patterns. In this example, a polyimide sheet (about 100 μm in thickness), which is a polymer material, is used for the workpiece B, and a plurality of ultra-precision fine nozzle holes (about 30 μm in diameter) are formed in a row by the laser beam A. Is established. After a group of nozzle holes have been machined, the machining table 5 is driven to move the workpiece B in the X direction by a predetermined pitch, and the area to be machined on the workpiece B is located immediately below the imaging lens 12. And the focal point of the imaging lens 12 is
The processing table 5 is also moved in the vertical direction so as to focus on the top. Then, the laser beam A is output again by the laser oscillator 1, and a group of nozzle holes is further processed.

【0025】上記の構成からなる本実施例のレーザ加工
装置20によれば、マスク11上に集光して照射される
レーザビームAを、図3(b)に示すように、狭い幅の
方向にマスク11の孔パターン11aを完全に覆うよう
において絞ったことにより、レーザビームAのエネルギ
ー密度が向上したから、マスク11の孔パターンを透過
したレーザビームAにより被加工物Bには所定数のノズ
ル孔がきれいに加工され、加工時間も短縮された。また
上記したとおり、マスク11(あるいは被加工物B)に
照射されるレーザビームAは、図2,3に示すように一
方向(X−X方向)にだけ絞られているので、X方向の
集光角度θ’は直交する他の方向(Y−Y方向)の集光
角度θとは異なっている。いいかえれば、X方向の開口
数NAとY方向の開口数NAは結果的に相違している。
繰り返しになるが、図3(a)のようなやや幅の広い矩形
の集光領域が、長手方向に比べて狭い幅の方向に凝縮さ
れ、図3(b)のような幅の狭い矩形の集光領域に凝縮
され、エネルギー密度が向上されたものであるが、本発
明にあってはマスク11の孔パターンを完全にレーザビ
ームAの集光領域が覆う範囲内でレーザビームAを絞っ
ているので、X方向とY方向の開口数NAが相違するこ
とになっても、加工上全く問題がないものと考えられ
る。特に、上記実施例のようにシリンドリカルレンズ1
0をマスク11とコンデンサレンズ9との間に配置する
だけの簡単な構成の追加によって、レーザビームAのエ
ネルギー密度の向上が達成されるということは画期的で
ある。
According to the laser processing apparatus 20 of the present embodiment having the above configuration, the laser beam A condensed and irradiated on the mask 11 is directed in a narrow width direction as shown in FIG. Since the energy density of the laser beam A has been improved by squeezing to completely cover the hole pattern 11a of the mask 11, a predetermined number of workpieces B are formed on the workpiece B by the laser beam A transmitted through the hole pattern of the mask 11. The nozzle hole was finely machined and the machining time was shortened. Further, as described above, the laser beam A applied to the mask 11 (or the workpiece B) is narrowed down in only one direction (XX direction) as shown in FIGS. The converging angle θ ′ is different from the converging angle θ in the other orthogonal direction (Y-Y direction). In other words, the numerical aperture NA in the X direction and the numerical aperture NA in the Y direction are different as a result.
Again, the slightly wider rectangular light-collecting region as shown in FIG. 3A is condensed in a narrower width direction than the longitudinal direction, and the narrower rectangular light-collecting region as shown in FIG. Although the laser beam A is condensed in the light-collecting region and the energy density is improved, in the present invention, the laser beam A is narrowed down so that the hole pattern of the mask 11 is completely covered by the laser beam A-light collecting region. Therefore, even if the numerical apertures NA in the X direction and the Y direction are different, it is considered that there is no problem in processing. In particular, as in the above embodiment, the cylindrical lens 1
It is epoch-making that the improvement of the energy density of the laser beam A can be achieved by adding a simple configuration in which 0 is disposed between the mask 11 and the condenser lens 9.

【0026】そして本発明を採用することにより、レー
ザ発振器1を小さくでき、またレーザ発振器1を小さく
しない場合には従来に比べて出力(電力)を低くできる
から、レーザ発振器1内に密封するガスの劣化が遅くな
り、長期間使用でき、レーザ発振器1の寿命も延びるな
どの、優れた効果が発揮される。また、レーザ発振器1
によりレーザビームAを射出するのに必要な出力に余裕
ができるので、加工中にあるいは長期使用中に、レーザ
発振出力が低下するようなことがあっても、出力を上げ
ることで簡単に対応でき、長期間にわたり安定してレー
ザ加工を行うことができる。
By employing the present invention, the laser oscillator 1 can be made smaller, and if the laser oscillator 1 is not made smaller, the output (power) can be reduced as compared with the conventional case. Deterioration of the laser oscillator 1 is delayed, the laser oscillator 1 can be used for a long time, and the life of the laser oscillator 1 is prolonged. In addition, laser oscillator 1
As a result, the output required for emitting the laser beam A can be provided with a margin, so that even if the laser oscillation output decreases during processing or during long-term use, it can be easily handled by increasing the output. Laser processing can be stably performed over a long period of time.

【0027】以上に、本発明のレーザ加工装置の一実施
例を示したが、本発明は下記のように実施することがで
きる。
The embodiment of the laser processing apparatus of the present invention has been described above, but the present invention can be implemented as follows.

【0028】(1) 結像レンズ12を省いて、マスク1
1を被加工物B上に直接に固定するコンタクトマスク方
式においても、同様に実施できる。
(1) The image forming lens 12 is omitted and the mask 1
The present invention can be similarly implemented in a contact mask method in which 1 is directly fixed on the workpiece B.

【0029】(2) マスク11の手前に挿入配置するレ
ンズ手段は、特定の一方向にのみレーザビームを絞れる
手段であれば、シリンドリカルレンズ10に限らない。
(2) The lens means to be inserted and arranged in front of the mask 11 is not limited to the cylindrical lens 10 as long as it can focus the laser beam only in one specific direction.

【0030】(3) ノズル孔の加工のほか、例えば被加
工物Bをセラミックスに変えたり、また溝加工などを行
うこともできる。
(3) In addition to the processing of the nozzle hole, for example, the workpiece B can be changed to ceramics, or a groove can be processed.

【0031】(4) レーザビームは、KrF以外のガス
であっても、レーザビーム形状がほぼ長方形状の断面を
持つものならば使用できる。
(4) The laser beam may be a gas other than KrF as long as the laser beam has a substantially rectangular cross section.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明に係るレーザ加工装置には、次のような優れた効
果がある。
As is apparent from the above description,
The laser processing apparatus according to the present invention has the following excellent effects.

【0033】(1) 請求項1の発明では、マスクに照射さ
れるレーザビームの集光形状(ほぼ細長形状)を狭い幅
の方向(長手方向に比べて狭い幅方向側)において絞っ
たことにより、レーザビームのエネルギー密度が向上さ
れているので、従来のレーザ加工装置に比べて、例えば
レーザ発振器を小さくでき、また従来と同じ大きさのレ
ーザ発振器を使用する場合には、出力(電力)を低くで
きるうえに、レーザ発振器内に密封したガスの劣化が遅
くなり、長期間安定して使用でき、レーザ発振器の寿命
も延びる。この結果、加工装置のイニシャルコストとと
もにランニングコストも低減されることになり、加工費
用の大幅なコストダウンが図れ、経済的である。
(1) According to the first aspect of the present invention, the condensing shape (substantially elongated shape) of the laser beam applied to the mask is narrowed in a narrow width direction (width direction narrower than the longitudinal direction). Since the energy density of the laser beam is improved, for example, the laser oscillator can be made smaller than that of the conventional laser processing apparatus, and when a laser oscillator of the same size as the conventional one is used, the output (power) is reduced. In addition to the reduction, the gas sealed in the laser oscillator is slowed down, can be used stably for a long time, and the life of the laser oscillator is extended. As a result, the running cost as well as the initial cost of the processing device is reduced, and the processing cost is significantly reduced, which is economical.

【0034】(2) 請求項2の発明では、シリンドリカル
レンズを挿入するという構成の簡単な追加によって、マ
スク上に照射されるレーザビームの集光形状を長手方向
には変化させず一定に保ったうえで、幅方向にのみ絞る
ことができるので、従来の加工装置に比べて装置のコス
トをあまり増やさずに、ランニングコストを大幅に下げ
ることができる。
(2) According to the second aspect of the present invention, the condensing shape of the laser beam irradiated on the mask is kept constant without changing in the longitudinal direction by simply adding a cylindrical lens. In addition, since the squeezing can be performed only in the width direction, the running cost can be significantly reduced without increasing the cost of the apparatus as compared with the conventional processing apparatus.

【0035】(3) 請求項3の発明では、マスクに照射さ
れるレーザビームの開口数(NA)、つまり屈折率Nと
集光角度θの正弦(sinθ)との積を、マスク上におけ
る集光形状(ほぼ細長形状)の長手方向より狭い幅の方
向において大きくしたので、マスク上の集光形状の狭い
幅の方向が収縮されてレーザビームのエネルギー密度が
向上される。このため、従来の開口数(NA)をX方向
とY方向で共通にした一般的なレーザ加工装置に比べ
て、例えばレーザ発振器を小さくでき、また従来と同じ
大きさのレーザ発振器を使用する場合には、出力(電
力)を低くできるとともに、レーザ発振器内に密封する
ガスの劣化が遅くなり、長期間安定して使用でき、レー
ザ発振器の寿命も延びるという、請求項1の発明と同様
な効果が発揮される。
(3) According to the third aspect of the present invention, the numerical aperture (NA) of the laser beam applied to the mask, that is, the product of the refractive index N and the sine (sin θ) of the converging angle θ is calculated on the mask. Since the width is increased in the direction of the width narrower than the longitudinal direction of the light shape (substantially elongated shape), the direction of the narrow width of the converging shape on the mask is contracted, and the energy density of the laser beam is improved. Therefore, for example, in comparison with a conventional laser processing apparatus in which the numerical aperture (NA) is common in the X direction and the Y direction, for example, the laser oscillator can be made smaller, and when a laser oscillator having the same size as the conventional one is used. The same effect as the invention of claim 1 can reduce the output (power), delay the deterioration of the gas sealed in the laser oscillator, stably use the laser for a long time, and extend the life of the laser oscillator. Is exhibited.

【0036】(4) 請求項4の発明では、レンズ手段を挿
入するという簡単な構成の追加で、マスクとの間に配置
されたレンズ手段によって長手方向に比べて狭い幅方向
の開口数(NA)を大きくでき、マスク上のレーザビー
ムの集光形状が狭い幅の方向において一層凝縮され、レ
ーザビームのエネルギー密度が向上する。
(4) According to the fourth aspect of the present invention, with the addition of a simple structure in which a lens means is inserted, the numerical aperture (NA) in the width direction is smaller than that in the longitudinal direction by the lens means disposed between the mask means. ) Can be increased, and the condensed shape of the laser beam on the mask is further condensed in the narrow width direction, and the energy density of the laser beam is improved.

【0037】(5) 請求項5の発明では、ホモジナイザー
によってレーザビームが多数の縦長状ビームに分散され
ることにより、ビーム強度の均一化および光出力の制御
が行なわれたのち、集光光学系としてのコンデンサレン
ズにより多数の縦長状ビームが集光され、細長で長方形
状になったレーザビームがマスクの所定位置に照射され
る。このために、レーザビームの強度の均一化が図られ
るとともに出力の制御もなされ、しかも従来の集光特性
と違って長手方向より狭い幅の方向に開口数NAが大き
くなるようにレーザビームが絞られているから、レーザ
ビームのエネルギー密度が向上され、請求項3と同様の
効果も奏する。
(5) According to the fifth aspect of the present invention, the laser beam is dispersed into a plurality of vertically long beams by the homogenizer, so that the beam intensity is made uniform and the light output is controlled. A large number of vertically long beams are condensed by the condenser lens, and a narrow and rectangular laser beam is applied to a predetermined position of the mask. For this reason, the intensity of the laser beam is made uniform and the output is controlled. In addition, unlike the conventional light-collecting characteristics, the laser beam is narrowed so that the numerical aperture NA increases in the width direction narrower than the longitudinal direction. As a result, the energy density of the laser beam is improved, and the same effect as that of the third aspect is also achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る、インクジェットプリン
タのインク噴射用ノズル孔を加工するためのレーザ加工
装置の実施例を示す全体概略図である。
FIG. 1 is an overall schematic view showing an embodiment of a laser processing apparatus for processing an ink jet nozzle hole of an ink jet printer according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の加工装置におけるコンデンサレンズで集
光されたレーザビームがシリンドリカルレンズで片方向
(狭い幅の方向)にさらに絞られマスク上にに集光され
る状態を拡大して示す概略平面図である。
FIG. 2 is an enlarged schematic view showing a state in which a laser beam condensed by a condenser lens in the processing apparatus of FIG. 1 is further converged in one direction (narrow width direction) by a cylindrical lens and condensed on a mask; It is a top view.

【図3】図3(a)はシリンドリカルレンズ挿入前のマス
ク上のレーザビーム形状(集光形状)を拡大して示す正
面図、図3(b)は本実施例の図1の装置におけるシリン
ドリカルレンズ挿入後のマスク上のレーザビーム形状
(集光形状)を拡大して示す正面図である。
FIG. 3A is an enlarged front view showing a laser beam shape (condensing shape) on a mask before a cylindrical lens is inserted, and FIG. 3B is a cylindrical view in the apparatus of FIG. It is a front view which expands and shows the laser beam shape (condensing shape) on the mask after lens insertion.

【図4】従来の一般的なレーザ加工装置の実施例を示す
全体概略図である。
FIG. 4 is an overall schematic diagram showing an example of a conventional general laser processing apparatus.

【図5】図5(a)はコンデンサレンズ9により集光され
てマスク11上に照射されるY方向における集光角度で
ある開口数NAを説明するための側面図、図5(b)は同
じくX方向における開口数NAを説明するための平面図
である。
FIG. 5A is a side view for explaining a numerical aperture NA which is a converging angle in a Y direction which is condensed by a condenser lens 9 and irradiated on a mask 11, and FIG. FIG. 3 is a plan view for explaining the numerical aperture NA in the X direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ発振器 2・3・4 全反射ミラー 5 加工テーブル 6 レーザ整形部 7 ビームエキスパンダ 8 フライアイレンズ(ホモジナイザー) 9 コンデンサレンズ 10 シリンドリカルレンズ 11 マスク 12 結像レンズ 20 レーザ加工装置 A レーザビーム B 被加工物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser oscillator 2 ・ 3 ・ 4 Total reflection mirror 5 Processing table 6 Laser shaping section 7 Beam expander 8 Fly eye lens (homogenizer) 9 Condenser lens 10 Cylindrical lens 11 Mask 12 Imaging lens 20 Laser processing device A Laser beam B Workpiece

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザビーム発振器と、この発振器から
出力されたレーザビームを整形するビーム整形部と、こ
の整形部から出力されたレーザビームを拡大するための
ビームエクスパンダーと、このビームエクスパンダーか
ら出力されたレーザビームを均一化するホモジナイザー
と、このホモジナイザーから出力されたレーザビームを
被加工物への加工形状に対応するパターンを有するマス
クにほぼ細長形状に集光するコンデンサレンズとを有す
るレーザ加工装置において、 前記コンデンサレンズと前記マスクとの間に、このマス
クに向け照射されるレーザビームの照射角度を同マスク
上に形成される前記集光形状の狭い幅の方向に絞るレン
ズ手段を、配置したことを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser beam oscillator, a beam shaping unit for shaping a laser beam output from the oscillator, a beam expander for expanding the laser beam output from the shaping unit, and a beam expander Laser processing having a homogenizer for homogenizing the output laser beam, and a condenser lens for condensing the laser beam output from the homogenizer into a substantially elongated shape on a mask having a pattern corresponding to a processing shape on a workpiece. In the apparatus, between the condenser lens and the mask, lens means for narrowing an irradiation angle of a laser beam irradiated toward the mask in a narrow width direction of the condensing shape formed on the mask is arranged. A laser processing apparatus characterized in that:
【請求項2】 前記レンズ手段が、シリンドリカルレン
ズである請求項1記載のレーザ加工装置。
2. A laser processing apparatus according to claim 1, wherein said lens means is a cylindrical lens.
【請求項3】 レーザビーム発振器と、この発振器から
出力されたレーザビームを整形するビーム整形部と、こ
の整形部から出力されたレーザビームを拡大するための
ビームエクスパンダーと、このビームエクスパンダーか
ら出力されたレーザビームを均一化するホモジナイザー
と、このホモジナイザーから出力されたレーザビームを
被加工物への加工形状に対応するパターンを有するマス
クにほぼ細長形状に集光するコンデンサレンズとを有す
るレーザ加工装置において、 前記コンデンサレンズから前記マスクに向け集光される
レーザビームの開口数(NA)を、同マスク上に形成さ
れる前記集光形状の長手方向よりも狭い幅の方向におい
て大きくしたことを特徴とするレーザ加工装置。
3. A laser beam oscillator, a beam shaping unit for shaping a laser beam output from the oscillator, a beam expander for expanding the laser beam output from the shaping unit, and a beam expander. Laser processing having a homogenizer for homogenizing the output laser beam, and a condenser lens for condensing the laser beam output from the homogenizer into a substantially elongated shape on a mask having a pattern corresponding to a processing shape on a workpiece. In the apparatus, a numerical aperture (NA) of the laser beam focused from the condenser lens toward the mask is increased in a direction having a width smaller than a longitudinal direction of the focused shape formed on the mask. Characteristic laser processing equipment.
【請求項4】 前記コンデンサレンズと前記マスクとの
間に、レンズ手段が配置されているところの請求項3記
載のレーザ加工装置。
4. A laser processing apparatus according to claim 3, wherein lens means is disposed between said condenser lens and said mask.
【請求項5】 前記ホモジナイザーが、レーザビームを
多数の細長形状のビームに分散するフライアイレンズで
あり、前記コンデンサレンズがそれらの多数の細長形状
のビームを集光するものであるところの請求項1〜4の
いずれかに記載のレーザ加工装置。
5. The apparatus according to claim 1, wherein said homogenizer is a fly-eye lens for dispersing a laser beam into a plurality of elongated beams, and said condenser lens focuses said plurality of elongated beams. A laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4.
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